[go: up one dir, main page]

JPH06298693A - Method of vapor-phase chlorination of difluoromethyl methyl ether - Google Patents

Method of vapor-phase chlorination of difluoromethyl methyl ether

Info

Publication number
JPH06298693A
JPH06298693A JP6044064A JP4406494A JPH06298693A JP H06298693 A JPH06298693 A JP H06298693A JP 6044064 A JP6044064 A JP 6044064A JP 4406494 A JP4406494 A JP 4406494A JP H06298693 A JPH06298693 A JP H06298693A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
compound
fluorinated
hoch
hydrogen fluoride
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6044064A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Gerald J O'neill
ジェイ.オニール ジェラルド
Robert J Bulka
ジェイ.ブルカ ロバート
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hampshire Chemical Corp
Original Assignee
Hampshire Chemical Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from US08/025,009 external-priority patent/US5278342A/en
Application filed by Hampshire Chemical Corp filed Critical Hampshire Chemical Corp
Publication of JPH06298693A publication Critical patent/JPH06298693A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C41/00Preparation of ethers; Preparation of compounds having groups, groups or groups
    • C07C41/01Preparation of ethers
    • C07C41/18Preparation of ethers by reactions not forming ether-oxygen bonds
    • C07C41/22Preparation of ethers by reactions not forming ether-oxygen bonds by introduction of halogens; by substitution of halogen atoms by other halogen atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C43/00Ethers; Compounds having groups, groups or groups
    • C07C43/02Ethers
    • C07C43/03Ethers having all ether-oxygen atoms bound to acyclic carbon atoms
    • C07C43/04Saturated ethers
    • C07C43/12Saturated ethers containing halogen

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

PURPOSE: To provide a preparation process of fluorinated dimethyl ether wherein the generation of carcinogenic CF2HOCCl3, as an intermediate is inhibited.
CONSTITUTION: A preparation process of fluorinated dimethyl ether of the formula: CF2HOCClxFyH3-(x+y) (wherein x is 0, 1 or 2; y is 1, 2 or 3; and (x+y) is 1, 2 or 3) is provided. In this process, methyl difluoromethyl ether is chlorinated in the presence of oxygen to form a chlorinated reaction product of formula: CF2HOCH3-zClz (wherein z is 1 or 2) and the generation of CF2HOCCl3 is also inhibited, here. The obtained compound is subsequently fluorinated and then, separated to obtain a fluorinated reaction product containing the above- mentioned fluorinated dimethyl ether.
COPYRIGHT: (C)1994,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は一般にフッ素化ジメチル
エーテル類、特にフッ素化ジメチルエーテル類合成の出
発物質としてのメチルジフルオロメチルエーテル類に関
する。このようなフルオロメチルエーテル類はビス(ジ
フルオロメチル)エーテル(CHF2OCHF2 )を含
み、CFC代替物としての用途、特に冷却剤やブロー剤
として用いられる。
FIELD OF THE INVENTION This invention relates generally to fluorinated dimethyl ethers, and more particularly to methyldifluoromethyl ethers as a starting material for the synthesis of fluorinated dimethyl ethers. Such fluoromethyl ethers include bis (difluoromethyl) ether (CHF 2 OCHF 2 ), and are used as CFC substitutes, particularly as a cooling agent and a blowing agent.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、ビス(ジフルオロメチル)エーテ
ルは、ジメチルエーテルを塩素化し、次いでビス(ジク
ロロメチル)エーテルの分離およびフッ素化によって製
造されていた。この塩素化工程は、塩素化ジメチルエー
テル類の錯体混合物を生じる結果となり、これらの若干
は、例えばビス(ジクロロメチル)エーテルを分離する
際の蒸留に対して不安定である。さらにクロロメチルエ
ーテルとビス(クロロメチル)エーテルがこの反応によ
って製造されるが、これらは発癌物質である。
2. Description of the Related Art Conventionally, bis (difluoromethyl) ether has been produced by chlorinating dimethyl ether, followed by separation and fluorination of bis (dichloromethyl) ether. This chlorination step results in a complex mixture of chlorinated dimethyl ethers, some of which are unstable to distillation, for example when separating bis (dichloromethyl) ether. In addition, chloromethyl ether and bis (chloromethyl) ether are produced by this reaction, which are carcinogens.

【0003】メチルジフルオロメチルエーテルの合成の
他の方法はハイン(Hine)とポーター(Porte
r)によってJournal of the Amer
ican Chemical Society 79,
5493−6(1957)に発表された「極性反応にお
ける中間体としてのメチレン誘導体、VIII クロロジフ
ルオロメタンとナトリウムメトキシドの反応におけるジ
フルオロメチレン」に開示されている。この論文には、
未反応供給物を連続的にリフラックスさせながら、所定
比のバッチ反応により、副生物のオルトギ酸トリメチル
とともに所望のジフルオロメチルメチルエーテルが合成
される反応メカニズムが記載されている。しかしなが
ら、この反応は大量のオルトギ酸トリメチルを生成する
のみならず、生成物それ自体がオルトギ酸トリメチルに
分解し、その結果、所望のジフルオロメチルエーテルを
有利な収率で得られない。
Another method for the synthesis of methyl difluoromethyl ether is Hine and Porte.
r) by Journal of the Amer
ican Chemical Society 79,
5493-6 (1957), "Methylene Derivatives as Intermediates in Polar Reactions, VIII Difluoromethylene in the Reaction of Chlorodifluoromethane with Sodium Methoxide". In this paper,
A reaction mechanism is described in which the desired difluoromethyl methyl ether is synthesized with the by-product trimethyl orthoformate by a batch reaction at a predetermined ratio while continuously refluxing the unreacted feed. However, this reaction not only produces large amounts of trimethyl orthoformate, but the product itself decomposes to trimethyl orthoformate and as a result the desired difluoromethyl ether is not obtained in advantageous yields.

【0004】引用例として挙げられる米国特許第5,1
85,474号には、出発物質としてメチルジフルオロ
メチルエーテルを用いることによって、このような発癌
物質および不安定な化合物の生成をなくすることを開示
している。該メチルジフルオロメチルエーテルは塩素化
され、式CF2 HOCH3-Z ClZ (ここでZ は1、2
または3)で表される少なくとも1つの化合物を含む反
応混合物が生成される。この混合物は次にフッ素化され
るか、またはこの混合物から最初に分離された塩素化化
合物のどれかが分離されてフッ素化される。
US Pat. No. 5,1 cited as a citation
No. 85,474 discloses the use of methyldifluoromethyl ether as a starting material to eliminate the formation of such carcinogens and labile compounds. The methyl difluoromethyl ether is chlorinated to form the formula CF 2 HOCH 3-Z Cl Z, where Z is 1, 2
Or a reaction mixture containing at least one compound of 3) is produced. This mixture is then fluorinated, or any of the chlorinated compounds initially separated from this mixture are separated and fluorinated.

【0005】しかしながら、CF2 HOCH3 の塩素化
においては、生成物の分布をコントロールすることが困
難である。Cl2 とCF2 HOCH3 のモル流量比を操
作することによってCF2 HOCH2 ClまたはCF2
HOCHCl2 について若干優位性を与えることができ
るが、相当な量のCF2 HOCCl3 が生成される。も
し次にフッ素化される所望の製品がCF2 HOCH2
lまたはCF2 HOCHCl2 のいずれかである場合に
は、CF2 HOCCl3 の生成は該プロセスの効率の相
当量の減少を引き起こす。
However, in the chlorination of CF 2 HOCH 3 , it is difficult to control the product distribution. By manipulating the molar flow ratio of Cl 2 and CF 2 HOCH 3 , CF 2 HOCH 2 Cl or CF 2
Although some advantage can be given to HOCHCl 2 , a significant amount of CF 2 HOCCl 3 is produced. If the desired product to be fluorinated is then CF 2 HOCH 2 C
The formation of CF 2 HOCCl 3 , when either 1 or CF 2 HOCHCl 2 , causes a considerable reduction in the efficiency of the process.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、ビス(ジフルオロメチル)エーテルの製造のための
改良されたプロセスを与えることである。本発明の他の
目的は、収率を損なうことなく、また種々の中間体のマ
ークされた不安定性による爆発の危険を伴うことなく、
種々の要求された分離が蒸留によって行われるビス(ジ
フルオロメチル)エーテルの製造のための改良されたプ
ロセスを提供することである。本発明のさらに他の目的
は、ジフルオロメチルメチルエーテルを効果的に製造す
るプロセスを与えることである。
Accordingly, it is an object of the present invention to provide an improved process for the production of bis (difluoromethyl) ether. Another object of the invention is without compromising the yield and without the risk of explosion due to the marked instability of the various intermediates.
The various required separations are to provide an improved process for the production of bis (difluoromethyl) ethers by distillation. Yet another object of the present invention is to provide a process for effectively producing difluoromethyl methyl ether.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記従来技術の問題点
は、ジフルオロメチルメチルエーテルの製造プロセスを
与える本発明によって克服された。特に本発明のプロセ
スはCF2 HOCCl3の生成を選択的に防止し、かつ
中間体として発癌性物質を生成しない手段を含む。
The above-mentioned problems of the prior art have been overcome by the present invention which provides a process for the production of difluoromethyl methyl ether. In particular, the process of the present invention includes means for selectively preventing the formation of CF 2 HOCCl 3 and not producing carcinogens as intermediates.

【0008】本発明においては、出発物質としてメチル
ジフルオロメチルエーテルを用いることによって、従来
技術において、そのある物が発癌物質であるとされてい
る塩素化物質の不安定な錯体混合物が除去される。この
メチルジフルオロメチルエーテルは塩素化され、式CF
2 HOCH3-Z ClZ Z は1、2または3)の少なく
とも1つの化合物を含む塩素化反応混合物を与える。こ
の化合物は塩素化反応混合物から容易に分離することが
できる。メチルジフルオロメチルエーテルの塩素化は一
般に3つの誘導体、すなわちz=1、z=2およびz=
3の誘導体のみを生成する。ジクロロメチルジフルオロ
メチルエーテル(z=2)は、この塩素化反応混合物か
ら容易に分離することができるが、次いでこのような分
離または分離することなくフッ素化され、ビス(ジフル
オロメチル)エーテルが生成される。CF2 HOCCl
3 (z=3)の生成を防止することができる。生成物
は、塩素化反応生成物から同様に分離され、フッ素化す
ることができる。上記の代わりに塩素化反応生成物それ
自体を次のようにフッ素化することができる。(予め分
離することなく)。
In the present invention, the use of methyldifluoromethyl ether as a starting material eliminates an unstable complex mixture of chlorinated substances, which in the prior art is said to be a carcinogen. This methyl difluoromethyl ether is chlorinated and has the formula CF
A chlorination reaction mixture containing at least one compound of 2 HOCH 3-Z Cl Z, where Z is 1, 2 or 3 is provided. This compound can be easily separated from the chlorination reaction mixture. Chlorination of methyl difluoromethyl ether is generally accomplished by three derivatives, namely z = 1, z = 2 and z =
Only the derivative of 3 is produced. Dichloromethyldifluoromethyl ether (z = 2) can be easily separated from this chlorination reaction mixture, but is then fluorinated without such separation or separation to produce bis (difluoromethyl) ether. It CF 2 HOCCl
It is possible to prevent the generation of 3 (z = 3). The product can likewise be separated from the chlorination reaction product and fluorinated. Alternatively to the above, the chlorination reaction product itself can be fluorinated as follows. (Without separation in advance).

【0009】[0009]

【化1】 [Chemical 1]

【0010】上述のすべての物は冷却剤または冷媒剤と
して用いることができ、特に(I)モノフルオロメチル
ジフルオロメチルエーテルおよび(II)ビス(ジフルオ
ロメチル)エーテルは、それぞれR−11およびR−1
14の代替物になるものと考えられる。本発明方法の出
発物質とみなされるメチルジフルオロメチルエーテルは
公知の化合物であり、Journal of the
American Chemical Society
に記載されたハイン(Hine)とポーター(Port
er)の方法で製造することができる。特にジフルオロ
メチルエーテルは、ナトリウムメトキシド(NaOM
e)とクロロジフルオロメタン(CF2 HCl)との反
応によって製造され、この反応は次のように表される。
All of the above can be used as coolants or refrigerants, in particular (I) monofluoromethyldifluoromethyl ether and (II) bis (difluoromethyl) ether are R-11 and R-1 respectively.
It is considered to be an alternative to 14. Methyldifluoromethyl ether, which is regarded as a starting material in the method of the present invention, is a known compound, and is described in Journal of the
American Chemical Society
Hine and Porter described in
er) method. Especially difluoromethyl ether is sodium methoxide (NaOM
prepared by reaction of e) with chlorodifluoromethane (CF 2 HCl), which reaction is represented as:

【0011】[0011]

【化2】 [Chemical 2]

【0012】簡単に述べれば、この方法はナトリウムメ
トキシドのアルコール溶液を生成し、クロロジフルオロ
メタンをこの反応混合物中にゆっくりと吹き込んで該反
応混合物中の残渣としてメチルジフルオロメチルエーテ
ルを得るものである。若干の生成物は未反応のCF2
Clとともに含まれるので、蒸留操作によって分離する
ことができる。
Briefly, this method produces an alcoholic solution of sodium methoxide and slowly blows chlorodifluoromethane into the reaction mixture to obtain methyldifluoromethyl ether as a residue in the reaction mixture. . Some product is unreacted CF 2 H
Since it is contained together with Cl, it can be separated by a distillation operation.

【0013】出発物質のエーテルであるCHF2 OCH
3 は、まずNaOHをCH3 OHと反応させ、CH3
Naを作り、そして次にこれをCF2 HClと反応させ
ることによって同様に製造することができる。しかしな
がら、NaOH/CH3 OH中に水が生成される。この
生成した水は次の反応でCHF2 OCH3 を生成し、C
HF2 OCH3 の収率を減少させる。本発明の塩素化お
よびフッ素化工程は次のように表される。
CHF 2 OCH, the starting ether
3 first reacts NaOH with CH 3 OH to give CH 3 O
It can be similarly prepared by making Na and then reacting it with CF 2 HCl. However, water is produced during the NaOH / CH 3 OH. The produced water produces CHF 2 OCH 3 in the next reaction, and C
It reduces the yield of HF 2 OCH 3 . The chlorination and fluorination steps of the present invention are represented as follows.

【0014】[0014]

【化3】 [Chemical 3]

【0015】本発明者らは、上記反応式においてCF2
HOCH3-Z ClZ (ここでZ =3)の生成が気相反応
媒体に酸素源、好ましくは空気の添加によって防止され
るか、または除去さえ可能であることを見出した。3つ
の塩素化生成物を等しく防止するのであればともかく、
酸素を添加することによりCF2 HOCCl3 の生成が
優先的に防止されることは驚くべきことである。本発明
者らは、反応機構の理論に限定されるものではないが、
この防止は、トリクロロ誘導体が優先的に防止されるよ
うな反応動力学とともに酸素が活性化塩素分子と錯体を
生成する結果であると思われる。酸素源としては、所望
の化合物の生成に対して有害でないものであれば如何な
るものを用いてもよく、その場所で酸素を放出する酸素
含有化合物もこれに含まれる。
The present inventors have found that CF 2 in the above reaction formula
HOCH 3-Z Cl Z source of oxygen (where Z = 3) generated vapor phase reaction medium, preferably have found that either prevented by the addition of air, or removal is even possible. Regardless of equally preventing the three chlorinated products,
It is surprising that the addition of oxygen preferentially prevents the formation of CF 2 HOCCl 3 . Although the inventors are not limited to the theory of reaction mechanism,
This prevention appears to be the result of oxygen forming a complex with activated chlorine molecules, with reaction kinetics such that the trichloro derivative is preferentially prevented. Any oxygen source may be used as long as it is not harmful to the formation of the desired compound, and an oxygen-containing compound that releases oxygen at that location is also included in this.

【0016】酸素は、所望の防止作用を生ずるような量
で存在すべきである。空気の場合には、該空気は好まし
くは全体のガス流量の約1.5ないし約5.5%の量で
添加される。純粋な酸素が用いられる場合には、その量
は空気の量の約5分の1であることが当業者によって理
解されるであろう。この酸素源は、塩素ガスが流動して
いる限り、反応媒体に添加することが好ましい。
Oxygen should be present in an amount that produces the desired inhibitory effect. In the case of air, it is preferably added in an amount of about 1.5 to about 5.5% of the total gas flow rate. It will be appreciated by those skilled in the art that when pure oxygen is used, its amount is about one fifth of the amount of air. This oxygen source is preferably added to the reaction medium as long as chlorine gas is flowing.

【0017】CHF2 OCH3 は、CHF2 OCH3
液化し、可視光線源で照射しながら塩素ガスと反応させ
ることによって好適に塩素化することができることが見
出された。上記の可視光線の代わりに、紫外線や熱のよ
うな他の光源を用いたり、反応を助けるために触媒やフ
リーラジカル開始剤を用いてもよい。CHF2 OCH 3
の塩素化生成物は、フッ素化の前に容易に分離すること
ができ、または反応混合物は分離することなくフッ素化
することができ、CF2 HOCCl2 F、CF 2 HOC
2 Cl、CF2 HOCH2 F、CF2 HOCFHC
l、CF2 HOCF2 Hの混合物を与える。これらの全
ての分離は分別蒸留によって行うことができる。
CHF2OCH3Is CHF2OCH3To
Liquefaction and react with chlorine gas while irradiating with a visible light source
It was found that the
Was issued. Instead of the visible light mentioned above, UV or heat
Use other light sources, such as a catalyst or catalyst to aid the reaction.
Free radical initiators may also be used. CHF2OCH 3
The chlorinated products of E. coli can be easily separated before fluorination
Or fluorination without separation of the reaction mixture
Can be CF2HOCCl2F, CF 2HOC
F2Cl, CF2HOCH2F, CF2HOCFHC
l, CF2HOCF2A mixture of H is given. All of these
All separations can be carried out by fractional distillation.

【0018】CHF2 OCH3 の塩素化の好ましい方法
は、気相中でCHF2 OCH3 を保持し、光源、好まし
くは可視または紫外線のもとで塩素ガスと反応させるこ
とである。塩素化反応における光の代わりに、触媒、熱
またはフリーラジカル開始剤のような他の反応助剤を用
いてもよい。好ましいフッ素化工程では、塩素化反応生
成物は、無水フッ化水素(HF)と反応させる。この反
応は次のように表される。
[0018] CHF 2 OCH 3 in the preferred method of chlorination is to hold the CHF 2 OCH 3 in the vapor phase, a light source, preferably be reacted with chlorine gas under visible or ultraviolet light. Instead of light in the chlorination reaction, other reaction aids such as catalysts, heat or free radical initiators may be used. In the preferred fluorination step, the chlorination reaction product is reacted with anhydrous hydrogen fluoride (HF). This reaction is represented as follows.

【0019】[0019]

【化4】 [Chemical 4]

【0020】フッ化水素との上記反応を用いることによ
り、本発明者は少量のCF2 HOCFCl2 とともに7
8%のCF2 HOCF2 Clのような高収率を得た。こ
れは、HFそれ自体が通常、たぶん非常に高い温度以外
では塩素のようなハロゲンと置換しないので、予想外の
結果であった。しかし、SbCl5-y y のようなフッ
素化剤(例えばSbF3 )またはSbF3 Cl2 の連続
的な再生によってフッ素化してもよい。ジフルオロメト
キシ基がアルファ炭素原子上の塩素を活性化し、HFと
容易に反応することは明らかである。
By using the above reaction with hydrogen fluoride, the inventor has found that with a small amount of CF 2 HOCFCl 2 ,
A high yield such as 8% CF 2 HOCF 2 Cl was obtained. This was an unexpected result because HF itself usually does not displace halogens such as chlorine except at very high temperatures. However, it may be fluorinated by continuous regeneration of a fluorinating agent such as SbCl 5-y F y (eg SbF 3 ) or SbF 3 Cl 2 . It is clear that the difluoromethoxy group activates chlorine on the alpha carbon atom and reacts readily with HF.

【0021】上記の代わりに、フッ素化物質の分裂を減
少させるために、HFは有機溶媒、好ましくはメチルピ
ロリドンのような双極アプロチック(aprotic)
溶媒で希釈してもよい。これによって望ましい生成物を
少ない副生物の生成とともに高収率で得ることができ
る。フッ素化工程のための他のフッ素源としては、KH
2 、NaHF2 、LiHF2 、NH4 HF2 、等のよ
うなHF- アニオンの塩を生成することができる金属フ
ッ化物、HFのピリジン塩、NaFおよびKF(適当な
溶媒中)を含む。
Alternatively to the above, HF is a dipolar aprotic such as an organic solvent, preferably methylpyrrolidone, to reduce fission of the fluorinated material.
You may dilute with a solvent. This allows the desired product to be obtained in high yield with less by-product formation. Other fluorine sources for the fluorination process include KH
F 2, NaHF 2, LiHF 2 , NH 4 HF 2, HF , such as equal - metal fluoride capable of generating an anion of salt, containing pyridine salt of HF, NaF and KF (a suitable solvent).

【0022】得られたフッ素化生成物は、蒸留によって
分離するか、または引用例として挙げられる米国特許
4,025,567号または3,887,439号に教
示されている方法によって分離することができる。本発
明を以下に示す実施例によりさらに詳細に説明する。
The resulting fluorinated product may be isolated by distillation or by the method taught in the cited US Pat. Nos. 4,025,567 or 3,887,439. it can. The present invention will be described in more detail with reference to the following examples.

【0023】[0023]

【実施例】【Example】

実施例1 a)CF2 HOCH3 の製造 7.1モルのナトリウムメトキシドを含むナトリウムメ
トキシドのメタノール(1533.1g)25重量%溶
液が温度計、圧力計および浸漬脚を備えた4リットルジ
ャケット付オートクレーブ内に置かれた。この容器は0
ないし5℃に冷却され、そして攪拌しながら2.5時間
をかけてクロロジフルオロメタン(318.2g、3.
70モル)が添加された。ガスの添加が終了したとき、
オートクレーブを約60℃にゆっくりと加温し、一方、
ガス状生成物を水冷コンデンサを通して約−70℃に冷
却された捕集トラップ内に排出した。
Example 1 a) Preparation of CF 2 HOCH 3 A 25 wt% solution of sodium methoxide in methanol (1533.1 g) containing 7.1 mol sodium methoxide in a 4 liter jacket equipped with a thermometer, pressure gauge and dip leg. It was placed in an autoclave. This container is 0
Cooled to -5 ° C and stirred for 2.5 hours over chlorodifluoromethane (318.2g, 3.
70 mol) was added. When the gas addition is complete,
Slowly heat the autoclave to about 60 ° C, while
The gaseous product was discharged through a water cooled condenser into a collection trap cooled to about -70 ° C.

【0024】すべての揮発物質が捕集されたとき、未反
応のCHF2 Clが−20℃で除去され、そして残った
CF2 HOCH3 が金属シリンダーに移された。この回
収されたジフルオロメチルメチルエーテル(150.0
g、1.83モル)はCF2HCl基準で49.4%の
収率を示した。 b)CF2 HOCH3 の塩素化 塩素およびガス相のCF2 HOCH3 が0℃に冷却され
た分離コンデンサを通され、次いでガス流が結合され、
可視光またはUVで照射されたU字形反応器の1つのア
ーム内に通される。該反応器の両方のアームにジャケッ
トが設けられ、水冷されている。
When all the volatiles were collected, the unreacted CHF 2 Cl was removed at -20 ° C and the remaining CF 2 HOCH 3 was transferred to a metal cylinder. This recovered difluoromethyl methyl ether (150.0
g, 1.83 mol) showed a yield of 49.4% based on CF 2 HCl. b) CF 2 HOCH CF 2 HOCH 3 in a chlorinated chlorine and gas phase 3 is passed through a separation capacitor cooled to 0 ° C., then combined gas stream,
It is passed through one arm of a U-shaped reactor illuminated with visible light or UV. Both arms of the reactor are jacketed and water cooled.

【0025】このU字形の底には出口があり、該出口に
は生成物捕集フラスコが取りつけられている。−50℃
に冷却されたDewar−typeのコンデンサには、
U字形の第2のアームに取りつけられ、そしてこれに未
反応の塩素を捕集するためのコールドトラップおよびH
Clを除去するためのNaOHスクラバーがシリーズで
連結されている。反応は通常、大気圧で行われるが、こ
れより低いか、または高い圧力を用いることができる。
ガラスの侵食を避けるために反応器内の温度は約50℃
をあまり越えて上げてはならない。
An outlet is provided at the bottom of the U-shape, and a product collection flask is attached to the outlet. -50 ° C
The Dewar-type condenser cooled to
A cold trap and H attached to the U-shaped second arm for trapping unreacted chlorine
A NaOH scrubber for removing Cl is connected in series. The reaction is usually carried out at atmospheric pressure, although lower or higher pressures can be used.
The temperature inside the reactor is about 50 ° C to avoid glass erosion
Do not raise too much.

【0026】実際には、装置は窒素でフラッシュされ、
次いで塩素とCHF2 OCH3 がエーテルの流れに対す
る塩素の流れの比が、最適の結果、すなわちCF2 HO
CHCl2 の最高の収率を与えるための約2.5:1に
維持されるような速度で反応器に供給される。3つの生
成物のどれかの優先的な量はガス流の比を変化させるこ
とによって得ることができる。
In practice, the device was flushed with nitrogen,
The ratio of chlorine and CHF 2 OCH 3 chlorine flow to ether flow is then the optimum result, ie CF 2 HO.
The reactor is fed at a rate such that it is maintained at about 2.5: 1 to give the highest yield of CHCl 2 . A preferential amount of any of the three products can be obtained by varying the gas flow ratio.

【0027】2.3モルの塩素と0.9モルのCHF2
OCH3 を通過させたのち、136.6gの生成物が回
収された。生成混合物のGC分析はCF2 HOCH2
l:10.0%、CF2 HOCHCl2 :62.4%、
およびCF2 HOCCl3 :22.2%を示した。 c)CHF2 OCHCl2 のHFによるフッ素化 46.1%のCF2 HOCHCl2 を含む塩素化CHF
2 OCH3 (40.0g)がステンレス製シリンダー内
で氷により冷却され、次いで無水HF(30.0g)が
添加された。このシリンダーはバルブと圧力計で密閉さ
れ、60℃の水浴中で3時間置かれた。次にこのシリン
ダーはNaOHスクラバーを通して排気され、揮発性生
成物が−70℃に冷却されたトラップ内に捕集された。
該トラップから回収された生成物の重量は16.8gで
あった。GC分析によればこの生成物は71.8%のC
2 HOCF2 Hを含有しており、これは83.8%の
CF2 HOCF2 Hの収率に相当する。ラージスケル
(例えば5ガロン)で実施したところ、CF2 HOCF
2 Hの定量的な収率(CF2 HOCHCl2 基準)が得
られた。
2.3 mol of chlorine and 0.9 mol of CHF 2
After passing OCH 3 , 136.6 g of product were recovered. GC analysis of the product mixture showed CF 2 HOCH 2 C
1: 10.0%, CF 2 HOCHCl 2 : 62.4%,
And CF 2 HOCCl 3 : 22.2%. c) Fluorination of CHF 2 OCHCl 2 with HF Chlorinated CHF containing 46.1% CF 2 HOCHCl 2.
2 OCH 3 (40.0 g) was cooled with ice in a stainless steel cylinder, then anhydrous HF (30.0 g) was added. The cylinder was sealed with a valve and pressure gauge and placed in a 60 ° C. water bath for 3 hours. The cylinder was then evacuated through a NaOH scrubber and volatile products collected in a trap cooled to -70 ° C.
The weight of product recovered from the trap was 16.8 g. According to GC analysis, this product contains 71.8% C
It contains F 2 HOCF 2 H, which corresponds to a yield of CF 2 HOCF 2 H of 83.8%. When performed with a large skeleton (eg 5 gallons), CF 2 HOCF
A quantitative yield of 2 H (based on CF 2 HOCHCl 2 ) was obtained.

【0028】実施例2 50%CF2 HOCCl3 を含む塩素化ジフルオロメチ
ルエーテル混合物(25g)のサンプルが、キャリアガ
スとしての窒素の入口チューブ、NaOH溶液(10%
)を含む第2のポリエチレンフラスコに導かれる出口
チューブを備えたポリエチレンフラスコ中に置かれた。
このフラスコの出口チューブには、乾燥チューブとドラ
イアイス/MeOHで冷却されたトラップが付設されて
いる。
Example 2 A sample of a chlorinated difluoromethyl ether mixture (25 g) containing 50% CF 2 HOCCl 3 was taken as an inlet tube of nitrogen as carrier gas, NaOH solution (10%).
) Was placed in a polyethylene flask with an outlet tube leading to a second polyethylene flask.
The outlet tube of this flask is equipped with a dry tube and a trap cooled with dry ice / MeOH.

【0029】過剰の無水フッ化水素が塩素化エーテルに
添加され、混合物がマグネチックスターラーで攪拌され
た。熱は加えられず、温度は約20℃に維持された。す
べての有機物質が反応するまで、必要によりこの混合物
にさらにフッ化水素が添加された。コールドトラップか
ら捕集された物質の量は9.5gであった。GCによっ
て回収された生成物の分析によれば、この物質は84.
3%のCF 2 HOCF2 Clからなり、その収率は塩素
化混合物のCF2 OCCl3 含量基準で78%であっ
た。少量のCF2 HOCFCl2 が同様に存在してい
た。
Excess anhydrous hydrogen fluoride becomes chlorinated ether
Is added and the mixture is stirred with a magnetic stirrer
It was No heat was applied and the temperature was maintained at about 20 ° C. You
This mixture may be added, if necessary, until all organic substances have reacted.
Further hydrogen fluoride was added to. Cold trap
The amount of substance collected from the above was 9.5 g. By GC
According to analysis of the product recovered from
3% CF 2HOCF2It consists of Cl and its yield is chlorine
CF of chemical mixture2OCCl378% based on the content
It was A small amount of CF2HOCFCl2Exists as well
It was

【0030】実施例3 塩素化装置は、U−チューブ形の下端に短い長さの、ジ
ャケットを有していない内径2インチのチューブによっ
て連結されている2つの垂直な長さを有するジャケット
付のガラスチューブ(4フィート長×内径2インチ)か
らなる。U−チューブ配置の最低ポイントからドレイン
チューブが導かれており、生成物が生成したときに捕集
され、そして装置から連続的に除去されるか、または受
器内に貯蔵されるようになっている。3つの150ワッ
トの白熱フラッドランプが各チューブの長さに沿って配
置された。
Example 3 A chlorination apparatus is a U-tube type jacket with two vertical lengths connected by a short length, unjacketed, 2 inch ID tube to the lower end. It consists of a glass tube (4 feet long x 2 inches inside diameter). The drain tube is led from the lowest point of the U-tube arrangement so that the product can be collected when it is produced and continuously removed from the device or stored in a receiver. There is. Three 150 watt incandescent flood lamps were placed along the length of each tube.

【0031】ガスがU−チューブ配置の1つのアームの
上端内に供給された。流動速度は補正マス流量計によっ
て測定された。U−チューブの第2アームの出口の低温
コンデンサから未反応のE−152a(メチルジフルオ
ロメチルエーテル)と塩素が照射中の反応ゾーンに戻さ
れた。塩化水素副生物と空気はコンデンサを介して水ス
クラバー内に通され、ここで塩化水素が除去された。
Gas was fed into the upper end of one arm of the U-tube arrangement. Flow rate was measured by a corrected mass flow meter. Unreacted E-152a (methyldifluoromethyl ether) and chlorine were returned to the reaction zone during irradiation from the low temperature condenser at the outlet of the second arm of the U-tube. The hydrogen chloride byproduct and air were passed through a condenser into a water scrubber where hydrogen chloride was removed.

【0032】0ないし5℃に冷却されたメタノールと水
の混合物が該装置の冷却ジャケットを通って循環され
た。典型的な方法においては、0ないし5℃の温度の冷
媒が冷却ジャケットを通って循環され、フラッドランプ
が点灯され、ドライアイスが低温コンデンサ内に置かれ
る。塩素が装置内に導入され、次いで所望の比率でジフ
ルオロメチルエーテルと空気が導入される。生成物が受
器から間欠的に取り出され、HClを除去するために飽
和NaHCO3 で洗浄された。反応が連続的なので、所
望の長さの時間、進行させることができる。反応の終期
には、ガス流が停止され、生成物は垂直な反応器のチュ
ーブから受器内に滴下された。
A mixture of methanol and water cooled to 0-5 ° C. was circulated through the cooling jacket of the device. In a typical method, refrigerant at a temperature of 0 to 5 ° C is circulated through a cooling jacket, a flood lamp is turned on, and dry ice is placed in a low temperature condenser. Chlorine is introduced into the apparatus and then difluoromethyl ether and air in the desired ratio. The product was intermittently removed from the receiver and washed with saturated NaHCO 3 to remove HCl. Since the reaction is continuous, it can be allowed to proceed for a desired length of time. At the end of the reaction, the gas flow was stopped and the product was dripped into the receiver through a vertical reactor tube.

【0033】結果は下記の表1に示される。実施例6−
29−1ないし6−29−7はガス流に対する空気の添
加なしに通常得られた生成物の分布を示す。実施例7−
73から7−8−6は、本発明に従って空気の添加を減
少させていった場合の効果を示す。
The results are shown in Table 1 below. Example 6-
29-1 to 6-29-7 represent the product distributions normally obtained without the addition of air to the gas stream. Example 7-
Nos. 73 to 7-8-6 show the effect of reducing the addition of air according to the present invention.

【0034】[0034]

【発明の効果】中間体として発癌性物質であるCF2
OCCl3 の生成を防止したフッ素化ジメチルエーテル
の製法が提供される。
EFFECT OF THE INVENTION CF 2 H which is a carcinogen as an intermediate
A method for producing fluorinated dimethyl ether that prevents the formation of OCCl 3 is provided.

【0035】[0035]

【表1】 [Table 1]

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ロバート ジェイ.ブルカ アメリカ合衆国、03054 ニューハンプシ ャー州、メリマック、ハッチンソン ロー ド 9 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued Front Page (72) Inventor Robert Jay. Burka, Hutchinson Road, Merrimack, 03054 New Hampshire, USA 9

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 CHF2 OCH3 を酸素の存在下で塩素
と反応させることにより、式CF2 HOCH3-Z Clz
(ここでZ は1または2である)で表される少なくとも
1つの化合物を含む塩素化混合物を生成させるととも
に、CF2 HOCCl3 の生成を防止し、式CF2 HO
CH3-Z ClZ の前記少なくとも1つの化合物を、触媒
の不存在下に、フッ化水素、無水フッ化水素、HF2 -
の金属塩、NaF、KFおよびHFのピリジン塩からな
る群から選ばれたフッ素源でフッ素化し、式CF2 HO
CH3-z FyClz-y の少なくとも1つの化合物を含む
フッ素化混合物を得る、式CF2 HOCClXFy
3-(x+y) ( ここでX は0、1または2、y は1、2また
は3、X+y は1、2または3)で表されるフッ素化ジメ
チルエーテル類の製造方法。
1. CHF 2 OCH 3 is reacted with chlorine in the presence of oxygen to give a compound of the formula CF 2 HOCH 3-Z Cl z.
A chlorinated mixture containing at least one compound of formula (wherein Z is 1 or 2) and preventing the formation of CF 2 HOCCl 3 and having the formula CF 2 HO
The CH 3-Z Cl wherein at least one compound of Z, in the absence of a catalyst, hydrogen fluoride, anhydrous hydrogen fluoride, HF 2 -
Fluorinated with a fluorine source selected from the group consisting of pyridine salts of NaF, KF and HF of the formula CF 2 HO.
A fluorinated mixture containing at least one compound of CH 3-z FyCl zy is obtained, the formula CF 2 HOCClXF y H
A method for producing a fluorinated dimethyl ether represented by 3- (x + y) (where X is 0, 1 or 2, y is 1, 2 or 3, and X + y is 1, 2 or 3).
【請求項2】 前記塩素化工程が気相または液相のいず
れかで起こり、塩素が液体または気体の形である請求項
1記載の方法。
2. A process according to claim 1, wherein the chlorination step occurs in either the gas or liquid phase and the chlorine is in liquid or gas form.
【請求項3】 前記塩素化工程が液相であり、塩素がガ
ス状である請求項1記載の方法。
3. The method according to claim 1, wherein the chlorination step is in a liquid phase and chlorine is in a gaseous state.
【請求項4】 フッ化水素が、有機溶媒中のフッ化水素
無水物およびフッ化水素からなる群から選ばれる請求項
1記載の方法。
4. The method according to claim 1, wherein the hydrogen fluoride is selected from the group consisting of hydrogen fluoride anhydride and hydrogen fluoride in an organic solvent.
【請求項5】 式CF2 HOCH3-Z ClZ がCF2
OCHCl2 であり、前記フッ素化反応生成物がCF2
HOCF2 HおよびCF2 HOCHFClを含む請求項
1記載の方法。
5. The formula CF 2 HOCH 3-Z Cl Z is CF 2 H.
OCHCl 2 and the fluorination reaction product is CF 2
The method of claim 1 comprising HOCF 2 H and CF 2 HOCHFCl.
【請求項6】 式CF2 HOCH3-Z ClZ の前記少な
くとも1つの化合物がCF2 HOCHCl2 であり、式
CF2 HOCClXFy 3-(x+y) の前記少なくとも1
つの化合物がCF2 HOCF2 Hであり、そしてさらに
前記フッ素化混合物から前記CF2 HOCF2 Hを分離
および回収することを含む請求項1記載の方法。
6. The at least one compound of formula CF 2 HOCH 3-Z Cl Z is CF 2 HOCHCl 2 and said at least one compound of formula CF 2 HOCClXF y H 3- (x + y).
The method of claim 1, wherein one compound is CF 2 HOCF 2 H, and further comprising separating and recovering the CF 2 HOCF 2 H from the fluorinated mixture.
【請求項7】 前記塩素化が、前記CF2 HOCH3
ガス状態に維持するのに充分な温度および圧力で行われ
る請求項1記載の方法。
7. The method of claim 1 wherein said chlorination is carried out at a temperature and pressure sufficient to maintain said CF 2 HOCH 3 in a gaseous state.
【請求項8】 CHF2 Clを溶媒溶液中のアルカリ金
属メトキシドと反応させ、前記CHF2 OCH3 を生成
することをさらに含む請求項1記載の方法。
8. The method of claim 1, further comprising reacting CHF 2 Cl with an alkali metal methoxide in a solvent solution to produce the CHF 2 OCH 3 .
【請求項9】 前記酸素源が空気である請求項1記載の
方法。
9. The method of claim 1, wherein the oxygen source is air.
【請求項10】 式CF2 HOCClx y 3-(x+y)
( ここでx は0、1または2、y は1、2または3、
x+y は1、2または3)で表されるフッ素化ジメチルエ
ーテル類の製法において、CHF2 OCH3 を塩素と反
応させることにより塩素化し、式CF2 HOCH3-Z
Z (ここでZ は1または2)の少なくとも1つの化合
物を含む塩素化混合物を生成させ、そして式CF2 HO
CH3-ZClZ の前記少なくとも1つの化合物を、触媒
の不存在下にフッ化水素、無水フッ化水素、HF2 -
金属塩、NaF、KFおよびHFのピリジン塩からなる
群から選ばれたフッ素源でフッ素化し、式CF2 HOC
3-z y Clz-y の少なくとも1つの化合物を含むフ
ッ素化混合物を得るものであって、かつ酸素の存在下に
前記塩素化工程を行ってCF2 HOCCCl3 の生成を
防止する、フッ素化ジメチルエーテル類の製造方法。
10. The formula CF 2 HOCCl x F y H 3- (x + y).
(Where x is 0, 1 or 2, y is 1, 2 or 3,
x + y is chlorinated by reacting CHF 2 OCH 3 with chlorine in the method for producing a fluorinated dimethyl ether represented by 1, 2 or 3), and has the formula CF 2 HOCH 3-Z C
a chlorinated mixture containing at least one compound of 1 Z (where Z is 1 or 2) and having the formula CF 2 HO
The CH 3-Z Cl wherein at least one compound of Z, hydrogen fluoride in the absence of a catalyst, anhydrous hydrogen fluoride, HF 2 - metal salt, selected from the group consisting of pyridine salt of NaF, KF and HF Fluorinated with a fluorine source of formula CF 2 HOC
Fluorinating to obtain a fluorinated mixture containing at least one compound of H 3-z F y Cl zy , and preventing the formation of CF 2 HOCCCl 3 by performing the chlorinating step in the presence of oxygen. Method for producing dimethyl ethers.
【請求項11】 前記酸素源が空気である請求項10記
載の方法。
11. The method of claim 10, wherein the oxygen source is air.
JP6044064A 1993-03-15 1994-03-15 Method of vapor-phase chlorination of difluoromethyl methyl ether Pending JPH06298693A (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US08/025,009 US5278342A (en) 1992-03-25 1993-03-15 Vapor phase chlorination of difluoromethyl methyl ether
US08/025009 1993-03-15

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06298693A true JPH06298693A (en) 1994-10-25

Family

ID=21823552

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6044064A Pending JPH06298693A (en) 1993-03-15 1994-03-15 Method of vapor-phase chlorination of difluoromethyl methyl ether

Country Status (8)

Country Link
JP (1) JPH06298693A (en)
KR (1) KR100285073B1 (en)
CN (1) CN1054115C (en)
AU (1) AU669604B2 (en)
BR (1) BR9401152A (en)
CA (1) CA2118828A1 (en)
MY (1) MY110487A (en)
TW (1) TW252973B (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018123649A1 (en) * 2016-12-29 2018-07-05 セントラル硝子株式会社 Production method for 1, 2, 2, 2–tetrafluorethyl difluoromethyl ether (desflurane)
JP2018115146A (en) * 2017-01-13 2018-07-26 セントラル硝子株式会社 Manufacturing method of 1,2,2,2-tetrafluoroethyl difluoromethyl ether (desflurane)
US10683252B2 (en) 2016-12-29 2020-06-16 Central Glass Company, Limited Production method for 1,2,2,2-tetrafluoroethyl difluoromethyl ether (desflurane)
US10882809B2 (en) 2016-12-29 2021-01-05 Central Glass Company, Limited Production method for halogenated alpha-fluoroethers

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ZA917855B (en) * 1990-10-02 1993-03-31 Grace W R & Co Synthesis of fluorinated dimethyl ethers

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018123649A1 (en) * 2016-12-29 2018-07-05 セントラル硝子株式会社 Production method for 1, 2, 2, 2–tetrafluorethyl difluoromethyl ether (desflurane)
US10683252B2 (en) 2016-12-29 2020-06-16 Central Glass Company, Limited Production method for 1,2,2,2-tetrafluoroethyl difluoromethyl ether (desflurane)
US10882809B2 (en) 2016-12-29 2021-01-05 Central Glass Company, Limited Production method for halogenated alpha-fluoroethers
JP2018115146A (en) * 2017-01-13 2018-07-26 セントラル硝子株式会社 Manufacturing method of 1,2,2,2-tetrafluoroethyl difluoromethyl ether (desflurane)

Also Published As

Publication number Publication date
KR940021492A (en) 1994-10-19
AU669604B2 (en) 1996-06-13
KR100285073B1 (en) 2001-04-02
CA2118828A1 (en) 1994-09-16
MY110487A (en) 1998-08-29
CN1054115C (en) 2000-07-05
BR9401152A (en) 1994-11-01
AU5777894A (en) 1994-09-22
TW252973B (en) 1995-08-01
CN1100711A (en) 1995-03-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2593571B2 (en) Method for producing 1,2,2,2-tetrafluoroethyldifluoromethyl ether
JP3464655B2 (en) Method for producing α-fluoroether and novel α-fluoroether
US5278342A (en) Vapor phase chlorination of difluoromethyl methyl ether
JPH0687777A (en) Synthesis of desflurane
US5196600A (en) Synthesis of fluorinated dimethyl ethers
US5185474A (en) Synthesis of fluorinated dimethyl ethers
JPH06298693A (en) Method of vapor-phase chlorination of difluoromethyl methyl ether
US5543055A (en) Purifications of flourinated dimethyl ethers
EP0675098B1 (en) Chlorination of difluoromethyl methylether and preparation of fluorinated dimethylethers
KR100196480B1 (en) Method for preparing fluorinated dimethyl ether
MXPA97009463A (en) Purification of eteres dimetilicos fluora
KR20080008316A (en) Synthesis of Fluorinated Ethers
US5324864A (en) Synthesis of fluoromethyl ether
JPH05201909A (en) Production of isoflurane
JP3711388B2 (en) Method for producing fluorine-containing ether
JPH08325179A (en) Method for producing 2-trifluoromethyl-3,3,3-trifluoropropionic acid and method for producing 1,1,3,3,3-pentafluoropropane
CN1199349A (en) Use of bis (difluoromethyl) ether as fire extinguishant
WO2022126111A1 (en) Process for producing trifluoroiodomethane (cf3i) from trifluoroacetic anhydride (tfaa)
TW202233559A (en) Manufacturing method of composition comprising purified fluorine-containing ether compound
MXPA97009476A (en) The use of bis (difluoromethyl) eter as an extinguisher of fu
CN1188468A (en) Purification of fluorinated dimethyl ethers

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20050104

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050208

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20060608