JPH0620931Y2 - 滑り制限差動装置 - Google Patents
滑り制限差動装置Info
- Publication number
- JPH0620931Y2 JPH0620931Y2 JP3506589U JP3506589U JPH0620931Y2 JP H0620931 Y2 JPH0620931 Y2 JP H0620931Y2 JP 3506589 U JP3506589 U JP 3506589U JP 3506589 U JP3506589 U JP 3506589U JP H0620931 Y2 JPH0620931 Y2 JP H0620931Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gear
- clutch plate
- cam portion
- drive gear
- drive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Retarders (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は滑り制限差動装置に関し、特にクラッチ板を押
圧するバネ部材の摩耗を防止し、バックラッシュが変化
することがないようにした滑り制限差動装置に関する。
圧するバネ部材の摩耗を防止し、バックラッシュが変化
することがないようにした滑り制限差動装置に関する。
従来、滑り制限差動装置としては、第３図に示す、サイ
ドギヤ11とプレッシャリング12との間に、第１のクラッ
チ板13と第２のクラッチ板14とにイニシャルトルクを付
与する皿バネ15を配設したものが知られている（例え
ば、実開昭61-188053号公報参照）。
ドギヤ11とプレッシャリング12との間に、第１のクラッ
チ板13と第２のクラッチ板14とにイニシャルトルクを付
与する皿バネ15を配設したものが知られている（例え
ば、実開昭61-188053号公報参照）。
しかしながら、従来の滑り制限差動装置においては、皿
バネが、デフケースに対して、回転系の部材たるサイド
ギヤと、デフケースに対して固定系の部材たるプレッシ
ャリングとの間に位置するため、サイドギヤとプレッシ
ャリングとの間の相対回転により皿バネが摺動し、摩耗
が生じるという問題点があった。
バネが、デフケースに対して、回転系の部材たるサイド
ギヤと、デフケースに対して固定系の部材たるプレッシ
ャリングとの間に位置するため、サイドギヤとプレッシ
ャリングとの間の相対回転により皿バネが摺動し、摩耗
が生じるという問題点があった。
このため、バックラッシュが変化（増大）し、皿バネの
付勢力を有効に利用することができなくなるという問題
点もあった。
付勢力を有効に利用することができなくなるという問題
点もあった。
本考案は従来の技術の有するこのような問題点に鑑みな
されたものであり、その目的とするところは、皿バネの
摩耗を防ぎ、バックラッシュを一定に保持することので
きる滑り制限差動装置を提供しようとするものである。
されたものであり、その目的とするところは、皿バネの
摩耗を防ぎ、バックラッシュを一定に保持することので
きる滑り制限差動装置を提供しようとするものである。
上記目的を達成するために、本考案における滑り制限差
動装置は、ピニオンギヤと噛み合いかつ車軸上に遊動的
に配設されたサイドギヤに第１のカム部を形成し、この
第１のカム部と係合する第２のカム部を車軸にスプライ
ン結合されたドライブギヤに形成し、ドライブギヤとデ
フケースとの間にクラッチ板を配設し、皿バネは、サイ
ドギヤとドライブギヤとの間に配設してなるものであ
る。
動装置は、ピニオンギヤと噛み合いかつ車軸上に遊動的
に配設されたサイドギヤに第１のカム部を形成し、この
第１のカム部と係合する第２のカム部を車軸にスプライ
ン結合されたドライブギヤに形成し、ドライブギヤとデ
フケースとの間にクラッチ板を配設し、皿バネは、サイ
ドギヤとドライブギヤとの間に配設してなるものであ
る。
サイドギヤの第１のカム部と、ドライブギヤの第２のカ
ム部とが係合しているため、サイドギヤとドライブギヤ
との間には、スラスト作用が生じる時に相対回転が発生
する。しかし、スラスト作用が生じる時以外は、サイド
ギヤとドライブギヤとは一体的に回転するようになる。
このため、サイドギヤとドライブギヤとの間に、相対回
転が生じることはない。従って、皿バネに摺動による摩
耗が発生することを防止することができる。
ム部とが係合しているため、サイドギヤとドライブギヤ
との間には、スラスト作用が生じる時に相対回転が発生
する。しかし、スラスト作用が生じる時以外は、サイド
ギヤとドライブギヤとは一体的に回転するようになる。
このため、サイドギヤとドライブギヤとの間に、相対回
転が生じることはない。従って、皿バネに摺動による摩
耗が発生することを防止することができる。
以下、図面に基づいて本考案による滑り制限差動装置を
詳細に説明する。
詳細に説明する。
第１図及び第２図は本考案による一実施例を示し、ドラ
イブピニオン（図示せず）からリングギヤ（図示せず）
を介して駆動されるデフケース１と、このデフケース１
とともに回転するピニオンシャフト２と、ピニオンンシ
ャフト２に回転的に取り付けられたピニオンギヤ３と、
車軸６Ｌ，６Ｒに軸方向摺動自在にスプライン結合され
たドライブギヤ４Ｌ，４Ｒと、ピニオンギヤ３と噛み合
いかつドライブギヤ４Ｌ，４Ｒのボス部４ｂ上に遊動的
に位置するサイドギヤ５Ｌ，５Ｒと、デフケース１とド
ライブギヤ４Ｌ，４Ｒとの間に各々交互に位置してい
て、ドライブギヤ４Ｌ，４Ｒと係合する第１のクラッチ
板７及びデフケース１と係合する第２のクラッチ板８
と、サイドギヤ５Ｌ，５Ｒとドライブギヤ４Ｌ，４Ｒと
の間に配設され第１のクラッチ板７と第２のクラッチ板
８とを圧接するように押圧する皿バネ９とを有する。
イブピニオン（図示せず）からリングギヤ（図示せず）
を介して駆動されるデフケース１と、このデフケース１
とともに回転するピニオンシャフト２と、ピニオンンシ
ャフト２に回転的に取り付けられたピニオンギヤ３と、
車軸６Ｌ，６Ｒに軸方向摺動自在にスプライン結合され
たドライブギヤ４Ｌ，４Ｒと、ピニオンギヤ３と噛み合
いかつドライブギヤ４Ｌ，４Ｒのボス部４ｂ上に遊動的
に位置するサイドギヤ５Ｌ，５Ｒと、デフケース１とド
ライブギヤ４Ｌ，４Ｒとの間に各々交互に位置してい
て、ドライブギヤ４Ｌ，４Ｒと係合する第１のクラッチ
板７及びデフケース１と係合する第２のクラッチ板８
と、サイドギヤ５Ｌ，５Ｒとドライブギヤ４Ｌ，４Ｒと
の間に配設され第１のクラッチ板７と第２のクラッチ板
８とを圧接するように押圧する皿バネ９とを有する。
この皿バネ９は、ドライブギヤ４Ｌ，４Ｒの内径側に形
成された凹所４ｄ内に配設されて、位置決めがなされて
いる。
成された凹所４ｄ内に配設されて、位置決めがなされて
いる。
第１のクラッチ板７とドライブギヤ４Ｌ，４Ｒ及び第２
のクラッチ板８とデフケース１との係合関係は、第１の
クラッチ板７の内周ラグ部７ａがドライブギヤ４Ｌ，４
Ｒの係合溝４ｃに係合し、第２のクラッチ板８の外周ラ
グ部８ａがデフケース１の係合溝１ａに係合している。
のクラッチ板８とデフケース１との係合関係は、第１の
クラッチ板７の内周ラグ部７ａがドライブギヤ４Ｌ，４
Ｒの係合溝４ｃに係合し、第２のクラッチ板８の外周ラ
グ部８ａがデフケース１の係合溝１ａに係合している。
サイドギヤ５Ｌ，５Ｒのギヤ部５ｂの外径側肉厚部５ｃ
には、略Ｖ字形状の第１のカム部５ａが形成されてお
り、ドライブギヤ４Ｌ，４Ｒの外径側には、カム部５ａ
と係合する略Ｖ字形状の第２のカム部４ａが形成されて
いる。
には、略Ｖ字形状の第１のカム部５ａが形成されてお
り、ドライブギヤ４Ｌ，４Ｒの外径側には、カム部５ａ
と係合する略Ｖ字形状の第２のカム部４ａが形成されて
いる。
以上の構成において、図示しないドライブピニオンから
リングギヤを介して入力されるトルクがデフケース１に
伝達され、デフケース１の回転が、このデフケースと嵌
合されているピニオンシャフト２に伝達され、ピニオン
シャト２も回転する。このピニオンシャフト２の回転が
ピニオンギヤ３を経て、サイドギヤ５Ｌ，５Ｒへ伝達さ
れる。サイドギヤ５Ｌ，５Ｒに伝達されたトルクは、略
Ｖ字形状のカム部５ａが嵌入係合している略Ｖ字形状の
カム部４ａに伝達され、トリクがドライブギヤ４Ｌ，４
Ｒに伝達されることになる。
リングギヤを介して入力されるトルクがデフケース１に
伝達され、デフケース１の回転が、このデフケースと嵌
合されているピニオンシャフト２に伝達され、ピニオン
シャト２も回転する。このピニオンシャフト２の回転が
ピニオンギヤ３を経て、サイドギヤ５Ｌ，５Ｒへ伝達さ
れる。サイドギヤ５Ｌ，５Ｒに伝達されたトルクは、略
Ｖ字形状のカム部５ａが嵌入係合している略Ｖ字形状の
カム部４ａに伝達され、トリクがドライブギヤ４Ｌ，４
Ｒに伝達されることになる。
例えば、第２図において、サイドギヤ５Ｌがピニオンギ
ヤ３により矢印Ａ方向に回転されると、略Ｖ字形状のカ
ム部５ａと略Ｖ字形状のカム部４ａのスラスト作用によ
り、矢印Ｂ方向にスラスト力が発生し、ドライブギヤ４
Ｌが矢印Ｂ方向に押圧移動される。これによりドライブ
ギヤ４Ｌが第１図において軸方向左側に移動することに
なり、皿バネ９の押圧作用とあいまって、第１のクラッ
チ板７と第２のクラッチ板８とを圧接することになる。
これによりトリクは、デフケース１からドライブギヤ４
Ｌを介して、車軸６Ｌへ直接伝達される。
ヤ３により矢印Ａ方向に回転されると、略Ｖ字形状のカ
ム部５ａと略Ｖ字形状のカム部４ａのスラスト作用によ
り、矢印Ｂ方向にスラスト力が発生し、ドライブギヤ４
Ｌが矢印Ｂ方向に押圧移動される。これによりドライブ
ギヤ４Ｌが第１図において軸方向左側に移動することに
なり、皿バネ９の押圧作用とあいまって、第１のクラッ
チ板７と第２のクラッチ板８とを圧接することになる。
これによりトリクは、デフケース１からドライブギヤ４
Ｌを介して、車軸６Ｌへ直接伝達される。
図上右半分の構成部材間においても前記と同様な作用が
生じ、デフケース１からドライブギヤ４Ｒを介して、車
軸６Ｒへとトルクが直接伝達される。このようにして、
車軸６Ｌ，６Ｒ内の差動回転が制限され、車軸６Ｌ，６
Ｒにトルクが伝達される。
生じ、デフケース１からドライブギヤ４Ｒを介して、車
軸６Ｒへとトルクが直接伝達される。このようにして、
車軸６Ｌ，６Ｒ内の差動回転が制限され、車軸６Ｌ，６
Ｒにトルクが伝達される。
サイドギヤ５Ｌ（５Ｒ）とドライブギヤ４Ｌ（４Ｒ）と
の間にカム部５ａとカム部４ａによるスラスト作用に基
づくスラスト力が発生し、サイドギヤ５Ｌ（５Ｒ）とド
ライブギヤ４Ｌ（４Ｒ）とが一体的に回転を始めるまで
のわずかの間には、サイドギヤ５Ｌ（５Ｒ）とドライブ
ギヤ４Ｌ（４Ｒ）との間に相対回転が発生する。しか
し、それ以外の場合には、サイドギヤ５Ｌ（５Ｒ）とド
ライブギヤ４Ｌ（４Ｒ）とは常時一体的に同一回転をす
るため、皿バネ９が摺動することはなく、摺動摩擦に基
づく摩耗が生じることはない。
の間にカム部５ａとカム部４ａによるスラスト作用に基
づくスラスト力が発生し、サイドギヤ５Ｌ（５Ｒ）とド
ライブギヤ４Ｌ（４Ｒ）とが一体的に回転を始めるまで
のわずかの間には、サイドギヤ５Ｌ（５Ｒ）とドライブ
ギヤ４Ｌ（４Ｒ）との間に相対回転が発生する。しか
し、それ以外の場合には、サイドギヤ５Ｌ（５Ｒ）とド
ライブギヤ４Ｌ（４Ｒ）とは常時一体的に同一回転をす
るため、皿バネ９が摺動することはなく、摺動摩擦に基
づく摩耗が生じることはない。
本考案は、以上説明したように構成されているので、以
下に記載されるような効果を奏する。
下に記載されるような効果を奏する。
サイドギヤとドライブギヤとの間にスラスト作用による
スラスト力が発生する時以外は、常時一体的に同一回転
をするサイドギヤとドライブギヤとの間に皿バネを配設
したことにより、皿バネの摩耗を防止できる。
スラスト力が発生する時以外は、常時一体的に同一回転
をするサイドギヤとドライブギヤとの間に皿バネを配設
したことにより、皿バネの摩耗を防止できる。
皿バネの摩耗がなくなるため、バックラッシュが変化
（増大）することがなくなるので、皿バネの付勢力を有
効に利用することができるとともに、差動状態を一定に
保持することができる。
（増大）することがなくなるので、皿バネの付勢力を有
効に利用することができるとともに、差動状態を一定に
保持することができる。
第１図及び第２図は、本考案の一実施例を示し、第１図
は縦断構成説明図、第２図は第１のカム部と第２のカム
部の係合関係を示す展開説明図、第３図は従来の滑り制
限差動装置を示す縦断構成説明図である。 符号の説明 １……デフケース、１ａ……係合溝 ２……ピニオンシャフト、３……ピニオンギヤ ４Ｌ，４Ｒ……ドライブギヤ、４ａ……カム部 ４ｂ……ボス部、４ｃ……係合溝 ４ｄ……凹所 ５Ｌ，５Ｒ……サイドギヤ ５ａ……カム部、５ｂ……ギヤ部 ５ｃ……外径側肉厚部、６Ｌ，６Ｒ……車軸 ７……第１のクラッチ板、７ａ……ラグ部 ８……第２のクラッチ板、８ａ……ラグ部 ９……皿バネ 11……サイドギヤ、12……プレッシャリング 13……第１のクラッチ板、14……第２のクラッチ板 15……皿バネ
は縦断構成説明図、第２図は第１のカム部と第２のカム
部の係合関係を示す展開説明図、第３図は従来の滑り制
限差動装置を示す縦断構成説明図である。 符号の説明 １……デフケース、１ａ……係合溝 ２……ピニオンシャフト、３……ピニオンギヤ ４Ｌ，４Ｒ……ドライブギヤ、４ａ……カム部 ４ｂ……ボス部、４ｃ……係合溝 ４ｄ……凹所 ５Ｌ，５Ｒ……サイドギヤ ５ａ……カム部、５ｂ……ギヤ部 ５ｃ……外径側肉厚部、６Ｌ，６Ｒ……車軸 ７……第１のクラッチ板、７ａ……ラグ部 ８……第２のクラッチ板、８ａ……ラグ部 ９……皿バネ 11……サイドギヤ、12……プレッシャリング 13……第１のクラッチ板、14……第２のクラッチ板 15……皿バネ
Claims (1)
- 【請求項１】デフケースとともに一体的に回転するピニ
オンシャフトと、前記ピニオンシャフトに回転的に取り
付けられたピニオンギヤと、前記ピニオンギヤと噛み合
いかつ車軸上に遊動的に配設されたサイドギヤと、前記
サイドギヤに形成された第１のカム部と、前記第１のカ
ム部と係合する第２のカム部を有するとともに車軸にス
プライン結合されたドライブギヤと、前記ドライブギヤ
と前記デフケースとの間に交互に配設された前記ドライ
ブギヤと係合する第１のクラッチ板及び前記デフケース
と係合する第２のクラッチ板と、前記サイドギヤと前記
ドライブギヤとの間に配設された前記第１のクラッチ板
と前記第２のクラッチ板とを圧接する皿バネとを有した
ことを特徴とする滑り制限差動装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3506589U JPH0620931Y2 (ja) | 1989-03-28 | 1989-03-28 | 滑り制限差動装置 |
| DE69013037T DE69013037T2 (de) | 1989-03-28 | 1990-03-26 | Schlupfbegrenztes Differential. |
| US07/498,844 US5037362A (en) | 1989-03-28 | 1990-03-26 | Limited slip differential |
| EP90303197A EP0390466B1 (en) | 1989-03-28 | 1990-03-26 | Limited slip deferential |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3506589U JPH0620931Y2 (ja) | 1989-03-28 | 1989-03-28 | 滑り制限差動装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02125236U JPH02125236U (ja) | 1990-10-16 |
| JPH0620931Y2 true JPH0620931Y2 (ja) | 1994-06-01 |
Family
ID=31540099
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3506589U Expired - Lifetime JPH0620931Y2 (ja) | 1989-03-28 | 1989-03-28 | 滑り制限差動装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0620931Y2 (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8900778B2 (en) | 2008-09-01 | 2014-12-02 | D2S, Inc. | Method for forming circular patterns on a surface |
| US8916315B2 (en) | 2009-08-26 | 2014-12-23 | D2S, Inc. | Method for fracturing and forming a pattern using shaped beam charged particle beam lithography |
| US9164372B2 (en) | 2009-08-26 | 2015-10-20 | D2S, Inc. | Method and system for forming non-manhattan patterns using variable shaped beam lithography |
| US9274412B2 (en) | 2008-09-01 | 2016-03-01 | D2S, Inc. | Method and system for design of a reticle to be manufactured using variable shaped beam lithography |
| US9323140B2 (en) | 2008-09-01 | 2016-04-26 | D2S, Inc. | Method and system for forming a pattern on a reticle using charged particle beam lithography |
| US9341936B2 (en) | 2008-09-01 | 2016-05-17 | D2S, Inc. | Method and system for forming a pattern on a reticle using charged particle beam lithography |
| US9372391B2 (en) | 2008-09-01 | 2016-06-21 | D2S, Inc. | Method and system for forming patterns using charged particle beam lithography with variable pattern dosage |
| US9400857B2 (en) | 2011-09-19 | 2016-07-26 | D2S, Inc. | Method and system for forming patterns using charged particle beam lithography |
| US9448473B2 (en) | 2009-08-26 | 2016-09-20 | D2S, Inc. | Method for fracturing and forming a pattern using shaped beam charged particle beam lithography |
| US9465297B2 (en) | 2011-06-25 | 2016-10-11 | D2S, Inc. | Method and system for forming patterns with charged particle beam lithography |
-
1989
- 1989-03-28 JP JP3506589U patent/JPH0620931Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8900778B2 (en) | 2008-09-01 | 2014-12-02 | D2S, Inc. | Method for forming circular patterns on a surface |
| US9268214B2 (en) | 2008-09-01 | 2016-02-23 | D2S, Inc. | Method for forming circular patterns on a surface |
| US9274412B2 (en) | 2008-09-01 | 2016-03-01 | D2S, Inc. | Method and system for design of a reticle to be manufactured using variable shaped beam lithography |
| US9323140B2 (en) | 2008-09-01 | 2016-04-26 | D2S, Inc. | Method and system for forming a pattern on a reticle using charged particle beam lithography |
| US9341936B2 (en) | 2008-09-01 | 2016-05-17 | D2S, Inc. | Method and system for forming a pattern on a reticle using charged particle beam lithography |
| US9372391B2 (en) | 2008-09-01 | 2016-06-21 | D2S, Inc. | Method and system for forming patterns using charged particle beam lithography with variable pattern dosage |
| US8916315B2 (en) | 2009-08-26 | 2014-12-23 | D2S, Inc. | Method for fracturing and forming a pattern using shaped beam charged particle beam lithography |
| US9164372B2 (en) | 2009-08-26 | 2015-10-20 | D2S, Inc. | Method and system for forming non-manhattan patterns using variable shaped beam lithography |
| US9448473B2 (en) | 2009-08-26 | 2016-09-20 | D2S, Inc. | Method for fracturing and forming a pattern using shaped beam charged particle beam lithography |
| US9465297B2 (en) | 2011-06-25 | 2016-10-11 | D2S, Inc. | Method and system for forming patterns with charged particle beam lithography |
| US9400857B2 (en) | 2011-09-19 | 2016-07-26 | D2S, Inc. | Method and system for forming patterns using charged particle beam lithography |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02125236U (ja) | 1990-10-16 |
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