JPH06242379A - Optical system for reflection/refraction/reduction/ projection - Google Patents
Optical system for reflection/refraction/reduction/ projectionInfo
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- JPH06242379A JPH06242379A JP5286516A JP28651693A JPH06242379A JP H06242379 A JPH06242379 A JP H06242379A JP 5286516 A JP5286516 A JP 5286516A JP 28651693 A JP28651693 A JP 28651693A JP H06242379 A JPH06242379 A JP H06242379A
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 110
- 230000009467 reduction Effects 0.000 title claims abstract description 48
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 97
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 97
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 66
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 description 54
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 40
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 26
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 24
- 239000010436 fluorite Substances 0.000 description 24
- 206010073261 Ovarian theca cell tumour Diseases 0.000 description 19
- 208000001644 thecoma Diseases 0.000 description 19
- 206010010071 Coma Diseases 0.000 description 17
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 7
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001393 microlithography Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70225—Optical aspects of catadioptric systems, i.e. comprising reflective and refractive elements
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、反射面と屈折面とを有
する反射屈折型光学系に関し、特に縮小投影を行なう結
像光学系に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a catadioptric optical system having a reflecting surface and a refracting surface, and more particularly to an image forming optical system for performing reduction projection.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、LSI等の集積回路を製造する際
にウェハ上のフォトレジストにマスクパターンを投影露
光するのに好適な光学系が種々提案されている。例え
ば、ダイソン型反射屈折光学系は、比較的大きな開口に
おいて収差が良好に補正されることが知られている。し
かしダイソン型反射屈折光学系は、結像倍率が等倍であ
るため、微細なパターンの転写には限界があった。2. Description of the Related Art Conventionally, various optical systems suitable for projecting and exposing a mask pattern onto a photoresist on a wafer when manufacturing an integrated circuit such as an LSI have been proposed. For example, it is known that the Dyson-type catadioptric optical system is well corrected for aberrations at a relatively large aperture. However, since the Dyson type catadioptric optical system has the same imaging magnification, there is a limit in transferring a fine pattern.
【0003】そこで、より微細なパターンからなる半導
体の製造に好適な縮小倍率を有する光学系として、ダイ
ソン型反射屈折光学系を変形した光学系が例えば特開昭
63-163319 号公報や、特開平2-66510 号公報において提
案されている。しかしながら、縮小投影を可能とする上
記特開昭63-163319 号公報に開示された光学系によれ
ば、輪帯状の視野を持つ縮小倍率の結像が可能である
が、基本的には3つの凹面鏡と1つの凸面鏡とを有し、
マイクロリソグラフィー用の露光装置として用いるため
には、多数のレンズとの組み合わせによる極めて複雑な
光学構成とならざるを得なかった。Therefore, as an optical system having a reduction magnification suitable for manufacturing a semiconductor having a finer pattern, an optical system obtained by modifying a Dyson type catadioptric optical system is disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open Publication No. Sho.
It is proposed in Japanese Patent Laid-Open No. 63-163319 and Japanese Patent Laid-Open No. 2-66510. However, according to the optical system disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 63-163319, which enables reduction projection, it is possible to form an image at a reduction magnification having a ring-shaped field of view. Having a concave mirror and one convex mirror,
In order to use it as an exposure apparatus for microlithography, it was inevitable to have an extremely complicated optical configuration by combining a large number of lenses.
【0004】また、上記特開平2-66510 号公報に提案さ
れている縮小光学系は、1つの凹面鏡とレンズ系とを組
み合わせた構成であり、主に凹面鏡で縮小倍率を得てい
るため収差の発生が大きく、その補正のために多数のレ
ンズを組み合わせることが必要である。そこで、本発明
は、簡単な構成でありながら、半導体製造用の光学系と
して優れた結像性能を有すると共に、大きな開口数を有
する反射屈折縮小投影光学系を提供することを目的とす
る。Further, the reduction optical system proposed in the above-mentioned Japanese Patent Laid-Open No. 2-66510 has a construction in which one concave mirror and a lens system are combined, and since the reduction magnification is mainly obtained by the concave mirror, aberration reduction is caused. The occurrence is large, and it is necessary to combine a large number of lenses for the correction. Therefore, it is an object of the present invention to provide a catadioptric reduction projection optical system having a large numerical aperture as well as having an excellent imaging performance as an optical system for manufacturing a semiconductor while having a simple structure.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明による反射屈折縮小投影光学系は、以下の構
成を有する。例えば図1に示す如く、本発明による反射
屈折縮小投影光学系は、物体側から順に、正の屈折力の
第1レンズ群G1 と、第1凹面反射鏡M1 とを有し、物
体の1次像を形成する第1部分光学系と、第2凹面反射
鏡M2 と、正の屈折力の第3レンズ群G3 とを有し、1
次像をさらに縮小して結像させる第2部分光学系と、第
1凹面反射鏡M1 と第2凹面反射鏡M2 との間の光路中
に配置される正または負の屈折力の第2レンズ群G2 と
を有し、第3レンズ群G3 の倍率をβG3とするとき、 0.05 < βG3 < 0.6 ‥‥(1) の条件を満足するように構成される。To achieve the above object, a catadioptric reduction projection optical system according to the present invention has the following configuration. For example, as shown in FIG. 1, the catadioptric reduction projection optical system according to the present invention has, in order from the object side, a first lens group G 1 having a positive refractive power and a first concave reflecting mirror M 1, and It has a first partial optical system for forming a primary image, a second concave reflecting mirror M 2 and a third lens group G 3 having a positive refractive power, and 1
The second partial optical system for further reducing the next image to form an image and the first partial optical system having a positive or negative refractive power arranged in the optical path between the first concave reflecting mirror M 1 and the second concave reflecting mirror M 2 . When the second lens group G 2 is included and the magnification of the third lens group G 3 is β G3 , the condition of 0.05 <β G3 <0.6 (1) is satisfied. .
【0006】[0006]
【作用】上述の構成の如き本発明による反射屈折縮小投
影光学系においては、第1及び第2部分光学系がそれぞ
れ、主たる屈折力を有する凹面反射鏡と、正の屈折力の
レンズ群(第1レンズ群G1 ,第3レンズ群G3 )とを
有することによって、共に縮小結像を可能としているた
め、各部分光学系に収差補正上の大きな負担をかけるこ
となく、全系として所定の縮小倍率を得ることができ
る。このため、簡単な光学構成でありながら、優れた結
像性能を維持することが可能である。In the catadioptric reduction projection optical system according to the present invention having the above-described structure, the first and second partial optical systems each have a concave reflecting mirror having a main refracting power and a lens group (first refracting power). By having the first lens group G 1 and the third lens group G 3 ), reduction image formation is possible, so that a large burden for aberration correction is not imposed on each partial optical system and a predetermined amount is set as the entire system. The reduction ratio can be obtained. Therefore, it is possible to maintain excellent image forming performance with a simple optical configuration.
【0007】そして、上述の構成のもとで、本発明によ
る反射屈折縮小投影光学系は、正の屈折力の第3レンズ
群G3 の倍率をβG3とするとき、 0.05 < βG3 < 0.6 ‥‥(1) の条件を満足することが望ましい。この条件は、第3レ
ンズ群G3 の適切な倍率を規定するものであり、これに
より、優れた光学性能の反射屈折縮小投影光学系が実現
でき、物理的に実現可能な反射屈折縮小投影光学系の構
成を得ることが達成できる。なお、物理的に実現可能な
光学系とは、反射屈折縮小投影光学系を構成する各光学
部材の配置に際して、各光学部材が互いに干渉しない光
学系のことである。With the above-described structure, the catadioptric reduction projection optical system according to the present invention has a magnification of the third lens group G 3 having a positive refractive power of β G3 , where 0.05 <β G3 <0.6 ... It is desirable to satisfy the condition (1). This condition is intended to define a proper magnification of the third lens group G 3, thereby, excellent catadioptric reduction projection optical system can be realized in the optical performance, physically realizable catadioptric reduction projection optical Obtaining a system configuration can be achieved. It should be noted that the physically realizable optical system is an optical system in which the respective optical members do not interfere with each other when the optical members constituting the catadioptric reduction projection optical system are arranged.
【0008】ここで、βG3が上述の条件(1)の上限を
上回った場合には、凹面反射鏡M1,M2 間を通過する光
束と、凹面反射鏡M2 から2次像面までを通過する光束
との重なりが大きくなり、反射屈折縮小投影光学系を構
成する光学部材の配置が実現できなくなるため好ましく
ない。また、βG3が上述の条件(1)の下限を下回った
場合には、第3レンズ群G3の屈折力が大きくなり、コ
マ収差や色収差の発生が大きくなるため好ましくない。When β G3 exceeds the upper limit of the above condition (1), the light flux passing between the concave reflecting mirrors M 1 and M 2 and the concave reflecting mirror M 2 to the secondary image plane This is not preferable because the overlap with the light flux passing through the optical system becomes large and the arrangement of the optical members that form the catadioptric reduction projection optical system cannot be realized. If β G3 is less than the lower limit of the above condition (1), the refracting power of the third lens group G 3 increases, and coma and chromatic aberration increase, which is not preferable.
【0009】そして、本発明による反射屈折縮小投影光
学系は、第1凹面反射鏡M1 の倍率をβM1とするとき、 βM1 < −0.7 ‥‥(2) の条件を満足するように構成されることが望ましい。こ
の条件は、第1凹面反射鏡M1 の適切な倍率を規定する
ものであり、βM1がこの条件(2)の上限を超える場合
には、第1凹面反射鏡M1 の屈折力が大きくなり、この
第1凹面反射鏡M 1 にて発生する収差、特に球面収差及
びコマ収差が増大する。そして、屈折光学系は、これら
の収差を打ち消すために負の屈折力を強めなくてはなら
ず、良好に収差を補正することが困難になるため好まし
くない。The catadioptric reduction projection light according to the present invention
The academic system is the first concave reflector M1The magnification of βM1, Then βM1 <−0.7 ... (2) It is desirable that the configuration is satisfied. This
The condition is that the first concave reflecting mirror M1Specify the appropriate magnification of
And βM1Exceeds the upper limit of this condition (2)
The first concave reflecting mirror M1The refractive power of
First concave mirror M 1Aberrations, especially spherical aberration
And coma increase. And the refractive optics
We have to strengthen the negative refracting power to cancel the aberration of
Therefore, it is difficult to correct aberrations satisfactorily.
No
【0010】また、本発明による反射屈折縮小投影光学
系は、第2凹面反射鏡M2 の倍率をβM2とするとき、 −2.5 < βM2 < −0.7 ‥‥(3) の条件を満足するように構成されることが望ましい。こ
の条件(3)は、第2凹面反射鏡M2 の好適な倍率を規
定するものであり、この条件(3)の上限を上回る場合
には、凹面反射鏡M2 の屈折力が大きくなり、この凹面
反射鏡M2 にて発生する収差、特に球面収差及びコマ収
差が増大し、良好に収差補正することが困難になるため
好ましくない。さらに、凹面反射鏡M2 へ向かう光束と
凹面反射鏡M2 から2次像面へ向かう光束との重なりが
大きくなり、物理的に実現可能な光学系の構成を得るこ
とが困難になるため望ましくない。Further, in the catadioptric reduction projection optical system according to the present invention, when the magnification of the second concave reflecting mirror M 2 is β M2 , -2.5 <β M2 <-0.7 (3) It is desirable to be configured to satisfy the conditions. This condition (3) defines a suitable magnification of the second concave reflecting mirror M 2 , and when the upper limit of this condition (3) is exceeded, the refractive power of the concave reflecting mirror M 2 becomes large, aberration generated by the concave reflecting mirror M 2, particularly increased spherical aberration and coma, favorably not preferable because it becomes difficult to aberration correction. Furthermore, the overlap between the light beam traveling to the concave reflecting mirror M 2 and the light beam traveling from the concave reflecting mirror M 2 to the secondary image surface becomes large, and it becomes difficult to obtain a physically feasible optical system configuration, which is desirable. Absent.
【0011】また、下限を下回る場合には、凹面反射鏡
M2 の屈折力が小さくなり、その分の屈折力を屈折光学
系にて補うこととなり、反射光学系としての利点が失わ
れる。このとき、屈折光学系の構成がより複雑となり、
収差補正も難しくなるため好ましくない。なお、本発明
において、さらに望ましくは、第1凹面反射鏡M1 の倍
率βM1を−2.0より大きくなるように構成する。ここ
で、この倍率βM1が−2.0よりも小さくなる場合に
は、凹面反射鏡M1 の屈折力を補うために、屈折光学系
の屈折力を強めることとなる。このとき、反射光学系と
しての利点が失われ、屈折光学系の構成がより複雑とな
り、収差補正も難しくなるため好ましくない。On the other hand, when the value is below the lower limit, the refractive power of the concave reflecting mirror M 2 becomes small, and the refractive power is compensated for by the refractive optical system, and the advantage of the reflective optical system is lost. At this time, the structure of the refractive optical system becomes more complicated,
Aberration correction also becomes difficult, which is not preferable. In the present invention, more preferably, the magnification β M1 of the first concave reflecting mirror M 1 is set to be larger than −2.0. Here, when the magnification β M1 is smaller than −2.0, the refracting power of the refracting optical system is strengthened to supplement the refracting power of the concave reflecting mirror M 1 . At this time, the advantage of the reflective optical system is lost, the configuration of the refractive optical system becomes more complicated, and aberration correction becomes difficult, which is not preferable.
【0012】次に、本発明による反射屈折縮小投影光学
系における各レンズ群の収差バランスについて説明す
る。第1レンズ群G1 は、物体面の近傍に位置してテレ
セントリツク性維持の機能を有すると共に、歪曲収差の
補正を行っている。第2レンズ群G2 及び第3レンズ群
G3 は、それぞれ縮小像の形成に寄与すると共に、ペッ
ツバール和の補正に寄与する。特に、第2レンズ群G2
は、所謂フィールドレンズとしての機能を有しており、
第1凹面反射鏡M1 の光軸近傍からの光束を通過させ
る。これにより、第2凹面反射鏡M2 においても、光束
が光軸の近傍を通過するように構成することができ、こ
の第2凹面反射鏡M2 での収差の発生を防止することが
できる。また、第2レンズ群G2 及び第3レンズ群G3
にて発生する負の歪曲収差は、第1レンズ群G1 の正の
歪曲収差にて補正される。そして、凹面反射鏡の近傍に
予備的に配置されるレンズ群(第4レンズ群G4 ,第5
レンズ群G5 )は、凹面反射鏡にて発生する高次の球面
収差を補正するために有効である。なお、凹面反射鏡を
非球面形状にて構成する場合には、凹面反射鏡にて発生
する収差が極めて少なくなるため、上記第4及び第5レ
ンズ群G4,G5 は設けなくとも良い。Next, the aberration balance of each lens group in the catadioptric reduction projection optical system according to the present invention will be described. The first lens group G 1 is located in the vicinity of the object surface and has a function of maintaining telecentricity, and also corrects distortion. The second lens group G 2 and the third lens group G 3 each contribute to formation of a reduced image and correction of Petzval sum. In particular, the second lens group G 2
Has a function as a so-called field lens,
The light flux from the vicinity of the optical axis of the first concave reflecting mirror M 1 is passed. Accordingly, also in the second concave reflecting mirror M 2 , the light flux can be configured to pass near the optical axis, and the occurrence of aberration in the second concave reflecting mirror M 2 can be prevented. In addition, the second lens group G 2 and the third lens group G 3
The negative distortion aberration generated at 1 is corrected by the positive distortion aberration of the first lens group G 1 . Then, a lens group (fourth lens group G 4 , fifth lens group) which is preliminarily arranged in the vicinity of the concave reflecting mirror.
The lens group G 5 ) is effective for correcting high-order spherical aberration generated by the concave reflecting mirror. When the concave reflecting mirror is formed in an aspherical shape, aberrations generated in the concave reflecting mirror are extremely small, and therefore the fourth and fifth lens groups G 4 and G 5 need not be provided.
【0013】[0013]
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。図
1は、本発明による第1実施例の構成を示す光路図であ
る。図示の通り、物体面からの光束は、両凸正レンズL
11と物体側に凸面を向けたメニスカス形状の正レンズL
12と物体側に凸面を向けたメニスカス形状の負レンズL
13とからなり全体として正の屈折力の第1レンズ群G1
を通過して、やや縮小倍率を有する第1凹面反射鏡M1
にて反射され、平面反射鏡M3 にて光路が屈曲される。
ここで、第1レンズ群G1 は、主に、歪曲収差の補正
と、テレセントリツク性の維持とを行っている。第1レ
ンズ群G1 と第1凹面反射鏡M1 とにより、縮小された
1次像I1 が形成される。EXAMPLES Examples of the present invention will be described below. FIG. 1 is an optical path diagram showing the configuration of the first embodiment according to the present invention. As shown in the figure, the light flux from the object plane is a biconvex positive lens L
11 and a positive meniscus lens L with a convex surface facing the object side
12 and meniscus negative lens L with convex surface facing the object side
The first lens group G 1 including 13 and having a positive refracting power as a whole.
Through the first concave mirror M 1 having a slightly reduced magnification.
And the optical path is bent by the plane reflecting mirror M 3 .
Here, the first lens group G 1 mainly corrects distortion and maintains telecentricity. A reduced primary image I 1 is formed by the first lens group G 1 and the first concave reflecting mirror M 1 .
【0014】そして、1次像I1 からの光束は、1次像
側に凸面を向けたメニスカス形状の正レンズL21と、1
次像側に凹面を向けたメニスカス形状の負レンズL22と
両凸形状の正レンズL23とからなる第2レンズ群G2 を
通過して、負の屈折力を有する第4レンズ群G4 を介し
て拡大倍率を有する第2凹面反射鏡M2 に達する。ここ
で、第2レンズ群G2 は、主に歪曲収差及び像面湾曲の
補正並びにフィールドレンズの作用を果たしている。第
4レンズ群G4 は、第2凹面反射鏡M2 側に凸面を向け
たメニスカス形状の負レンズであり、第1凹面反射鏡M
1 及び第2凹面反射鏡M2 による収差を補正している。The light flux from the primary image I 1 is transferred to a positive meniscus lens L 21 having a convex surface directed toward the primary image and 1
The fourth lens group G 4 having a negative refractive power passes through a second lens group G 2 including a meniscus negative lens L 22 having a concave surface facing the next image side and a biconvex positive lens L 23. To reach a second concave reflecting mirror M 2 having a magnifying power. Here, the second lens group G 2 mainly serves to correct distortion and field curvature and to act as a field lens. The fourth lens group G 4 is a negative meniscus lens having a convex surface facing the second concave reflecting mirror M 2 side, and the first concave reflecting mirror M 4
The aberrations caused by the first and second concave reflecting mirrors M 2 are corrected.
【0015】第2凹面反射鏡M2 にて反射された光束
は、再び第4レンズ群G4 を通過して、正の屈折力を有
する第3レンズ群G3 に入射する。この第3レンズ群G
3 は、光線の入射側から順に、入射側に凹面を向けたメ
ニスカス形状の負レンズL31と、入射側に凸面を向けた
メニスカス形状の正レンズL32と、同じく入射側に凸面
を向けたメニスカス形状の正レンズL33と、両凹形状の
負レンズL34と、両凸形状の正レンズL35と、入射側に
凸面を向けたメニスカス形状の正レンズL36と、同じく
入射側に凸面を向けたメニスカス形状の正レンズL37と
から構成されており、ペッツバール和を正にして、第1
及び第2凹面反射鏡M1,M2 によるペッツバール和を負
にする作用を打ち消している。そして、この第3レンズ
群G3 により、1次像I1 よりも縮小倍率がかかった2
次像I2 が形成される。The light beam reflected by the second concave reflecting mirror M 2 passes through the fourth lens group G 4 again and enters the third lens group G 3 having a positive refractive power. This third lens group G
3 is a meniscus-shaped negative lens L 31 having a concave surface facing the entrance side, a meniscus-shaped positive lens L 32 having a convex surface facing the entrance side, and a convex surface facing the entrance side in order from the light incident side. A meniscus-shaped positive lens L 33 , a biconcave-shaped negative lens L 34 , a biconvex-shaped positive lens L 35 , a meniscus-shaped positive lens L 36 having a convex surface on the incident side, and a convex surface on the incident side as well. And a meniscus-shaped positive lens L 37 directed toward the
Also, the action of making the Petzval sum negative by the second concave reflecting mirrors M 1 and M 2 is canceled. Then, the third lens group G 3 has a reduction ratio greater than that of the primary image I 1.
A secondary image I 2 is formed.
【0016】上記の構成において、第1レンズ群G1 及
び第1凹面反射鏡M1 が第1部分光学系を構成し、第2
凹面反射鏡M2 及び第3レンズ群G3 が第2部分光学系
を構成している。そして、第2レンズ群G2 は、第1凹
面反射鏡M1 と第2凹面反射鏡M2 との間の光路中に配
置される。ここで、光路屈曲用の平面反射鏡M3 は、第
1レンズ群G1 の近傍において第1部分光学系の光軸Ax
1 に対して45°の角度で斜設され、この第1部分光学系
の光軸Ax1 に対して第2部分光学系の光軸Ax2が直交す
るように構成されている。また、第2レンズ群G2 は、
第2凹面反射鏡M2 へ向かう光束を遮ることなく第1凹
面反射鏡M1 からの反射光のみを集光するように、第2
部分光学系の片側のみに設けられている。In the above structure, the first lens group G 1 and the first concave reflecting mirror M 1 form a first partial optical system,
The concave reflecting mirror M 2 and the third lens group G 3 form a second partial optical system. Then, the second lens group G 2 is arranged in the optical path between the first concave reflecting mirror M 1 and the second concave reflecting mirror M 2 . Here, the plane reflecting mirror M 3 for bending the optical path has an optical axis Ax of the first partial optical system in the vicinity of the first lens group G 1.
Are obliquely set at an angle of 45 ° with respect to 1, the optical axis Ax 2 of the second partial optical system is configured so as to be orthogonal to the optical axis Ax 1 of the first partial optical system. Also, the second lens group G 2
In order to collect only the reflected light from the first concave reflecting mirror M 1 without blocking the light beam traveling to the second concave reflecting mirror M 2 , the second
It is provided only on one side of the partial optical system.
【0017】この第1実施例は、全体として縮小倍率+
0.20、すなわち5分の1の縮小率を有し、光軸を中心と
する半径20mmの輪帯状の視野にて開口数(N.A)0.45 を達
成している。以下の表1に上記第1実施例の諸元を示
す。表中、凹面反射鏡での反射により屈折率及び面間隔
の符号が反転するものとする。また、硝材の屈折率は、
KrF の波長(248nm) における屈折率を示している。な
お、光路屈曲用の平面反射鏡M3 の位置は、光学設計上
において本質でないため除いてある。In the first embodiment, the overall reduction ratio is +
It has a reduction ratio of 0.20, that is, one fifth, and achieves a numerical aperture (NA) of 0.45 in a ring-shaped field of view with a radius of 20 mm centered on the optical axis. Table 1 below shows specifications of the first embodiment. In the table, it is assumed that the signs of the refractive index and the surface spacing are inverted due to the reflection by the concave reflecting mirror. The refractive index of the glass material is
The refractive index at the wavelength of KrF (248 nm) is shown. The position of the plane reflecting mirror M 3 for bending the optical path is omitted because it is not essential in optical design.
【0018】[0018]
【表1】 〔第1実施例の諸元〕 NO. 曲率半径 面間隔 屈折率 (物体面) 256.414 1.0000 1 571.882 35.000 1.50890 (石英) L11 2 -1107.127 13.569 1.0000 3 286.383 38.000 1.50890 (石英) L12 4 2061.034 143.443 1.0000 5 323.826 20.000 1.50890 (石英) L13 6 134.427 535.000 1.0000 7 -816.864 -800.000 -1.0000 M1 8 -435.732 -25.000 -1.50890 (石英) L21 9 -664.126 -96.462 -1.0000 10 231.231 -25.000 -1.50890 (石英) L22 11 750.143 -107.120 -1.0000 12 -622.742 -59.000 -1.50890 (石英) L23 13 723.951 -616.105 -1.0000 14 259.861 -25.000 -1.50890 (石英) G4 15 891.669 -28.536 -1.0000 16 537.817 28.536 1.0000 M2 17 891.669 25.000 1.50890 (石英) G4 18 259.861 602.523 1.0000 19 -1642.894 12.745 1.50890 (石英) L31 20 -356.710 2.000 1.0000 21 166.981 32.465 1.50890 (石英) L32 22 -4368.603 0.201 1.0000 23 188.353 14.825 1.50890 (石英) L33 24 489.910 10.157 1.0000 25 -401.443 10.220 1.50890 (石英) L34 26 370.153 3.669 1.0000 27 1112.370 53.780 1.50890 (石英) L35 28 -387.055 0.100 1.0000 29 106.932 70.805 1.50890 (石英) L36 30 329.200 0.100 1.0000 31 153.221 12.340 1.50890 (石英) L37 32 983.363 10.000 1.0000 33 (像面) 《条件対応値》 βG3=0.0761 βM1=-0.8606 βM2=-1.225 そして、図2には、上記第1実施例の結像性能を示すた
めのコマ収差を示す。この収差図は、輪帯状照野の中心
におけるメリジオナル方向のコマ収差を示している。こ
れより、本実施例は、優れた結像性能を維持しているこ
とが分かる。[Table 1] [Specifications of the first embodiment] NO. Radius of curvature surface spacing refractive index (object surface) 256.414 1.0000 1 571.882 35.000 1.50890 (quartz) L 11 2 -1107.127 13.569 1.0000 3 286.383 38.000 1.50890 (quartz) L 12 4 2061.034 143.443 1.0000 5 323.826 20.000 1.50890 (quartz) L 13 6 134.427 535.000 1.0000 7 -816.864 -800.000 -1.0000 M 1 8 -435.732 -25.000 -1.50890 (quartz) L 21 9 -664.126 -96.462 -1.0000 10 231.231 -25.000- 1.50890 (quartz) L 22 11 750.143 -107.120 -1.0000 12 -622.742 -59.000 -1.50890 (quartz) L 23 13 723.951 -616.105 -1.0000 14 259.861 -25.000 -1.50890 (quartz) G 4 15 891.669 -28.536 -1.0000 16 537.817 28.536 1.0000 M 2 17 891.669 25.000 1.50890 (Quartz) G 4 18 259.861 602.523 1.0000 19 -1642.894 12.745 1.50890 (Quartz) L 31 20 -356.710 2.000 1.0000 21 166.981 32.465 1.50890 (Quartz) L 32 22 -4368.603 0.201 1.0000 23 188.353 14.825 1.50890 (Quartz) Quartz) L 33 24 489.910 10.157 1.0000 25 -401.443 10.220 1.5 0890 (Quartz) L 34 26 370.153 3.669 1.0000 27 1112.370 53.780 1.50890 (Quartz) L 35 28 -387.055 0.100 1.0000 29 106.932 70.805 1.50890 (Quartz) L 36 30 329.200 0.100 1.0000 31 153.221 12.340 1.50890 (Quartz) L 37 32 983.363 10.000 1.0000 33 (Image plane) << Condition corresponding value >> β G3 = 0.0761 β M1 = -0.8606 β M2 = -1.225 Then, FIG. 2 shows the coma aberration for showing the image forming performance of the first embodiment. This aberration diagram shows the coma aberration in the meridional direction at the center of the annular illumination field. From this, it can be seen that the present embodiment maintains excellent image forming performance.
【0019】図3に示す如く本発明による第2実施例に
おいて、物体面からの光束は、両凸形状の正レンズL11
と、光線の入射側に凸面を向けたメニスカス形状の正レ
ンズL12と、入射側に凸面を向けたメニスカス形状の負
レンズL13とで構成され全体として正の屈折力を有する
第1レンズ群G1 を介した後に、やや縮小倍率を有する
第1凹面反射鏡M1 にて反射される。この反射された光
束は、第1レンズ群G 1 の光軸Ax1 に対して45°で斜設
された平面反射鏡M3 にて偏向されて、負の屈折力の第
2レンズ群G2 に入射する。この第2レンズ群G2 は、
光線の入射側から順に、ほぼ平凹形状の負レンズL
21と、入射側に凹面を向けたメニスカス形状の負レンズ
L22と、入射側に凹面を向けたメニスカス形状の正レン
ズL23とから構成されており、物体の縮小像である1次
像I1 を負レンズL21中に形成する。As shown in FIG. 3, in the second embodiment of the present invention.
Here, the light flux from the object plane is a biconvex positive lens L11
And a meniscus-shaped positive lens with the convex surface facing the light incident side.
L12And a negative meniscus shape with the convex surface facing the incident side.
Lens L13And has a positive refractive power as a whole
First lens group G1Have a slightly reduced magnification after going through
First concave mirror M1Is reflected at. This reflected light
The bundle is the first lens group G. 1Optical axis of Ax1 Inclined at 45 ° to
Flat mirror M3Is deflected at
2 lens group G2Incident on. This second lens group G2Is
A negative lens L having a substantially plano-concave shape in order from the incident side of the light beam.
twenty oneAnd a negative meniscus lens with a concave surface facing the incident side
Ltwenty twoAnd a positive meniscus lens with a concave surface facing the incident side.
Z Ltwenty threeWhich is a reduced image of the object
Image I1The negative lens Ltwenty oneForm inside.
【0020】そして、第2レンズ群G2 から射出した光
束は、負の屈折力の第4レンズ群G 4 を介して、拡大倍
率を持つ第2凹面反射鏡M2 にて反射される。ここで、
第4レンズ群G4 は、第2凹面反射鏡M2 側に凸面を向
けたメニスカス形状の負レンズで構成されるものであ
る。第2凹面反射鏡M2 にて反射された光束は、再び第
4レンズ群G4 を介して、第2レンズ群G2 の光軸Ax2
に対して45°で斜設された平面反射鏡M4 にて偏向さ
れ、正の屈折力を持つ第3レンズ群G3 に入射する。こ
の第3レンズ群G3 は、光線の入射側から順に、両凸形
状の正レンズL31と、入射側に凹面を向けたメニスカス
形状の負レンズL32と、両凸形状の正レンズL33と、入
射側に凹面を向けたメニスカス形状の負レンズL34と、
入射側に凹面を向けたメニスカス形状の正レンズL
35と、入射側に凹面を向けたメニスカス形状の負レンズ
L36と、入射側に凸面を向けたメニスカス形状の正レン
ズL37とで構成されており、1次像I1 よりも縮小倍率
がかかった2次像I2 を形成する。ここで、第2レンズ
群G2 中の負レンズL21は、第1レンズ群G1 中を通過
する光束を遮らないために片側のみ設けられている。The second lens group G2Light emitted from
The bundle is the fourth lens group G having a negative refractive power. FourMagnifying through
Second concave mirror M with index2Is reflected at. here,
Fourth lens group GFourIs the second concave mirror M2Facing the convex side
It consists of a negative meniscus lens.
It Second concave reflecting mirror M2The light flux reflected at
4 lens group GFourThrough the second lens group G2Optical axis of Ax2
Plane reflecting mirror M installed at an angle of 45 ° with respect toFourBiased at
The third lens group G having a positive refractive power3Incident on. This
Third lens group G3Is a biconvex shape in order from the incident side of the ray
Positive lens L31And a meniscus with a concave surface facing the incident side
Negative lens L32And a biconvex positive lens L33And enter
Meniscus negative lens L with concave surface facing the shooting side34When,
Meniscus-shaped positive lens L with concave surface facing the incident side
35And a negative meniscus lens with a concave surface facing the incident side
L36And a positive meniscus lens with the convex surface facing the incident side.
Z L37And the primary image I1Reduction ratio
Secondary image I2To form. Where the second lens
Group G2Inside negative lens Ltwenty oneIs the first lens group G1Passing through
It is provided on only one side so as not to block the luminous flux that does.
【0021】この第2実施例においても、全体として、
縮小倍率+0.20倍、すなわち5分の1の縮小率を有し、
光軸を中心とする半径20mmの輪帯状の視野にて開口数
(N.A)0.45 を達成している。以下の表2に上記第2実施
例の諸元を示す。なお、表中、硝材の屈折率は、ArF の
波長(193nm) における屈折率を示している。Also in this second embodiment, as a whole,
Reduction ratio +0.20 times, that is, a reduction ratio of 1/5,
Numerical aperture in an annular field with a radius of 20 mm centered on the optical axis
(NA) 0.45 has been achieved. Table 2 below shows specifications of the second embodiment. In the table, the refractive index of the glass material is the refractive index at the wavelength of ArF 3 (193 nm).
【0022】[0022]
【表2】 〔第2実施例の諸元〕 NO. 曲率半径 面間隔 屈折率 (物体面) 169.405 1.0000 1 901.701 30.575 1.560194(石英) L11 2 -510.578 65.853 1.0000 3 220.954 60.000 1.560194(石英) L12 4 318.898 110.000 1.0000 5 295.985 33.350 1.560194(石英) L13 6 109.856 544.112 1.0000 7 -644.876 -578.247 -1.0000 M1 8 125.313 -20.000 -1.560194(石英) L21 9 -19308.942 -133.068 -1.0000 10 285.898 -40.367 -1.560194(石英) L22 11 239.639 -32.560 -1.0000 12 838.750 -48.824 -1.560194(石英) L23 13 270.000 -413.387 -1.0000 14 690.339 -20.000 -1.560194(石英) G4 15 1371.252 -85.603 -1.0000 16 769.864 85.603 1.0000 M2 17 1371.252 20.000 1.560194(石英) G4 18 690.339 478.013 1.0000 19 193.080 19.107 1.501375(蛍石) L31 20 -330.493 3.128 1.0000 21 -237.620 4.8000 1.560194(石英) L32 22 -404.696 0.100 1.0000 23 84.943 25.587 1.501375(蛍石) L33 24 -168.592 0.362 1.0000 25 -164.717 13.099 1.560194(石英) L34 26 -296.532 2.263 1.0000 27 -201.221 24.203 1.501375(蛍石) L35 28 -184.897 0.552 1.0000 29 -353.513 16.515 1.560194(石英) L36 30 -514.935 0.691 1.0000 31 170.098 29.846 1.560194(石英) L37 32 642.145 6.065 1.0000 33 (像面) 《条件対応値》 βG3=0.2013 βM1=-0.762 βM2=-0.974 上記第2実施例の結像性能を示すためのコマ収差を図4
に示す。この収差図は、輪帯状照野の中心におけるメリ
ジオナル方向のコマ収差を示している。なお、コマ収差
図中の破線は193.3nm におけるコマ収差を示し、193.3n
m のコマ収差を示す破線よりも長い破線は192.9nm にお
けるコマ収差を示し、点線は193.7nm におけるコマ収差
を示す。これより、第2実施例においては、ArF の波長
で±0.4nm にわたって色収差の補正が達成され、かつ優
れた結像性能を維持していることが分かる。[Table 2] [Specifications of the second embodiment] NO. Radius of curvature Surface spacing Refractive index (object surface) 169.405 1.0000 1 901.701 30.575 1.560194 (quartz) L 11 2 -510.578 65.853 1.0000 3 220.954 60.000 1.560194 (quartz) L 12 4 318.898 110.000 1.0000 5 295.985 33.350 1.560194 (quartz) L 13 6 109.856 544.112 1.0000 7 -644.876 -578.247 -1.0000 M 1 8 125.313 -20.000 -1.560194 (quartz) L 21 9 -19308.942 -133.068 -1.0000 10 285.898 -40.367 -1.560194 (Quartz) L 22 11 239.639 -32.560 -1.0000 12 838.750 -48.824 -1.560194 (Quartz) L 23 13 270.000 -413.387 -1.0000 14 690.339 -20.000 -1.560194 (Quartz) G 4 15 1371.252 -85.603 -1.0000 16 769.864 85.603 1.0000 M 2 17 1371.252 20.000 1.560194 (quartz) G 4 18 690.339 478.013 1.0000 19 193.080 19.107 1.501375 (fluorite) L 31 20 -330.493 3.128 1.0000 21 -237.620 4.8000 1.560194 (quartz) L 32 22 -404.696 0.100 1.0000 23 84.943 25.587 1.501375 (fluorite) Stone) L 33 24 -168.592 0.362 1.0000 25 -164.717 13.099 1.5601 94 (quartz) L 34 26 -296.532 2.263 1.0000 27 -201.221 24.203 1.501375 (fluorite) L 35 28 -184.897 0.552 1.0000 29 -353.513 16.515 1.560194 (quartz) L 36 30 -514.935 0.691 1.0000 31 170.098 29.846 1.560194 (quartz) L 37 32 642.145 6.065 1.0000 33 (Image plane) <Condition corresponding value> β G3 = 0.2013 β M1 = -0.762 β M2 = -0.974 Coma aberration for showing the image forming performance of the second embodiment is shown in FIG.
Shown in. This aberration diagram shows the coma aberration in the meridional direction at the center of the annular illumination field. The dashed line in the coma aberration diagram shows the coma aberration at 193.3 nm,
The dashed line longer than the dashed line showing the coma aberration at m shows the coma aberration at 192.9 nm, and the dotted line shows the coma aberration at 193.7 nm. From this, it can be seen that in the second embodiment, the correction of chromatic aberration is achieved over the range of ± 0.4 nm at the wavelength of ArF, and the excellent imaging performance is maintained.
【0023】次に、図5を参照して、本発明による第3
実施例を説明する。図5において、物体面からの光束
は、光線の入射側に凹面を向けたメニスカス形状の正レ
ンズL 11と、両凸形状の正レンズL12と、両凹形状の負
レンズL13とで構成され全体として正の屈折力を持つ第
1レンズ群G1 を通過し、第5レンズ群G5 を介して、
やや縮小倍率を持つ第1凹面反射鏡M1 に入射する。こ
の第5レンズ群G5 は、第1凹面反射鏡M1 側に凸面を
向けたメニスカス形状の負レンズで構成されるものであ
り、第1及び第2凹面反射鏡M1,M2 にて発生する収差
の補正を行っている。そして、第1凹面反射鏡M1 にて
反射された光束は、再び第5レンズ群G5を介して平面
反射鏡M3 にて偏向されて正の屈折力を持つ第2レンズ
群G2 に入射する。Next, referring to FIG. 5, the third embodiment of the present invention will be described.
An example will be described. In FIG. 5, the luminous flux from the object plane
Is a meniscus-shaped positive lens with a concave surface facing the light incident side.
L 11And a biconvex positive lens L12And the negative of the biconcave shape
Lens L13Which has a positive refractive power as a whole
1 lens group G1Through the fifth lens group GFiveThrough
First concave reflecting mirror M with a slightly reduced magnification1Incident on. This
Fifth lens group GFiveIs the first concave reflecting mirror M1Convex on the side
It consists of a negative meniscus lens
, The first and second concave reflecting mirrors M1, M2Aberration
Is being corrected. And the first concave reflecting mirror M1At
The reflected light beam is again reflected by the fifth lens group G.FiveThrough the plane
Reflector M3Second lens that has a positive refractive power after being deflected by
Group G2Incident on.
【0024】ここで、平面反射鏡M3 は、第5レンズ群
G5 と第1レンズ群G1 との間の光路中に第1レンズ群
G1 の光軸Ax1 に対して45°で斜設されている。第2レ
ンズ群G2 は、両凸形状の正レンズL21と、両凹形状の
負レンズL22と、光線の入射側に凹面を向けたメニスカ
ス形状の正レンズL23とで構成されるものであり、ここ
に入射した光束は、負レンズL22内で物体の縮小像であ
る1次像I1 を形成する。第2レンズ群G2 から射出し
た光束は、第2レンズ群G2 の光軸Ax2 に対して45°で
斜設された第4平面反射鏡M4 にて偏向され、拡大倍率
を有する第2凹面反射鏡M2 にて反射され、正の屈折力
を有する第3レンズ群G3 に入射する。ここで、第3レ
ンズ群G3 は、両凸形状の正レンズL31と、入射側に凸
面を向けたメニスカス形状の負レンズL32と、入射側に
凸面を向けたメニスカス形状の正レンズL33と、両凹形
状の負レンズL34と、両凸形状の正レンズL35と、入射
側に凸面を向けたメニスカス形状の正レンズL36と、同
じく入射側に凸面を向けたメニスカス形状の正レンズL
37とで構成されるものであり、その射出側に1次像I1
よりも更に縮小された2次像I2 を形成する。Here, the plane reflecting mirror M 3 is at 45 ° with respect to the optical axis Ax 1 of the first lens group G 1 in the optical path between the fifth lens group G 5 and the first lens group G 1 . It is installed diagonally. The second lens group G 2 includes a biconvex positive lens L 21 , a biconcave negative lens L 22, and a meniscus positive lens L 23 having a concave surface facing the light incident side. The incident light flux forms a primary image I 1 which is a reduced image of the object in the negative lens L 22 . The light flux emitted from the second lens group G 2 is deflected by a fourth planar reflection mirror M 4 that is obliquely disposed at 45 ° of the second lens group G 2 with respect to the optical axis Ax 2, first have a magnification The light is reflected by the 2-concave reflecting mirror M 2 and enters the third lens group G 3 having a positive refractive power. Here, the third lens group G 3 includes a biconvex positive lens L 31 , a meniscus negative lens L 32 having a convex surface facing the incident side, and a meniscus positive lens L having a convex surface facing the incident side. 33 , a biconcave negative lens L 34 , a biconvex positive lens L 35 , a meniscus positive lens L 36 with a convex surface facing the incident side, and a meniscus shape lens with a convex surface facing the incident side. Positive lens L
37 and the primary image I 1 on its exit side.
The secondary image I 2 which is further reduced than that is formed.
【0025】この第3実施例は、全体として縮小倍率+
0.25、すなわち4分の1の縮小率を有し、光軸を中心と
する半径20mmの輪帯状の視野にて開口数(N.A)0.45 を達
成している。以下の表3に上記第3実施例の諸元を示
す。なお、表中、硝材の屈折率は、KrF の波長(248nm)
における屈折率を示している。In the third embodiment, the overall reduction ratio is +
It has a reduction ratio of 0.25, that is, a quarter, and achieves a numerical aperture (NA) of 0.45 in an annular field of view with a radius of 20 mm centered on the optical axis. Table 3 below shows specifications of the third embodiment. In the table, the refractive index of the glass material is the wavelength of KrF (248 nm).
Shows the refractive index at.
【0026】[0026]
【表3】 〔第3実施例の諸元〕 NO. 曲率半径 面間隔 屈折率 (物体面) 196.209 1.0000 1 -1726.924 54.622 1.508385(石英) L11 2 260.643 0.100 1.0000 3 214.288 55.000 1.508385(石英) L12 4 -3184.516 61.226 1.0000 5 -634.272 15.000 1.508385(石英) L13 6 142.779 209.364 1.0000 7 -324.815 20.000 1.508385(石英) G5 8 -1599.830 223.380 1.0000 9 -537.154 -223.380 -1.0000 M1 10 -1599.830 -20.000 -1.508385(石英) G5 11 -324.815 -355.860 -1.0000 12 -286.947 -55.000 -1.508385(石英) L21 13 1629.963 -101.890 -1.0000 14 165.609 -15.000 -1.508385(石英) L22 15 -750.059 -20.606 -1.0000 16 343.901 -39.768 -1.508385(石英) L23 17 154.033 -630.899 -1.0000 18 962.895 630.899 1.0000 M2 19 149.915 32.150 1.467877(蛍石) L31 20 -187.485 0.100 1.0000 21 -186.839 7.000 1.508385(石英) L32 22 -727.375 0.100 1.0000 23 117.358 20.864 1.508385(石英) L33 24 647.785 8.591 1.0000 25 -284.413 15.450 1.508385(石英) L34 26 193.285 4.300 1.0000 27 388.801 36.187 1.467877(蛍石) L35 28 -216.450 0.100 1.0000 29 113.246 19.238 1.467877(蛍石) L36 30 459.066 0.100 1.0000 31 221.661 33.854 1.508385(石英) L37 32 1502.269 15.400 1.0000 33 (像面) 《条件対応値》 βG3=0.1342 βM1=-1.058 βM2=-2.008 上記第3実施例のコマ収差図を図6に示す。この収差図
は、輪帯状照野の中心におけるメリジオナル方向のコマ
収差を示している。なお、コマ収差図において、実線は
248.4nm におけるコマ収差を示し、一点鎖線は252.4nm
におけるコマ収差を示し、二点鎖線は244.4nm における
コマ収差を示す。これより、第3実施例では、KrF の波
長で±4nm にわたる色収差の補正を実現しており、かつ
優れた結像性能を維持していることが理解できる。次
に、図7を参照して本発明による第4実施例を説明す
る。この第4実施例において、図7に示す如く、物体面
からの光束は、正の屈折力を有する第1レンズ群G1 に
入射して、光線の入射側に凹面を向けたメニスカス形状
の正レンズL11を介した後に、第1レンズ群G1 の光軸
Ax1 に対して45°で斜設された平面反射鏡M3 にて偏向
される。そして、偏向された光束は、両凸形状の正レン
ズL12と、光線の入射側に凸面を向けたメニスカス形状
の負レンズL13とを通過した後に、負の屈折力を有する
第5レンズ群G5 を介してやや縮小倍率を持つ第1凹面
反射鏡M1 に達する。ここで、第5レンズ群G5 は、第
1凹面反射鏡側に凸面を向けたメニスカス形状の負レン
ズで構成される。第1凹面反射鏡M1 にて反射された光
束は、再び第5レンズ群G5 を介して、正の屈折力を有
する第2レンズ群G 2 を介して、物体の縮小像である1
次像I1 を形成する。[Table 3] [Specifications of the third embodiment] NO. Radius of curvature surface spacing refractive index (object surface) 196.209 1.0000 1 -1726.924 54.622 1.508385 (quartz) L11 2 260.643 0.100 1.0000 3 214.288 55.000 1.508385 (quartz) L12 4 -3184.516 61.226 1.0000 5 -634.272 15.000 1.508385 (quartz) L13 6 142.779 209.364 1.0000 7 -324.815 20.000 1.508385 (quartz) GFive 8 -1599.830 223.380 1.0000 9 -537.154 -223.380 -1.0000 M1 10 -1599.830 -20.000 -1.508385 (quartz) GFive 11 -324.815 -355.860 -1.0000 12 -286.947 -55.000 -1.508385 (quartz) Ltwenty one 13 1629.963 -101.890 -1.0000 14 165.609 -15.000 -1.508385 (quartz) Ltwenty two 15 -750.059 -20.606 -1.0000 16 343.901 -39.768 -1.508385 (Quartz) Ltwenty three 17 154.033 -630.899 -1.0000 18 962.895 630.899 1.0000 M2 19 149.915 32.150 1.467877 (fluorite) L31 20 -187.485 0.100 1.0000 21 -186.839 7.000 1.508385 (quartz) L32 22 -727.375 0.100 1.0000 23 117.358 20.864 1.508385 (quartz) L33 24 647.785 8.591 1.0000 25 -284.413 15.450 1.508385 (Quartz) L34 26 193.285 4.300 1.0000 27 388.801 36.187 1.467877 (fluorite) L35 28 -216.450 0.100 1.0000 29 113.246 19.238 1.467877 (fluorite) L36 30 459.066 0.100 1.0000 31 221.661 33.854 1.508385 (Quartz) L37 32 1502.269 15.400 1.0000 33 (Image plane) <Condition corresponding value> βG3= 0.1342 βM1= -1.058 βM2= -2.008 A coma aberration diagram of the third embodiment is shown in FIG. This aberration diagram
Is the meridional coma in the center of the zonal terrain.
Aberration is shown. In the coma diagram, the solid line is
Shows coma at 248.4 nm, the dashed line is 252.4 nm.
Shows the coma at, and the chain double-dashed line is at 244.4 nm.
Coma aberration is shown. Therefore, in the third embodiment, the KrF wave
Achieves ± 4 nm long chromatic aberration correction, and
It can be seen that excellent imaging performance is maintained. Next
A fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
It In the fourth embodiment, as shown in FIG.
From the first lens group G having a positive refractive power.1To
A meniscus shape with the concave surface facing the incident side of the incident light
Positive lens L11Through the first lens group G1Optical axis
Ax1 Plane reflecting mirror M installed at an angle of 45 ° with respect to3Biased at
To be done. Then, the deflected light beam is a biconvex positive lens.
Z L12And a meniscus shape with the convex surface facing the light incident side
Negative lens L13Have negative refractive power after passing and
Fifth lens group GFiveFirst concave surface with a slightly reduced magnification through
Reflector M1Reach Here, the fifth lens group GFiveIs the
1 Meniscus negative lens with convex surface facing the concave reflector
It is composed of First concave mirror M1Light reflected at
The bundle is again the fifth lens group G.FiveHas a positive refractive power through
Second lens group G 2Is a reduced image of an object through 1
Next image I1To form.
【0027】ここで、第2レンズ群G2 は、光線の入射
側から順に、両凸形状の正レンズL 21と、入射側に凹面
を向けたメニスカス形状の負レンズL22と、入射側に凹
面を向けたメニスカス形状の正レンズL23とで構成され
るものである。そして、1次像I1 からの光束は、拡大
倍率を持つ第2凹面反射鏡M2 にて反射され、平面反射
鏡M4 にて光路を偏向されて正の屈折力を持つ第3レン
ズ群G3 に達する。この平面反射鏡M4 は、第3レンズ
群G3 の光軸Ax3 に対して45°に斜設されるものであ
り、第3レンズ群G3 は、光線の入射側から順に、両凸
形状の正レンズL 31と、入射側に凹面を向けたメニスカ
ス形状の負レンズL32と、入射側に凸面を向けたメニス
カス形状の正レンズL33と、両凹形状の負レンズL
34と、入射側に凸面を向けたメニスカス形状の正レンズ
L35と、同じく入射側に凸面を向けたメニスカス形状の
正レンズL36と、同じく入射側に凸面を向けたメニスカ
ス形状の正レンズL37とで構成されており、その射出側
に1次像I1 よりも縮小された2次像I2 を形成する。
ここで、第1レンズ群G1 の正レンズL12及び負レンズ
L 13は、第2レンズ群G2 中の光束を遮ることなく第1
凹面反射鏡への光束を通過させるために、片側のみ設け
られている。また、第2レンズ群G2 は、第1レンズ群
G1 中の光束を遮光することなく第1凹面反射鏡M1 か
らの光束を導くため、片側のみ設けられている。Here, the second lens group G2Is the incidence of rays
Biconvex positive lens L in order from the side twenty oneAnd a concave surface on the incident side
Negative lens L of meniscus shapetwenty twoAnd concave on the incident side
Meniscus-shaped positive lens Ltwenty threeConsists of and
It is something. And the primary image I1The luminous flux from
Second concave reflector M with magnification2Is reflected by the plane reflection
Mirror MFourThe third lens which has a positive refractive power by being deflected in the optical path at
Group G3Reach This plane reflector MFourIs the third lens
Group G3Optical axis of Ax3It is installed at an angle of 45 ° to
And the third lens group G3Is biconvex in order from the incident side of the ray
Positive lens L 31And a meniscus with a concave surface on the incident side.
Negative lens L32And a meniscus with a convex surface on the incident side
Cass-shaped positive lens L33And a biconcave negative lens L
34And a positive meniscus lens with the convex surface facing the incident side
L35Of the meniscus shape with the convex surface facing the incident side.
Positive lens L36Similarly, a meniscus with a convex surface facing the incident side
S-shaped positive lens L37Consists of and its injection side
On the primary image I1Secondary image I2To form.
Here, the first lens group G1Positive lens L12And negative lens
L 13Is the second lens group G2First without blocking the light flux inside
Provided on only one side to pass the light beam to the concave reflecting mirror
Has been. In addition, the second lens group G2Is the first lens group
G1The first concave reflecting mirror M without blocking the light flux inside1Or
They are provided on only one side to guide these light beams.
【0028】この第4実施例においては、全体として縮
小倍率+0.25 倍、すなわち4分の1の縮小率を有し、光
軸を中心とした半径20mmの輪帯状視野にて開口数(N.A.)
0.30を達成している。以下の表4に上記第4実施例の諸
元を示す。なお、表中、硝材の屈折率は、KrF の波長(2
48nm) における屈折率を示している。In the fourth embodiment, the reduction ratio is +0.25 times as a whole, that is, the reduction ratio is 1/4, and the numerical aperture (NA) is 20 in a ring-shaped visual field with a radius of 20 mm centered on the optical axis.
Achieved 0.30. Table 4 below shows the specifications of the fourth embodiment. In the table, the refractive index of the glass material is the wavelength of KrF (2
The refractive index at 48 nm is shown.
【0029】[0029]
【表4】 〔第4実施例の諸元〕 NO. 曲率半径 面間隔 屈折率 (物体面) 196.018 1.0000 1 -5157.341 35.000 1.508385(石英) L11 2 -342.424 264.350 1.0000 3 418.888 35.000 1.508385(石英) L12 4 -2971.961 0.100 1.0000 5 479.951 35.000 1.508385(石英) L13 6 219.080 314.800 1.0000 7 -194.621 18.000 1.508385(石英) G5 8 -370.491 159.400 1.0000 9 -586.251 -159.400 -1.0000 M1 10 -370.491 -18.000 -1.508385(石英) G5 11 -194.621 -187.600 -1.0000 12 -275.679 35.500 -1.508385(石英) L21 13 507.601 -112.350 -1.0000 14 144.909 -6.500 -1.508385(石英) L22 15 -700.764 -35.700 -1.0000 16 198.506 -35.000 -1.508385(石英) L23 17 137.057 -793.600 -1.0000 18 934.699 697.100 1.0000 M2 19 167.048 23.800 1.467877(蛍石) L31 20 -305.250 3.250 1.0000 21 -269.515 6.500 1.508385(石英) L32 22 1602.279 0.100 1.0000 23 83.085 35.000 1.467877(蛍石) L33 24 534.963 8.000 1.0000 25 -2442.622 28.500 1.508385(石英) L34 26 51.803 1.350 1.0000 27 52.498 23.600 1.467877(蛍石) L35 28 895.515 0.100 1.0000 29 159.859 23.400 1.467877(蛍石) L36 30 1657.174 0.100 1.0000 31 216.018 7.500 1.508385(石英) L37 32 434.319 15.000 1.0000 33 (像面) 《条件対応値》 βG3=0.2035 βM1=-0.8795 βM2=-1.684 上記第4実施例のコマ収差図を図8に示す。この収差図
は、輪帯状照野の中心におけるメリジオナル方向のコマ
収差を示している。なお、コマ収差図中において、実線
は248.4nm のコマ収差を示し、破線は238.4nm のコマ収
差を示し、点線は258.4nm のコマ収差を示す。そして、
この収差図より、第4実施例がKrF の波長で±10nmにわ
たって色収差補正されており、優れた結像性能を維持し
ていることが理解できる。[Table 4] [Specifications of the fourth embodiment] NO. Radius of curvature surface spacing refractive index (object surface) 196.018 1.0000 1 -5157.341 35.000 1.508385 (quartz) L 11 2 -342.424 264.350 1.0000 3 418.888 35.000 1.508385 (quartz) L 12 4 -2971.961 0.100 1.0000 5 479.951 35.000 1.508385 (Quartz) L 13 6 219.080 314.800 1.0000 7 -194.621 18.000 1.508385 (Quartz) G 5 8 -370.491 159.400 1.0000 9 -586.251 -159.400 -1.0000 M 1 10 -370.491 -18.000 -1.508385 (Quartz) G 5 11 -194.621 -187.600 -1.0000 12 -275.679 35.500 -1.508385 (Quartz) L 21 13 507.601 -112.350 -1.0000 14 144.909 -6.500 -1.508385 (Quartz) L 22 15 -700.764 -35.700 -1.0000 16 198.506- 35.000 -1.508385 (quartz) L 23 17 137.057 -793.600 -1.0000 18 934.699 697.100 1.0000 M 2 19 167.048 23.800 1.467877 (fluorite) L 31 20 -305.250 3.250 1.0000 21 -269.515 6.500 1.508385 (quartz) L 32 22 1602.279 0.100 1.0000 23 83.085 35.000 1.467877 (fluorite) L 33 24 534.963 8.000 1.0000 25 -2442.622 28.500 1.5 08385 (quartz) L 34 26 51.803 1.350 1.0000 27 52.498 23.600 1.467877 (fluorite) L 35 28 895.515 0.100 1.0000 29 159.859 23.400 1.467877 (fluorite) L 36 30 1657.174 0.100 1.0000 31 216.018 7.500 1.508385 (quartz) L 37 32 434.319 15.000 1.0000 33 (Image plane) << Condition-corresponding value >> β G3 = 0.2035 β M1 = -0.8795 β M2 = -1.684 A coma aberration diagram of the fourth embodiment is shown in FIG. This aberration diagram shows the coma aberration in the meridional direction at the center of the annular illumination field. In the coma diagram, the solid line shows coma at 248.4 nm, the broken line shows coma at 238.4 nm, and the dotted line shows coma at 258.4 nm. And
From this aberration diagram, it can be understood that the fourth embodiment has been subjected to chromatic aberration correction over ± 10 nm at the wavelength of KrF, and maintained excellent imaging performance.
【0030】次に、図9を参照して、本発明による第5
実施例を説明する。図9に示される第5実施例において
は、第2凹面反射鏡M2 が非球面形状の反射鏡で構成さ
れている。図9において、物体面からの光束は、光線の
入射側に凹面を向けたメニスカス形状の正レンズL
11と、入射側に凸面を向けたメニスカス形状の正レンズ
L 12と、同じく入射側に凸面を向けたメニスカス形状の
正レンズL13と、同じく入射側に凸面を向けたメニスカ
ス形状の正レンズL14とで構成され全体として正の屈折
力を持つ第1レンズ群G1 と、負の屈折力の第5レンズ
群G5 とを介してやや縮小倍率を有する第1凹面反射鏡
M1 に達する。ここで、第5レンズ群は、第1凹面反射
鏡側に凸面を向けたメニスカス形状の負レンズで構成さ
れる。第1凹面反射鏡M1 にて反射された光束は、再び
第5レンズ群G5 を介して、第1レンズ群G1 の光軸Ax
1 に対して45°で斜設された平面反射鏡M3 にて偏向さ
れ、負の屈折力を持つ第2レンズ群G2 に入射する。第
2レンズ群G2 は、両凸形状の正レンズL21と、両凹形
状の負レンズL22と、光線の入射側に凸面を向けたメニ
スカス形状の正レンズL23とで構成されるものであり、
その射出側に縮小された1次像I1 を形成する。Next, referring to FIG. 9, the fifth embodiment of the present invention will be described.
An example will be described. In the fifth embodiment shown in FIG.
Is the second concave mirror M2Consists of an aspherical reflector
Has been. In FIG. 9, the light flux from the object plane is
Meniscus-shaped positive lens L with concave surface facing the incident side
11And a positive meniscus lens with the convex surface facing the incident side
L 12Of the meniscus shape with the convex surface facing the incident side.
Positive lens L13Similarly, a meniscus with a convex surface facing the incident side
S-shaped positive lens L14Composed of and as a whole positive refraction
Powerful first lens group G1And the fifth lens with negative refractive power
Group GFiveFirst concave reflecting mirror having a slightly reduced magnification via
M1Reach Here, the fifth lens group is the first concave surface reflection
Consists of a negative meniscus lens with the convex surface facing the mirror.
Be done. First concave mirror M1The light flux reflected at
Fifth lens group GFiveThrough the first lens group G1Optical axis of Ax
1 Plane reflecting mirror M installed at an angle of 45 ° with respect to3Biased at
The second lens group G having a negative refractive power2Incident on. First
2 lens group G2Is a biconvex positive lens Ltwenty oneAnd biconcave
Negative lens Ltwenty twoWith a convex surface facing the incident side of the light beam.
Scus-shaped positive lens Ltwenty threeAnd consists of
Primary image I reduced to its exit side1To form.
【0031】そして、1次像I1 からの光束は、第2レ
ンズ群G2 の光軸Ax2 に対して45°で斜設された平面反
射鏡M4 にて偏向されて、拡大倍率を持ち非球面形状の
第2凹面反射鏡に達する。第2凹面反射鏡M2 にて反射
された光束は、正の屈折力の第3レンズ群G3 に入射す
る。この第3レンズ群G3 は、両凸形状の正レンズL 31
と、両凹形状の負レンズL32と、両凸形状の正レンズL
33と、光線の入射側に凸面を向けたメニスカス形状の正
レンズL34と、同じく入射側に凸面を向けたメニスカス
形状の正レンズL35と、入射側に凸面を向けたメニスカ
ス形状の負レンズL36と、入射側に凸面を向けたメニス
カス形状の正レンズL37とで構成され、その射出側に、
1次像I1 よりも縮小された2次像I2 を形成する。The primary image I1From the second ray
Group G2Optical axis of Ax2It is a plane anti-tilt at an angle of 45 ° to
Mirror MFourIt is deflected by the
Reach the second concave reflector. Second concave reflecting mirror M2Reflected at
The generated light flux is the third lens group G having a positive refractive power.3Incident on
It This third lens group G3Is a biconvex positive lens L 31
And a biconcave negative lens L32And a biconvex positive lens L
33And a positive meniscus shape with the convex surface facing the incident side of the ray.
Lens L34Similarly, a meniscus with a convex surface facing the incident side
Positive lens L35And a meniscus with a convex surface on the incident side.
Negative lens L36And a meniscus with a convex surface on the incident side
Cass-shaped positive lens L37And on the injection side,
Primary image I1Secondary image I2To form.
【0032】この第5実施例においては、全体として、
縮小倍率+0.25倍、すなわち4分の1の縮小率を有し、
光軸を中心として半径24.25mm の輪帯状の視野にて開口
数(N.A.)0.5 を達成している。以下の表5に上記第5実
施例の諸元を示す。なお、諸元表中において、非球面形
状の反射面は、近軸曲率半径のみを示してあり、この非
球面形状は、非球面頂点での接平面を考え、この接平面
上で光軸が通過する位置を原点、光の進行方向を正にと
って、接平面上での高さyの位置における非球面の光軸
方向の変位を非球面頂点を基準としてxとするとき、次
式で示されるものである。In the fifth embodiment, as a whole,
Reduction ratio + 0.25 times, that is, a reduction ratio of 1/4,
A numerical aperture (NA) of 0.5 has been achieved in a ring-shaped field of view with a radius of 24.25 mm centered on the optical axis. Table 5 below shows specifications of the fifth embodiment. In the specification table, the aspherical reflecting surface shows only the paraxial radius of curvature, and this aspherical shape considers a tangential plane at the aspherical vertex, and the optical axis on this tangential plane is When the origin is at the passing position and the light traveling direction is positive, and the displacement in the optical axis direction of the aspherical surface at the position of height y on the tangential plane is x with respect to the aspherical vertex, the following expression is obtained. It is a thing.
【0033】x=cy2 /{1+(1−κc2 y2 )
1/2 }+C4 y4 +C6 y6 +C8 y8 +C10y10 但し、cは非球面頂点における非球面の曲率(曲率半径
rの逆数)、κは2次曲面パラメーター、C4 、C6 、
C8 、C10はそれぞれ非球面係数である。また、表中に
おいて、硝材の屈折率は、KrF の波長(248nm) における
屈折率を示している。X = cy 2 / {1+ (1-κc 2 y 2 ).
1/2 } + C 4 y 4 + C 6 y 6 + C 8 y 8 + C 10 y 10 However, c is the curvature of the aspherical surface at the aspherical vertex (the reciprocal of the radius of curvature r), κ is a quadric surface parameter, C 4 , C 6 ,
C 8 and C 10 are aspherical surface coefficients, respectively. Further, in the table, the refractive index of the glass material shows the refractive index at the wavelength of KrF (248 nm).
【0034】[0034]
【表5】 〔第5実施例〕 NO. 曲率半径 面間隔 屈折率 (物体面) 537.071 1.0000 1 -13337.695 38.029 1.508385(石英) L11 2 -559.442 0.100 1.0000 3 329.313 71.406 1.508385(石英) L12 4 4423.247 0.100 1.0000 5 208.809 57.000 1.508385(石英) L13 6 247.488 54.831 1.0000 7 889.869 50.000 1.508385(石英) L14 8 140.636 362.130 1.0000 9 -277.199 15.000 1.508385(石英) G5 10 -485.421 540.415 1.0000 11 -1017.359 -540.415 -1.0000 M1 12 -485.421 -15.000 -1.508385(石英) G5 13 -277.199 -326.174 -1.0000 14 -494.427 -48.250 -1.508385(石英) L21 15 491.077 -38.033 -1.0000 16 361.893 -10.000 -1.508385(石英) L22 17 -260.009 -40.978 -1.0000 18 -279.421 -17.860 -1.508385(石英) L23 19 -543.231 -934.426 -1.0000 20 1153.584 773.262 1.0000 (非球面)M2 21 187.601 29.381 1.467877(蛍石) L31 22 -1450.353 6.033 1.0000 23 -391.392 9.000 1.508385(石英) L32 24 179.475 3.183 1.0000 25 213.669 29.199 1.467877(蛍石) L33 26 -621.952 0.100 1.0000 27 137.369 29.803 1.508385(石英) L34 28 458.595 0.100 1.0000 29 135.180 28.421 1.467877(蛍石) L35 30 268.007 0.100 1.0000 31 121.989 16.840 1.508385(石英) L36 32 87.217 11.990 1.0000 33 111.525 42.765 1.467877(蛍石) L37 34 841.067 19.747 1.0000 35 (像面) 《非球面係数》 第21面(第2凹面反射鏡M2 ) κ 1.0 C4 0.980896×10-10 C6 0.374676×10-15 C8 0.830862×10-21 C10 0.705084×10-26 《条件対応値》 βG3= 0.157 βM1=-0.811 βM2=-1.733 上記第5実施例のコマ収差図を図10に示す。この収差
図は、輪帯状照野の中心におけるメリジオナル方向のコ
マ収差を示している。そして、この収差図より、第5実
施例が優れた結像性能を維持していることが理解でき
る。[Table 5] [Fifth embodiment] NO. Radius of curvature surface spacing refractive index (object surface) 537.071 1.0000 1 -13337.695 38.029 1.508385 (quartz) L 11 2 -559.442 0.100 1.0000 3 329.313 71.406 1.508385 (quartz) L 12 4 4423.247 0.100 1.0000 5 208.809 57.000 1.508385 (quartz) L 13 6 247.488 54.831 1.0000 7 889.869 50.000 1.508385 (quartz) L 14 8 140.636 362.130 1.0000 9 -277.199 15.000 1.508385 (quartz) G 5 10 -485.421 540.415 1.0000 11 -1017.359 -540.415 -1.0000 M 1 12 -485.421 -15.000 -1.508385 (quartz) G 5 13 -277.199 -326.174 -1.0000 14 -494.427 -48.250 -1.508385 (quartz) L 21 15 491.077 -38.033 -1.0000 16 361.893 -10.000 -1.508385 (quartz) L 22 17 -260.009 -40.978 -1.0000 18 -279.421 -17.860 -1.508385 (quartz) L 23 19 -543.231 -934.426 -1.0000 20 1153.584 773.262 1.0000 (aspherical) M 2 21 187.601 29.381 1.467877 (fluorite) L 31 22 -1450.353 6.033 1.0000 23 -391.392 9.000 1.508385 (quartz) L 32 24 179.475 3.183 1.0000 25 213.669 29.19 9 1.467877 (fluorite) L 33 26 -621.952 0.100 1.0000 27 137.369 29.803 1.508385 (quartz) L 34 28 458.595 0.100 1.0000 29 135.180 28.421 1.467877 (fluorite) L 35 30 268.007 0.100 1.0000 31 121.989 16.840 1.508385 (quartz) L 36 32 87.217 11.990 1.0000 33 111.525 42.765 1.467877 (fluorite) L 37 34 841.067 19.747 1.0000 35 (image surface) << aspherical coefficient >> 21st surface (second concave reflecting mirror M 2 ) κ 1.0 C 4 0.980896 × 10 -10 C 6 0.374676 × 10 -15 C 8 0.830862 × 10 -21 C 10 0.705084 × 10 -26 《Condition corresponding value》 β G3 = 0.157 β M1 = −0.811 β M2 = −1.733 The coma aberration diagram of the fifth embodiment is shown in FIG. Shown in. This aberration diagram shows the coma aberration in the meridional direction at the center of the annular illumination field. From this aberration diagram, it can be understood that the fifth example maintains excellent imaging performance.
【0035】次に、図11を参照して、本発明による第
6実施例を説明する。この第6実施例は、第1凹面反射
鏡M1 と第2凹面反射鏡M2 とが非球面形状の反射面で
構成されるものである。図11において、物体面からの
光束は、両凸形状の正レンズL11と、光線の入射側に凸
面を向けたメニスカス形状の正レンズL12と、入射側に
凸面を向けたメニスカス形状の負レンズL13と、同じく
入射側に凸面を向けたメニスカス形状の負レンズL14と
で構成され、全体として正の屈折力の第1レンズ群G1
を介して、負の屈折力を有する第5レンズ群G5 を通過
して、やや縮小倍率を有する第1凹面反射鏡M1 に達す
る。ここで、第5レンズ群G5 は、第1凹面反射鏡M1
側に凸面を向けたメニスカス形状の負レンズで構成され
る。Next, a sixth embodiment according to the present invention will be described with reference to FIG. In the sixth embodiment, the first concave reflecting mirror M 1 and the second concave reflecting mirror M 2 are aspherical reflecting surfaces. In FIG. 11, a light flux from the object plane is a biconvex positive lens L 11 , a meniscus-shaped positive lens L 12 having a convex surface on the light incident side, and a meniscus negative lens having a convex surface on the incident side. The first lens group G 1 is composed of a lens L 13 and a meniscus negative lens L 14 having a convex surface facing the entrance side, and having a positive refracting power as a whole.
Through the fifth lens group G 5 having a negative refractive power to reach the first concave reflecting mirror M 1 having a slightly reduced magnification. Here, the fifth lens group G 5 includes the first concave reflecting mirror M 1
It is composed of a meniscus negative lens with the convex surface facing the side.
【0036】そして、この第1凹面反射鏡M1 にて反射
された光束は、再び第5レンズ群G 5 を介して、第1レ
ンズ群G1 の光軸Ax1 に対して45°で斜設された平面反
射鏡M3 にて偏向されて、負の屈折力の第2レンズ群G
2 に入射する。この第2レンズ群G2 は、光線の入射側
に凸面を向けたメニスカス形状の負レンズL21と、両凹
形状の負レンズL22と、両凸形状の正レンズL23とで構
成されており、負レンズL22と正レンズL23との間に、
物体の縮小像である1次像I1 を形成する。そして、第
2レンズ群G2 から射出した光束は、第2レンズ群G2
の光軸Ax2 に対して45°で斜設された平面反射鏡M4 に
て偏向されて、拡大倍率を有する第2凹面反射鏡M2 に
達する。第2凹面反射鏡M2 にて反射された光束は、正
の屈折力の第3レンズ群G3 に入射する。第3レンズ群
G3 は、光線の入射側から順に、物体側に凸面を向けた
メニスカス形状の負レンズL31と、両凸形状の正レンズ
L 32と、入射側に凸面を向けたメニスカス形状の正レン
ズL33と、入射側に凹面を向けたメニスカス形状の負レ
ンズL34と、両凸形状の正レンズL35とで構成されるも
のであり、その第3レンズ群G3 の射出側に1次像I1
よりも縮小された2次像I2 を形成する。Then, the first concave reflecting mirror M1Reflected at
The formed light flux is again in the fifth lens group G. FiveThrough the first
Group G1Optical axis of Ax1 It is a plane anti-tilt at an angle of 45 ° to
Mirror M3Is deflected by the second lens unit G having a negative refractive power.
2Incident on. This second lens group G2Is the incident side of the ray
Meniscus negative lens L with convex surface facingtwenty oneAnd biconcave
Negative lens Ltwenty twoAnd a biconvex positive lens Ltwenty threeWith
Is made, negative lens Ltwenty twoAnd positive lens Ltwenty threeBetween
Primary image I that is a reduced image of the object1To form. And the
2 lens group G2The light flux emitted from the second lens group G2
Optical axis of Ax2Plane reflecting mirror M installed at an angle of 45 ° with respect toFourTo
Second concave reflecting mirror M having a magnifying power and being deflected by2To
Reach Second concave reflecting mirror M2The light flux reflected by
The third lens unit G having a refractive power of3Incident on. Third lens group
G3Has a convex surface facing the object side in order from the incident side of the ray
Meniscus negative lens L31And a biconvex positive lens
L 32And a positive meniscus lens with the convex surface facing the incident side.
Z L33And a negative meniscus lens with a concave surface facing the incident side.
L34And a biconvex positive lens L35Also consists of
And the third lens group G3Primary image I on the exit side of1
Secondary image I2To form.
【0037】この第6実施例においても、全体として、
縮小倍率+0.25倍、すなわち4分の1の縮小率を有し、
光軸を中心とした半径24.25mm の輪帯状視野にて開口数
(N.A.)0.45を達成している。以下の表6に上記第6実施
例の諸元を示す。なお、表6に示される第1及び第2凹
面反射鏡M1,M2 の曲率半径は、近軸曲率半径を示して
あり、これら第1及び第2凹面反射鏡M1,M2 の非球面
係数は、別途に示している。また、硝材の屈折率は、Kr
F の波長(248nm) における屈折率を示している。Also in this sixth embodiment, as a whole,
Reduction ratio + 0.25 times, that is, a reduction ratio of 1/4,
Numerical aperture in an annular field with a radius of 24.25 mm centered on the optical axis
(NA) 0.45 has been achieved. Table 6 below shows specifications of the sixth embodiment. The radii of curvature of the first and second concave reflecting mirrors M 1 and M 2 shown in Table 6 indicate paraxial radii of curvature, and the non-radius of these first and second concave reflecting mirrors M 1 and M 2 The spherical coefficient is shown separately. The refractive index of the glass material is
The refractive index at the wavelength of F (248 nm) is shown.
【0038】[0038]
【表6】 〔第6実施例〕 NO. 曲率半径 面間隔 屈折率 (物体面) 414.498 1.0000 1 8211.322 38.636 1.508385(石英) L11 2 -439.506 0.100 1.0000 3 239.531 74.172 1.508385(石英) L12 4 1059.356 0.100 1.0000 5 220.874 71.349 1.508385(石英) L13 6 192.087 28.244 1.0000 7 9114.936 13.285 1.508385(石英) L14 8 135.907 347.569 1.0000 9 -236.652 19.683 1.508385(石英) G5 10 -287.731 551.277 1.0000 11 -1024.933 -551.277 -1.0000 (非球面)M1 12 -287.731 -19.683 -1.508385(石英) G5 13 -236.652 -314.837 -1.0000 14 -149.845 -31.308 -1.508385(石英) L21 15 -137.269 -33.137 -1.0000 16 257.207 -10.000 -1.508385(石英) L22 17 -315.674 -37.792 -1.0000 18 -459.634 -27.954 -1.508385(石英) L23 19 431.125 -848.560 -1.0000 20 1044.120 752.496 1.0000 (非球面)M2 21 106.792 12.000 1.508385(石英) L31 22 105.550 24.044 1.0000 23 344.933 16.641 1.508385(石英) L32 24 -1397.225 0.100 1.0000 25 105.435 30.284 1.508385(石英) L33 26 890.603 8.066 1.0000 27 -297.345 32.551 1.508385(石英) L34 28 -486.516 1.643 1.0000 29 154.666 44.945 1.508385(石英) L35 30 -706.316 24.770 1.0000 31 (像面) 《非球面係数》 第11面(第1凹面反射鏡M2 ) 第20面(第2凹面反射鏡M2 ) κ 1.0 1.0 C4 -0.395493×10-12 0.340990×10-10 C6 -0.168923×10-16 0.116056×10-15 C8 -0.338178×10-22 0.245212×10-21 C10 -0.134005×10-26 0.260273×10-26 《条件対応値》 βG3= 0.238 βM1=-0.800 βM2=-1.357 上記第6実施例のコマ収差図を図12に示す。この収差
図は、輪帯状照野の中心におけるメリジオナル方向のコ
マ収差を示している。そして、この収差図より、第6実
施例が優れた結像性能を維持していることが理解でき
る。[Table 6] [Sixth Embodiment] NO. Radius of curvature surface spacing refractive index (object surface) 414.498 1.0000 1 8211.322 38.636 1.508385 (quartz) L 11 2 -439.506 0.100 1.0000 3 239.531 74.172 1.508385 (quartz) L 12 4 1059.356 0.100 1.0000 5 220.874 71.349 1.508385 (Quartz) L 13 6 192.087 28.244 1.0000 7 9114.936 13.285 1.508385 (Quartz) L 14 8 135.907 347.569 1.0000 9 -236.652 19.683 1.508385 (Quartz) G 5 10 -287.731 551.277 1.0000 11 -1024.933 -551.277 -1.0000 ( Aspherical surface) M 1 12 -287.731 -19.683 -1.508385 (quartz) G 5 13 -236.652 -314.837 -1.0000 14 -149.845 -31.308 -1.508385 (quartz) L 21 15 -137.269 -33.137 -1.0000 16 257.207 -10.000 -1.508385 (quartz) Quartz) L 22 17 -315.674 -37.792 -1.0000 18 -459.634 -27.954 -1.508385 (Quartz) L 23 19 431.125 -848.560 -1.0000 20 1044.120 752.496 1.0000 (aspheric) M 2 21 106.792 12.000 1.508385 (quartz) L 31 22 105.550 24.044 1.0000 23 344.933 16.641 1.508385 (quartz) L 32 24 -1397.225 0.100 1.0000 2 5 105.435 30.284 1.508385 (Quartz) L 33 26 890.603 8.066 1.0000 27 -297.345 32.551 1.508385 (Quartz) L 34 28 -486.516 1.643 1.0000 29 154.666 44.945 1.508385 (Quartz) L 35 30 -706.316 24.770 1.0000 31 (Image plane) << Aspherical surface Coefficient >> 11th surface (first concave reflecting mirror M 2 ) 20th surface (second concave reflecting mirror M 2 ) κ 1.0 1.0 C 4 -0.395493 × 10 -12 0.340990 × 10 -10 C 6 -0.168923 × 10 -16 0.116056 × 10 -15 C 8 -0.338178 × 10 -22 0.245212 × 10 -21 C 10 -0.134005 × 10 -26 0.260273 × 10 -26 《Condition-friendly value》 β G3 = 0.238 β M1 = -0.800 β M2 = -1.357 FIG. 12 shows a coma aberration diagram of the sixth embodiment. This aberration diagram shows the coma aberration in the meridional direction at the center of the annular illumination field. From this aberration diagram, it can be understood that the sixth example maintains excellent imaging performance.
【0039】次に、図13を参照して本発明による第7
実施例を説明する。図13において、物体面からの光束
は、両凸形状の正レンズL11と、光線の入射側に凸面を
向けたメニスカス形状の正レンズL12と、同じく入射側
に凸面を向けたメニスカス形状の正レンズL13と、入射
側に凸面を向けたメニスカス形状の負レンズL14とで構
成され、全体として正の屈折力の第1レンズ群G1 から
射出して、第1レンズ群G1 の光軸Ax1 に対して45°で
斜設された平面反射鏡M3 にて偏向される。この偏向さ
れた光束は、負の屈折力の第5レンズ群G5 を介してや
や縮小倍率を持つ第1凹面反射鏡M1 に達する。第5レ
ンズ群G5 は、第1凹面反射鏡M1 側に凸面を向けたメ
ニスカス形状の負レンズで構成される。そして、第1凹
面反射鏡M1 にて反射された光束は、再び第5レンズ群
G5 を介して、負の屈折力を持つ第2レンズ群G2 に入
射する。第2レンズ群G2 は、光線の入射側に凸面を向
けたメニスカス形状の負レンズL21と、両凹形状の負レ
ンズL22と、入射側に凹面を向けたメニスカス形状の正
レンズL23と、同じく入射側に凹面を向けたメニスカス
形状の正レンズL24とで構成されるものであり、負レン
ズL21と負レンズL 22との間の光路中に、物体の縮小像
である1次像I1 を形成する。なお、第2レンズ群中の
負レンズL21は、第1レンズ群G1 から第1凹面反射鏡
M1 へ向かう光路を遮らないように、光軸Ax2 の片側の
み設けられている。Next, referring to FIG. 13, a seventh embodiment of the present invention will be described.
An example will be described. In FIG. 13, the luminous flux from the object plane
Is a biconvex positive lens L11And a convex surface on the incident side of the ray
Meniscus-shaped positive lens L12And the incident side as well
Meniscus-shaped positive lens L with convex surface facing L13And incident
Meniscus negative lens L with convex surface facing the side14With
The first lens group G having a positive refracting power as a whole1From
Eject and then the first lens group G1Optical axis of Ax1 At 45 ° against
Planar reflecting mirror M installed obliquely3Is deflected at. This biased
The reflected light beam is the fifth lens group G having a negative refractive power.FiveOr through
And the first concave reflecting mirror M with reduction ratio1Reach 5th
Group GFiveIs the first concave reflecting mirror M1With the convex side facing
It is composed of a negative lens having a niscus shape. And the first recess
Surface reflector M1The light flux reflected at is again in the fifth lens group.
GFiveThrough the second lens group G having a negative refractive power.2Enter
Shoot. Second lens group G2Is convex on the incident side of the ray
Negative meniscus lens Ltwenty oneAnd a negative concave
Ltwenty twoAnd a positive meniscus shape with the concave surface facing the incident side.
Lens Ltwenty threeAnd a meniscus with a concave surface facing the incident side.
Positive lens Ltwenty fourAnd is composed of
Z Ltwenty oneAnd negative lens L twenty twoA reduced image of an object in the optical path between
Is the primary image I1To form. In addition, in the second lens group
Negative lens Ltwenty oneIs the first lens group G1To the 1st concave reflector
M1Do not block the optical path to the optical axis Ax2One side of
Only provided.
【0040】そして、第2レンズ群G2 から射出した光
束は、第2レンズ群G2 の光軸Ax2に対して45°で斜設
された平面反射鏡M4 にて偏向され、拡大倍率を持つ第
2凹面反射鏡M2 にて反射され、正の屈折力の第3レン
ズ群G3 に入射する。この第3レンズ群G3 は、光線の
入射側に凸面を向けたメニスカス形状の負レンズL
31と、両凸形状の正レンズL32と、入射側に凸面を向け
たメニスカス形状の正レンズL33と、両凹形状の負レン
ズL34と、両凸形状の正レンズL35とで構成されるもの
であり、その射出側に、1次像I1 よりも縮小された2
次像I2 を形成する。[0040] The light beam emitted from the second lens group G 2 is deflected by the plane reflecting mirror M 4 in which the optical axis Ax 2 of the second lens group G 2 is obliquely disposed by 45 °, magnification The light is reflected by the second concave reflecting mirror M 2 having the optical power and enters the third lens group G 3 having a positive refractive power. This third lens group G 3 is a meniscus-shaped negative lens L having a convex surface facing the light incident side.
31 , a biconvex positive lens L 32 , a meniscus positive lens L 33 having a convex surface on the incident side, a biconcave negative lens L 34, and a biconvex positive lens L 35. 2 which is smaller than the primary image I 1 on the exit side.
A secondary image I 2 is formed.
【0041】この第7実施例においては、全体として、
縮小倍率+0.25倍、すなわち4分の1の縮小率を有し、
光軸を中心とした半径25mmの輪帯状視野にて開口数(N.
A)0.4を達成している。以下の表7に上記第7実施例の
諸元を示す。なお、表中、硝材の屈折率は、ArF の波長
(193nm) における屈折率を示している。In the seventh embodiment, as a whole,
Reduction ratio + 0.25 times, that is, a reduction ratio of 1/4,
Numerical aperture (N.
A) 0.4 has been achieved. Table 7 below shows specifications of the seventh embodiment. In the table, the refractive index of the glass material is the wavelength of ArF.
The refractive index at (193 nm) is shown.
【0042】[0042]
【表7】 〔第7実施例〕 NO. 曲率半径 面間隔 屈折率 (物体面) 298.019 1.0000 1 4860.661 33.000 1.501375(蛍石) L11 2 -410.727 0.100 1.0000 3 202.797 73.000 1.501375(蛍石) L12 4 221.645 12.851 1.0000 5 189.285 33.370 1.501375(蛍石) L13 6 308.080 19.873 1.0000 7 942.449 50.409 1.560194(石英) L14 8 133.378 326.305 1.0000 9 -409.199 21.087 1.501375(蛍石) G5 10 -618.117 538.975 1.0000 11 -918.138 -538.975 -1.0000 M1 12 -618.117 -21.087 -1.501375(蛍石) G5 13 -409.199 -230.534 -1.0000 14 -124.583 -16.666 -1.501375(蛍石) L21 15 -122.761 -99.533 -1.0000 16 139.122 -17.104 -1.501375(蛍石) L22 17 -708.717 -35.132 -1.0000 18 253.980 -28.131 -1.501375(蛍石) L23 19 225.928 -6.072 -1.0000 20 14003.190 -33.317 -1.560194(石英) L24 21 290.144 -904.186 -1.0000 22 1085.235 804.185 1.0000 M2 23 95.505 18.738 1.560194(石英) L31 24 92.560 23.254 1.0000 25 1178.101 22.112 1.501375(蛍石) L32 26 -788.023 0.100 1.0000 27 86.141 27.769 1.501375(蛍石) L33 28 734.979 1.972 1.0000 29 -322.980 43.543 1.560194(石英) L34 30 926.558 0.100 1.0000 31 125.704 23.783 1.501375(蛍石) L35 32 -725.241 15.000 1.0000 33 (像面) 《条件対応値》 βG3= 0.373 βM1=-0.814 βM2=-0.993 上記第7実施例のコマ収差図を図14に示す。この収差
図は、輪帯状照野の中心におけるメリジオナル方向のコ
マ収差を示している。なお、コマ収差図中において、実
線は193.3nm のコマ収差を示し、破線は193.7nm のコマ
収差を示し、点線は192.9nm のコマ収差を示す。そし
て、この収差図より、第7実施例は、ArFの波長におい
て±0.4nm にわたり色収差の補正が実現されており、か
つ優れた結像性能を維持していることが理解できる。[Table 7] [Seventh embodiment] NO. Radius of curvature surface spacing refractive index (object surface) 298.019 1.0000 1 4860.661 33.000 1.501375 (fluorite) L 11 2 -410.727 0.100 1.0000 3 202.797 73.000 1.501375 (fluorite) L 12 4 221.645 12.851 1.0000 5 189.285 33.370 1.501375 (fluorite) L 13 6 308.080 19.873 1.0000 7 942.449 50.409 1.560194 (quartz) L 14 8 133.378 326.305 1.0000 9 -409.199 21.087 1.501375 (fluorite) G 5 10 -618.117 538.975 1.0000 11 -918.138- 538.975 -1.0000 M 1 12 -618.117 -21.087 -1.501375 (fluorite) G 5 13 -409.199 -230.534 -1.0000 14 -124.583 -16.666 -1.501375 (fluorite) L 21 15 -122.761 -99.533 -1.0000 16 139.122 -17.104- 1.501375 (fluorite) L 22 17 -708.717 -35.132 -1.0000 18 253.980 -28.131 -1.501375 (fluorite) L 23 19 225.928 -6.072 -1.0000 20 14003.190 -33.317 -1.560194 (quartz) L 24 21 290.144 -904.186 -1.0000 22 1085.235 804.185 1.0000 M 2 23 95.505 18.738 1.560194 ( quartz) L 31 24 92.560 23.254 1.0000 25 1178.101 22.112 1.501375 ( Stone) L 32 26 -788.023 0.100 1.0000 27 86.141 27.769 1.501375 ( fluorite) L 33 28 734.979 1.972 1.0000 29 -322.980 43.543 1.560194 ( quartz) L 34 30 926.558 0.100 1.0000 31 125.704 23.783 1.501375 ( fluorite) L 35 32 -725.241 15.000 1.0000 33 (Image plane) << Condition corresponding value >> β G3 = 0.373 β M1 = -0.814 β M2 = -0.993 FIG. 14 shows the coma aberration diagram of the seventh embodiment. This aberration diagram shows the coma aberration in the meridional direction at the center of the annular illumination field. In the coma diagram, the solid line shows coma at 193.3 nm, the broken line shows coma at 193.7 nm, and the dotted line shows coma at 192.9 nm. From this aberration diagram, it can be understood that in the seventh example, chromatic aberration is corrected over ± 0.4 nm at the wavelength of ArF, and excellent imaging performance is maintained.
【0043】次に、本発明による第8実施例を図15を
参照して説明する。図15において、物体面からの光束
は、両凸形状の正レンズL11と、同じく両凸形状の正レ
ンズL12と、光線の入射側に凸面を向けたメニスカス形
状の負レンズL13と、両凹形状の負レンズL14とで構成
され、全体として正の屈折力の第1レンズ群G1 を介し
て、第1レンズ群G1 の光軸Ax1 に対して45°で斜設さ
れた平面反射鏡M3 によって偏向され、負の屈折力を有
する第5レンズ群G5 を介して、やや縮小倍率を持つ第
1凹面反射鏡M1 に達する。この第5レンズ群G5 は、
第1凹面反射鏡M1 側に凸面を向けたメニスカス形状の
負レンズで構成される。そして、第1凹面反射鏡M1 に
て反射された光束は、再び第5レンズ群G5 を介して、
負の屈折力を持つ第2レンズ群G2 に入射する。この第
2レンズ群G2 は、光線の入射側に凸面を向けたメニス
カス形状の負レンズL21と、入射側に凹面を向けたメニ
スカス形状の負レンズL22と、同じく入射側に凹面を向
けたメニスカス形状の負レンズL23と、両凸形状の正レ
ンズL24とで構成されるものであり、負レンズL21と負
レンズL22との間に縮小された1次像I1 を形成する。Next, an eighth embodiment according to the present invention will be described with reference to FIG. In FIG. 15, the light flux from the object plane includes a biconvex positive lens L 11 , a biconvex positive lens L 12, and a meniscus negative lens L 13 having a convex surface facing the light ray incident side. a negative lens L 14 of double concave as a whole through the first lens group G 1 having a positive refractive power, is obliquely disposed at 45 ° of the first lens group G 1 with respect to the optical axis Ax 1 It is deflected by the flat reflecting mirror M 3 and reaches the first concave reflecting mirror M 1 having a slightly reduced magnification through the fifth lens group G 5 having a negative refractive power. This fifth lens group G 5
It is composed of a negative meniscus lens having a convex surface facing the first concave reflecting mirror M 1 . Then, the light flux reflected by the first concave reflecting mirror M 1 passes through the fifth lens group G 5 again,
It is incident on the second lens group G 2 having a negative refractive power. The second lens group G 2 includes a meniscus-shaped negative lens L 21 having a convex surface directed toward the light incident side, a meniscus-shaped negative lens L 22 having a concave surface directed toward the incident side, and a concave surface similarly directed toward the incident side. The negative lens L 23 having a meniscus shape and the positive lens L 24 having a biconvex shape form a reduced primary image I 1 between the negative lens L 21 and the negative lens L 22. To do.
【0044】そして、第2レンズ群G2 から射出した光
束は、第2レンズ群G2 の光軸Ax2に対して45°で斜設
された平面反射鏡M4 にて偏向され、拡大倍率を持つ第
2凹面反射鏡にて反射されて、正の屈折力を持つ第3レ
ンズ群G3 に入射する。この第3レンズ群G3 は、光線
の入射側に凸面を向けたメニスカス形状の負レンズL 31
と、両凸形状の正レンズL32と、同じく両凸形状の正レ
ンズL33と、入射側に凹面を向けたメニスカス形状の負
レンズL34と、入射側に凸面を向けたメニスカス形状の
正レンズL35とで構成されるものであり、この射出側に
1次像I1 よりも縮小された2次像I2 を形成する。The second lens group G2Light emitted from
The bundle is the second lens group G.2Optical axis of Ax2Inclined at 45 ° to
Flat mirror MFourIs deflected by the
2 The third lens with a positive refractive power is reflected by the concave mirror.
Group G3Incident on. This third lens group G3Is the ray
Negative lens L of meniscus shape with a convex surface facing the incident side of 31
And a biconvex positive lens L32Similarly, a biconvex regular
L33And a negative meniscus shape with a concave surface facing the incident side.
Lens L34And a meniscus shape with a convex surface facing the incident side
Positive lens L35Is composed of and
Primary image I1Secondary image I2To form.
【0045】この第8実施例においては、全体として、
縮小倍率+0.25倍、すなわち4分の1の縮小率を有し、
光軸を中心とした半径24.25mm の輪帯状視野にて開口数
(N.A.)0.4 を達成している。以下の表8に上記第8実施
例の諸元を示す。なお、表中、硝材の屈折率は、KrF の
波長(248nm) における屈折率を示している。In the eighth embodiment, as a whole,
Reduction ratio + 0.25 times, that is, a reduction ratio of 1/4,
Numerical aperture in an annular field with a radius of 24.25 mm centered on the optical axis
(NA) 0.4 has been achieved. Table 8 below shows specifications of the eighth embodiment. In the table, the refractive index of the glass material indicates the refractive index at the wavelength of KrF (248 nm).
【0046】[0046]
【表8】 〔第8実施例〕 NO. 曲率半径 面間隔 屈折率 (物体面) 400.975 1.0000 1 3191.354 33.000 1.508385(石英) L11 2 -448.984 15.428 1.0000 3 223.181 64.645 1.508385(石英) L12 4 -4151.509 12.219 1.0000 5 11253.765 49.299 1.508385(石英) L13 6 461.799 16.133 1.0000 7 -1336.016 48.239 1.508385(石英) L14 8 158.062 281.551 1.0000 9 -312.940 20.065 1.508385(石英) G5 10 -441.735 538.318 1.0000 11 -919.752 -538.318 -1.0000 M1 12 -441.735 -20.065 -1.508385(石英) G5 13 -312.940 -247.755 -1.0000 14 -132.399 -22.942 -1.508385(石英) L21 15 -127.754 -104.702 -1.0000 16 134.695 -14.420 -1.508385(石英) L22 17 11180.397 -23.490 -1.0000 18 160.735 -29.211 -1.508385(石英) L23 19 163.686 -0.100 -1.0000 20 1939.060 -37.447 -1.508385(石英) L24 21 239.738 -905.619 -1.0000 22 1073.545 806.574 1.0000 M2 23 89.424 16.314 1.508385(石英) L31 24 82.394 13.739 1.0000 25 612.232 15.000 1.508385(石英) L32 26 -1320.781 0.100 1.0000 27 86.666 25.509 1.508385(石英) L33 28 -1224.142 4.770 1.0000 29 -224.139 36.310 1.508385(石英) L34 30 -236.345 0.589 1.0000 31 165.225 24.171 1.508385(石英) L35 32 43423.922 15.000 1.0000 33 (像面) 《条件対応値》 βG3= 0.400 βM1=-0.797 βM2=-0.934 上記第8実施例のコマ収差図を図16に示す。この収差
図は、輪帯状照野の中心におけるメリジオナル方向のコ
マ収差を示している。そして、この収差図より、第8実
施例が優れた結像性能を維持していることが理解でき
る。[Table 8] [Eighth Example] NO. Radius of curvature surface spacing refractive index (object surface) 400.975 1.0000 1 3191.354 33.000 1.508385 (quartz) L 11 2 -448.984 15.428 1.0000 3 223.181 64.645 1.508385 (quartz) L 12 4 -4151.509 12.219 1.0000 5 11253.765 49.299 1.508385 (Quartz) L 13 6 461.799 16.133 1.0000 7 -1336.016 48.239 1.508385 (Quartz) L 14 8 158.062 281.551 1.0000 9 -312.940 20.065 1.508385 (Quartz) G 5 10 -441.735 538.318 1.0000 11 -919.752 -538.318- 1.0000 M 1 12 -441.735 -20.065 -1.508385 (quartz) G 5 13 -312.940 -247.755 -1.0000 14 -132.399 -22.942 -1.508385 (quartz) L 21 15 -127.754 -104.702 -1.0000 16 134.695 -14.420 -1.508385 (quartz) L 22 17 11 180.397 -23.490 -1.0000 18 160.735 -29.211 -1.508385 (quartz) L 23 19 163.686 -0.100 -1.0000 20 1939.060 -37.447 -1.508385 (quartz) L 24 21 239.738 -905.619 -1.0000 22 1073.545 806.574 1.0000 M 2 23 89.424 16.314 1.508385 (quartz) L 31 24 82.394 13.739 1.0000 25 612.232 15.000 1.5083 85 (quartz) L 32 26 -1320.781 0.100 1.0000 27 86.666 25.509 1.508385 (quartz) L 33 28 -1224.142 4.770 1.0000 29 -224.139 36.310 1.508385 (quartz) L 34 30 -236.345 0.589 1.0000 31 165.225 24.171 1.508385 (quartz) L 35 32 43423.922 15.000 1.0000 33 (Image plane) <Condition corresponding value> β G3 = 0.400 β M1 = -0.797 β M2 = -0.934 A coma aberration diagram of the eighth embodiment is shown in FIG. This aberration diagram shows the coma aberration in the meridional direction at the center of the annular illumination field. From this aberration diagram, it can be understood that the eighth embodiment maintains excellent imaging performance.
【0047】なお、上述の各実施例における第1部分光
学系(第1レンズ群G1 ,第1凹面反射鏡M1 )が形成
する1次像は、全て縮小像となっているが、この第1部
分光学系が形成する1次像は、縮小像であるとは限らな
い。また、上述の各実施例においては、上記条件を満足
するように構成されているため、反射屈折縮小投影光学
系を構成する各光学部材間の干渉がない。従って、物理
的に実現可能な反射縮小投影光学系を得ることができ
る。The primary images formed by the first partial optical system (first lens group G 1 , first concave reflecting mirror M 1 ) in each of the above-mentioned embodiments are all reduced images. The primary image formed by the first partial optical system is not always a reduced image. Further, in each of the above-described embodiments, since it is configured to satisfy the above condition, there is no interference between the optical members forming the catadioptric reduction projection optical system. Therefore, it is possible to obtain a physically-reducible catoptric reduction projection optical system.
【0048】そして、上述の第2乃至第8実施例におい
ては、2枚の平面反射鏡によって、物体面と像面とが互
いに平行となるように構成されている。これにより、第
2乃至第8実施例の反射屈折縮小投影光学系を走査型露
光装置の光学系として採用した場合、走査露光を行なう
ための搬送機構を簡略化できる利点がある。In the second to eighth embodiments described above, the two plane reflecting mirrors are arranged so that the object plane and the image plane are parallel to each other. As a result, when the catadioptric reduction projection optical system of the second to eighth embodiments is adopted as the optical system of the scanning exposure apparatus, there is an advantage that the transport mechanism for performing scanning exposure can be simplified.
【0049】[0049]
【発明の効果】以上のように本発明によれば、比較的簡
単な構成でありながら、大きな開口数を持つと共に、優
れた結像性能を持つ反射屈折縮小投影光学系を得ること
ができる。As described above, according to the present invention, it is possible to obtain a catadioptric reduction projection optical system having a large numerical aperture and an excellent image forming performance while having a relatively simple structure.
【図1】本発明による第1実施例の光路図である。FIG. 1 is an optical path diagram of a first embodiment according to the present invention.
【図2】本発明による第1実施例の収差図である。FIG. 2 is an aberration diagram of the first example according to the present invention.
【図3】本発明による第2実施例の光路図である。FIG. 3 is an optical path diagram of a second embodiment according to the present invention.
【図4】本発明による第2実施例の収差図である。FIG. 4 is an aberration diagram of a second example according to the present invention.
【図5】本発明による第3実施例の光路図である。FIG. 5 is an optical path diagram of a third embodiment according to the present invention.
【図6】本発明による第3実施例の収差図である。FIG. 6 is an aberration diagram of a third example according to the present invention.
【図7】本発明による第4実施例の光路図である。FIG. 7 is an optical path diagram of a fourth embodiment according to the present invention.
【図8】本発明による第4実施例の収差図である。FIG. 8 is an aberration diagram of a fourth example according to the present invention.
【図9】本発明による第5実施例の光路図である。FIG. 9 is an optical path diagram of a fifth embodiment according to the present invention.
【図10】本発明による第5実施例の収差図である。FIG. 10 is an aberration diagram of a fifth example according to the present invention.
【図11】本発明による第6実施例の光路図である。FIG. 11 is an optical path diagram of a sixth embodiment according to the present invention.
【図12】本発明による第6実施例の収差図である。FIG. 12 is an aberration diagram of a sixth example according to the present invention.
【図13】本発明による第7実施例の光路図である。FIG. 13 is an optical path diagram of a seventh embodiment according to the present invention.
【図14】本発明による第7実施例の収差図である。FIG. 14 is an aberration diagram of a seventh example according to the present invention.
【図15】本発明による第8実施例の光路図である。FIG. 15 is an optical path diagram of an eighth embodiment according to the present invention.
【図16】本発明による第8実施例の収差図である。FIG. 16 is an aberration diagram of Example 8 according to the present invention.
G1 ‥‥ 第1レンズ群、 G2 ‥‥ 第2レンズ群、 G3 ‥‥ 第3レンズ群、 G4 ‥‥ 第4レンズ群、 G5 ‥‥ 第5レンズ群、 M1 ‥‥ 第1凹面反射鏡、 M2 ‥‥ 第2凹面反射鏡、 M3 ‥‥ 平面反射鏡、 M4 ‥‥ 平面反射鏡、G 1 --- 1st lens group, G 2 --- 2nd lens group, G 3 --- 3rd lens group, G 4 --- 4th lens group, G 5 --- 5th lens group, M 1 --- 1 concave reflecting mirror, M 2 ... 2nd concave reflecting mirror, M 3 ... flat reflecting mirror, M 4 ... flat reflecting mirror,
Claims (3)
群G1 と、第1凹面反射鏡M1 とを有し、物体の1次像
を形成する第1部分光学系と、 第2凹面反射鏡M2 と、正の屈折力の第3レンズ群G3
とを有し、前記1次像をさらに縮小して結像させる第2
部分光学系と、 前記第1凹面反射鏡M1 と前記第2凹面反射鏡M2 との
間の光路中に配置される正または負の屈折力の第2レン
ズ群G2 とを有し、 前記第3レンズ群G3 の倍率をβG3とするとき、 0.05 < βG3 < 0.6 の条件を満足することを特徴とする反射屈折縮小投影光
学系。1. A first partial optical system having, in order from the object side, a first lens group G 1 having a positive refractive power and a first concave reflecting mirror M 1 and forming a primary image of an object. The second concave reflecting mirror M 2 and the third lens group G 3 having a positive refractive power
And a second image forming unit for further reducing the primary image to form an image.
A partial optical system, and a second lens group G 2 having a positive or negative refractive power arranged in the optical path between the first concave reflecting mirror M 1 and the second concave reflecting mirror M 2 . when the magnification beta G3 of the third lens group G 3, 0.05 <β G3 <catadioptric reduction projection optical system which satisfies the 0.6 conditions.
るとき、 βM1 < −0.7 の条件を満足することを特徴とする請求項1記載の反射
屈折縮小投影光学系。2. The catadioptric reduction projection optical system according to claim 1, wherein the condition of β M1 <−0.7 is satisfied when the magnification of the first concave reflecting mirror M 1 is β M1. .
るとき、 −2.5 < βM2 < −0.7 の条件を満足することを特徴とする請求項1記載の反射
屈折縮小投影光学系。3. The reflection according to claim 1, wherein when the magnification of the second concave reflecting mirror M 2 is β M2 , the condition of −2.5 <β M2 <−0.7 is satisfied. Refraction reduction projection optical system.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5286516A JPH06242379A (en) | 1992-12-24 | 1993-11-16 | Optical system for reflection/refraction/reduction/ projection |
US08/456,624 US5668673A (en) | 1991-08-05 | 1995-06-01 | Catadioptric reduction projection optical system |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4-343976 | 1992-12-24 | ||
JP34397692 | 1992-12-24 | ||
JP5286516A JPH06242379A (en) | 1992-12-24 | 1993-11-16 | Optical system for reflection/refraction/reduction/ projection |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06242379A true JPH06242379A (en) | 1994-09-02 |
Family
ID=26556351
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5286516A Pending JPH06242379A (en) | 1991-08-05 | 1993-11-16 | Optical system for reflection/refraction/reduction/ projection |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06242379A (en) |
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1993
- 1993-11-16 JP JP5286516A patent/JPH06242379A/en active Pending
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