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JPH06308872A - 全内部反射ホログラムを記録する方法 - Google Patents

全内部反射ホログラムを記録する方法

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Publication number
JPH06308872A
JPH06308872A JP5257018A JP25701893A JPH06308872A JP H06308872 A JPH06308872 A JP H06308872A JP 5257018 A JP5257018 A JP 5257018A JP 25701893 A JP25701893 A JP 25701893A JP H06308872 A JPH06308872 A JP H06308872A
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JP
Japan
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recording layer
layer
reference beam
holographic
holographic recording
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Application number
JP5257018A
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English (en)
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Francis Stace Murray Clube
フランシス・ステイス・マーリー・クラブ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Holtronic Technologies Ltd
Original Assignee
Holtronic Technologies Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
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    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G—PHYSICS
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    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/001—Phase modulating patterns, e.g. refractive index patterns
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    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/70075—Homogenization of illumination intensity in the mask plane by using an integrator, e.g. fly's eye lens, facet mirror or glass rod, by using a diffusing optical element or by beam deflection
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    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】 全内部反射ホログラムが、広い領域に亘って
高度な露光の均一性をもって記録できる方法を提供す
る。 【構成】 （ａ）入力レーザービームを物体ビームと参
照ビームに分割し；（ｂ）これらのビームをホログラフ
ィック記録層に進行させ、これにより、物体ビームは物
体マスクを通過した後にホログラフィック記録層の一表
面に入射し、参照ビームは、ホログラフィック記録層を
通過した後に全内部反射されてホログラフィック記録層
に入る角度で、ホログラフィック記録層の他の表面に入
射し、両ビームはホログラフィック記録層で重ね合わさ
れ；（ｃ）物体ビームと参照ビームは、それらビームが
ホログラフィック記録層を横切る時に重ね合わされた状
態を保持するように、少なくとも一方は一方向に拡幅ま
たは圧縮され；（ｄ）物体ビームと参照ビームがホログ
ラフィック記録層を横切るように、入力レーザービーム
が動かされる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、概略、全内部反射ホロ
グラフィの分野に関する。特に、それは、マイクロリソ
グラフィに用いられるような全内部反射ホログラフィに
関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、全内部反射（TIR:total internal
reflection）ホログラムは、図１に図示するような幅
広のレーザービームで作られている（参考文献１から
６）。これらのうち１つでは、物体ビーム１は、マスク
透明体２を介して、大きなプリズム５と光学的に接する
基質４上のホログラフィック記録層３に進行する。一
方、参照ビーム６はプリズム５の別の面を介して進行
し、ホログラフィック層３の表面で全反射される。これ
ら２つのビームの光学的干渉が、ホログラフィック層の
感光材料に記録される。一度定着されると、オリジナル
の参照ビーム６と逆方向に進行するレーザービームによ
ってそれを照らすことでホログラムが再生される。
【０００３】ＴＩＲホログラムは、大きな幾何学領域に
亘って、イメージを記録したり、再生したりすることが
できる。現在の感光ポリマー記録材料を用いると、ＴＩ
Ｒホログラムは高解像度のフォトリソグラフィに対して
著しい潜在能力を示す。
【０００４】例えば、マイクロ電子工学産業に対応する
場合のように、ＴＩＲホログラフィをフォトリソグラフ
ィに適用する際に直面する問題の一つは、再生されたイ
メージの明るさが、それらの領域に亘って、極めて均一
（好ましくは±２％以上）であることを必要とするとい
うことである。これを従来技術で達成するためには、ホ
ログラムを記録する際に、幅広のレーザービームがその
波面上で優れた均一性を有することが望ましい。残念な
がら、レーザービームの光は自然に変化するので、これ
を達成するのは困難である。すなわち、多くのビームは
ガウスの密度分布をしており、それらの両端部は中央部
よりも暗いからである。
【０００５】原理的には、ビームを必要以上に拡大して
その中央部だけを使用することにより、記録層に均一な
光の場所を得ることはできる。しかし、この方法を達成
するためにビームを均一化することは、結局のところ、
利用できる光を犠牲にすることである。±２％の均一性
を達成するためには、レーザーエネルギーの僅か２％し
か利用できず、露光時間が実用性を超えて増大すると見
積もられている。
【０００６】その表面において整然とした有効不均一性
（例えばガウス分布）をもってホログラムを記録し、次
いで、プリント中に、ホログラム領域で再生ビームをス
キャンさせると共に、スキャン中にビーム密度又はスキ
ャン速度を変化させることにより上記不均一性を補償す
ることで、プリント露光の均一性は達成できる。
【０００７】しかしながら、低いホログラム効率と低い
レーザーパワーの両方の妥協の産物であるために、必然
的にプリント時間が長くなり、結果的に低効率となって
おり、多くの産業に適用するには好ましくないものであ
った。また、ガウス密度分布の仮定は過度な単純化でも
ある。
【０００８】また、均一性を高める上述の方法は、共
に、物体ビームと参照ビームを生成するために、ＵＶ
（一般に３６４ｍｍ）で操作する低収差視準レンズ（又
はミラー）を必要とする。例えば、広範囲の平坦な板状
ディスプレイを製作するための、大径（例えば、８″，
１２″，２０″）のホログラムにとって、これは最も好
ましくないものとなる。
【０００９】マイクロリソグラフィックの適用に対して
広領域ＴＩＲホログラムを製造する際に直面する別の問
題は、再生像の焦点深度に関係している。ＴＩＲホログ
ラムが正確に例えばシリコンウェハー上にイメージを印
刷するためには、ウェハー表面は投射イメージに対して
正確に配置される必要がある。もし、ウェハー表面がイ
メージの前後に僅かな距離でもずれると、プリントされ
たイメージは焦点の合わないものとなる。一般に、イメ
ージにおける特徴部分が０．５μｍ以下の大きさであれ
ば、ウェハー表面は±０．２μｍ以下の精度で配置され
なければならない。これを容易にするためには、再生イ
メージ中のすべての特徴部分がホログラムの表面から同
一の距離に置かれるのが好ましい。従来技術を用いた場
合、記録中における物体マスクとホログラフィック層の
間隔はそれらの領域で同一（±０．１μｍ以下まで）で
あることが要求される。しかしながら、十分平坦な物体
マスクや十分平坦な記録層を得ることは困難であり、ま
た、ホログラム記録中、それらを平坦に保持するように
支持するのは困難であるから、必要な平行度は実行不可
能なものとなる。
【００１０】以上の問題を解決するうえで、機械的（及
びその他の）不安定性に対してホログラム形成上の高感
度性を考慮に入れることが最も重要である。ホログラム
は、光学的干渉パターンの記録であるから、記録表面上
の任意の点で干渉物と参照ビームの相対位相が露光中に
実質的に一定であれば、うまく形成される。これを定量
化するためには、相対位相は一定値から２／１０である
のが好ましい。これは、物体と、ホログラフィック層上
の任意の点に対する参照ビームの光学経路との相対長さ
が、記録操作中、３０ｎｍ以上まで変化してはならない
ことを意味し、もしもこの条件が破られると、干渉パタ
ーンは洗い流され、ホログラムは消失することになる。
【００１１】
【発明の概要】本発明の目的は、全内部反射ホログラム
が、広い領域に亘って高度な露光の均一性をもって記録
できる方法を提供することである。
【００１２】本発明の第１の側面では、以下の方法を含
む全内部反射ホログラムを記録方法が提供される。
（ａ）入力レーザを、物体ビームと参照ビームに分け；
（ｂ）上記２つのビームをホログラフィック記録層に向
け、物体ビームは物体マスクを通過した後にホログラフ
ィック記録層の一面に入射され、参照ビームはホログラ
フィック記録層を通過した後に、このビームが全内部反
射されてホログラフィック記録層に戻る角度をもってホ
ログラフィック記録層の他方の面に入射され、ビームが
ホログラフィック記録層を横切る時に整列された状態に
保持されるように、上記物体ビームと参照ビームがホロ
グラフィック記録層で重ね合わされ；（ｃ）物体ビーム
と参照ビームがホログラフィック記録層を横切るように
入力レーザビームを移動させる。
【００１３】本発明にかかる方法は、記録層に亘って均
一な露光を得るために特に有益である。この場合、入力
ビームは好ましくはラスタパターンで上記層を横切るよ
うにスキャナ装置で動かされる。
【００１４】この方法は、交換的に、記録層に特に不均
一な露光を故意に導入するために使用してもよく、この
場合、入力レーザビームの密度又はスキャナの動作のい
ずれかがスキャン進路を介して適度に変化させられる。
【００１５】その方法は、マスクとホログラフィック層
の一部分または複数部分を選択的に露光するために用い
てもよく、露光部間でマスクを交換することができる。
【００１６】その方法によれば、ホログラム再生中にプ
リントされるイメージを正確に焦点合わせすることがで
きるように一定の間隔を得るために、物体の透明体と記
録層の場所的な間隔を、例えば本出願人による特許出願
ＥＰ−Ａ−０４２１６４５に記載されている技術を用い
て測定し、調整することができる。
【００１７】構成ビームをスキャンする別の利点は、特
に広範囲を視準する光学装置やビーム孔により形成され
るレーザースペックル（レーザーの斑点）の問題を相当
解消できることで、これにより再生イメージの品質を高
めることができる。
【００１８】ビームの分割前に機械的スキャニングが行
われる以上の方法によれば、スキャナ装置の動作におけ
る不規則性によりレーザー波面に生じる不安定性は、物
体ビームと参照ビームの両方に共通している。したがっ
て、記録層におけるそれらの相対位相を実質的に一定に
保つことができる。
【００１９】従来技術で記載されているＴＩＲホログラ
フィでは、物体ビームはほぼ直角にホログラフィック層
に入射し、参照ビームはほぼ４５°で入射する。したが
って、物体ビームと参照ビームを記録層に向けるのにミ
ラーだけを使用するならば、物体ビームによって占有さ
れる領域よりも２倍大きな記録層の領域を参照ビームは
照明することになるとともに、物体ビームよりも２倍速
い速度で記録層をスキャンすることになる。その結果、
記録層上でのホログラム露光が変化する。上述の方法の
ステップ（ｂ）で必要とされるビームの重なり（ビーム
はスキャン中も重なったままである。）は、（ｉ）ホロ
グラフィック層における参照ビームの入射平面でビーム
を圧縮するために、参照ビームの経路中に光学要素を用
いる；又は（ii）ホログラフィック層における参照ビー
ムの入射平面でビームを拡幅するために、物体ビームの
経路中に光学要素を設ける、ことのいずれかによって適
正に得ることができる。
【００２０】ステップ（ｂ）におけるビーム配列によ
り、干渉ビームの相対位相が安定する。ビームの相対位
相は、例えばスキャナ装置の傾き（左右の揺れ、前後の
揺れ、および横揺れ）により生じるスキャンビームの角
度変化に敏感である。スキャナの傾きに対する感度は、
重ね合わせたビーム間を正確に配置することにより著し
く減少する。
【００２１】入力ビームの移動から発生する物体ビーム
と参照ビームの移動により生じる記録媒体におけるビー
ムの不整列を、ホログラフィック層のすべての部分で考
慮に入れて最小にするように、物体ビームと参照ビーム
の経路を配置する別の工程を上記方法に付加してもよ
い。この方法により、スキャナ装置の移動における不規
則性に対して、ホログラムに記録される光学的干渉パタ
ーンの感度を弱めることができる。
【００２２】本発明の第２の側面によれば、全内部反射
ホログラムを記録する装置が提供される。この装置は、
（ａ）入力レーザービームを、物体ビームと参照ビーム
に分割する手段；（ｂ）物体ビームと参照ビームをホロ
グラフィック記録層に向け、それにより、物体ビームは
物体マスクを通過した後にホログラフィック記録層の表
面に入射され、参照ビームは、ホログラフィック記録層
を通過した後に全内部反射されてホログラフィック記録
層に戻る角度でホログラフィック記録層の表面に入射さ
れ、物体ビームと参照ビームは、これらのビームがホロ
グラフィック記録層を横切る際に整列されるように、ホ
ログラフィック記録層で重ね合わされる手段；（ｃ）物
体ビームと参照ビームがホログラフィック記録層を横切
るように入力レーザービームを移動させる手段、を備え
ている。
【００２３】物体ビームが、参照ビームよりも小さな入
射角をもってホログラフィック層に到達する場合もので
は、本発明における第２の特徴部分（ｂ）に、（i）屈
折又は回折により一方向にビームを圧縮するために、参
照ビームの通路内に、プリズム、シリンドリカルレンズ
装置、または回折格子を設けるか、（ii）屈折または回
折により一方向にビームを拡幅するために、物体ビーム
の通路内に、プリズム、シリンドリカルレンズ装置、ま
たは回折格子を設ける、のが好ましい。
【００２４】特徴（ｂ）によれば、スキャナ装置の移動
における不規則性に対して光学的干渉パターンの感度を
弱めるために、正確に（その正確性はスキャナ装置に存
在する傾きの大きさに主に依存する。）ビームを重ねる
ことができる。
【００２５】特徴（ｂ）は、物体ビームと参照ビームの
経路を設けるという副次的な目的のために設けるのが好
ましく、記録層のすべての部分を考慮し、入力ビームの
の移動により起こる物体ビームと参照ビームの角移動か
ら発生する記録層におけるビームの不整列が最小にな
る。このように、例えばスキャナ装置の機械的傾きによ
り生じるビームの角変化に対して、干渉する物体ビーム
と参照ビームのそれぞれの位相の感度が低下する。
【００２６】再生されたイメージのすべての部分がホロ
グラフィック層から同一距離にあるようにスキャニング
が行われる場合、物体の透明体とホログラフィック層の
すべての部分の間隔をそれらの領域上で測定する手段
と、露光が行われる場所の間隔をビームのスキャン中に
一定に保持する間隔調整手段を設ける。
【００２７】
【実施例】添付図面を参照し、実施例により本発明を詳
細に説明する。図２の装置において、寸法１０ｃｍ×１
０ｃｍのガラス基質の上に引き延ばされたホログラフィ
ック記録材料の薄い（一般に２０μｍ）層を有するホロ
グラフィックプレート７が、４５°，４５°，９０°の
角度を有するガラスプリズム１０の短辺に光学的に接触
して設けてある。適当なホログラフィック記録材料は、
Dupont de Nemours& Co．により製造され、ＨＲＳ−３
５２により識別されるようなホログラフィック・フォト
ポリマーの一つであり、これはＵＶ中で感度を有し、屈
折率の変化として光学干渉パターンを記録する。プリズ
ム１０に対するホログラフィックプレート７の光学的接
触は、低揮発性を有し、ガラスのそれに近い屈折率を有
する透明な液体であるキシレンを用いて行われる。
【００２８】記録層８の上方には、これに近接して、ガ
ラス板１４表面のクロム層１３にエッチングされた特徴
部分１２を有する物体マスク１１が配置されている。そ
のマスクは、ピエゾ電気変換器（図示せず）上に配置さ
れており、これにより記録層から所定の距離の位置に平
行にマスクを配置することができる。
【００２９】２つの互いにコヒーレントなレーザービー
ム、すなわち物体ビーム１５と参照ビーム１６が、この
システムを照明する。これら２つは、３６４ｎｍの波長
で動作し、高い時間干渉性をビームに付与するエタロン
を含むアルゴン・イオンレーザー１７から導かれる。レ
ーザーの出力１８は、これを２ｃｍ径（１／ｅ2の密度
位置により定義される）のガウス分布を有する視準ビー
ム２０に変形するビーム拡大器１９を通過する。そのビ
ーム２０は、それぞれＹ軸とＺ軸（図中には一方向のス
テージ移動しか図示していない。）に平行に移動する２
つのコンピュータ制御されたステージ２３に設けたミラ
ー２２を有する機械的スキャナ装置２１に入射する。上
記ステージは、そのシステムからＸ軸と平行に出て行く
入力ビーム２４が、大きなビームスリッタ２５を通って
ラスタスキャンされるように、動作する。ステップサイ
ズ、すなわちスキャン動作の連続した移動距離を５ｍｍ
（すなわちビーム径の１／４）とすることで、ホログラ
フィック層において一体化される光の密度を均一にする
ことができる。それぞれのスキャン移動の速度ｖは、以
下のように、ホログラムを露光するのに必要なエネルギ
ー密度Ｅから決定される。
【００３０】
【数１】
【００３１】ここで、Ｐは入力ビーム２４のパワー、Ｓ
はスキャンの連続した移動のステップサイズである。し
たがって、必要な露光エネルギー密度が２０ｍＴ／ｃｍ
2であれば、入力ビームにおけるパワーは１００ｍＷ
で、ステップサイズは５ｍｍ、必要なスキャン速度は１
０ｃｍ／ｓである。
【００３２】ホログラフィック層におけるビームのスキ
ャン動作は、機械スキャナの回転動作により生じるもの
であってもよい。
【００３３】ビームスリッタ２５で運ばれ、物体ビーム
１５を形成するビームの部分は、ミラー２６で反射さ
れ、物体マスク１１に直角な入射角をもって到達し、記
録層８を照明する。ビームスリッタ２５で反射され、参
照ビーム１６を形成するビームの部分は、ミラー２７で
反射され、補助ガラスプリズム２８の一面に直角に入射
する。補助プリズム２８で屈折したビームは、ホログラ
フィックプレート７を支持するプリズム１０の斜面を通
過し、ホログラフィック層８に４５°の角度をもって到
達し、その上で、層８の上面で全内部反射される。
【００３４】物体ビーム１５と参照ビーム１６は全く異
なる角度をもってホログラフィック層８に入射するが、
それらは同一領域を照明することが図面から分かる。ま
た、入力ビーム２４がビームスリッタ２５を横切ってス
キャンされると、物体ビーム１５と参照ビーム１６が同
一速度で層８を横切る。これは、層８におけるビーム投
影断面を補正するために、層８における参照ビームの入
射面で参照ビーム１６を圧縮する機能を有する補助プリ
ズムによるものである。一般に、物体ビーム１５と参照
ビーム１６の入射角をそれぞれθｏ，θｒとすれば、必
要な圧縮係数ｃ、すなわち補助プリズム１２８から透過
し、そこに入射される光の幅Ｗ2，Ｗ1の比率は次式で与
えられる。
【００３５】
【数２】
【００３６】圧縮係数Ｃを生じさせるために、図２に示
すように向けられた補助プリズム２８の２つの面間に必
要な角度φは、次式より計算される。
【００３７】
【数３】
【００３８】ここで、ｎは、補助プリズム材料の屈折率
である。したがって、θｏ＝０°，θｒ＝４５°の特定
の形状のものでは、必要な圧縮係数は０．７０７であ
る。そこで、プリズム材料の屈折率を１．５とすれば、
補助プリズム２８の２つの面間に必要な角度φは３２°
である。
【００３９】ホログラフィック層８における物体ビーム
と参照ビームの径を同一にするのは、物体ビーム１５を
広げるために、物体ビームの経路中に補助プリズム２８
を設けることで、代わりに達成することができる。
【００４０】物体ビーム１５と参照ビーム１６の経路
が、スキャナ装置２１の傾き（前後の揺れ、横揺れ、又
は左右の揺れ）に対する、ホログラフィック層に記録さ
れた光学的干渉パターンの感度を弱めるために配置され
ている。
【００４１】物体ビーム１５と参照ビーム１６は、ホロ
グラフィック層８で正確に一列に整列されることがまず
必要である。ビームを一直上に並べる精度は、スキャナ
装置２１に存在する傾きの程度に依存するが、スキャナ
の傾斜が０．１ｍＲであれば、ビーム１５と１６は１／
２ｍｍ以下に整列される。これは、ビームスリッタ２５
の前で入力ビーム２４にナイフエッジを入れ、物体ビー
ムと参照ビーム中におけるナイフエッジの投影が記録層
の平面で一致するまで、物体ビームと参照ビームの経路
上で光学要素の位置と方向を調整することで達成でき
る。ＵＶビーム中の影は、蛍光スクリーンの助けをかり
て観察することができる。
【００４２】次に考慮すべきことは、スキャナ装置の傾
きにより、入力ビーム２４の角移動により生じる、ホロ
グラフィック層におけるビームの不整合を最小にするこ
とである。この最小化には、２つの平面（ＸＹとＸＺ）
における入力ビームの角移動を考慮すべきであるし、ま
た、ホログラフィック層８のすべての部分を考慮すべき
である。物体ビームと参照ビームのそれぞれの部分の長
さに符号を付した図３を参照すると、スキャナの傾きに
対する光学的干渉パターンの感度は、以下の関係に配置
されると低く保たれる。
【００４３】
【数４】
【００４４】ここで、ｎはガラスの屈折率である。ビー
ム経路が上記条件を満足すれば、ホログラムの記録に関
して、スキャナ装置の傾きにかなり容認できる。マスク
１１の近くで物体ビームの経路に補助プリズム２８を設
けることで、スキャナの傾きに対する干渉パターンの感
度を弱めることができるが、マスク１１とホログラフィ
ックプレート７の接近化を犠牲にしなければならないか
もしれない。なぜならは、ＸＹ平面における入力ビーム
の傾きに対する感度を最小にするための、物体ビームと
参照ビームのそれぞれの光学距離に関する条件と、ＸＺ
平面に関する対応条件が類似しているからである。
【００４５】レーザービーム１５と１６がそれらのスキ
ャンを終了すると、ホログラフィックプレート７がプリ
ズム１０から除去され、ホログラフィック層８が定着さ
れる。ホログラム効率が、ホログラフィック露光と定着
の間の時間遅れに依存するこれらのホログラフィック材
料に対して、ホログラフィック層のそれぞれの部分に関
して露光と定着の間の時間遅れを同一にするために、徐
々にプレートを定着プロセスに入れることで適正に行わ
れる。非コヒーレントなＵＶ光で定着する場合、ＵＶ光
源、コンデンサ、及びホログラフィック露光装置を有す
る視準光学装置を組み合わせ、非コヒーレントＵＶビー
ムがホログラム作成用ビーム後方のホログラフィック層
をスキャンするようにスキャン装置を修正することで、
達成できる。その後、ホログラムを再生することができ
る。
【００４６】参考文献：（１）K.Stetson“Holography
with Totally Internally ReflectedLight（全内部反射
光を用いたホログラフィ）”Applied Physics Letters、
vol.11,p.225(1967) （２）I.N.Ross、G.M.Daivis、D.Klemitz、“High Resolut
ion Holographic ImageProjection at Visible and Ult
raviolet Wavelengths（可視波長及び紫外波長での高解
像度ホログラフィックイメージ投影）"、Applied Optic
s、vol.27、p.967(1988). （３）R.Dandliker、J.Brook、“Holographic Photolitho
graphy for Submicron VLST Structures（超微小VLSI構
造に対するホログラフィック・フォトリソグラフィ）"、
IEEE Conf.Proc.Holographic Systems、Components and
Applications、Bath、U.K.、p.311(1989). (4)S.Gary、M.Hamid、“Holographic Microlithograpy fo
r Flat Panel Displays（平坦な板に表示するためのホ
ログラフィック・マイクロリソグラフィ）"、SID 91 Dig
est pp.854-857(1991). （５）B.A.Omar、F.clube、M.Hamid、D.Struchen、S.Gary、
“Advances in Holographic Lithography（ホログラフ
ィック・リソグラフィの進歩）"、Solid State Technolo
gy、pp.89-93、Sept.1991. （６）F.Clubs、S.Gary、M.Hamid、B.Omar、D.Struchen、J-C
Tisserand、“Holographic Mask-Aligner（ホログラフ
ィック・マスク整列）"、SPITE Optical/Laser Microlit
hography V、vol.1674 pp.783-792(1992).
【図面の簡単な説明】
【図１】 ＴＩＲホログラムの原理を示す図である。
【図２】 高度な露光均一性をもって全内部反射ホログ
ラムを記録する好適な実施例を示す図である。
【図３】 物体ビームと参照ビームの経路のそれぞれの
断面の長さを示す図である。
【符号の説明】
８…ホログラフィック層、１０…プリズム、１１…物体
マスク、１２…特徴部分、１３…クロム層、１４…ガラ
ス板、１５…物体ビーム、１６…参照ビーム、２５…ビ
ームスリッタ、２８…補助プリズム。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 （ａ）入力レーザービームを物体ビーム
    と参照ビームに分割し； （ｂ）物体ビームと参照ビームをホログラフィック記録
    層に進行させ、これにより、物体ビームは物体マスクを
    通過した後にホログラフィック記録層の一表面に入射
    し、参照ビームは、ホログラフィック記録層を通過した
    後に全内部反射されてホログラフィック記録層に入る角
    度で、ホログラフィック記録層の他の表面に入射し、物
    体ビームと参照ビームはホログラフィック記録層で重ね
    合わされ； （ｃ）物体ビームと参照ビームは、それらビームがホロ
    グラフィック記録層を横切る時に重ね合わされた状態を
    保持するように、物体ビームと参照ビームの少なくとも
    一方は一方向に拡幅または圧縮され； （ｄ）物体ビームと参照ビームがホログラフィック記録
    層を横切るように、入力レーザービームが動かされる、
    ホログラム記録層に全内部反射ホログラムを記録する方
    法。
  2. 【請求項２】 ホログラフィック記録層に物体ビームと
    参照ビームを進行させる工程に、入力ビームの角移動ま
    たは平行移動により生じる、ホログラフィック記録層に
    おける物体ビームと参照ビームの相対移動が最小になる
    ように、物体ビームと参照ビームの光学経路を配置する
    ことが含まれる請求項１の方法。
  3. 【請求項３】 物体マスクと、物体ビームと参照ビーム
    が重なる場所との間隔が、物体ビームと参照ビームがホ
    ログラフィック記録層を横断する際に一定に保持される
    ように、物体マスクと、物体ビームと参照ビームが重な
    る場所との間隔が測定されて調整される工程を含む、請
    求項１の方法。
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