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JPH06234716A - Aidsの処置に有用なhiv−プロテアーゼ阻害剤 - Google Patents

Aidsの処置に有用なhiv−プロテアーゼ阻害剤

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Publication number
JPH06234716A
JPH06234716A JP5321967A JP32196793A JPH06234716A JP H06234716 A JPH06234716 A JP H06234716A JP 5321967 A JP5321967 A JP 5321967A JP 32196793 A JP32196793 A JP 32196793A JP H06234716 A JPH06234716 A JP H06234716A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
amino
hydroxy
alkyl
butyl
reaction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5321967A
Other languages
English (en)
Inventor
Louis N Jungheim
ルイス・ニコラス・ジュンガイム
Stephen Warren Kaldor
スティーブン・ウォーレン・カルドー
Thomas E Mabry
トーマス・エドワード・マブリー
Timothy A Shepherd
ティモシー・アラン・シェパード
Robert D Titus
ロバート・ダニエル・タイタス
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Eli Lilly and Co
Original Assignee
Eli Lilly and Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Eli Lilly and Co filed Critical Eli Lilly and Co
Publication of JPH06234716A publication Critical patent/JPH06234716A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • C07D401/02Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 新規HIVプロテアーゼ阻害剤、これらの化
合物を含む医薬的製剤およびHIV感染症および/また
はAIDSの処置および/または予防方法を提供する。 【構成】 式I 〔例えば、〔2R−(2R,3S,6S)〕−N
−t−ブチル−2−〔2−ヒドロキシ−3−フェニルメ
チル−4,7,9−トリアザ−5,8−ジオキソ−6−
シアノメチル−10−ナフタリン−1−イル〕デシルベ
ンズアミド〕で示される化合物またはその医薬的に許容
し得る塩。

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野】
【0001】本発明は下記式Iの化合物およびその医薬
的に許容し得る塩に関し、これらの化合物はヒト免疫不
全ウイルス(HIV)1型(HIV−1)または2型
(HIV−2)がコードするプロテアーゼを阻害する。
これらの化合物はHIV感染症の治療と予防およびそれ
に由来する後天性免疫不全症候群(AIDS)の治療と
予防に有用である。これらの化合物、医薬的に許容し得
る塩および医薬的組成物は単独にまたは他の抗ウイルス
剤、免疫モジュレーター、抗生物質またはワクチンとの
組合わせで用いることができる。AIDSの治療または
予防法、HIV感染症の治療または予防法およびHIV
転写の阻害法を開示する。
【従来の技術】
【0002】ヒト免疫不全ウイルス(HIV)と呼ばれ
るレトロウイルスは後天性免疫不全症候群(AIDS)
と呼ばれる複雑な病気の病原体であり、レトロウイルス
の中のレンチウイルス亜科の一員である。M.A.Go
nda、F.Wong−Staal、R.C.Gall
o「Sequence・Homology・and・M
orpholigical・Similarity・o
f・HTLVIII・And・Visna・Viru
s,A・Pathogenic・Lentiviru
s」、Science、227、173(1985);
P.Sonigo、N.Alizonなど「Nucle
otide・Sequence・of・the・Vis
na・Lentivirus:Relationshi
p・to・the・AIDS・Virus」、Cel
l、42、369(1985)。複雑な疾患であるAI
DSは免疫系の進行性破壊および中枢および抹梢神経系
の変性を含む。HIVウイルスは以前はLAV、HTL
V−IIIまたはARVとして知られ、また記載されて
いた。
【0003】レトロウイルスの転写に共通する特性は、
ウイルスの集合および機能に必要な成熟したウイルス蛋
白を発生させるためにウイルスがコードしているプロテ
アーゼによる前駆体ポリプロテインの翻訳後修飾であ
る。この修飾の妨害は正常な病原ウイルスの生産を阻害
すると思われる。未修飾の構造蛋白はヒトの患者から分
離した非感染性HIV株のクローン中にも観察されてい
る。この結果はHIVプロテアーゼの阻害がAIDSの
治療およびHIVによる疾患の予防または治療に発展し
得る方法を示していることを示唆する。
【0004】HIVのゲノムはgagおよびpolと呼
ばれる構造蛋白前駆体をコードし、これらが修飾されて
プロテアーゼ、逆転写酵素およびエンドヌクレアーゼ/
インテグラーゼを与える。プロテアーゼはさらにgag
及びgag−polポリ蛋白を切断してウイルス・コア
の成熟した構造蛋白を与える。
【0005】修飾されてレトロウイルス・プロテアー
ゼ、逆転写酵素およびエンドヌクレアーゼ/インテグラ
ーゼを与える構造蛋白前駆体を用いるHIVの制御に向
けてかなりの努力が注がれている。例えば、現用の治療
薬AZTはウイルスの逆転写酵素の阻害剤である。H.
Mitsuya、NS.Broder、「Inhibi
tion・of・the・In・Vitro・Infe
ctivity・in・Cytopathic・Eff
ects・of・HTLV・III」、Proc.Na
tl.Acad.Sci.USA、83、1911(1
986)。
【0006】HIVプロテアーゼ阻害剤にも研究的努力
が向けられている。例えば、欧州特許出願346847
号はHIVプロテアーゼ阻害剤として有用と称する化合
物を開示している。
【発明が解決しようとする課題】
【0007】不幸にも、既知の化合物の多くには毒性問
題、生物学的許容性欠如または生体内半減期の短さとい
う欠陥がある。それで、プロテアーゼ阻害剤に認識され
ている治療的潜在力および今まで注がれた研究努力にも
拘らず、実用できる治療剤は出現していない。
【0008】
【課題を解決するための手段】従って、本発明の第一目
的はHIV感染症および/またはそれに由来する後天性
免疫不全症候群(AIDS)の治療または予防に有用な
新規HIVプロテアーゼ阻害剤を提供することにある。
【0009】本発明は式I
【化3】 [式中、Rはアリール、ヘテロ環または不飽和ヘテロ環
であり、X1は−(CH2n−、−(CH2m−O−
(CH2n−または−(CH2m−NR0−(CH2n
−であるが、ここにmとnとは独立に0、1または2で
あり、R0は水素またはC1〜C4アルキルである;R1
アリール、C5〜C7シクロアルキルまたは−S−R1x
あるが、ここにR1xはアリールまたはC5〜C7シクロア
ルキルである;R2はシアノ(C1〜C4)アルキル、−
CH2SO2NH2、−(CH2m−X2−R2aまたは−
(CH2m−CO−NR2b2cであるが、ここにX2
結合、−CO−O−、−O−、−S−、−SO−または
−SO2−であり;R2aはC1〜C6アルキル、アリー
ル、アリール(C1〜C4)アルキル、ヘテロ環、ヘテロ
環(C1〜C4)アルキル、不飽和ヘテロ環または不飽和
ヘテロ環(C1〜C4)アルキルであり;R2bは水素また
はC1〜C4アルキルであり;R2cはアミノ、C1〜C6
ルコキシ、C1〜C6アルキルまたは−(CH2z−ジ
(C1〜C4)アルキルアミノであり;zは1,2,3ま
たは4であり;Yはアリールまたは不飽和ヘテロ環であ
り、R3は構造:
【化4】 を持つ基であるが、ここにpは4または5であり;lは
3、4または5であり;各R4は独立に水素、C1〜C6
アルキルまたはヒドロキシ(C1〜C4)アルキルであ
り、R5とR6は水素、ヒドロキシ、C1〜C6アルキル、
1〜C6アルコキシ、アミノ、C1〜C4アルキルアミ
ノ、ヒドロキシ(C1〜C4)アルキル、カルボキシ、C
1〜C4アルコキシカルボニル、カルバモイル、N−(C
1〜C4)アルキルカルバモイル、アリール、ヘテロ環ま
たは不飽和ヘテロ環から独立に選ばれる]で示される化
合物またはその医薬的に許容し得る塩に関する。
【0010】本明細書で述べる温度はすべて摂氏(℃)
である。ここでの量測定の単位はすべて重量の単位であ
るが、液体は容積の単位で示す。本明細書では、用語
「C1〜C6アルキル」は直線状または分枝状の炭素原子
1個から6個を持つアルキル鎖を示す。典型的なC1
6アルキル基にはメチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチル、イソブチル、二級ブチル、t−ブチ
ル、ペンチル、ネオペンチル、ヘキシルなどを含む。用
語「C1〜C6アルキル」はその定義の中に用語「C1
4アルキル」を含む。
【0011】「ハロ」はクロロ、フルオロ、ブロモまた
はヨードを示す。
【0012】「ハロ(C1〜C4)アルキル」はそれに結
合するハロゲン原子1〜3個と共に直線状または分枝状
の炭素原子1個から4個を持つアルキル鎖を示す。典型
的なハロ(C1〜C4)アルキル基にはクロロメチル、2
−ブロモエチル、1−クロロイソプロピル、3−フルオ
ロプロピル、2,3−ジブロモブチル、3−クロロイソ
ブチル、ヨード−t−ブチル、トリフルオロメチルなど
を含む。
【0013】「シアノ(C1〜C4)アルキル」はそれに
結合するシアノ基と共に炭素原子1個から4個を持つ直
線状または分枝状のアルキル鎖を示す。典型的なシアノ
(C 1〜C4)アルキル基はシアノメチル、2−シアノエ
チル、3−シアノプロピル、3−シアノプロピル、2−
シアノイソプロピル、4−シアノブチルなどを含む。
【0014】「C1〜C4アルキルチオ」は硫黄原子に結
合する炭素原子1個から4個を持つ直線状または分枝状
のアルキル鎖を示す。典型的なC1〜C4アルキルチオ基
にはメチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロ
ピルチオ、ブチルチオなどを含む。
【0015】「C1〜C4アルキルアミノ」はアミノ基に
結合する炭素原子1個から4個を持つ直線状または分枝
状のアルキルアミノ鎖を示す。典型的なC1〜C4アルキ
ルアミノ基にはメチルアミノ、エチルアミノ、プロピル
アミノ、イソプロピルアミノ、ブチルアミノ、二級ブチ
ルアミノなどを含む。
【0016】「ジ(C1〜C4)アルキルアミノ」は炭素
原子1個から4個を持つアルキル鎖2個が共通の窒素原
子に結合する直線状または分枝状のジアルキルアミノ鎖
を示す。典型的なジ(C1〜C4)アルキルアミノ基には
ジメチルアミノ、エチルメチルアミノ、メチルイソプロ
ピルアミノ、t−ブチルイソプロピルアミノ、ジ−t−
ブチルアミノなどを含む。
【0017】「C1〜C4アルコキシ」は酸素原子に結合
している炭素原子1個から4個を持つ直線状または分枝
状のアルキル鎖を示す。典型的なC1〜C4アルコキシ基
にはメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキ
シ、ブトキシなどを含む。
【0018】「C1〜C4アルコキシカルボニル」はカル
ボニル基に結合している炭素原子1個から4個を持つ直
線状または分枝状のアルコキシ鎖を示す。典型的なC1
〜C4アルコキシカルボニル基にはメトキシカルボニ
ル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソ
プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、t−ブト
キシカルボニルなどを含む。
【0019】「カルバモイル(C1〜C4)アルキル」は
それに結合するカルバモイル基と共に炭素原子1個から
4個を持つ直線状または分枝状のアルキル鎖を示す。典
型的なカルバモイル(C1〜C4)アルキル基にはカルバ
モイルメチル、カルバモイルエチル、カルバモイルプロ
ピル、カルバモイルイソプロピル、カルバモイルブチル
およびカルバモイル−t−ブチルなどを含む。
【0020】「C5〜C7シクロアルキル」は炭素原子5
個から7個を含む飽和炭化水素環構造を示し、かつ非置
換であるかあるいはハロ、ハロ(C1〜C4)アルキル、
1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、カルボキシ、
1〜C4アルコキシカルボニル、カルバモイル、C1
4アルキルカルバモイル、アミノ、C1〜C4アルキル
アミノ、ジ(C1〜C4)アルキルアミノまたは−(CH
2a−R7[ここに、aは1、2、3または4であり、
7はヒドロキシ、C1〜C4アルコキシ、カルボキシ、
1〜C4アルコキシカルボニル、アミノ、カルバモイ
ル、C1〜C4アルキルアミノまたはジ(C1〜C4)アル
キルアミノである]で示される構造を持つ基から独立に
選ばれる置換基1、2または3個で置換されている。典
型的なシクロアルキル基にはシクロペンチル、シクロヘ
キシル、シクロヘプチル、3−メチルシクロペンチル、
4−エトキシシクロヘキシル、5−カルボキシシクロヘ
プチル、6−クロロシクロヘキシルなどを含む。
【0021】用語「ヘテロ環」は非置換であるかまたは
置換された安定な5−から7−員単環および7−から1
0−員双環ヘテロ環基を示し、飽和であり、炭素原子お
よび窒素、酸素または硫黄からなる群から選択されるヘ
テロ原子1個から3個からなり、その窒素および硫黄ヘ
テロ原子はいずれも酸化されていてもよく、窒素原子は
4級化されていてもよく、また、上記ヘテロ環基のどれ
かとベンゼン環とが縮合している双環基も含む。ヘテロ
環はそのヘテロ原子または炭素原子で安定な構造をもた
らす結合をしうる。ヘテロ環は非置換であるかまたはハ
ロ、ハロ(C1〜C4)アルキル、C1〜C4アルキル、C
1〜C4アルコキシ、カルボキシ、C1〜C4アルコキシカ
ルボニル、カルバモイル、C1〜C4アルキルカルバモイ
ル、アミノ、C1〜C4アルキルアミノ、ジ(C1〜C4)アル
キルアミノまたは−(CH2a−R7[ここに、aは
1、2、3または4であり;R7はヒドロキシ、C1〜C
4アルコキシ、カルボキシ、C1〜C4アルコキシカルボ
ニル、アミノ、カルバモイル、C1〜C4アルキルアミノ
またはジ(C1〜C4)アルキルアミノである]で示され
る構造を持つ基から独立に選ばれる置換基1、2または
3個で置換されているものである。
【0022】用語「不飽和ヘテロ環」は非置換である
か、または置換された安定な5−から7−員単環または
7−から10−員双環基を示し、二重結合1個またはそ
れ以上を持ち、炭素原子と窒素、酸素または硫黄からな
る群から選ばれたヘテロ原子1個から3個を持ち、その
窒素および硫黄ヘテロ原子は酸化されていてもよく、窒
素ヘテロ原子は4級化されていてもよく、また、前記ヘ
テロ環のどれかがベンゼン環に縮合してる双環基を含
む。不飽和ヘテロ環はそのヘテロ原子または炭素原子で
安定な構造をもたらす結合をしうる。不飽和ヘテロ環は
非置換であるかまたはハロ、ハロ(C1〜C4)アルキ
ル、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、カルボキ
シ、C1〜C4アルコキシカルボニル、カルバモイル、C
1〜C4アルキルカルバモイル、アミノ、C1〜C4アルキ
ルアミノ、ジ(C1〜C4)アルキルアミノまたは−(C
2a−R7[ここに、aは1、2、3または4であ
り、R7はヒドロキシ、C1〜C4アルコキシ、カルボキ
シ、C1〜C4アルコキシカルボニル、アミノ、カルバモ
イル、C1〜C4アルキルアミノまたはジ(C1〜C4)ア
ルキルアミノである]で示される構造を持つ基から独立
に選ばれる置換基1、2または3個で置換されている。
【0023】ヘテロ環および不飽和ヘテロ環の例にはピ
ペリジニル、ピペラジニル、アゼピニル、ピロリル、4
−ピペリドニル、ピロリジニル、ピラゾリル、ピラゾリ
ジニル、イミダゾリル、イミダゾリニル、イミダゾリジ
ニル、ピリジル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジ
ニル、オキサゾリル、オキサゾリジニル、イソオキサゾ
リル、イソオキサゾリジニル、モルホリニル、チアゾリ
ル、チアゾリジニル、イソチアゾリル、キヌクリジニ
ル、イソチアゾリジニル、インドリル、キノリニル、イ
ソキノリニル、ベンズイミダゾリル、チアジアゾリル、
ベンゾピラニル、ベンゾチアゾリル、ベンゾアゾリル、
フリル、テトラヒドロフリル、テトラヒドロピラニル、
チエニル、ベンゾチエニル、チアモルホリニル、チアモ
ルホリニルスルホキシド、チアモルホリニルスルホン、
オキサジアゾリル、トリアゾリル、テトラヒドロキノリ
ニル、テトラヒドロイソキノリニル、3−メチルイミダ
ゾリル、3−メトキシピリジル、4−クロロキノリニ
ル、4−アミノチアゾリル、8−メチルキノリニル、6
−クロロキノキサリニル、3−エチルピリジル、6−メ
トキシベンズイミダゾリル、4−ヒドロキシフリル、4
−メチルイソキノリニル、6,8−ジブロモキノリニ
ル、4,8−ジメチルナフチル、2−メチル−1,2,
3,4−テトラヒドロイソキノリニル、N−メチルキノ
リン−2−イル、2−t−ブトキシカルボニル−1,
2,3,4−イソキノリン−7−イルなどを含む。
【0024】「ヘテロ環(C1〜C4)アルキル」はそれ
に結合するヘテロ環基と共に炭素原子1個から4個を持
つ直線状または分枝状のアルキル鎖を示す。「不飽和ヘ
テロ環(C1〜C4)アルキル」はそれに結合する不飽和
ヘテロ環基と共に炭素原子1個から4個を持つ直線状ま
たは分枝状のアルキル鎖を示す。典型的なヘテロ環(C
1〜C4)アルキルおよび不飽和ヘテロ環(C1〜C4)ア
ルキル基には3,4,5−トリヒドロフラン−2−イル
メチル、モルホリン−2−イルエチル、テトラヒドロイ
ソキノリン−3−イルプロピル、ピロリルメチル、キノ
リルメチル、1−インドリルエチル、2−フリルエチ
ル、3−チオフェン−2−イルプロピル、1−イミダゾ
リルイソプロピル、4−チアゾリルブチルなどを含む。
【0025】「アリール」はフェニルまたはナフチル環
を示し、ハロ、モルホリノ(C1〜C4)アルキル、ピリ
ジル(C1〜C4)アルキル、ハロ(C1〜C4)アルキ
ル、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、カルボキ
シ、C1〜C4アルコキシカルボニル、カルバモイル、カ
ルバモイル(C1〜C4)アルキル、アミノ、C1〜C4
ルキルアミノ、ジ(C1〜C4)アルキルアミノまたは式
−(CH2a−R7[ここに、aは1、2、3または4
であり;R7はヒドロキシ、C1〜C4アルコキシ、カルボキシ、C
1〜C4アルコキシカルボニル、アミノ、カルバモイル、
1〜C4アルキルアミノまたはジ(C1〜C4)アルキル
アミノである]で示される基から独立に選ばれる置換基
1、2または3個で置換されていてもよい。典型的なア
リール基には4−メチルフェニル、3−エチルナフチ
ル、2,5−ジメチルフェニル、8−クロロナフチル、
3−アミノナフチル、4−カルボキシフェニルなどを含
む。
【0026】「アリール(C1〜C4)アルキル」はそれ
に結合するアリール基と共に炭素原子1個から4個を持
つ直線状または分枝状のアルキル鎖を示す。典型的なア
リール(C1〜C4)アルキル基にはフェニルメチル、2
−フェニルエチル、3−ナフタリン−1−イルプロピ
ル、1−ナフタリン−2−イルイソプロピル、4−フェ
ニルブチルなどを含む。
【0027】用語「アミノ酸側鎖」はアミノ酸のカルボ
キシル基およびアミノ基が結合しているα−炭素原子に
結合する特性的な原子または基を示す。これらの側鎖は
以下のアミノ酸に見出されるものから選ばれる。 アラニン Ala アルギニン Arg アスパラギン Asn アスパラギン酸 Asp システイン Cys グルタミン Gln グルタミン酸 Glu グリシン Gly ヒスチジン His イソロイシン Ile ロイシン Leu リジン Lys メチオニン Met フェニルアラニン Phe プロリン Pro セリン Ser スレオニン Thr トリプトファン Trp チロシン Tyr バリン Val
【0028】用語「アミノ保護基」は本明細書ではその
化合物にある別の官能基が反応する間にアミノ官能基を
閉鎖または保護するために普通に使われるアミノ基の置
換基を示す。このようなアミノ保護基の例にはホルミ
ル、トリチル、フタルイミド、トリクロロアセチル、ク
ロロアセチル、ブロモアセチルおよびヨードアセチル、
ベンジルオキシカルボニル、4−フェニルベンジルオキ
シカルボニル、2−メチルベンジルオキシカルボニル、
4−メトキシベンジルオキシカルボニル、4−フルオロ
ベンジルオキシカルボニル、4−クロロベンジルオキシ
カルボニル、3−クロロベンジルオキシカルボニル、2
−クロロベンジルオキシカルボニル、2,4−ジクロロ
ベンジルオキシカルボニル、4−ブロモベンジルオキシ
カルボニル、3−ブロモベンジルオキシカルボニル、4
−ニトロベンジルオキシカルボニル、4−シアノベンジ
ルオキシカルボニル、2−(4−キセニル)イソプロポ
キシカルボニル、1,1−ジフェニルエタン−1−イル
オキシカルボニル、1,1−ジフェニルプロプロパン−
1−イルオキシカルボニル、2−フェニルプロパン−2
−イルオキシカルボニル、2−(p−トルイル)プロパ
ン−2−イルオキシカルボニル、シクロペンタニルオキ
シカルボニル、1−メチルシクロペンタニルオキシカル
ボニル、シクロヘキサニルオキシカルボニル、1−メチ
ルシクロヘキサニルオキシカルボニル、2−メチルシク
ロヘキサニルオキシカルボニル、2−(4−トルイルス
ルホニル)エトキシカルボニル、2−(メチルスルホニ
ル)エトキシカルボニル、2−(トリフェニルホスフィ
ノ)エトキシカルボニル、フルオレニルメトキシカルボ
ニル(「FMOC」)、2−(トリメチルシリル)エト
キシカルボニル、アリルオキシカルボニル、1−(トリ
メチルシリルメチル)−プロペン−1−イルオキシカル
ボニル、5−ベンズイソオキサリルメトキシカルボニ
ル、4−アセトキシベンジルオキシカルボニル、2,
2,2−トリクロロエトキシカルボニル、2−エチニル
−2−プロポキシカルボニル、シクロプロピルメトキシ
カルボニル、4−(デシルオキシ)ベンジルオキシカル
ボニル、イソボルニルオキシカルボニル、1−ピペリジ
ルオキシカルボニルなどのようなウレタン型閉鎖基、ベ
ンゾイルメチルスルホニル基、2−ニトロフェニルスル
フェニル基、ジフェニルホスフィンオキシド基などのア
ミノ保護基を含む。採用するアミノ保護基の種類は誘導
されたアミノ基が中間体分子にある別の位置に起きる後
続反応の条件に安定であり、適当な時点で他のアミノ保
護基を含む分子の別の部分を分解せずに選択的に除去で
きる限り限定的ではない。好適なアミノ保護基はt−ブ
トキシカルボニル(t−Boc)およびベンジルオキシ
カルボニル(Cbz)である。前記用語で示される基の
他の例はJ.W.Bartonによって「Protec
tive・Groups・in・Organic・Ch
emistry」、J.G.W.McOmie編、Pl
enum・Press、New・York、N.Y.、
1973、第2章に、またT.W.Greeneによっ
て「Protective・Groups・in・Or
ganic・Synthesis」、John・Wil
ey・and・Sons、New・York、N.
Y.、1981、第7章に記載されている。
【0029】用語「カルボキシ保護基」は本明細書では
化合物にある別の官能基が反応する間にカルボキシ官能
基を閉鎖または保護するために普通に使われるカルボキ
シ基の置換基を示す。このようなカルボキシ保護基の例
にはメチル、p−ニトロベンジル、p−メチルベンジ
ル、p−メトキシベンジル、3,4−ジメトキシベンジ
ル、2,4−ジメトキシベンジル、2,4,6−トリメ
トキシベンジル、2,4,6−トリメチルベンジル、ペ
ンタメチルベンジル、3,4−メチレンジオキシベンジ
ル、ベンズヒドリル、4,4’−ジメトキシベンズヒド
リル、2,2’,4,4’−テトラメトキシベンズヒド
リル、t−ブチル、t−アミル、トリチル、4−メトキ
シトリチル、4,4’−ジメトキシトリチル、4,
4’,4”−トリメトキシトリチル、2−フェニルプロ
パン−2−イル、トリメチルシリル、t−ブチルジメチ
ルシリル、フェナシル、2,2,2−トリクロロエチ
ル、β−(ジブチルメチルシリル)エチル、p−トルエ
ンスルホニルエチル、4−ニトロベンジルスルホニルエ
チル、アリル、シンナミル、1−(トリメチルシリルメ
チル)−1−プロペン−3−イルなどの基を含む。好適
なカルボキシ保護基はベンズヒドリル、アリルまたはベ
ンジルである。これらの基の他の例はE.Hasla
m、「Protective・Groups・in・O
rganic・Chemistry」、J.G.W.M
cOmie編、Plenum・Press、New・Y
ork、N.Y.、1973、第5章およびT.W.G
reene、「Protective・Groups・
in・Organic・Synthesis」、Joh
n・Wiley・and・Sons、New・Yor
k、N.Y.、1981、第5章に記載がある。
【0030】本発明の化合物は下式に星印で示す不斉中
心を少なくとも3個持っている。
【化5】 [式中、R、R1、R2、R3、X1およびYは式Iにおけ
ると同意義である]
【0031】これらの不斉中心のために、本発明の化合
物はジアステレオマー混合物、ラセミ混合物および各エ
ナンチオマーとして存在する。全ての不斉体、各異性体
およびそれらの組合せは本発明の範囲内にあるものとす
る。
【0032】上述のように、本発明は式Iで定義される
化合物の医薬的に許容し得る塩をも含む。一般的には中
性であるが、本発明の化合物は充分に酸性、塩基性また
は双方の官能基を有することができるので、従って、多
数の無機塩基および無機および有機酸のいずれとも反応
して医薬的に許容し得る塩を形成できる。
【0033】用語「医薬的に許容し得る塩」は本明細書
では前式で示される化合物の塩であって生体に対して実
質的に無害なものを示す。典型的な医薬的に許容し得る
塩には本発明の化合物と鉱酸または有機酸または無機塩
基との反応によって製造される塩を含む。このような塩
は酸付加塩および塩基付加塩として知られている。
【0034】酸付加塩を形成するために通常採用される
酸は塩酸、臭化水素酸、沃化水素酸、硫酸、燐酸などの
ような無機酸およびp−トルエンスルホン酸、メタンス
ルホン酸、シュウ酸、p−ブロモフェニルスルホン酸、
炭酸、コハク酸、クエン酸、安息香酸、酢酸などのよう
な有機酸である。医薬的に許容し得る塩の例には硫酸
塩、ピロ硫酸塩、重硫酸塩、亜硫酸塩、重亜硫酸塩、燐
酸塩、燐酸一水素塩、燐酸二水素塩、メタ燐酸塩、ピロ
燐酸塩、塩化物、臭化物、沃化物、酢酸塩、プロピオン
酸塩、デカン酸塩、カプリル酸塩、アクリル酸塩、ギ酸
塩、イソ酪酸塩、カプロン酸塩、ヘプタン酸塩、プロピ
オール酸塩、シュウ酸塩、マレイン酸塩、コハク酸塩、
スベリン酸塩、セバカン酸塩、フマル酸塩、リンゴ酸
塩、ブチン−1,4−ジ酸塩、ヘキシン−1,6−ジ酸
塩、安息香酸塩、クロロ安息香酸塩、メチル安息香酸
塩、ジニトロ安息香酸塩、ヒドロキシ安息香酸塩、メト
キシ安息香酸塩、フタル酸塩、スルホン酸塩、キシレン
スルホン酸塩、フェニル酢酸塩、フェニルプロピオン酸
塩、フェニル酪酸塩、クエン酸塩、乳酸塩、γ−ヒドロ
キシ酪酸塩、グリコール酸塩、酒石酸塩、メタンスルホ
ン酸塩、プロパンスルホン酸塩、ナフタリン−1−スル
ホン酸塩、ナフタリン−2−スルホン酸塩、マンデル酸
塩などである。好適な医薬的に許容し得る酸付加塩は塩
化水素酸および臭化水素酸のような鉱酸で形成するもの
およびマレイン酸およびメタンスルホン酸のような有機
酸で形成するものである。
【0035】塩基付加塩はアンモニウムまたはアルカリ
またはアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩
などのような無機塩基から誘導されるものを含む。本発
明の塩を製造するのに有用な塩基は水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、水酸化アンモニウム、炭酸カリウム、
炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウ
ム、水酸化カルシウム、炭酸カルシウムなどを含む。カ
リウムおよびナトリウム塩の型は殊に好適である。
【0036】この発明の塩の部分を構成する特定の対イ
オンは塩が全体として医薬的に許容し得るものであっ
て、対イオンが塩全体として望ましくない性質に寄与し
ない限り限定的性格を持たないことは認識すべきであ
る。
【0037】この発明の好適な化合物は式Iの化合物で
あって、Rがアリールまたは不飽和ヘテロ環であり;X
1が−(CH2n−でnが0であり;R1がアリールまた
は−S−R1xであるが、ここにR1xがアリールであり;
2がシアノ(C1〜C4)アルキル、−(CH2m−X2
−R2aまたは−(CH2m−CO−NR2b2cである
が、ここにX2は−CO−O−であり;Yはフェニルで
あり;そしてR3は−CO−NR44または−N(R5
−CO−R6であるが、ここにR4、R5およびR6は各々
独立であって、水素またはC1〜C6アルキルであるも
の、またはその医薬的に許容し得る塩である。
【0038】これらの好適な化合物の中で、さらに好適
なのは式Iの化合物であってRがキノリニル、キノキサ
リニルまたはナフチルであり;R1がフェニル、フェニ
ルチオまたはナフチルチオであり;R2がシアノメチ
ル、−CH2−CO−O−ベンジル、−CH2−CO−O
CH2−ピリジン−2−イル、−CH2−CO−NH−メ
トキシまたは−CH2−CO−NH−アミノであり;R3
は−CO−NH(t−ブチル)であるもの、またはその
医薬的に許容し得る塩である。
【0039】最も好適な化合物は:[2R−(2R*,
3S*,6S*)]−N−t−ブチル−2−[2−ヒドロ
キシ−3−フェニルメチル−4,7,9−トリアザ−
5,8−ジオキソ−6−シアノメチル−10−ナフタリ
ン−1−イル]デシルベンズアミド;[2R−(2R
*,3S*,6S*)]−N−t−ブチル−2−[2−ヒ
ドロキシ−3−フェニルメチル−4,7−ジアザ−5,
8−ジオキソ−6−シアノメチル−8−キノリン−2−
イル]オクチルベンズアミド;[2R−(2R*,3S
*,6S*)]−N−t−ブチル−2−[2−ヒドロキシ
−3−フェニルメチル−4,7−ジアザ−5,8−ジオ
キソ−6−シアノメチル−9−N(メチル)アザ−10
−キノリン−2−イル]デシルベンズアミド;[2R−
(2R*,3S*,6S*)]−N−t−ブチル−2−
[2−ヒドロキシ−3−フェニルメチル−4−アザ−5
−オキソ−6−N(キノリン−2−イルカルボニル)ア
ミノ−7−ベンジルオキシカルボニル]ヘプチルベンズ
アミド;
【0040】[2R−(2R*,3S*,6S*)]−N
−t−ブチル−2−[2−ヒドロキシ−3−フェニルメ
チル−4−アザ−5−オキソ−6−N(キノリン−2−
イルカルボニル)アミノ−7−(ピリジン−2−イルメ
トキシカルボニル)]ヘプチルベンズアミド;[2R−
(2R*,3S*,6R*)]−N−t−ブチル−2−
[2−ヒドロキシ−3−フェニルメチル−4−アザ−5
−オキソ−6N(キノリン−2−イルカルボニル)アミ
ノ−7−アミノスルホニル]ヘプチルベンズアミド;
[2R−(2R*,3S*,6S*)]−N−t−ブチル
−2−[2−ヒドロキシ−3−フェニルメチル−4−ア
ザ−5−オキソ−6−N(キノリン−2−イルカルボニ
ル)アミノ−8−N(メトキシ)カルバモイル]ヘプチ
ルベンズアミド;[2R−(2R*,3S*,6S*)]
−N−t−ブチル−2−[2−ヒドロキシ−3−フェニ
ルメチル−4−アザ−5,8−ジオキソ−6−N(キノ
リン−2−イルカルボニル)アミノ−8−ヒドラジノ]
オクチルベンズアミド;またはその医薬的に許容し得る
塩である。
【0041】本発明の範囲内に含まれる式Iで示される
化合物をさらに説明するために以下に化合物を例示す
る。 [2R−(2R*,3S*,6S*)]−N−t−ブチル
−2−[2−ヒドロキシ−3−ナフタリン−2−イルメ
チル−4,7,9−トリアザ−5,8−ジオキソ−6−
シアノメチル−10−ナフタリン−1−イル]デシルベ
ンズアミド;[2R−(2R*,3S*,6S*)]−N
−t−ブチル−2−[2−ヒドロキシ−3−フェニルメ
チル−4,7,9−トリアザ−5,8−ジオキソ−6−
シアノエチル−10−ナフタリン−1−イル]デシルベ
ンズアミド;[2R−(2R*,3S*,6S*)]−N
−t−ブチル−2−[2−ヒドロキシ-3-フェニルチオメチル-4,7,
9-トリアザ-5,8-ジオキソ-6-シアノメチル-10-ナフタリン-1-イル]デシルベンズアミド;
[2R-(2R*,3S*,6S*)]−N−t−ブチル−2−
[2−ヒドロキシ−3−ナフタリン−2−イルチオメチ
ル−4,7,9−トリアザ−5,8−ジオキソ−6−シ
アノメチル−10−キノリン−2−イル]デシルベンズ
アミド;[2R−(2R*,3S*,6S*)]−N−t
−ブチル−2−[2−ヒドロキシ−3−フェニルメチル
−4,7,9−トリアザ−5,8−ジオキソ−6−シア
ノブチル−10−キノリン−2−イル]デシルベンズア
ミド;[2R−(2R*,3S*,6S*)]−N−t−
ブチル−2−[2−ヒドロキシ−3−フェニルメチル−
4,7,9−トリアザ−5,8−ジオキソ−6−シアノ
ブチル−10−(ベンゾチオフェン−2−イル)]デシ
ルベンズアミド;[2R−(2R*,3S*,6S*)]
−N−t−ブチル−2−[2−ヒドロキシ−3−フェニ
ルメチル−4,7−ジアザ−5,8−ジオキソ−6−シ
アノメチル−8−ナフタリン−2−イル]オクチルベン
ズアミド;[2R−(2R*,3S*,6S*)]−N−
t−ブチル−2−[2−ヒドロキシ−3−フェニルメチ
ル−4,7−ジアザ−5,8−ジオキソ−6−シアノプ
ロピル−8−キノキサリン−2−イル]オクチルベンズ
アミド;
【0042】[2R−(2R*,3S*,6S*)]−N
−t−ブチル−2−[2−ヒドロキシ−3−フェニルチ
オメチル−4,7−ジアザ−5,8−ジオキソ−6−シ
アノメチル−8−ナフタリン−2−イル]オクチルベン
ズアミド;[2R−(2R*,3S*,6S*)]−N−
t−ブチル−2−[2−ヒドロキシ−3−ナフタリン−
2−イルチオメチル−4,7−ジアザ−5,8−ジオキ
ソ−6−シアノメチル−8−ナフタリン−2−イル]オ
クチルベンズアミド;[2R−(2R*,3S*,6S
*)]−N−t−ブチル−2−[2−ヒドロキシ−3−
フェニルチオメチル−4,7−ジアザ−5,8−ジオキ
ソ−6−シアノメチル−8−ベンゾチオフェン−2−イ
ル]オクチルベンズアミド;[2R−(2R*,3S*,
6S*)]−N−t−ブチル−2−[2−ヒドロキシ−
3−フェニルチオメチル−4,7−ジアザ−5,8−ジ
オキソ−6−シアノエチル−9−N(メチル)アザ−1
0−キノリン−2−イル]デシルベンズアミド;[2R
−(2R*,3S*,6S*)]−N−t−ブチル−2−
[2−ヒドロキシ−3−フェニルメチル−4,7−ジア
ザ−5,8−ジオキソ−6−シアノメチル−9−アザ−
10−キノキサリン−2−イル]デシルベンズアミド;
【0043】[2R−(2R*,3S*,6S*)]−N
−t−ブチル−2−[2−ヒドロキシ−3−ナフタリン
−2−イルメチル−4,7−ジアザ−5,8−ジオキソ
−6−シアノメチル−9−アザ−10−ナフタリン−2
−イル]デシルベンズアミド;[2R−(2R*,3S
*,6S*)]−N−t−ブチル−2−[2−ヒドロキシ
−3−フェニルメチル−4,7−ジアザ−5,8−ジオ
キソ−6−シアノエチル−9−N(メチル)アザ−10
−ベンゾチオフェン−2−イル]デシルベンズアミド;
[2R−(2R*,3S*,6S*)]−N−t−ブチル
−2−[2−ヒドロキシ−3−フェニルメチル−4−ア
ザ−5−オキソ−6−N(ナフタリン−2−イルカルボ
ニル)アミノ−7−ベンジルオキシカルボニル]ヘプチ
ルベンズアミド;[2R−(2R*,3S*,6S*)]
−N−t−ブチル−2−[2−ヒドロキシ−3−フェニ
ルチオメチル−4−アザ−5−オキソ−6−N(ナフタ
リン−2−イルカルボニル)アミノ−7−ベンジルオキ
シカルボニル]ヘプチルベンズアミド;[2R−(2R
*,3S*,6S*)]−N−t−ブチル−2−[2−ヒ
ドロキシ−3−ナフチルチオメチル−4−アザ−5−オ
キソ−6−N(キノリン−2−イルカルボニル)アミノ
−7−ベンジルオキシカルボニル]ヘプチルベンズアミ
ド;
【0044】[2R−(2R*,3S*,6S*)]−N
−t−ブチル−2−[2−ヒドロキシ−3−フェニルメ
チル−4−アザ−5−オキソ−6−N(フェニル)アミ
ノ−7−ベンジルオキシカルボニル]ヘプチルベンズア
ミド;[2R−(2R*,3S*,6S*)]−N−t−
ブチル−2−[2−ヒドロキシ−3−フェニルメチル−
4−アザ−5−オキソ−6−N(ピリジン−2−イルメ
チル)アミノ−7−ベンジルオキシカルボニル]ヘプチ
ルベンズアミド;[2R−(2R*,3S*,6S*)]
−N−t−ブチル−2−[2−ヒドロキシ−3−フェニ
ルメチル−4−アザ−5−オキソ−6−N(ナフタリン
−2−イルカルボニル)アミノ−7−(ピリジン−2−
イルメトキシカルボニル)]ヘプチルベンズアミド;
[2R−(2R*,3S*,6S*)]−N−t−ブチル
−2−[2−ヒドロキシ−3−フェニルチオメチル−4
−アザ−5−オキソ−6−N(キノリン−2−イルカル
ボニル)アミノ−7−(ピリジン−2−イルメトキシカ
ルボニル)]ヘプチルベンズアミド;[2R−(2R
*,3S*,6S*)]−N−t−ブチル−2−[2−ヒ
ドロキシ−3−フェニルメチル−4−アザ−5−オキソ
−6−N(キノリン−2−イルメチル)アミノ−7−
(ピリジン−2−イルメトキシカルボニル)]ヘプチル
ベンズアミド;
【0045】[2R−(2R*,3S*,6S*)]−N
−t−ブチル−2−[2−ヒドロキシ−3−フェニルメ
チル−4−アザ−5−オキソ−6−N(キノリン−2−
イルカルボニル)アミノ−7−(ピリジン−3−イルメ
トキシカルボニル)]ヘプチルベンズアミド;[2R−
(2R*,3S*,6R*)]−N−t−ブチル−2−
[2−ヒドロキシ−3−フェニルチオメチル−4−アザ
−5−オキソ−6−N(キノリン−2−イルカルボニ
ル)アミノ−7−アミノスルホニル]ヘプチルベンズア
ミド;[2R−(2R*,3S*,6R*)]−N−t−
ブチル−2−[2−ヒドロキシ−3−ナフタリン−2−
イルメチル−4−アザ−5−オキソ−6−N(キノリン
−2−イルカルボニル)アミノ−7−アミノスルホニ
ル]ヘプチルベンズアミド;[2R−(2R*,3S*,
6R*)]−N−t−ブチル−2−[2−ヒドロキシ-3-フ
ェニルチオメチル-4-アザ-5-オキソ-6-N(ピリジン-2-イルカルボニル)アミノ-7-アミノスル
ホニル]ヘプチルベンズアミド;[2R-(2R*,3S*,6R*)]−N−t
−ブチル−2−[2−ヒドロキシ−3−フェニルメチル
−4−アザ−5−オキソ−6−N(ベンジルオキシカル
ボニル)アミノ−7−アミノスルホニル]ヘプチルベン
ズアミド;またはその医薬的に許容し得る塩。
【0046】本発明の化合物またはその前駆体は当業者
に知られた操作を用いて製造できる。より具体的には、
式Iで示される化合物は下記反応式Iに示した操作に従
って製造しうる。
【化6】 [式中、R、R1、R2、R3a、X1およびYは式Iにお
けると同意義であり;Rbはアミノ保護基である]
【0047】上記反応式Iは反応1〜7を順次実施する
ことで達成される。反応終了後、中間体化合物は所望な
ら、当分野の操作によって単離しうる;例えば化合物を
結晶化して濾取するか、または反応溶媒を抽出、蒸発ま
たはデカンテーションによって除去しうる。所望なら、
中間体化合物は結晶化またはシリカゲルまたはアルミナ
のような固体の担体上のクロマトグラフィーのような通
常の技術によって反応式の次段を実施する前にさらに精
製しうる。
【0048】反応式I.1では、反応は典型的には適当
に置換したアリール、ヘテロ環または不飽和ヘテロ環カ
ルボン酸を塩化チオニル、臭化チオニル、三塩化燐、三
臭化燐、五臭化燐または五塩化燐と当業者によく知られ
る操作に従い、条件下に対応する塩化アシルまたは臭化
アシルに変換即ち活性化することによって実施する。適
当なアリール、ヘテロ環または不飽和ヘテロ環カルボン
酸化合物は商業的に入手可能であるか、当技術分野で知
られた操作で製造できる。
【0049】反応I.2では、反応I.1で製造した塩
化アシルまたは臭化アシルとアンモニアまたは式
【化7】 [式中、R4、R5、R6およびpは式Iにおけると同意
義である]で示される一級または二級アミンとを非極性
非プロトン溶媒または混合溶媒中で酸捕捉剤の存在また
は不在下に反応させて対応するアミドを得る。この反応
は約−20℃から約25℃の温度で実施する。この反応
用に典型的な溶媒は好ましくはジエチルエーテル、クロ
ロホルムまたは塩化メチレンのようなエ−テルおよび塩
素化炭化水素を含む。好ましくは、この反応は好ましく
は三級アミンのような酸捕捉剤の存在下に実施するが、
トリエチルアミンは好ましい。
【0050】反応I.3では、反応I.2で製造したア
ミドを溶解剤の存在下に強塩基と反応させて対応するア
ニオンを得、次にこれを反応I.4でWeinrebア
ミドと反応させてケトンを得る。反応I.3は非極性溶
媒中で約−78℃から約0℃の温度で実施する。反応
I.3で用いる典型的な塩基はリチウムアミド塩基およ
びアルキルリチウム塩基、好ましくはC1〜C4アルキル
リチウム塩基およびリチウムジ(C1〜C4)アルキルア
ミド塩基を含む。反応I.3用の典型的な溶解剤はテト
ラメチル(C1〜C4)アルキレンジアミン、好ましくは
テトラメチルエチレンジアミンである。反応I.4は非
極性溶媒中で約−80℃から約−40℃の温度で実施す
る。反応I.3およびI.4のための典型的な溶媒はエ
ーテル、好ましくはテトラヒドロフランを含む。反応
I.4では、アニオンは一般にWeinrebアミド反
応剤に対して約等モル比から約3モル過剰のアニオンに
わたる範囲の量、好ましくは約2モル過剰のアニオンを
用いる。
【0051】反応I.5では、反応I.3で製造したケ
トンを適当な還元剤を用いて対応するアルコールに還元
する。この反応はプロトン溶媒中で約−25℃から約2
5℃の温度で実施する。この反応用の典型的な還元剤は
水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素
化ジイソブチルアルミニウムおよび水素化ビス(2−メ
トキシエトキシ)アルミニウムナトリウムを含む。好適
な還元剤は水素化ホウ素ナトリウムである。この反応の
ための典型的なプロトン溶媒はアルコール、好ましくは
エタノールを含む。
【0052】反応I.6は当業者によく知られた操作と
方法を用いる標準的アミノ脱保護反応であり、対応する
アミンを与える。
【0053】反応I.7は反応I.6で製造したアミン
と式
【化8】R−X−CO−NH−CH(R2)−COOH [式中、R、XおよびR2は式Iにおけると同意義であ
る]で示される化合物とを非プロトン溶媒または混合溶
媒中で反応させることにより実施する通常にペプチドの
合成で採用する標準的な結合反応である。この反応は促
進剤の存在または不在下、好ましくは促進剤の存在下お
よび結合剤の存在下に実施する。この反応のための典型
的な非プロトン溶媒はテトラヒドロフランとジメチルホ
ルムアミド、好ましくはこれらの溶媒の混合物である。
反応は約−30℃から約25℃の温度で実施する。アミ
ン反応剤は一般にカルボン酸反応剤に対して等モル比を
結合剤等モル量から少過剰量の存在下に用いる。典型的
な結合剤はジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)
およびN,N’−ジエチルカルボジイミドのようなカル
ボジイミド;カルボニルジイミダゾールのようなイミダ
ゾール;ならびにビス(2−オキソ−3−オキサゾリジ
ニル)ホスフィン酸塩化物(BOP−Cl)またはN−
エトキシカルボニル−2−エトキシ−1,2−ジヒドロ
キノリン(EEDQ)のような試薬を含む。この反応の
ために好適な結合試薬はDCCである。好ましくはこの
反応には促進剤を加える;好適な促進剤はヒドロキシベ
ンゾトリアゾール水和物(HOBT・H2O)である。
【0054】式Iで示される化合物は下記反応式IIに
示す操作に従っても製造できる。
【化9】 [式中、R、R1、R2、R3b、Rb、X1およびYは前
記と同意義である]
【0055】反応式IIは反応1〜8を順次実施するこ
とで達成される。反応終了後、中間体化合物は所望な
ら、当分野で知られた操作によって単離しうる;例えば
化合物を結晶化して濾取するか、または反応溶媒を抽
出、蒸発またはデカンテーションによって除去しうる。
所望なら、中間体は結晶化またはシリカゲルまたはアル
ミナのような固体の担体上のクロマトグラフィーのよう
な通常の技術によって反応式の次段を実施する前にさら
に精製しうる。
【0056】反応II.1では、適当に置換されたアリ
ール、ヘテロ環または不飽和ヘテロ環アミンを当分野で
知られるアミノ保護基用の標準的な条件下に保護する。
反応式IIでは反応II.1で導入したアミノ保護基を
除去するのに脱保護反応II.7を追加する必要がある
という例外を除いて反応II.2〜II.6は実質的に
反応式I.3〜I.7について上記したようにして実施
する。この追加は当分野で知られた操作と方法を用いる
標準的アミノ脱保護反応である。例えば、反応式II.
1に示したt−Boc基は強酸、好ましくはトリフルオ
ロ酢酸を用いて除去しうる。
【0057】反応II.8では、式示した中間体を適当
なアシルハロゲン化物、イソシアネートまたはクロロホ
ーメートで、好ましくは三級アミンのような酸捕捉剤の
存在下にアシル化するが、トリエチルアミンは好まし
い。反応は約−20℃から約25℃の温度で実施する。
この反応のための典型的な溶媒はエ−テルおよび塩素化
炭化水素、好ましくはジエチルエーテル、クロロホルム
または塩化メチレンを含む。
【0058】反応I.4およびII.3での反応剤とし
て用いるWeinrebアミドはアミノ保護アミノ酸と
N−メトキシ−N−メチルアミンとを促進剤、酸捕捉剤
および結合剤の存在下に反応させて製造する。反応は非
プロトン溶媒または混合溶媒中で約−25℃から25℃
の温度で実施する。この反応のための好適な促進剤はH
OBT・H2Oである。好適な酸捕捉剤は三級アルキル
アミン、好ましくはトリエチルアミンまたはN−メチル
モルホリンである。好適な結合剤はエチルジメチルアミ
ノプロピルカルボジイミド塩酸塩である。この反応で得
られるWeinrebアミドは反応式I.4およびI
I.3で使う前に単離するのが好ましい。
【0059】Rが構造−S−R1xを持つ基であるWe
inrebアミドはアミノ保護セリンとトリフェニルホ
スフィンとアゾジカルボン酸ジエチル(DEAD)また
はアゾジカルボン酸ジメチル(DMAD)とを非プロト
ン溶媒中で約−80℃から0℃の温度で反応させて対応
するβ−ラクトン化合物を形成して製造することができ
る。この反応を達成するために使うことができる典型的
な溶媒はテトラヒドロフランのようなエーテルを含む。
得られるラクトン化合物は次に構造−S−R1を持つ適
当に置換したチオアニオンとの反応で開環して式:
【化10】 [式中、R1およびRbは前記と同意義である]で示され
るカルボン酸化合物を得る。
【0060】チオアニオン化合物は対応するチオールを
水素化ナトリウムまたは水素化カリウムのような強塩基
と反応して形成するのが好ましい。この反応は典型的に
は非プロトン溶媒中で約0℃から約40℃の温度で窒素
のような不活性気体中で実施する。この反応のための典
型的な溶媒はエーテル、好ましくはテトラヒドロフラン
を含む。得られるカルボン酸化合物を次にN−メトキシ
−N−メチルアミンと促進剤、酸捕捉剤および結合剤の
存在下に、好ましくは乳化剤の存在下に非プロトン溶媒
または混合溶媒中で約−25℃から25℃の温度で反応
させる。この反応のための好適な促進剤はHOBT・H
2Oである。好適な酸捕捉剤は三級アルキルアミン、好
ましくはトリエチルアミンまたはN−メチルモルホリン
である。好適な結合剤はエチルジメチルアミノプロピル
カルボジイミド塩酸塩である。この反応で得られるWe
inrebアミドは反応I.4およびII.3で用いる
前に単離するのが好ましい。
【0061】反応式I.7およびII.6に記載した結
合反応に用いるカルボン酸反応剤で商業的に入手できな
いものは当業者に知られた操作を用いて製造される。
【0062】他に、式Iで示される化合物は構造
【化11】Rb−NH−CH(R2)−COOH [式中、R2およびRbは前記と同意義である]を持つ化
合物と反応I.6で単離した化合物とを実質的に反応
I.7に詳述した操作に従って結合し、続いて脱保護反
応および次にアシル化または式R−X1−COOH[式
中、RとX1は式Iでのものと同意義である]で示され
る化合物との別の結合反応により得ることができる。こ
の第2の結合反応は反応I.7に詳記した操作に実質的
に従って実施する。
【0063】加えるに、R2が構造−(CH2m−CO
−NR2b2c[式中、m、R2bおよびR2cは前記と同意
義である]を持つ式Iで示される化合物は第一に反応
I.6またはII.7から単離したアミンと式
【化12】 Rb-NH-CH(COOH)-(CH2m-COOR2z [式中、R2zはカルボキシ保護基;Rbおよびmは前記
と同意義である]で示される化合物とを結合して製造す
ることができる。
【0064】カルボキシ保護基を次に除去し、得られる
化合物を式H−NR2b2cで示される適当に置換したア
ミン反応剤とを実質的に反応I.7に詳記した操作に従
って反応させる。この反応のために好適な溶媒はテトラ
ヒドロフランとジメチルホルムアミドとの混合物であ
る。この反応のために好適な結合剤はDCCである。好
適な促進剤はHOBT・H2Oである。次に得られた化
合物のアミノ保護基を当分野で知られた操作と方法に従
って除去して対応するアミンを得、これは前記の操作に
従ってアシル化またはスルホニル化しうる。
【0065】アシル化は適当なアシルハライド、イソシ
アネートまたはクロロホーメートで、好ましくは三級ア
ミンのような酸捕捉剤の存在下に実施することができる
が、トリエチルアミンは好ましい。このアシル化反応は
約−20℃から約25℃の温度で実施する。この反応の
ための典型的な溶媒はエーテルと塩素化炭化水素、好ま
しくはジエチルエーテル、クロロホルムまたは塩化メチ
レンを含む。第二の結合反応は反応I.7に実質的に従
って実施する。
【0066】前記方法を行うに当り、二次的な反応が起
きることを防ぐために反応剤に化学的保護基を導入する
のが望ましいこともあるのは理解されるであろう。反応
剤にあるどのアミン、アルキルアミンまたはカルボキシ
基も分子内の別部分が所期の様式で反応する能力に悪影
響しないようなどの標準的なアミノまたはカルボキシ保
護基を用いても保護しうる。好適なアミノ−保護基はt
−BocおよびCbzである。好適なカルボキシ保護基
はベンズヒドリル、アリルまたはベンジルである。種々
の保護基は次に同時にまたは順次に当分野で知られる方
法を用いて除去しうる。
【0067】前記のように、全ての不斉型、各異性体お
よびこれらの結合はこの発明の部分であると考えられ
る。そのような異性体は各々の前駆体から前記操作によ
り、ラセミ混合物の分割により、またはジアステレオマ
ーの分離により製造しうる。分割は分割剤の存在下に、
クロマトグラフィーにより、反復再結晶により、または
これら当分野で知られた技術の組合せにより実施するこ
とができる。分割に関してはさらに詳細にJacque
sなど、Enantiomers・Racemate
s,and・Resolutions、John・Wi
ley・&・Sons、1981に見出される。
【0068】この発明の化合物の合成における最初の出
発物質として採用する化合物は公知であり、商業的に入
手できないものは当分野で知られた操作により合成する
ことができる。
【0069】本発明の医薬的に許容し得る塩は典型的に
は式Iで示される化合物と等モルまたは過剰量の酸また
は塩基とを反応させることにより形成される。反応剤は
一般に酸付加塩にはジエチルエーテルまたはベンゼン、
また塩基付加塩には水またはアルコールのような相互の
溶媒中で混合する。塩は通常は溶液から約1時間から約
10日間内に析出し、濾過または他の常法により単離で
きる。
【0070】
【実施例】以下の製造例と実施例は本発明の具体的な側
面をさらに説明する。けれども、これらの実施例は単な
る例示的な目的のために本明細書に含まれ、この発明の
範囲を如何なる意味でも限定することを意図したもので
はなく、そのように解釈すべきではないことを理解すべ
きである。
【0071】以下の製造例および実施例において、融
点、核磁気共鳴、電子衝突質量スペクトル術、電界脱離
スペクトル術、高速原子衝撃スペクトル術、赤外線スペ
クトル術、紫外線スペクトル術などのスペクトル、元素
分析、高速液体クロマトグラフィーおよび薄層クロマト
グラフィーの用語は「m.p.」、「NMR」、「EI
MS」、「MS(FD)」、「MS(FAB)」、「I
R」、「UV」、「分析」、「HPLC」および「TL
C」と略記する。加えるに、IRスペクトルに列挙した
吸収極大は関心あるもののみであり、観察した極大値全
部ではない。
【0072】NMRスペクトルに関し、以下の略号を用
いた。「s」はシングレット、「d」はダブレット、
「dd」はダブレットのダブレット、「t」はトリプレ
ット、「q」はカルテット、「m」はマルチプレット、
「dm」はマルチプレットのダブレットで、「br.
s」、「br.d」、「br.t」および「br.m」
は各々広いシングレット、ダブレット、トリプレットお
よびマルチプレットである。「J」は結合定数をヘルツ
(Hz)で示す。特に指定しない限り、NMRデータは
対象化合物の遊離塩基の値である。
【0073】核磁気共鳴スペクトルはBrueker社
の270MHz装置またはGeneral・Elect
ricのQE−300、300MHz装置で得た。化学
シフトはデルタ(δ)値(テトラメチルシランから低磁
場に向かってppm)で表した。MS(FD)スペクト
ルはVarian−MAT731スペクトロメーターで
炭素デンドライトエミッタを用いて測定した。EIMS
スペクトルはConsolidated・Electr
odynamics・CorporationのCEC
・21−110装置で測定した。MS(FAB)スペク
トルはVG・ZAB−3スペクトロメーターで測定し
た。IRスペクトルはPerkin−Elmerの28
1装置で得た。紫外線スペクトルはCaryの118装
置で得た。HPLC分析はC18・Nova−Pakカ
ラムを用い、アセトニトリル/0.5%燐酸二水素アン
モニウム(水)を流速1.0mL/分でUVの254n
mを監視して得た。保持時間は分で表示した。TLCは
E.Merck社のシリカゲル板で行った。融点は未補
正である。
【0074】製造例1 A.N−t−ブチル−2−メチルベンズアミド 塩化o−トルイル139.2g(0.9モル)の塩化メ
チレン1200mL冷(0℃)溶液に25℃で窒素中で
トリエチルアミン180.0g(1.8モル)を徐々に
加え、続いてt−ブチルアミン73.14g(1.0モ
ル)を含む塩化メチレン200mL溶液を滴加した。得
られた反応混合物を室温に温め、2.5時間反応させ
た。反応混合物を次に水1800mLで薄めた。生じた
層を分離して有機層を2N−水酸化ナトリウム、1.0
N−塩酸と食塩水で順次に洗い、硫酸マグネシウムで乾
燥し、濾過し、次に減圧濃縮乾固して灰白色の固体16
7.6gを得た。(mp.77〜78℃)。収率97
%。1 H−NMR(CDCl3):δ1.41(s,9H),
2.41(s,3H),5.54(br.s,1H),
7.13〜7.30(m,4H)。 IR(CHCl3):3430,3011,2971,
2932,1661,1510,1484,1452,
1393,1366,1304,1216,876cm
-1。 MS(FD):m/e191(M+),191(10
0)。 分析:C1217NOとして計算値:C,75.35;
H,8.76;N,7.32。実験値:C,75.1
0;H,9.11;N,7.20。
【0075】B.(S)−N−t−ブチル−2−(3−
(N−ベンジルオキシカルボニル)アミノ−2−オキソ
−4−フェニルブチル)ベンズアミド 製造例1Aの標記中間体7.0g(36.5ミリモル)
の無水テトラヒドロフラン200mL溶液にN,N,
N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン(TMED
A)12.1mL(80.3ミリモル)を注射筒から加
えた。得られた溶液を−78℃に冷却し、次に二級−ブ
チルリチウム55.9mLを注射筒から反応温度を−6
0℃以下に保ちながら滴加した。得られた反応液を次に
−78℃で約1時間撹拌後、(S)−N−メトキシ−N
−メチル−2−(N−フェニルメチルオキシカルボニ
ル)アミノ−3−フェニルプロパンアミド5.00g
(14.6ミリモル)を含む無水テトラヒドロフラン5
0mL溶液を反応温度を−65℃以下に保ちながらカヌ
ーレから加えた。得られる反応混合物を−20℃に温
め、飽和塩化アンモニウム20mLを用いて反応を止
め、次にジエチルエーテル200mLで希釈した。生じ
た層を分離して有機層を水、0.2N−硫酸水素ナトリ
ウムと食塩水で順次に洗い、硫酸ナトリウムで乾燥し、
濾過し、次に減圧濃縮乾固して無色の油を得た。この油
をフラッシュクロマトグラフィー(塩化メチレン中25
%酢酸エチル溶出液)を用いて精製して無色泡状物6.
08gを得た。収率88%。[α]D−289.26°
(c=0.12、MeOH)。1 H−NMR(CDCl3):δ1.38(s,9H),
2.99(dd,J=15;6Hz,1H),3.24
(dd,J=15;6Hz,1H),3.89(d,J
=18Hz,1H),4.16(d.J=18Hz,1
H),4.72(dd,J=15;6Hz,1H),
5.00〜5.09(m,2H),5.56(d,J=
6Hz,1H),5.93(br.s,1H),7.0
3〜7.40(m,14H)。 IR(CHCl3):3431,3027,3012,
2973,1713,1658,1511,1454,
1383,1366,1307,1231,1046c
-1。 MS(FD):m/e472(M+),218(10
0)。 分析:C293224として計算値:C,73.70;
H,6.82;N,5.93。実験値:C,73.4
1;H,6.98;N,5.83。
【0076】C.[2R−(2R*,3S*)]−N−t
−ブチル−2−(3−(N−ベンジルオキシカルボニ
ル)アミノ−2−ヒドロキシ−4−フェニルブチル)ベ
ンズアミド 製造例1Bの標記中間体6.96g(14.7ミリモ
ル)の無水エタノール200mL溶液に窒素中水素化ホ
ウ素ナトリム2.78g(73.5ミリモル)を加え
た。反応が薄層クロマトグラフィー(TLC)が示した
通り実質的に完了した時、反応混合物を酢酸エチル20
0mLで薄め、飽和塩化アンモニウム20mLを滴加し
て反応を止めた。生じた層を分離して有機層を1N−塩
酸、飽和炭酸水素ナトリウム溶液と食塩水で順次洗い、
硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次に減圧濃縮乾固し
て無色の油6.4gを得た。この油をフラッシュクロマ
トグラフィー(溶出液酢酸エチル中2〜10%塩化メチ
レン勾配)を用いて精製して主生成物として所期のジア
ステレオマー5.12gを得た。収率74%。 [α]D+10.38°(c=0.10、MeOH)。1 H−NMR(CDCl3):δ1.40(s,9H),
2.79(dd,J=12;3Hz,1H),2.90
〜2.98(m,2H),3.04(dd,J=12;
3Hz,1H),3.70〜3.81(m,1H),
3.97(m,1H),4.96〜5.08(m,2
H),5.10(d,J=9Hz,1H),5.88
(d,J=6Hz,1H),5.93(s,1H),
7.13〜7.42(m,14H)。 IR(CHCl3):3431,3028,3012,
2971,1773,1643,1515,1454,1367,1229,1028
cm-1。 MS(FD):m/e475(M+),475(10
0)。 分析:C293424として計算値:C,73.39;
H,7.22;N,5.99。実験値:C,73.1
2;H,7.48;N,5.62。
【0077】D.[2R−(2R*,3S*)]−N−t
−ブチル−2−(3−アミノ−2−ヒドロキシ−4−フ
ェニルブチル)ベンズアミド 製造例1Cの標記中間体41.0g(120ミリモル)
と10%パラジウム炭500mgを含む無水エタノール
150mL中の懸濁液を調製した。この懸濁液をパール
振とう装置中で60psiの水素中で振とうした。次に
10%パラジウム炭を濾去した。得られた濾液を減圧濃
縮乾固して所期の標記中間体31.1gを明黄色の泡状
物として得た。この泡状物をさらに精製することなく使
用した。収率96%。 [α]D+34.68°(c=1.0、MeOH)。1 H−NMR(CDCl3):δ1.46(s,9H),
2.71(dd,J=13.7;9.5Hz,1H),
2.84(dd,J=13.3;2.51Hz,1
H),2.95〜3.06(m,2H),3.23〜
3.29(m,1H),3.84〜3.90(m,1
H),6.23(s,1H),7.19〜7.37
(m,12H)。 IR(CHCl3):3440,3382,3007,
2970,2934,1643,1516,1454,
1367,1213cm-1。 MS(FD):m/e341(M+),341(10
0)。
【0078】製造例2 1−ナフタレンメチルイソシア
ネート 1−ナフタレンメチルアミン0.400g(2.55ミ
リモル)とトリエチルアミン0.88mL(6.37ミ
リモル)のトルエン30mL溶液を撹拌しながらトリホ
スゲン0.250g(8.42ミリモル)のトルエン2
0mL溶液に60℃で加えた。添加完了後、反応物を約
15時間還流し、25℃に冷却し、セライトを通して濾
過した。濾液を次に減圧濃縮して粘い油100mgを得
た。収率:21%。
【0079】製造例3 2−メチル−1,2,3,4−
テトラヒドロイソキノリン−3−カルボン酸 3−カルボキシ−1,2,3,4−テトラヒドロイソキ
ノリン0.364g(2.07ミリモル)のギ酸25m
L溶液を37%ホルムアルデヒド2.5mLと混合し
た。得られた混合物を約17時間還流した。冷後、混合
物を減圧濃縮してゴム状物を得た。このゴム状物を水
3.0mLにとかし、塩酸を用いてpH2とし、次にイ
オン交換クロマトグラフィー(Dowex・50x−
8、100メッシュカチオン)を用いて精製して黄色粉
末0.21gを得た。収率:53%。1 H−NMR(DMSO−d6):δ2.56(s,3
H),3.01(m,2H),3.48(t,1H),
3.9(dd,2H),7.05(m,1H),7.1
3(m,3H)。 MS(FD):m/e192(M+)。
【0080】製造例4 A.2−アミノ−3−シアノプロパン酸ベンズヒドリル 2−アミノ−3−シアノプロパン酸0.9699g
(8.55ミリモル)の水6.0mL溶液に25℃でト
ルエンスルホン酸1.61g(8.5ミリモル)を加え
た。得られた混合物を約10分間激しく撹拌した。反応
混合物をジエチルエーテルとかきまぜて固体を得た。こ
の固体を濾過と冷ジエチルエーテル洗浄で精製して無色
固体2.59gを得た。この固体を次にメタノール/ア
セトニトリルの5:3混合物40mLに再溶解し、ジフ
ェニルジアゾメタン3.3g(17.0ミリモル)と3
5℃で処理した。得られた反応混合物を酢酸を用いて反
応を止め、原容積の半分まで減圧濃縮し、ジエチルエー
テルとかきまぜ、濾過して固体を得た。この固体を単離
し、酢酸エチルと水の混合物に再溶解し、次に飽和炭酸
水素ナトリウムで洗った。有機層と水層を分離し、有機
層を硫酸ナトリウムで乾燥、濾過、減圧濃縮して僅かに
着色した泡状物1.9gを得た。収率79%。 MS(FD):m/e281(M+1)。 分析:C171622として計算値:C,72.84;
H,5.75;N,9.99。実験値:C,72.6
1;H,5.79;N,9.93。
【0081】B.2−イソシアナト−3−シアノプロパ
ン酸ベンズヒドリル 所期の標記化合物を実質的に製造例2に詳記した操作に
従って製造し、製造例4Aの標記化合物1.0g(0.
678ミリモル)、トリホスゲン0.802g(0.2
71ミリモル)、トリエチルアミン2.35mL(1.
69ミリモル)をトルエン200mL中で用いて僅かに
着色した油1.53gを得た。収率73%。 MS(FD):m/e339(M+・CH3OH)。
【0082】C.2−シアノメチル−3−アザ−4−オ
キソ−5−N−メチルアザ−6−キノリン−2−イルヘ
キサン酸ベンズヒドリル 製造例4Bの標記化合物1.53g(0.5ミリモル)
の塩化メチレン40mL溶液にN−メチル−2−ナフタ
レンメチルアミン0.86g(0.5ミリモル)を窒素
中23℃で加えた。得られた反応混合物を約17時間反
応させた。反応混合物を減圧乾固して泡状物を得た。こ
の泡状物をクロマトグラフィー(シリカゲル、クロロホ
ルム溶出液)を用いて精製して帯黄色泡状物1.32g
を得た。収率:55%。1 H−NMR(CDCl3):δ3.03(s,3H),
3.15(t,2H),4.7(m,2H),4.82
(m,1H),6.98(s,1H),7.23〜7.
4(m,10H),7.54(t,1H),7.7
(t,1H),7.82(d,1H),8.07(d,
1H),8.15(d,1H)。 MS(FD):m/e481(M+3)。 分析:C292643として計算値:C,72.79;
H,5.48;N,11.71。実験値:C,72.5
1;H,5.76;N,11.67。 HPLC(1:1アセトニトリル/0.5%燐酸二水素
アンモニウム):tR=3.34。
【0083】D.2−シアノメチル−3−アザ−4−オ
キソ−5−N−メチルアザ−6−キノリン−2−イルヘ
キサン酸 製造例4Cの標記化合物0.600g(1.25ミリモ
ル)のメタノール10mL溶液に5%パラジウム炭0.
06gおよびギ酸アンモニウム0.84g(1.25ミ
リモル)を加えた。反応混合物を60℃で約4時間反応
させた。得られた混合物を次にセライトを通して濾過し
た後、冷却した。濾液を次に減圧濃縮して泡状物を得
た。この泡状物を酢酸エチルと水の混合物に再溶解し、
飽和炭酸水素ナトリウムで洗った。有機および水層を分
離し、水層を2.0M−硫酸水素ナトリウム溶液を用い
てpH6に酸性化し、次に温酢酸エチルを用いて3回抽
出した。これらの有機部分を集め、硫酸ナトリウム上乾
燥し、濾過し、次に減圧濃縮して無色の泡状物0.37
4gを得た。収率:96%。1 H−NMR(DMSO−d6):δ2.85(s,3
H),2.97(m,2H),4.4(m,1H),
4.62(m,2H),7.28(d,1H),7.3
6(d,1H),7.55(t,1H),7.72
(t,1H),7.96(dd,2H),8.31
(d,1H)。 MS(FD):m/e313(M+1)。
【0084】製造例5 2−t−ブトキシカルボニル−
1,2,3,4−テトラヒドロイソキノリン−7−カル
ボン酸 1,2,3,4−テトラヒドロイソキノリン−7−カル
ボン酸0.051g(0.282ミリモル)の飽和炭酸
水素ナトリウム溶液とジオキサンの1:1混合物4mL
の溶液にt−ブトキシカルボニル無水物0.067g
(0.31ミリモル)を20℃で加えた。得られた反応
混合物を約17時間反応させた。反応混合物を次に減圧
濃縮して残渣を得た。この残渣を酢酸エチルで希釈し、
硫酸水素ナトリウムを用いてpH4に酸性化した。有機
層お呼び水層を分離し、有機層を食塩水で洗い、硫酸ナ
トリウムで乾燥し、濾過し、次に減圧濃縮して流動性の
無色の油0.056gを得た。収率:72%。1 H−NMR(CDCl3):δ1.51(s,9H),
2.92(br.m,2H),3.7(br.m,2
H),4.65(s,2H),7.24(d,1H),
7.91(m,3H)。
【0085】製造例6 キナルジン酸ペンタフルオロフ
ェニルエステル キナルジン酸15.0g(86.6ミリモル)のテトラ
ヒドロフラン200mL溶液にペンタフルオロフェノー
ル20.8g(113ミリモル)を一度に加えた。得ら
れた反応混合物を室温で約2時間反応させ、その間にゴ
ム状の沈殿がフラスコの底に生じた。このゴムをデカン
テーションで取り、塩化メチレンに溶かし、ヘキサンで
薄め、0.1N−硫酸水素ナトリウム、1N−炭酸カリ
ウムおよび食塩水で順次洗い、硫酸ナトリウムで乾燥
し、濾過し、次に減圧濃縮して淡ピンク色の固体を得
た。この固体を温ジエチルエーテル30mLと温ヘキサ
ン400mLから再結晶して精製して所期の標記中間体
21.6gを無色の針状晶として得た。収率:73%。1 H−NMR(CDCl3):δ7.73(t,J=7.
5Hz,1H),7.86(t,J=7.9Hz,1
H),7.95(d,J=8.2Hz,1H),8.2
9〜8.42(m,3H)。 IR(CHCl3):3035,2997,1763,
1522,1285,1068,998,842c
-1。 分析:C166NO25として計算値:C,56.6
5;H,1.78;N,4.13。実験値:C,56.
66;H,1.77;N,4.12。
【0086】実施例1 A.(S)−2−N−(ベンジルオキシカルボニル)ア
ミノ−3−シアノプロパン酸 (L)−2−アミノ−3−シアノプロパン酸0.25g
(2.2ミリモル)のジオキサンと飽和炭酸水素ナトリ
ウム溶液の1:1混合物14mL冷(0℃)懸濁液に塩
化ベンジルオキシカルボニル0.34mL(0.24ミ
リモル)を窒素中で加えた。得られる反応混合物を約1
7時間反応させた。反応混合物を減圧濃縮して残渣を得
た。この残渣を酢酸エチルで再希釈し、硫酸水素ナトリ
ウムを用いてpH3.0に酸性化した。有機層および水
層を分離し、有機層を食塩水で洗い、硫酸ナトリウムで
乾燥し、濾過し、次に減圧濃縮して僅かに着色した油4
80mgを得た。収率:88%。
【0087】B.[2R−(2R*,3S*,6S*)]
−N−t−ブチル−2−[2−ヒドロ キシ−3−フェニ
ルメチル−4−アザ−5−オキソ−6−N(ベンジルオ
キシカルボニル)−7−シアノ]ヘプチルベンズアミド 製造例IDの標記中間体0.569g(1.75ミリモ
ル)の溶液をヒドロキシベンゾトリアゾール水和物(H
OBT・H2O)0.248g(1.83ミリモル)、
実施例1Aの標記化合物0.480g(1.93ミリモ
ル)およびジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)
0.378g(1.83ミリモル)と順次に0℃で窒素
中で混合した。得られた反応混合物を徐々に室温まで温
め、約17時間反応させた。反応混合物を濾過し、得ら
れた濾液を酢酸エチルで薄め、飽和炭酸水素ナトリウ
ム、硫酸水素ナトリウムと食塩水溶液で順次に洗った。
有機層と水層を分離し、有機層を硫酸ナトリウムで乾
燥、濾過、次に濃縮して泡状物を得た。この泡状物をク
ロマトグラフィー(二酸化ケイ素、溶出液クロロホルム
中3%メタノール)で精製して無色泡状物0.610g
を得た。収率:55%。 1 H−NMR(CDCl3):δ1.42(s,9H),
2.7〜3.0(m,6H),3.8(m,1H),
4.35(m,1H),5.1(m,3H),5.9
(s,1H),6.58(d,1H),7.05〜7.
22(m,14H)。MS(FD):m/e573(M
+2)。 分析:C333845として計算値:C,69.45;
H,6.71;N,9.82。実験値:C,69.3
4;H,6.78;N,9.85。 HPLC(1:1アセトニトリル/0.5%燐酸二水素
アンモニウム):tR=2.47。
【0088】C.[2R−(2R*,3S*,6S*)]
−N−t−ブチル−2−[2−ヒドロ キシ−3−フェニ
ルメチル−4−アザ−5−オキソ−6−アミノ−7−シ
アノ]ヘプチルベンズアミド 所期の標記中間体を製造例1Dに詳記した操作に実質的
に従って実施例1Bの標記化合物0.59g(1.03
ミリモル)および5%パラジウム炭0.07gを無水エ
タノール100mL中で用いて無色泡状物0.27gを
製造した。収率:59%。MS(FD):m/e437
(M+1)。
【0089】D.[2R−(2R*,3S*,6S*)]
−N−t−ブチル−2−[2−ヒドロ キシ−3−フェニ
ルメチル−4,7,9−トリアザ−5,8−ジオキソ−
6−シアノメチル−10−ナフタリン−1−イル]デシ
ルベンズアミド 実施例1Cの標記化合物41mg(0.094ミリモ
ル)のテトラヒドロフラン2mL溶液に製造例2からの
標記中間体18mg(0.098ミリモル)を窒素中で
加えて得られた反応混合物を一夜室温で反応させた。反
応がTLCで判定して実質的に完了後、混合物を減圧濃
縮して油を得た。この油をクロマトグラフィー(溶出液
クロロホルム中4%メタノール)を用いて単離して無色
泡状物10mgを得た。収率:17%。1 H−NMR(CDCl3):δ1.46(s,9H),
2.7〜2.83(m,4H),2.87〜3.06
(m,2H),3.78(m,1H),4.3(m,1
H),4.64(m,1H),4.7(br.s,2
H),5.32(br.s,2H),5.99(br.
s,1H),7.0〜7.4(m,16H),7.5
(m,2H),7.78(br.s,1H),7.82
(br.d,1H),7.95(br.d,1H)。 MS(FD):m/e621(M+2)。 HPLC(1:1アセトニトリル/0.5%燐酸二水素
アンモニウム):tR=6.89分。
【0090】実施例2 [2R−(2R*,3S*,6S
*)]−N−t−ブチル−2−[2− ヒドロキシ−3−
フェニルメチル−4,7−ジアザ−5,8−ジオキソ−
6−シアノメチル−8−キノリン−2−イル]オクチル
ベンズアミド 2−カルボキシキノリン25.7mg(0.145ミリ
モル)、実施例1Cの標記化合物57.9mg(0.1
3ミリモル)およびHOBT・H2O18.7mg
(0.138ミリモル)をテトラヒドロフラン3.5m
L中に含む溶液にDCC28.5mg(0.138ミリ
モル)を窒素中で加えた。得られた反応混合物を一夜室
温で反応させて沈殿が生じた。沈殿を濾過で除き、濾液
を減圧濃縮して残渣を得た。この残渣を酢酸エチルに再
溶解し、飽和炭酸水素ナトリウム、硫酸水素ナトリウム
と食塩水溶液で順次洗い、次に減圧濃縮して泡状物を得
た。この泡状物をクロマトグラフィー(溶出液クロロホ
ルム中5%メタノール)を用いて単離して無色の泡状物
51mgを得た。収率:63%。 H−NMR(CDCl3):δ1.48(s,9
H),2.82〜3.13(m,6H),3.46
(m,1H),3.82(m,1H),4.39(m,
1H),6.06(s,1H),6.86(m,1
H),6.99(m,1H),7.01〜7.18
(m,6H),7.69(t,1H),7.85(t,
1H),7.92(d,2H),8.2(d,1H),
8.29(d,1H),8.37(d,1H),8.6
6(d,1H)。 MS(FD):m/e594(M+2),501,37
2,224。 HPLC(1:1アセトニトリル/0.5%燐酸二水素
アンモニウム):tR=7.43分。
【0091】実施例3 [2R−(2R*,3S*,6S
*)]−N−t−ブチル−2−[2− ヒドロキシ−3−
フェニルメチル−4,7−ジアザ−5,8−ジオキソ−
6−シアノメチル−8−(2−メチル−1,2,3,4
−テトラヒドロイソキノリン−3−イル]オクチルベン
ズアミド 所期の標記化合物を実施例2に詳記した操作に実質的に
従って、製造例3の標記中間体41mg(0.21ミリ
モル)、実施例1Cの標記化合物85mg(0.20ミ
リモル)、HOBT・H2O29mg(0.14ミリモ
ル)およびDCC42mg(0.20ミリモル)をジメ
チルホルムアミド7.0mL中で用いて製造し、泡状物
を得た。この泡状物をHPLC(溶出液クロロホルム中
2%メタノール)を用いて精製して所期の標記化合物1
5mgを得た。1 H−NMR(CDCl3):δ1.46(s,9H),
2.82(m,4H),2.99(m,5H),3.7
7(m,1H),4.29(m,1H),4.52(b
r.d,1H),4.63(q,1H),4.76(b
r.d,1H),5.97(d,1H),6.11
(s,1H),6.84(m,1H),6.93(m,
2H),7.08〜7.4(m,8H),7.54
(t,1H),7.73(t,1H),7.84(d,
1H),8.05(d,1H),8.21(d,1
H)。 MS(FD):m/e612(M+2)。 HPLC(40/60アセトニトリル/0.5%燐酸二
水素アンモニウム):tR=11.16分。
【0092】実施例4 [2R−(2R*,3S*,6S
*)]−N−t−ブチル−2−[2− ヒドロキシ−3−
フェニルメチル−4,7−ジアザ−5,8−ジオキソ−
6−シアノメチル−9−N(メチル)アザ−10−キノ
リン−2−イル]デシルベンズアミド 所期の標記化合物を実施例1Bに詳記した操作に実質的
に従って、製造例4Dの標記中間体79.3mg(0.
255ミリモル)、実施例1Dの標記化合物86.7m
g(0.255ミリモル)、HOBT・H2O37.8
mg(0.28ミリモル)およびDCC52.5mg
(0.267ミリモル)をテトラヒドロフラン4mL中
で用いて製造し、無色の泡状物約30mgを得た。この
泡状物をフラッシュクロマトグラフィー(溶出液クロロ
ホルム中2%メタノール)を用いて精製して無色の泡状
物30mgを得た。収率:5%。1 H−NMR(CDCl3):δ1.5(s,9H),
2.7〜3.1(m,1H),3.75(m,1H),
4.3(m,1H),4.52(d,1H),4.64
(m,1H),4.76(d,1H),5.97(d,
1H),6.12(s,1H),6.85(m,1
H),6.9(m,2H),7.1〜7.4(m,9
H),7.55(t,1H),7.73(t,1H),
7.84(d,1H),8.05(d,1H),8.2
1(d,1H)。 MS(FD):m/e637(M+3)。 HPLC(1/1アセトニトリル/0.5%燐酸二水素
アンモニウム):tR=4.18分。
【0093】実施例5 [2R−(2R*,3S*,6S
*)]−N−t−ブチル−2−[2− ヒドロキシ−3−
フェニルメチル−4,7−ジアザ−5,8−ジオキソ−
6−シアノメチル−8−(2−t−ブトキシカルボニル
−1,2,3,4−テトラヒドロイソキノリン−7−イ
ル]オクチルベンズアミド 所期の標記化合物を実施例2に詳記した操作に実質的に
従って、実施例1Cの標記化合物0.09g(0.21
ミリモル)、製造例5の標記中間体0.062g(0.
22ミリモル)、HOBT・H2O0.031g(0.
22ミリモル)およびDCC0.044g(0.21ミ
リモル)をテトラヒドロフラン3.5mL中で用いて製
造し、残渣を得た。この残渣をクロマトグラフィー(シ
リカゲル、溶出液クロロホルム)を用いて精製して無色
の泡状物0.017gを得た。収率:8.3%。1 H−NMR(CDCl3):δ1.49(s,9H),
1.51(s,9H),2.8〜3.11(m,8
H),3.69(m,2H),3.84(m,1H),
4.41(m,1H),4.65(s,2H),4.8
(q,1H),5.92(m,2H),6.65(d,
1H),6.8(d,1H),7.57〜7.1(m,
12H)。 MS(FD):m/e697(M+2)。
【0094】実施例6 [2R−(2R*,3S*,6S
*)]−N−t−ブチル−2−[2− ヒドロキシ−3−
フェニルメチル−4−アザ−5−オキソ−6−N(ベン
ジルオキシカルボニル)アミノ−7−ベンジルオキシカ
ルボニル]ヘプチルベンズアミド 所期の標記化合物を実施例2に詳記した操作に実質的に
従って、2−N−(ベンジルオキシカルボニル)アミノ
−3−ベンジルオキシカルボニルプロパン酸0.25g
(0.70ミリモル)、製造例1Dの標記中間体0.2
4g(0.70ミリモル)、HOBT・H2O0.09
4g(0.70ミリモル)とDCC0.14g(0.7
0ミリモル)を5:1テトラヒドロフラン/ジメチルホ
ルムアミド6mL溶液中で用いて製造し、白色固体約
0.40gを得た。この残渣をフラッシュクロマトグラ
フィー(溶出液メタノール中2.5%塩化メチレン)を
用いて精製して白色固体(mp.56〜58℃)70m
gを得た。収率:14%。1 H−NMR(CDCl3):δ1.50(s,9H),
2.65〜2.80(m,2H),2.90〜3.10
(m,4H),3.70(m,1H),4.25(m,
1H),4.53(m,1H),5.10(m,4
H),5.72(d,J=8Hz,1H),5.99
(br.s,1H),6.67(d,J=9Hz,1
H),7.20〜7.40(m,19H)。 IR(CHCl3):3400,2980,1740,
1680,1520cm-1。UV(EtOH):203
nm(E=51765),318nm(E=146)。 MS(FD):m/e680(M+)。 分析:C404537・H2Oとして計算値:C,6
8.85;H,6.79;N,6.02。実験値:C,
68.61;H,6.50;N,5.73。
【0095】実施例7 A.[2R−(2R*,3S*,6S*)]−N−t−ブ
チル−2−[2−ヒドロ キシ−3−フェニルメチル−4
−アザ−5−オキソ−6−N(t−ブトキシカルボニ
ル)アミノ−7−ベンジルオキシカルボニル]ヘプチル
ベンズアミド 所期の標記化合物を実施例2に詳記した操作に実質的に
従って、(S)−2−N−(t−ブトキシカルボニル)
アミノ−3−ベンジルオキシカルボニルプロパン酸4.
24g(13.1ミリモル)、製造例1Dの標記中間体
4.4g(12.5ミリモル)、HOBT・H2O1.
77g(12.5ミリモル)とDCC2.62g(1
2.5ミリモル)を痕跡量のジメチルホルムアミドを含
むテトラヒドロフラン50mL溶液中で用いて製造し、
無色泡状物を得た。この泡状物をフラッシュクロマトグ
ラフィー(溶出液酢酸エチル中50%ヘキサン)を用い
て精製して無色泡状物4.92gを得た。収率:61
%。
【0096】B.[2R−(2R*,3S*,6S*)]
−N−t−ブチル−2−[2−ヒドロ キシ−3−フェニ
ルメチル−4−アザ−5−オキソ−6−アミノ−7−ベ
ンジルオキシカルボニル]ヘプチルベンズアミド 実施例7Aの標記化合物0.89g(1.38ミリモ
ル)の塩化メチレン50mL冷(0℃)溶液にトリフル
オロ酢酸10mLを加えた。反応がTLCで判定して実
質的に終了した時、反応混合物を減圧濃縮して残渣を得
た。この残渣を希水酸化アンモニウムと酢酸エチルの間
に分配した。得られた層を分離し、有機層を硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、濾過し、減圧濃縮して粘い黄色油を得
た。この油をジエチルエーテルから再結晶して無色結晶
(m.p.152〜153℃)0.62gを得た。収
率:82%。 MS(FD):m/e546(M+)。 分析:C323935として計算値:C,70.44;
H,7.20;N,7.70。実験値:C,70.5
0;H,7.35;N,7.74。
【0097】C.[2R−(2R*,3S*,6S*)]
−N−t−ブチル−2−[2−ヒドロ キシ−3−フェニ
ルメチル−4−アザ−5−オキソ−6−N(キノリン−
2−イルカルボニル)アミノ−7−ベンジルオキシカル
ボニル]ヘプチルベンズアミド 製造例6の標記中間体0.95g(2.8ミリモル)お
よび実施例7Bの標記化合物1.5g(2.8ミリモ
ル)を含む3:1ジオキサン/水混合物100mL溶液
に炭酸水素ナトリウム0.46g(5.5ミリモル)を
加えた。反応がTLCで判定して実質的に終了した時、
反応混合物を減圧濃縮して残渣を得た。この残渣を酢酸
エチル/飽和塩化ナトリウム混合物に再溶解した。得ら
れた層を分離し、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾
過し、減圧濃縮して淡黄色泡状物2.35gを得た。こ
の泡状物をフラッシュクロマトグラフィー(溶出液酢酸
エチル中50%ヘキサン)を用いて精製して無色泡状物
(mp.81〜83℃)1.57gを得た。収率:82
%。1 H−NMR(CDCl3):δ1.48(s,9H),
2.78〜3.12(m,6H),3.71(m,1
H),4.30(m,1H),5.05(m,1H),
5.16(s,2H),5.98(s,1H),6.7
6〜6.85(m,2H),6.92(t,J=9H
z,2H),7.17〜7.43(m,11H),7.
70(t,J=9Hz,1H),7.85(t,J=9
Hz,1H),7.95(d,J=9Hz,1H),
8.18(d,J=9Hz,1H),8.27(d,J
=9Hz,1H),8.39(d,J=9Hz,1
H),9.00(d,J=12Hz,1H)。 分析:C424446・0.5EtOAcとして計算
値:C,70.95;H,6.49;N,7.52。実
験値:C,70.71;H,6.25;N,7.44。
【0098】実施例8 A.[2R−(2R*,3S*,6R*)]−N−t−ブ
チル−2−[2−ヒドロ キシ−3−フェニルメチル−4
−アザ−5−オキソ−6−N−(t−ブトキシカルボニ
ル)アミノ−7−ベンジルオキシカルボニル]ヘプチル
ベンズアミド 所期の標記化合物を実施例2に詳記した操作に実質的に
従って、2−N−(t−ブトキシカルボニル)アミノ−
3−ベンジルオキシカルボニルプロパン酸0.95g
(2.9ミリモル)、製造例1Dの標記中間体1.0g
(2.9ミリモル)、HOBT・H2O0.40g
(2.9ミリモル)とDCC0.6g(2.9ミリモ
ル)を用い5:1テトラヒドロフラン/ジメチルホルム
アミド6mL溶液中で反応させることを例外として製造
し、白色固体約1.87gを得た。収率:98%。
【0099】B.[2R−(2R*,3S*,6R*)]
−N−t−ブチル−2−[2−ヒドロ キシ−3−フェニ
ルメチル−4−アザ−5−オキソ−6−アミノ−7−ベ
ンジルオキシカルボニル]ヘプチルベンズアミド 実施例8Aの標記化合物0.30g(0.46ミリモ
ル)とトリエチルシラン1mLの塩化メチレン5mL溶
液にトリフルオロ酢酸2mLを加えた。反応がTLCで
判定して実質的に終了した時、反応混合物を減圧濃縮し
て残渣を得た。この残渣を水酸化アンモニウム1mLを
含むメタノール20mLに溶解した。得られた反応混合
物を室温で約1時間反応させた後、減圧濃縮して白色固
体0.42gを得た。この固体をフラッシュクロマトグ
ラフィー(溶出液塩化メチレン中5%メタノール)で精
製して所期の標記化合物0.17gを得た。収率:68
%。 1 H−NMR(CDCl3):δ1.46(s,9H),
2.56(dd,J=8;17Hz,1H),2.75
〜3.00(m,4H),3.06(dd,J=5;1
4Hz,1H),3.50(m,1H),3.78
(m,1H),4.24(m,1H),5.07(d,
J=3Hz,2H),6.17(br.s,1H),
7.13〜7.40(m,14H),7.58(d,J
=9Hz,1H)。
【0100】C.[2R−(2R*,3S*,6R*)]
−N−t−ブチル−2−[2−ヒドロ キシ−3−フェニ
ルメチル−4−アザ−5−オキソ−6−N(キノリン−
2−イルカルボニル)アミノ−7−ベンジルオキシカル
ボニル]ヘプチルベンズアミド 製造例6の標記中間体0.11g(1ミリモル)および
実施例8Bの標記化合物0.17g(1ミリモル)を
4:1ジオキサン/水混合物15mL中に含む溶液に炭
酸水素ナトリウム52mgを加えた。反応がTLCで判
定して実質的に終了した時、反応混合物を減圧濃縮して
残渣を得た。この残渣を酢酸エチル/飽和炭酸水素ナト
リウム混合物200mLに再溶解した。得られた層を分
離し、有機層を食塩水で洗い、硫酸ナトリウムで乾燥
し、濾過し、次に減圧濃縮して無色油0.4gを得た。
この油をフラッシュクロマトグラフィー(酢酸エチル中
40〜45%ヘキサン勾配溶出液)を用いて精製して白
色固体0.21gを得た。収率:95%。1 H−NMR(CDCl3):δ1.43(s,9H),
2.62(dd,J=8Hz,1H),2.75〜3.
14(m,5H),3.76(m,1H),4.30
(m,1H),5.00(m,1H),5.12(s,
2H),6.10(s,2H),6.95〜7.38
(m,15H),7.61(t,J=7Hz,1H),
7.74(t,J=7Hz,1H),7.85(d,J
=8Hz,1H),8.07(d,J=9Hz,1
H),8.19(d,J=9Hz,1H),8.26
(d,J=9Hz,1H),9.08(d,J=8H
z,1H)。 IR(CHCl3):3012,1729,1664,
1518,1449cm-1。UV(EtOH):205
nm(E=62487),239nm(E=42162),2
92nm(E=4139),316nm(E=3025)。 MS(FD):m/e701(M+)。 分析:C424446・1.5H2Oとして計算値:
C,69.31;H,6.51;N,7.70。実験
値:C,69.63;H,6.22;N,7.44。
【0101】実施例9 [2R−(2R*,3S*,6R
*)]−N−t−ブチル−2−[2− ヒドロキシ−3−
フェニルメチル−4−アザ−5−オキソ−6−N(ベン
ジルオキシカルボニル)アミノ−7−ベンジルオキシカ
ルボニル]ヘプチルベンズアミド 実施例8Bの標記化合物0.20gとトリエチルアミン
102μLを塩化メチレン4mLに含む溶液に窒素中で
塩化フェノキシアセチル51μLを加えた。TLCで判
定して反応が実質的に終了した時、反応混合物を冷(0
℃)1N−塩酸50mLに注いだ。所期の標記化合物を
塩化メチレンを用いて抽出し、得られた有機抽出物を硫
酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、次に減圧濃縮して白色
固体0.23gを得た。収率:92%。 MS(FD):m/e680(M+)。 分析:C424446・1.5H2Oとして計算値:
C,70.67;H,6.67;N,6.18。実験
値:C,70.46;H,6.58;N,6.20。
【0102】実施例10 A.[2R−(2R*,3S*,6S*)]−N−t−ブ
チル−2−[2−ヒドロ キシ−3−フェニルメチル−4
−アザ−5−オキソ−6−(キノリン−2−イルカルボ
ニル)アミノ−7−カルボキシ]ヘプチルベンズアミド 実施例7Cの標記化合物1.0g(1.43ミリモル)
のメタノール20mL溶液に5%パラジウム炭100m
gとギ酸アンモニウム0.5gを加えた。得られた混合
物を約30分間還流温度で反応させた。パラジウム炭を
セライトを通して濾去し、得られた濾液を減圧濃縮して
灰白色固体を得た。この固体を水と酢酸エチルに懸濁し
た。得られた層を分離し、有機層を食塩水で洗い、硫酸
ナトリウムで乾燥し、濾過し、減圧濃縮して無色固体
0.87gを得た。この固体を逆相HPLC(溶出液
1:1アセトニトリルと0.5%酢酸水)を用いて精製
して無色固体(m.p.165〜168℃)40mgを
得た。1 H−NMR(DMSO−d6):δ1.38(s,9
H),2.58〜3.05(m,6H),3.61(b
r.s,1H),3.84(m,1H),4.79
(m,1H),5.88(s,1H),6.92(t,
J=8Hz,1H),7.02(t,J=8Hz,2
H),7.12〜7.37(m,6H),7.75
(t,J=10Hz,2H),7.90(t,J=10
Hz,2H),7.98(d,J=10Hz,2H),
8.08〜8.23(m,4H),8.60(d,J=
10Hz,1H),8.89(d,J=10Hz,1
H),12.40(s,11H)。 分析:C353846として計算値:C,68.84;
H,6.27;N,9.17。実験値:C,68.6
1;H,6.44;N,9.10。
【0103】B.[2R−(2R*,3S*,6S*)]
−N−t−ブチル−2−[2−ヒドロ キシ−3−フェニ
ルメチル−4−アザ−5−オキソ−6−N(キノリン−
2−イルカルボニル)アミノ−7−(ピリジン−2−イ
ルメトキシカルボニル)]ヘプチルベンズアミド 実施例10Aの標記化合物0.20g(0.33ミリモ
ル)、HOBT・H2O0.044g(0.33ミリモ
ル)とDCC0.067g(0.33ミリモル)を含む
溶液に2−ピリジルカルビノール0.063mL(0.
66ミリモル)を加えた。得られた反応混合物を60℃
に加熱し、約8時間反応させた。TLCで判定して反応
が実質的に終了した時、反応混合物を濾過し、濾液を減
圧濃縮して無色ガラス状物を得た。このガラス状物をフ
ラッシュクロマトグラフィー(痕跡の水酸化アンモニウ
ムを含む酢酸エチル溶出液)を用いて精製して無色固体
(mp.93〜95℃)0.10gを得た。収率:43
%。 MS(FD):m/e702(M+)。 分析:C414356として計算値:C,70.17;
H,6.18;N,9.98。実験値:C,69.9
7;H,6.14;N,9.72。
【0104】実施例11 [2R−(2R*,3S*,6
S*)]−N−t−ブチル−2−[2 −ヒドロキシ−3
−フェニルメチル−4−アザ−5−オキソ−6−N(t
−ブトキシカルボニル)アミノ−7−ベンジルオキシカ
ルボニル]ヘプチルベンズアミド 標記化合物を実施例2に詳記した操作に実質的に従っ
て、製造例1Dの標記中間体1.0g(0.29ミリモ
ル)、(2R)−2−N−(t−ブトキシカルボニル)
アミノ−3−ベンジルオキシカルボニルプロパン酸0.
95g(0.29ミリモル)、HOBT・H2O0.4
0g(0.29ミリモル)とDCC0.6g(0.29
ミリモル)を用いて製造し、白色固体約1.90gを得
た。この固体をフラッシュクロマトグラフィー(溶出液
塩化メチレン中2.5%メタノール)を用いて精製して
白色泡状物1.5gを得た。収率:79%。 分析:C374737として計算値:C,68.82;
H,7.34;N,6.54。実験値:C,68.6
5;H,7.20;N,6.77。
【0105】実施例12 [2R−(2R*,3S*,6
S*)]−N−t−ブチル−2−[2 −ヒドロキシ−3
−フェニルメチル−4−アザ−5−オキソ−6−N(キ
ノリン−2−イルカルボニル)アミノ−8−N(メトキ
シ)カルバモイル]ヘプチルベンズアミド 実施例10Aの標記化合物175mg(0.287ミリ
モル)、メトキシアミン塩酸塩24mg(0.287ミ
リモル)、HOBT・H2O39mg(0.289ミリ
モル)とDCC60mg(0.291ミリモル)を無水
テトラヒドロフラン15mL中に含む溶液にトリエチル
アミン0.04mL(0.287ミリモル)を加えた。
得られた反応混合物を60℃に加熱し、一夜窒素中で反
応させ、次に0℃に冷却して沈殿の発生を見た。反応混
合物を濾過し、減圧濃縮して残渣を得た。この残渣を酢
酸エチルに再溶解し、1N−塩酸水、飽和炭酸水素ナト
リウムと食塩水溶液で順次に洗い、硫酸ナトリウムで乾
燥し、濾過し、次に減圧濃縮して粗製物を得た。この物
質をフラッシュクロマトグラフィー(塩化メチレン中3
〜10%メタノール勾配溶出液)を用いて精製して所期
の標記化合物143mgを得た。収率:78%。1 H−NMR(DMSO−d6):δ1.36(s,9
H),2.61〜2.72(m,2H),2.90〜
3.02(m,2H),3.29(m,2H),3.4
4(s,3H),3.58〜3.64(m,1H),
3.84〜3.90(m,1H),4.76〜4.83
(m,1H),5.83(d,J=5.1Hz,1
H),6.93(t,J=7.1Hz,1H),7.0
4(t,J=7.2Hz,2H),7.16(d,J=
7.4Hz,2H),7.25(t,J=6.4Hz,
2H),7.31(d,J=7.1Hz,2H),7.
73(t,J=7.5Hz,1H),7.89(t,J
=7.5Hz,1H),8.05〜8.21(m,5
H),8.59(d,J=8.6Hz,1H),8.8
4(d,J=8.1Hz,1H),11.07(s,1
H)。 IR(KBr):3297,2969,1656,15
22,1499,1366,1221,1081,84
7,748,700cm-1。 MS(FD):m/e640(M+,38),610
(63),593(58),220(100)。 分析:C364156として計算値:C,67.59;
H,6.46;N,10.95。実験値:C,67.4
8;H,6.52;N,10.76。
【0106】実施例13 [2R−(2R*,3S*,6
S*)]−N−t−ブチル−2−[2 −ヒドロキシ−3
−フェニルメチル−4−アザ−5,8−ジオキソ−6−
N(キノリン−2−イルカルボニル)アミノ−8−ヒド
ラジノ]ヘプチルベンズアミド 実施例10Aの標記化合物250mg(0.409ミリ
モル)、HOBT・H2O56mg(0.414ミリモ
ル)とヒドラジン水和物0.02mL(0.412ミリ
モル)、無水テトラヒドロフラン15mL中に含む溶液
にDCC85mg(0.412ミリモル)を加えた。得
られた反応混合物を60℃に加熱し、一夜窒素中で反応
させ、次に0℃に冷却して沈殿の発生を見た。反応混合
物を濾過し、濾液を減圧濃縮して残渣を得た。この残渣
をフラッシュクロマトグラフィー(塩化メチレン中3〜
10%メタノール勾配溶出液)を用いて精製して白色泡
状物141mgを得た。収率:55%。1 H−NMR(DMSO−d6):δ1.35(s,9
H),2.53〜2.71(m,5H),2.90〜
3.02(m,2H),3.58〜3.65(m,1
H),3.83〜3.88(m,1H),4.16〜
4.22(m,1H),4.74〜4.78(m,1
H),5.81(d,J=5.3Hz,1H),6.9
5(t,J=7.2Hz,1H),7.05(t,J=
7.3Hz,2H),7.15〜7.32(m,6
H),7.70〜7.75(m,1H),7.86〜
7.91(m,1H),8.02(d,J=9Hz,1
H),8.08〜8.20(m,4H),8.56
(d,J=8.5Hz,1H),8.89(d,J=
8.3Hz,1H),9.09(s,1H)。 IR(KBr):3300,1657,1522,14
91,847,748,701cm-1。 MS(FD):m/e625(M+,100)。 分析:C354065として計算値:C,67.29;
H,6.45;N,13.45。実験値:C,67.4
2;H,6.49;N,13.20。
【0107】実施例14 A.[2R−(2R*,3S*,6R*)]−N−t−ブ
チル−2−[2−ヒドロ キシ−3−フェニルメチル−4
−アザ−5−オキソ−6−N−(ベンジルオキシカルボ
ニル)アミノ−7−アミノスルホニル]ヘプチルベンズ
アミド 標記化合物を実施例1Aに詳記した操作に実質的に従っ
て、製造例1Dの標記中間体0.10g(0.29ミリ
モル)、(2R)−2−N(ベンジルオキシカルボニ
ル)アミノ−3−アミノスルホニルプロパン酸89mg
(0.29ミリモル)、HOBT・H2O40mg
(0.29ミリモル)とDCC61mg(0.29ミリ
モル)を用いて製造し、白色固体約0.11gを得た。
この固体をフラッシュクロマトグラフィー(溶出液塩化
メチレン中3%メタノール)を用いて精製して白色固体
70mgを得た。収率:39%。1 H−NMR(CDCl3):δ1.45(s,9H),
2.70〜3.10(m,4H),3.25〜3.50
(m,2H),3.85(m,1H),4.30(m,
1H),4.65(m,1H),5.06(s,2
H),5.48(br.s,2H),5.93(d,J
=8Hz,1H),6.18(br.s,1H),7.
10〜7.40(m,16H)。13 NMR(CDCl3):170.83,168.6
5,156.00,138.24,137.33,13
5.92,131.13,130.78,129.4
0,128.54,128.37,128.24,12
8.10,126.76,126.58,126.3
6,74.68,67.37,56.02,55.9
0,52.44,51.45,36.70,34.8
4,28.68。 IR(CHCl3):3428,2976,1720,
1670,1643,1517cm-1。 MS(FD):m/e625(M+)。 分析:C324047Sとして計算値:C,61.5
2;H,6.45;N,8.97。実験値:C,61.
33;H,6.53;N,8.79。
【0108】B.[2R−(2R*,3S*,6R*)]
−N−t−ブチル−2−[2−ヒドロ キシ−3−フェニ
ルメチル−4−アザ−5−オキソ−6−アミノ−7−ア
ミノスルホニル]ヘプチルベンズアミド アセトニトリル4mL中の実施例14Aの標記化合物に
沃化トリメチルシリル80μLを加えた。TLCで判定
して反応が実質的に終了した時、反応混合物を塩化メチ
レンでうすめ、次に減圧濃縮して黄色油を得た。この油
を塩化メチレンとチオ硫酸ナトリウムの間に分配した。
有機層と水層を分離し、有機層を硫酸ナトリウムで乾
燥、濾過し、次に減圧濃縮して残渣20mgを得た。こ
の残渣をフラッシュクロマトグラフィー(溶出液塩化メ
チレン中10%メタノール)を用いて精製して所期の標
記化合物20mgを得た。収率:36%。
【0109】C.[2R−(2R*,3S*,6R*)]
−N−t−ブチル−2−[2−ヒドロ キシ−3−フェニ
ルメチル−4−アザ−5−オキソ−6−N(キノリン−
2−イルカルボニル)アミノ−7−アミノスルホニル]
ヘプチルベンズアミド 標記化合物を実施例2に詳記した操作に実質的に従っ
て、実施例14Bの標記化合物20mg(0.041ミ
リモル)、2−カルボキシキノリン7mg(0.041
ミリモル)、HOBT・H2O6mg(0.045ミリ
モル)とDCC9mg(0.043ミリモル)を用いて
製造し、粗製の物質40mgを得た。この物質をフラッ
シュクロマトグラフィー(塩化メチレン中10%メタノ
ール勾配溶出液)を用いて精製して白色固体25mgを
得た。収率:96%。1 H−NMR(CDCl3):δ1.43(s,9H),
2.78〜3.10(m,4H),3.50〜3.75
(m,2H),3.90(m,1H),4.37(m,
1H),5.18(m,1H),5.60(br.s,
2H),6.08(br.s,1H),6.83〜7.
40(m,11H),7.61(t,J=8,1H),
7.78(t,J=8Hz,1H),7.82(d,J
=8Hz,1H),8.14(d,J=8Hz,2
H),8.21(d,J=8Hz,1H),8.90
(d,J=8Hz,1H)。 MS(FD):m/e646(M+)。 分析:C343956Sとして計算値:C,63.2
4;H,6.09;N,10.84。実験値:C,6
3.45;H,6.04;N,10.70。
【0110】実施例15 [2R−(2R*,3S*,6
S*)]−N−t−ブチル−2−[2 −ヒドロキシ−3
−フェニルメチル−4−アザ−5,8−ジオキソ−6−
N(キノリン−2−イルカルボニル)アミノ−8−N
(2−(N,N−ジメチルアミノ)エチル)アミノ]オ
クチルベンズアミド 標記化合物を実施例2に詳記した操作に実質的に従っ
て、実施例10Aの標記化合物0.20g(0.33ミ
リモル)、N,N−ジメチレンジアミン0.072mL
(0.66ミリモル)、HOBT・H2O0.044g
とDCC0.067mgをテトラヒドロフラン5mL中
で反応を60℃で行うことを例外として用いて製造し
た。得られた泡状物をフラッシュクロマトグラフィー
(溶出液痕跡量の水酸化アンモニウムを含む塩化メチレ
ン中5%メタノール)を用いて精製して無色泡状物
(m.p.105〜108℃)0.123gを得た。収
率:55%。 MS(FD):m/e681(M+)。 分析:C394865として計算値:C,68.80;
H,7.11;N,12.34。実験値:C,68.9
3;H,7.11;N,12.17。
【0111】前述のように、本発明の化合物はウイルス
成分の生産と集合に関与する酵素であるHIVプロテア
ーゼを阻害するために有用である。本発明は式Iで示さ
れる化合物またはその医薬的に許容し得る塩の有効量を
それを必要とする霊長類に投与することからなるHIV
感染症の治療または予防法に関する。他に、本発明は式
Iで示される化合物またはその医薬的に許容し得る塩の
有効量をそれを必要とする霊長類に投与することからな
るAIDSの治療または予防法に関する。さらに、本発
明は式Iで示される化合物またはその医薬的に許容し得
る塩をHIVに感染した細胞またはHIV感染を受け得
る細胞またはそれを必要とする霊長類に与えることから
なるHIV複製の阻害法に関する。
【0112】用語「有効量」は本明細書ではHIVプロ
テアーゼで仲介されるウィルス成分の生産および集合を
阻害できる本発明の化合物の量を意味する。本発明方法
が意図するHIVプロテアーゼ阻害は適切な治療的およ
び予防的の双方の処置も含む。本発明により治療的また
は予防的効果を得るために投与される化合物の具体的な
投与量は、勿論、例えば、投与される化合物、投与経
路、処置すべき病状、処置される対象などを含むその症
例を廻る特定的状況によって決定すべきである。典型的
日用量は本発明の有効化合物約0.01mg/kgから
約50mg/kg体重を含む。好適な日用量は一般に約
0.05mg/kgから約20mg/kg体重であり、
最適には約0.1mg/kgから約10mg/kg体重
である。
【0113】この化合物は経口、直腸、経皮、皮下、静
脈内、筋肉内、鼻内を含む種々の経路で投与できる。本
発明の化合物は投与する前に製剤化するのが好ましい。
故に、本発明は式Iで示される化合物またはその医薬的
に許容し得る塩の有効量およびそのための医薬的に許容
し得る担体、希釈剤または添加剤を含む医薬的製剤にも
関する。
【0114】この製剤中の活性成分は0.1重量%から
99.9重量%を含む。「医薬的に許容し得る」とは担
体、希釈剤または添加剤が製剤中の他の成分と適合性が
あり、被投与者にも有害でないことを意味する。
【0115】本医薬的製剤は公知で容易に入手し得る成
分を用いて公知操作によって製造される。本発明の組成
物を製造するには活性成分を普通は担体と混合し、担体
で希釈し、または担体中に封入するが、その担体はカプ
セル、分包包装、紙または他の容器であってもよい。担
体が希釈剤である時には、活性成分のための基剤、添加
剤または媒体の役目をする固体、半固体または液体であ
ってもよい。そこで、組成物は錠剤、丸剤、粉剤、ロゼ
ンジ剤、分包包装、オブラート剤、エリキシール剤、懸
濁剤、乳剤、液剤、シロップ剤、エアロゾール剤(固体
としてまたは液体の媒体中)、例えば10%重までの活
性化合物を含むような軟膏剤、軟または硬カプセル剤、
坐剤、無菌注射剤、無菌包装粉末などの型をとることが
できる。
【0116】以下の製剤例は例示に過ぎず、如何なる意
味においても発明範囲の限定を意図するものではない。
用語「活性成分」は式Iで示される化合物またはその医
薬的に許容し得る塩を意味する。
【0117】製剤例1 下記成分を用いて硬ゼラチンカ
プセルを製造する。
【0118】製剤例2 下記成分を用いて錠剤を製造す
る。 前記成分を混合し、打錠して665mg重の錠剤とす
る。
【0119】製剤例3 下記成分を含むエアロゾル溶液
剤を製造する。 活性成分をエタノールと混合し、混合物をプロペラント
22の一部に加え、−30℃に冷却し、充填器に移す。
所要量をステンレス鋼容器に充填し、残りのプロペラン
トで薄める。バルブを容器に取付ける.
【0120】製剤例4 活性成分各60mgを含む錠剤
を以下のように製造する。 活性成分 60mg 澱粉 45mg 微結晶セルロース 35mg ポリビニルピロリドン(10%水溶液) 4mg ナトリウムカルボキシメチル澱粉 4.5mg ステアリン酸マグネシウム 0.5mg タルク 1mg 合計 150mg 活性成分、澱粉とセルロースを米局方45番篩を通し、
完全に混合する。得られた粉末をポリビニルピロリドン
を含む水溶液と混合した後、米局方14番篩を通す。得
られる顆粒を50℃で乾燥し、米局方18番篩を通す。
予め米局方60番篩を通しておいたナトリウムカルボキ
シメチル澱粉、ステアリン酸マグネシウムおよびタルク
を顆粒に加え、混合後、打錠機で打錠して各150mg
の錠剤を得る。
【0121】製剤例5 活性成分各80mgを含むカプ
セル剤を以下のように製造する。 活性成分 80mg 澱粉 59mg 微結晶セルロース 59mg ステアリン酸マグネシウム 2mg 合計 200mg 活性成分、セルロース、澱粉およびステアリン酸マグネ
シウムを混合し、米局方45番篩を通し、200mg量
を硬ゼラチンカプセルに充填する。
【0122】製剤例6 活性成分225mgを含む坐剤
を以下のように製造する。 活性成分 225mg 飽和脂肪酸グリセリド 2000mg 合計 2225mg 活性成分を米局方60番篩を通し、あらかじめ必要最小
限の熱量で融解しておいた飽和脂肪酸グリセリドに懸濁
する。混合物を2g容坐剤金型に注入し、放冷する。
【0123】製剤例7 各5mL用量当り活性成分50
mgを含む懸濁剤を以下のように製造する。 活性成分 50mg ナトリウムカルボキシメチル 50mg セルロース シロップ 1.25mL 安息香酸液 0.10mL 香料 適量 着色剤 適量 精製水を加えて合計 5mL 活性成分を米局方45番篩を通し、ナトリウムカルボキ
シメチルセルロースおよびシロップと混合してペースト
とする。安息香酸液、香料および着色剤と少量の水で薄
めて撹拌しながら加えた。次に水を加えて所定容量とす
る。
【0124】製剤例8 静脈注射剤を以下のように製造
する。 活性成分 100mg 等張食塩水 1000mL 上記成分の溶液を一般には1mL/分の速度で静脈内投
与する。
【0125】
【作用】以下の実験(螢光HIV−1プロテアーゼ阻害
剤検定)を行って本発明化合物のHIVプロテアーゼ阻
害能を確かめた。ここで用いた略号は以下の通り。 BSA=牛血清アルブミン BOC=t-ブチルオキシカルボニル BrZ=2-ブロモベンジルオキシカルボニル 2−ClZ=2-クロロベンジルオキシカルボニル DCC=ジシクロヘキシルカルボジイミド DIEA=ジイソプロピルエチルアミン DTT=ジチオスレイトール EDTA=エチレンジアミン四酢酸 FITC=フルオレッセイン・イソチオカルバミル HEPES=4-(2-ヒドロキシエチル)-1-ピペラジ
ンエタンスルホン酸 MES=4-モルホリンエタンスルホン酸 PAM=フェニルアセトイミドメチル TAPS=3-[トリス(ヒドロキシメチル)メチル]
アミノ-1-スルホン酸 TRIS=トリス(ヒドロキシメチル)アミノメタン TOS=p-トルエンスルホニル(トシル)
【0126】I.プロテアーゼおよびGag画分の調製 A.大腸菌K12・L507/pHP10Dの培養 寄託番号NRRL−B−18560の大腸菌K12・L
507/pHP10D(1989年11月14日寄託)
の凍乾品をイリノイ州61604、ペオリアのノーザン
・リジョナル・リサーチ・ラボラトリーから入手した。
この凍乾品をLB培地(1L中、Bacto−tryp
tone10g、bacto−酵母抽出物5g、食塩1
0gを含み、pHを7.5に調整し、32℃で一夜イン
キュベート)10mLの入った管に移した。一夜培養し
た培養物少量をテトラサイクリン12.5μg/mLを
含むLB−寒天(バクト寒天15g/Lを含むLB培
地)板に乗せて大腸菌K12・L507/pHP10D
のシングル・コロニーを単離した。得られたシングル・
コロニーをテトラサイクリン12.5μg/mLを含む
LB−培地10mLに植菌し、32℃で激しく振とうし
ながら一夜培養した。一夜培養液10mLをテトラサイ
クリン12.5μg/mLを含むLB−培地に植菌し、
32℃で激しく振とうしながら培養物がログ・フェーズ
の中央に達するまで培養した。
【0127】B.大腸菌K12・L507/pHGAG
の培養 寄託番号NRRL−B−18561の大腸菌K12・L
507/pHGAG(1989年11月14日寄託)の
凍乾品をNRRLから入手した。大腸菌K12・L50
7/pHGAGの純コロニーを単離し、これを培養のた
めの種菌として用い、大腸菌K12・L507/pHP
10Dについて記載した前段Aの方法に実質的に従って
ログフェーズ中央まで培養した。
【0128】C.プロテアーゼ画分の調製 大腸菌K12・L507/pHP10Dの培養物をテト
ラサイクリン12.5μg/mLを含むLB−培地中、
32℃でログフェーズ中央まで培養した。培養温度を迅
速に40℃まで上昇させて遺伝子発現を始めさせ、細胞
をこの温度で2.5時間生育させた後、培養物を急速に
氷冷した。細胞を遠心分離し、細胞塊を1mM−EDT
A、1mM−DTT、1mM−PMSFおよび10%グ
リセリンを含む50mM−MES緩衝液(pH6.0)
(「緩衝液A」)20mLに再懸濁した。細胞をFis
cher・Model・300・Dismembrat
orおよびマイクロチッププローブを用いて超音波破砕
した。27000×gで遠心分離後、上澄液を緩衝液A
で全量60mLまで薄め、緩衝液A中で平衡化した2.
0×19cmのQAE−セファロース・カラム(1mL
/分、4℃)にかけた。カラムを無勾配濃度で180分
間洗い、続いて120分間に0〜1.0M−食塩勾配の
緩衝液Aで溶出した。酵素活性は合成ペプチドSQNY
PIVを用いてMargolinなど、Bioche
m.Biophys.Res.Comm.、167、5
54〜560(1990)に記載のようにしてp1ペプ
チド(SQNY)の生成を測定するHPLCによって測
定した。
【0129】活性画分を集め、硫酸アンモニウムで1.
2Mとし、予め1.2M−硫酸アンモニウムを含む緩衝
液A中で平衡化しておいた2.0×18cmヘキシルア
ガロースのカラムにかけた。検体を4℃、流速1mL/
分で加え、平衡用緩衝液で240分(1mL/分)間に
洗った後、緩衝液A中1.2〜0M−硫酸アンモニウム
の直線的逆勾配濃度を用いて同流速で120分に溶出し
た。カラムを無勾配濃度の緩衝液Aで120分間洗っ
た。活性画分を集め、アミコン・スタード・セルをYM
−10膜と共に用いて10mLまで濃縮した後、予め緩
衝液Aで平衡化しておいたMonoS・カチオン交換樹
脂のカラム(1.0×10cm)にかけた。検体は25
℃、流速1mL/分で加えた。無勾配濃度で30分間に
洗った後、緩衝液A中0〜0.45M−食塩の直線的勾
配濃度を用いて40分かけてプロテアーゼを溶出した。
カラムを無勾配的に0.45M−食塩を含む緩衝液Aで
30分間に洗った。
【0130】活性画分を集め、アミコン・スタード・セ
ルとYM−10膜とを用いて200μLまで濃縮し、プ
ロテアーゼを1M−食塩を含む緩衝液Aと平衡化したス
ペローズ6のサイズ排除カラムに加えた。カラムをこの
緩衝液の無勾配濃度で流速0.5mL/分で洗い、HI
Vプロテアーゼを単一ピークとして溶出した。
【0131】QAE−セファロースおよびヘキシルアガ
ロースはシグマケミカル社から購入した。スペローズ6
とMonoSはファルマシアから購入した。緩衝液と試
薬はシグマから入手した。
【0132】D.Gag画分の調製 同様にして、大腸菌K12 507/pHGAGの培養
物を32℃でログフェーズ中央まで培養し、4〜5時間
40℃に昇温した。培養物を氷冷し、遠心分離し、ペレ
ットをリゾチーム5mg/mLを含む破砕緩衝液8mL
に再懸濁した。破砕緩衝液は50mM−トリス−塩酸
(pH7.8)、5mM−EDTA、1mM−DTT、
100mM−食塩、1μg/mLE64および2μg/
mLアプロチニンを含む。培養物を約30〜60分間4
℃で培養し、BransonTM・セル・ディスラプター
を60%出力にして冷却下に20秒づつ3回超音波をか
けた。培養物を15000×gで遠心分離した。未修飾
gag蛋白を含む上澄液をセファデックスG−50カラ
ムでサイズ排除クロマトグラフィーしで部分的に精製
し、−20℃の50%グリセリンと破砕緩衝液中で貯蔵
した。
【0133】II.基質の調製 Nα−ビオチン−Gl
y−Ser−Gln−Asn−Tyr −Pro−Ile
−Val−Gly−Lys(Nε−FITC)−OH A.Nα−ビオチン−Gly−Ser−Gln−Asn
−Tyr−Pro−Ile−Val−Gly−Lys−
OHの調製 保護ペプチド樹脂Nα−BOC−Gly−Ser−Gl
n−Asn−Tyr(BrZ)−Pro −Ile−V
al−Gly−Lys(2−ClZ)−OCH2−PA
M−樹脂をAdvanced・Chemtech・20
0型ペプチド合成機上1.5ミリモル規模で標準的ダブ
ル・カップル・プロトコールを用いて合成した。アミノ
端のBOC基を塩化メチレン中、50%トリフルオロ酢
酸で除去し、得られた樹脂を塩化メチレン中、5%ジ
(イソプロピル)エチルアミン(DIEA)で中和し
た。ペプチド樹脂にビオチン1.1g(4.5ミリモ
ル)のジメチルスルホキシド20mL溶液を加え、続い
てジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)4.5ミ
リモルの塩化メチレン9mLを加えた。得られた反応混
合物を塩化メチレン11mLを用いて全容積40mLま
で薄め、約5時間反応させた。反応液を濃縮し、樹脂を
ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミドおよび塩
化メチレンで順次洗い、5%DIEAの塩化メチレン溶
液で中和した。反応時間を12時間づつに延長してこの
反応を2回繰返した。樹脂のニンヒドリン分析でビオチ
ンがグリシンのアミノ基と完全に反応していることを確
認した。最終ペプチド樹脂をジメチルホルムアミドと塩
化メチレンで十分に洗い、乾燥して4.3g(98%)
を得た。
【0134】B.脱保護 ペプチドをフッ化水素酸/m−クレゾール溶液50mL
を用いて0℃で1時間脱保護および樹脂からの切断を行
った。減圧蒸留してフッ化水素酸を除去した後、ジエチ
ルエーテル100mLを用いて反応液からm−クレゾー
ルを抽出した。ペプチドを50%酢酸水に溶かし、凍結
し、凍結乾燥して2.14gを得た。
【0135】C.精製 粗Nα−ビオチン−Gly−Ser−Gln−Asn−
Tyr−Pro −Ile−Val−Gly−Lys−
OHを0.1%トリフルオロ酢酸を含む5%アセトニト
リル水溶液200mLに溶かした後、0.22ミクロン
のフィルターを通して濾過した。得られた溶液を予め同
じ緩衝液で平衡化しておいたオクタデシル−シリカ(V
ydac・C−18)の2.2×25cm逆相カラムに
かけた。ペプチドを855分間に7.5〜25%アセト
ニトリルの直線勾配、2mL/分で展開し、画分を集め
た。画分を4.6×250mmVydacC−18カラ
ム上同様な緩衝条件を用いる分析用HPLCによって分
析した。所期物質を含む画分を集め、凍結し、凍結乾燥
して1.206g(62%)を得た。単離したNα−ビ
オチン−Gly−Ser−Gln−Asn−Tyr−P
ro−Ile−Val−Gly−Lys−OHのアミノ
酸分析は理論値と一致する次の比率を示した。Asn=
1.1、Ser=0.96、Gln=1.1、Pro=
1.1、Gly=2.1、Val=0.80、Ile=
0.78、Tyr=1.1、Lys=1.1。高速原子
衝撃質量分析は1288に分子イオンピークを示し、こ
れも理論値と一致した。
【0136】D.標識 精製したペプチドはパンデックス検定用にC末端を螢光
マーカーで標識した。Nα−ビオチン−Gly−Ser
−Gln−Asn−Tyr−Pro−Ile−Val−
Gly−Lys−OH(1.206g、0.936ミリ
モル)をpH9.5の0.1M−ホウ酸ナトリウム10
0mLに溶かした。そこで、イソチオシアン酸フルオレ
ッセイン3g(7.7ミリモル)のジメチルスルホキシ
ド15mL溶液を2時間に10回、等量づつに分割して
反応混合物に加えた。得られる混合物を最終添加後1時
間反応させた。5N−塩酸を用いて溶液をpH3とし、
生じた沈殿を遠心分離で除去した。
【0137】ペプチド溶液を次に5N−水酸化ナトリウ
ム水を用いてpH7.8とし、0.1M−酢酸アンモニ
ウム、pH7.5を加え、全容積200mLとした。得
られた溶液を0.22ミクロンのフィルターを通して濾
過し、予め0.1M−酢酸アンモニウム(pH7.5)
中の5%アセトニトリルで平衡化しておいたVydac
C−18の2.2×25cmカラムにかけた。ペプチド
を855分間に5〜25%アセトニトリルの直線勾配を
用いて溶出し、2mL/分で画分を集めた。この画分の
分析には分析用HPLCを用いた。所期物質を含む画分
を集め、凍結し、凍結乾燥して190.2mg(12
%)を得た。精製したペプチドのアミノ酸分析は理論値
と一致する次の比率を示した。Asn=1.1、Ser
=1.0、Gln=1.1、Pro=1.1、Gly=
2.1、Val=0.8、Ile=0.8、Tyr=
1.1、Lys=1.0。高速原子衝撃質量分析は理論
値と一致する1678に分子イオンピークを示した。
【0138】E.螢光HIV−1プロテアーゼ阻害作用
検定 螢光HIV−1プロテアーゼ阻害作用の検定に次の緩衝
液と溶液を用いた。 MES−ALB緩衝液=0.05M−4−モルホリンエ
タンスルホン酸(pH5.5)、0.02M−食塩、
0.002M−EDTA、0.001M−DTT、1.
0mg/mL−BSA。 TBSA緩衝液=0.02M−トリス、0.15M−食
塩、1.0mg/mL−BSA。 アビヂン−被覆ビーズ溶液=0.1%フルオリコン・ア
ビヂン・検定粒溶液(直径0.6〜0.8ミクロンの固
体ポリスチレンビーズに結合させたアビヂン)TBSA
緩衝液溶液。 酵素溶液=精製HIV−1プロテアーゼ27IU/mL
のMES−ALB緩衝液溶液(1IUは37℃で1分に
基質1マイクロモルを水解するのに必要な酵素量であ
る)。
【0139】丸底の96穴板の各穴に酵素液20μLを
加え、続いて被検化合物を20%ジメチルスルホキシド
水10μLにとかして加えた。精製したHIV−1プロ
テアーゼは前記の通りに製造した。溶液を室温で1時間
インキュベートし、次に基質であるNα−ビオチン−G
ly−Ser−Gln−Asn−Tyr−Pro−Il
e−Val−Gly−Lys(Nε−FITC)−OH
のMES−ALB緩衝 液溶液(1.5μL/mL)2
0μLを各穴に加えた。溶液を室温で16時間インキュ
ベートした後、各穴をMES−ALB緩衝液150μL
で希釈した。
【0140】2枚目の丸底96穴パンデックス板の各穴
にアビジン被覆ビーズ液25μLを加えた。次に、各穴
に前記の方法で製造した希釈したインキュベーション液
25μLを加えた。各溶液をよく混合し、双方の板をP
andexTM機に装着し、洗い、脱気し、測定した。サ
ンプル測定には485nmで励起し、535nmに現れ
るエピ螢光を検出した。
【0141】本発明の化合物の螢光検定IC50値を表I
に示す。全測定値は正の対照である[1S−(1R*,
4R*,5S*)]−N−(1−(2−アミノ−2−オキ
ソエチル)−2−オキソ−3−アザ−4−フェニルメチ
ル−5−ヒドロキシ−6−(2−(1−t−ブチルアミ
ノ−1−オキソメチル)フェニル)ヘキシル)−2−キ
ノリニルカルボキサミドを用いて補正した。
【0142】
【表1】表I 式Iの化合物が示す阻害作用 実施例番号 螢光検定IC50値ng/mL 対照 1.0 1 0.4 2 1.1 3 54.6 4 1.2 5 − 6 7.2 7 0.6 8 >1000* 9 >1000* 10 1.3 11 IC8=1000* 12 0.5 13 0.7 14 2.7 15 1.9 *=化合物濃度がこの値以上にはならなかった。
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07C 271/54 7188−4H 311/46 7419−4H 317/50 7419−4H 323/60 7419−4H C07D 215/12 215/48 217/14 (72)発明者 スティーブン・ウォーレン・カルドー アメリカ合衆国46254インディアナ州イン ディアナポリス、バークウッド・ウェイ 7435番 (72)発明者 トーマス・エドワード・マブリー アメリカ合衆国46254インディアナ州イン ディアナポリス、バークウッド・ウェイ 7435番 (72)発明者 ティモシー・アラン・シェパード アメリカ合衆国46227インディアナ州イン ディアナポリス、スリッパリー・エルム・ コート8463番 (72)発明者 ロバート・ダニエル・タイタス アメリカ合衆国49424ミシガン州ホーラン ド、プレザント・リッジ・ドライブ740番

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 式I 【化1】 [式中、Rはアリール、ヘテロ環または不飽和ヘテロ環
    であり、X1は−(CH2n−、−(CH2m−O−
    (CH2n−または−(CH2m−NR0−(CH2n
    −であるが、ここにmとnとは独立に0、1または2で
    あり、 R0は水素またはC1〜C4アルキルである;R1はアリー
    ル、C5〜C7シクロアルキルまたは−S−R1Xである
    が、ここにR1XはアリールまたはC5〜C7シクロアルキ
    ルである;R2はシアノ(C1〜C4)アルキル、−CH2
    SO2NH2、−(CH2m−X2−R2aまたは−(C
    2m−CO−NR2b2cであるが、ここにX2は結
    合、−CO−O−、−O−、−S−、−SO−または−
    SO2−であり;R2aはC1〜C6アルキル、アリール、
    アリール(C1〜C4)アルキル、ヘテロ環、ヘテロ環
    (C1〜C4)アルキル、不飽和ヘテロ環または不飽和ヘ
    テロ環(C1〜C4)アルキルであり;R2bは水素または
    1〜C4アルキルであり;R2cはアミノ、C1〜C6アル
    コキシ、C1〜C6アルキルまたは−(CH2z−ジ(C
    1〜C4)アルキルアミノであり;zは1,2,3または
    4であり;Yはアリールまたは不飽和ヘテロ環であり、
    3は以下の構造 【化2】 を持つ基であるが、ここにpは4または5であり;lは
    3、4または5であり;各R4は独立に水素、C1〜C6
    アルキルまたはヒドロキシ(C1〜C4)アルキルであ
    り、 R5とR6は水素、ヒドロキシ、C1〜C6アルキル、C1
    〜C6アルコキシ、アミノ、C1〜C4アルキルアミノ、
    ヒドロキシ(C1〜C4)アルキル、カルボキシ、C1
    4アルコキシカルボニル、カルバモイル、N−(C1
    4)アルキルカルバモイル、アリール、ヘテロ環また
    は不飽和ヘテロ環から独立に選ばれる]で示される化合
    物またはその医薬的に許容し得る塩。
  2. 【請求項2】 [2R−(2R*,3S*,6S*)]−
    N−t−ブチル−2−[2−ヒドロキシ−3−フェニル
    メチル−4,7,9−トリアザ−5,8−ジオキソ−6
    −シアノメチル−10−ナフタリン−1−イル]デシル
    ベンズアミド;[2R−(2R*,3S*,6S*)]−
    N−t−ブチル−2−[2−ヒドロキシ−3−フェニル
    メチル−4,7−ジアザ−5,8−ジオキソ−6−シア
    ノメチル−8−キノリン−2−イル]オクチルベンズア
    ミド;[2R−(2R*,3S*,6S*)]−N−t−
    ブチル−2−[2−ヒドロキシ−3−フェニルメチル−
    4,7−ジアザ−5,8−ジオキソ−6−シアノメチル
    −9−N(メチル)アザ−10−キノリン−2−イル]
    デシルベンズアミド;[2R−(2R*,3S*,6S
    *)]−N−t−ブチル−2−[2−ヒドロキシ−3−
    フェニルメチル−4−アザ−5−オキソ−6−N(キノ
    リン−2−イルカルボニル)アミノ−7−ベンジルオキ
    シカルボニル]ヘプチルベンズアミド;[2R−(2R
    *,3S*,6S*)]−N−t−ブチル−2−[2−ヒ
    ドロキシ−3−フェニルメチル−4−アザ−5−オキソ
    −6−N(キノリン−2−イルカルボニル)アミノ−7
    −(ピリジン−2−イルメトキシカルボニル)]ヘプチ
    ルベンズアミド;[2R−(2R*,3S*,6R*)]
    −N−t−ブチル−2−[2−ヒドロキシ−3−フェニ
    ルメチル−4−アザ−5−オキソ−6N(キノリン−2
    −イルカルボニル)アミノ−7−アミノスルホニル]ヘ
    プチルベンズアミド;[2R−(2R*,3S*,6S
    *)]−N−t−ブチル−2−[2−ヒドロキシ−3−
    フェニルメチル−4−アザ−5−オキソ−6−N(キノ
    リン−2−イルカルボニル)アミノ−8−N(メトキ
    シ)カルバモイル]ヘプチルベンズアミド;または[2
    R−(2R*,3S*,6S*)]−N−t−ブチル−2
    −[2−ヒドロキシ−3−フェニルメチル−4−アザ−
    5,8−ジオキソ−6−N(キノリン−2−イルカルボ
    ニル)アミノ−8−ヒドラジノ]オクチルベンズアミ
    ド;である請求項1の化合物またはその医薬的に許容し
    得る塩。
  3. 【請求項3】 活性成分として式Iで示される請求項1
    または2の化合物またはその医薬的に許容し得る塩をそ
    のための医薬的に許容し得る担体1種またはそれ以上と
    共に含む医薬的製剤。
JP5321967A 1992-12-22 1993-12-21 Aidsの処置に有用なhiv−プロテアーゼ阻害剤 Pending JPH06234716A (ja)

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