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JPH06209294A - 周波数変調された光信号発生方法および装置 - Google Patents

周波数変調された光信号発生方法および装置

Info

Publication number
JPH06209294A
JPH06209294A JP5212301A JP21230193A JPH06209294A JP H06209294 A JPH06209294 A JP H06209294A JP 5212301 A JP5212301 A JP 5212301A JP 21230193 A JP21230193 A JP 21230193A JP H06209294 A JPH06209294 A JP H06209294A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
frequency
signal
modulation
low
semiconductor laser
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP5212301A
Other languages
English (en)
Inventor
Reinhold Noe
ノエ ラインホルト
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siemens Corp
Original Assignee
Siemens Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens Corp filed Critical Siemens Corp
Publication of JPH06209294A publication Critical patent/JPH06209294A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

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    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03FAMPLIFIERS
    • H03F1/00Details of amplifiers with only discharge tubes, only semiconductor devices or only unspecified devices as amplifying elements
    • H03F1/32Modifications of amplifiers to reduce non-linear distortion
    • H03F1/3241Modifications of amplifiers to reduce non-linear distortion using predistortion circuits
    • H03F1/3252Modifications of amplifiers to reduce non-linear distortion using predistortion circuits using multiple parallel paths between input and output
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04BTRANSMISSION
    • H04B10/00Transmission systems employing electromagnetic waves other than radio-waves, e.g. infrared, visible or ultraviolet light, or employing corpuscular radiation, e.g. quantum communication
    • H04B10/50Transmitters
    • H04B10/501Structural aspects
    • H04B10/503Laser transmitters
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04BTRANSMISSION
    • H04B10/00Transmission systems employing electromagnetic waves other than radio-waves, e.g. infrared, visible or ultraviolet light, or employing corpuscular radiation, e.g. quantum communication
    • H04B10/50Transmitters
    • H04B10/501Structural aspects
    • H04B10/503Laser transmitters
    • H04B10/504Laser transmitters using direct modulation
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04BTRANSMISSION
    • H04B10/00Transmission systems employing electromagnetic waves other than radio-waves, e.g. infrared, visible or ultraviolet light, or employing corpuscular radiation, e.g. quantum communication
    • H04B10/50Transmitters
    • H04B10/58Compensation for non-linear transmitter output
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04BTRANSMISSION
    • H04B10/00Transmission systems employing electromagnetic waves other than radio-waves, e.g. infrared, visible or ultraviolet light, or employing corpuscular radiation, e.g. quantum communication
    • H04B10/60Receivers
    • H04B10/61Coherent receivers
    • H04B10/64Heterodyne, i.e. coherent receivers where, after the opto-electronic conversion, an electrical signal at an intermediate frequency [IF] is obtained

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  • Power Engineering (AREA)
  • Optical Communication System (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 無ひずみの周波数変調された光信号を発生す
るための、信号送信器としての半導体レーザーに適し、
かつ感度損失が回避される方法を提供する。 【構成】 半導体レーザー1の熱的低域通過部分により
ひずませられた周波数変調された光信号Sのひずみ除去
のために、半導体レーザー1を駆動する変調する電圧u
M 、および(または)ひずませられた周波数変調する光
信号S自体、および(または)周波数変調された光信号
Sおよび光参照信号から成る重畳信号のなかに含まれて
いるひずみが、熱的に惹起されるひずみを補償するひず
みを受けさせられる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、無ひずみの周波数変調
された光信号を発生するための方法およびこのような方
法を実施するための装置に関する。
【0002】
【従来の技術】光学的重畳受信の際には、光学的送信レ
ーザーから発生されこの送信レーザーの変調された光の
形態での変調光信号に、受信器のなかで局部発振器レー
ザーの変調されない光の形態での特定の参照周波数の光
参照信号が付加される。公知の直接受信にくらべて重畳
受信の際には複数の提供された送信チャネルを選択する
ためのより高い感度およびより高い選択性が同時に得ら
れる。
【0003】2値周波数シフトキーイング(FSK)が
特に有望な変調方法であることが判明している。なぜな
らば、信号送信器として使用される半導体レーザーが電
流の変更により簡単に周波数変調され得るからである。
理想的には、達成される周波数ストロークは変調周波数
に無関係であるべきであろう。しかしこのことは通常は
実現されない。特に、多くの等しいシンボルから成るシ
ーケンスが無ひずみで伝送され得ない。しばしばビット
エラーレートが高い受信パワーにもかかわらず値1/1
5 以下に抑制され得ない(誤り率)。
【0004】対策として下記の方法が知られている。 −マンチェスターコーディング(R.Noe ほか、Electron
ics Letters 25(1989)12、第757〜759
頁参照)。この方法は、ステップ速度の倍増のゆえに、
高いビットレートに適していない。類似のことが副搬送
波法にも当てはまる。 −交互マーク反転またはAMIコーディング(R.Noe ほ
か、Journal of OpticalCommunications 10(198
9)3、第82〜84頁参照)。この方法は通常の周波
数シフトキーイングにくらべて感度が低い。 −双極性コーディング(R.S.Vodhanel,B.Enning 、Elec
tronics Letters 24(1988)3、第163〜16
5頁参照)。この方法に対してもAMIコーディングの
場合と類似のことが当てはまる。 −決定器から基礎帯域信号への量子化された負帰還(B.
Enning,R.S.Vodhanel 、Electronics Letters 24(1
988)7、第397〜399頁参照)。この量子化さ
れた負帰還の際には周波数シフトキーイングの識別周波
数値は周波数弁別器の出力信号の極大に位置してはなら
ず、その中間に位置しなければならない。それによって
この方法は変調ひずみを補償し得る。しかし、識別周波
数値が極大ではなくその中間に位置するならば、準最適
な減ぜられた受信器感度が生ずることが知られている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、無ひ
ずみの周波数変調された光信号を発生するための、信号
送信器としての半導体レーザーに適した方法であって、
感度損失が回避される方法を提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、半導体
レーザーの熱的低域通過部分によりひずませられた周波
数変調された光信号のひずみ除去のために、半導体レー
ザーを駆動する変調する電圧、および(または)ひずま
せられ周波数変調する光信号自体、および(または)周
波数変調された光信号および光参照信号から成る重畳信
号のなかに含まれているひずみが、熱的に惹起されるひ
ずみを補償するひずみを受けさせられる。
【0007】好ましくは請求項2による半導体レーザー
が使用される。
【0008】このような半導体レーザーにより動作する
2つの代替的な方法が請求項3および4に示されてい
る。これらの方法では受動的なひずみ除去により動作さ
れ得る。
【0009】さらに、請求項5による半導体レーザーを
使用することは有利である。同じく変調する電圧がひず
み除去のためにひずませられる、このような半導体レー
ザーにより動作する有利な方法は請求項6に示されてい
る。この方法は高域および低域通過フィルタにより動作
され得る。
【0010】特に請求項6による方法において、請求項
7により半導体レーザーとしてTTGレーザーを使用す
ることは有利である。
【0011】一般的に、請求項8に定義されているよう
な半導体レーザーを使用することは有利である。このよ
うなレーザーはひずみ除去のすべての3つの本発明によ
る形式に対して有利である。
【0012】請求項8による好ましい半導体レーザーは
請求項9に定義されている。
【0013】請求項10ないし13には、本発明による
方法の代替的な好ましくかつ有利な構成として、それぞ
れ周波数変調された光信号のひずみがこの信号自体にお
ける操作またはこの信号と重畳される参照信号の参照周
波数における操作により修正される構成が示されてい
る。これらの構成は互いに組み合わせて、かつ(また
は)変調周波数がひずみ除去のためにひずませられる方
法、たとえば請求項3ないし7の1つによる方法と組み
合わせて応用可能である。
【0014】本発明による方法の請求項13に示されて
いる好ましくかつ有利な構成は請求項11および12に
よる代替的な構成の1つの組み合わせに相当する。
【0015】請求項14には本発明による方法の好まし
くかつ有利な構成として、ひずみ除去のために変調する
電圧も周波数変調する光信号もひずませられる方法が示
されており、その際に周波数変調する光信号は、周波数
変調された光信号に重畳されている参照信号の参照周波
数の変更によりひずませられる。
【0016】請求項6または7による方法を実施するた
めの装置は請求項15に示されている。請求項16ない
し23には請求項15による装置の好ましくかつ有利な
構成が示されている。
【0017】請求項24には請求項11による方法を実
施するための装置が示されており、請求項25および2
6には請求項24による装置の好ましくかつ有利な構成
が示されている。
【0018】請求項27には請求項12または13によ
る方法を実施するための装置が示されている。
【0019】請求項28には請求項8による方法を実施
するための装置が示されている。
【0020】請求項29には請求項14による方法を実
施するための装置が示されている。
【0021】請求項30には請求項10による方法を実
施するための装置が示されている。
【0022】
【実施例】以下、図面により本発明を一層詳細に説明す
る。
【0023】図面では、電気的な信号経路または導線を
光学的な信号経路または導線から区別するため、光学的
な信号経路および導線は太く示されている。
【0024】図面では、半導体レーザーは1、ポンプ電
極は11、また別の電極は12で示されている。レーザ
ー1は、変調周波数fm の電極11に与えるべき変調す
る電圧uM によりポンピングされ、また変調する電圧u
M に関係する変調された信号周波数fS の周波数変調さ
れた光信号Sを発する。
【0025】ポンプ電極11に変調する電圧uM が直接
に与えられると、レーザー1から放射されたレーザー放
射の形態でのレーザー1から発せられた周波数変調され
た光信号Sは駆動する変調する電圧uM にくらべてひず
ませられている。その理由は、周波数変調された光信号
Sの信号周波数fS の変化δfとポンプ電極11に与え
るべき変調する電圧uM の変化δuM との間の変調周波
数fm に関係する比により与えられている変調急峻度δ
f/δuM が少なくとも第1近似で半導体レーザー1の
周波数伝達関数の熱的な低域通過部分F(fm )の線形
関数a+bF(fm )であることである。ここでaは加
算定数、またbは熱的な低域通過部分F(fm )の比例
係数を意味する。aおよびbは一般的に、虚数部分が零
である実数軸上の値をもとり得る複素数である。以下で
はこのような値のみを考察すれば十分である。
【0026】この現象の説明は以下のように与えられ得
る。その際に、より簡単に示すために、例として、ただ
し一般性を制限することなしに、レーザー1のなかの変
調電圧uM が変調電流iM =uM /50Ωを発生するこ
とが仮定され得る。
【0027】一般的に半導体レーザーのポンプ電流を大
きくすると、このレーザーの能動領域のなかのキャリア
ー密度、従ってまたレーザーの屈折率が大きくなる。こ
のことはレーザーから放射されるレーザー放射のなかの
たとえば約(50ないし300MHz/mA)/50Ω
の加算定数aの値だけの周波数変化に通ずる。レーザー
緩和周波数の付近でのこの特性の変化は本発明にとって
重要でない。
【0028】しかし電流上昇によりレーザーの損失電力
も増大し、それによって次第に温度が上昇する。それに
より、放射されるレーザー放射の周波数も変化する。最
終温度の到達後にそれはほぼ(−1000MHz/m
A)/50Ωである比例係数bの値だけ変化している。
その場合、変調急峻度δf/δuM に対して、前記のよ
うに、 δf/δuM =a+bF(fm ) が成り立つ。その際にさらに、それが最小の第1の周波
数0と特定の第2の周波数fr との間に位置する1つの
特定の第3の周波数ft よりも小さい変調する電圧um
の信号送信器により惹起される低域通過伝達関数F(f
m )に対して本質的に値1をとり、また第3の周波数f
t よりも大きい高い変調周波数fm に対して少なくとも
本質的に値0をとるということが成り立つ。たとえば熱
により惹起される低域通過伝達関数F(fm )は約10
0kHzないし約10MHzの第4の周波数fh に対し
てもはや本質的に0と区別がつかない。
【0029】図2では曲線Iは変調周波数fm に関係し
て1つの例としての半導体レーザー1のポンプ電極11
に関する変調急峻度δf/δuM の絶対値|δf/δu
M |を定性的に示し、また曲線IIは別の電極12に関
するこの絶対値|δf/δuM |を定性的に示す。
【0030】曲線Iは第1の周波数0と第3の周波数f
t との間を平らに延びており、またそこでほぼ値a+b
を有する。それは第3の周波数ft と第4の周波数fh
との間の範囲内ではほぼ値aに下降し、また第4の周波
数fh と比較的にはるかに大きい第2の周波数fr との
間では再びほぼ平らに延びている。
【0031】曲線IIは第1の周波数0と第4の周波数
h に比較して大きい第5の周波数fmax との間では平
らに延びており、またそこでほぼ別の電極12に関する
比例定数cの値を有する。それは第5の周波数fmax
より大きい第2の周波数frとの間では本質的に値0に
下降する。
【0032】fmax >fh であるから、平らな延び方ま
たは周波数特性を有する2つの重なる範囲が存在する。
これらの範囲の1つは0とft との間に、また他方はf
h とfmax との間に位置している。
【0033】これらの2つの重なり範囲は 1)半導体レーザー1のポンプ電極11も別の電極12
も変調すること、および 2)レーザー1のポンプ電極11と、周波数特性が0か
らfmax まで平らである参照信号送信器の電極とを変調
することにより組み合わされ得る。
【0034】2)による変調は参照信号送信器を用いて
量子化された負帰還および(または)中間周波数信号Z
Fに影響を及ぼす自動周波数調節を介して、または周波
数変調された光信号の周波数変換により得られる光信号
の周波数に影響を及ぼす周波数変換器を用いて行われ得
る。
【0035】正の値aの際の値a+b>0および負の値
aの際の値a+b<0に対して低域通過伝達関数F(f
m )は、たとえば抵抗およびコンデンサから形成されて
いてよい簡単な受動的ひずみ除去器により、変調急峻度
δf/δuM が変調周波数fm に無関係な定数であるよ
うに補償され得る。しかしこれは一般的な場合ではな
い。
【0036】図3aには、異なる2値の値、たとえば交
互に変わる2値の値を有する2つの2値パターンBM
1、BM2の間にただ1つの2値の値のより長いビット
列が生ずる場合に対して、信号送信器1から発せられた
2値の周波数変調された光信号Sの信号周波数fS の典
型的な時間的経過が示されている。その際に、2値の値
は信号Sの周波数f0 により、また他方の2値の値はそ
れと異なる周波数f1 により定義されていると仮定され
ている。より長いビット列は時点tA でビットパターン
BM1の後に開始し、また時点tB ですぐ次のビットパ
ターンBM2の開始により終了する。
【0037】図3aからわかるように、信号周波数fS
は時点tA の後に、より長いビット列のただ1つの2値
の値の周波数、たとえば周波数f0 にとどまらずに、時
間的に変化する。時点tB でのすぐ次のビットパターン
BM2の開始以後に初めて2つの2値の値に相当して変
更された周波数が次第に再び、ほぼ時点tC で到達され
るそれらの最初の値f0 およびf1 に復帰する。
【0038】それに対して図3bには、図3aで仮定さ
れた周波数変調された光信号Sの、状況に応じて多かれ
少なかれ達成されるべき所望の理想的経過が示されてい
る。図3bによる信号周波数fS はただ1つの2値の値
のより長いビット列の間もこの2値の値に相当する周波
数、たとえば周波数f0 にとどまる。以上の説明および
請求項1のなかで“無ひずみの周波数変調する信号”と
は、信号送信器1からひずませられて発生された信号
S、たとえば図3aによる信号Sにくらべて理想的な場
合のひずませられない信号Sの方向に改善されている、
またはこの理想的な場合に到達する各周波数変調する信
号Sを意味する。
【0039】周波数変調された光信号Sの理想的経過
は、本発明によれば、変調する電圧uM のひずみおよび
(または)半導体レーザー1により周波数変調された光
信号Sのひずみによるこの信号Sのひずみ除去により完
全にまたは少なくともほぼ達成される。
【0040】図1による実施例では、周波数変調された
光信号Sは受動的ひずみ除去器による変調する電圧uM
のひずみによりひずみ除去される。その際にa+b>0
かつa>0もしくはa+b<0かつa<0が前提とされ
ている。
【0041】この実施例では、ポンプ電極11に供給す
べき変調する電圧uM も別の電極12に供給すべき変調
する電圧uM も、ダンピングし得るひずみ除去器18
1、182および183により、周波数変調された光信
号Sのひずみが完全にまたは部分的に補償されるよう
に、すなわち変調急峻度δf/δuM が少なくともほぼ
一定になるようにひずませられる。
【0042】図1による例では3つのひずみ除去器18
1、182および183が設けられており、これらのう
ち前段に接続されているひずみ除去器181はポンプ電
極11および別の電極12に共通に対応付けられてお
り、ひずみ除去器182はポンプ電極11のみに、また
ひずみ除去器183は別の電極12のみに対応付けられ
ている。一般的にひずみ除去器181又はひずみ除去器
182のいずれかは省略され得る。
【0043】図4による実施例では、熱的な低域通過伝
達関数F(fm )が、前記のように、周波数変調された
光信号Sの特定の第3の周波数ft よりも小さい低い変
調周波数fm に対してはほぼ値1をとり、また第3の周
波数ft と比較して大きい特定の第4の周波数fh より
も大きい高い変調周波数fm に対しては少なくともほぼ
値0をとる半導体レーザー1が使用される。
【0044】この半導体レーザー1の別の電極12は、
変調する電圧uM を別の電極12に与える際にこの別の
電極に関する変調急峻度δf/δuM が少なくとも近似
的に δf/δuM =cFa (fm ) であるように配置されかつ(または)構成されている。
ここでcは別の電極12に関する特定の比例定数、また
a (fm )は変調周波数fm に対するこの電極に関す
るレーザーにより惹起される別の低域通過伝達関数を意
味し、またレーザーにより惹起される別の低域通過伝達
関数Fa (fm )は、第4の周波数fh よりも大きい第
5の周波数fmax よりも小さいまたはそれに等しい変調
周波数fmに対しては、|δf/δuM |に対して定性
的に図2による曲線IIを生ずるように、ほぼ値1をと
る。
【0045】この特性は、ポンピングのための電極とな
らんで同調電極の形態での少なくとも1つの別の電極1
2をも有する半導体レーザー1に当てはまる。比例定数
cはこのようなレーザーに対しては約(−100ないし
+100GHz/mA)/50Ωの値を有する。同時に
通常はfmax は変調信号Uの半ビットレートよりも小さ
く、従って同調電極を介しての直接的変調は十分でな
い。TTGレーザー(K.Droegemueller,S.Illek 、Pr
oc.ECOC90、アムステルダム、オランダ、第1
81〜184頁参照)に対しては比例定数cは約3ない
し10GHz/mA/50Ωであり、またfmax は10
0MHzよりも大きい。
【0046】図4によれば、ポンプ電極11に供給され
た変調する電圧uM を高域通過フィルタするための高域
通過フィルタ装置21と、別の電極12に供給された変
調する電圧uM を低域通過フィルタするための低域通過
フィルタ装置22とが設けられており、低域通過フィル
タ装置22は周波数変調された光信号Sの変調周波数f
m に対する予め定められた低域通過伝達関数F
TP(fm )を有し、またこの低域通過伝達関数FTP(f
m )は第4の周波数fh と第5の周波数fmax との間に
位置する特定の第6の周波数fg にくらべて非常に小さ
い変調周波数fm に対してはほぼ値1をとり、また高域
通過フィルタ装置21の高域通過伝達関数FHP(fm
は1−FTP(fm )に等しく、またこの高域通過伝達関
数FHP(fm )は第6の周波数fg にくらべて大きい変
調周波数fm に対しては少なくともほぼ値1をとる。
【0047】さらに、低域通過フィルタ装置22の前ま
たは後に、フィルタされない変調する電圧uM またはこ
の低域通過フィルタ装置22によりフィルタされた変調
する電圧uM に係数a/cを乗算するための乗算装置2
3が接続されていることは目的にかなっている。ここで
cは特定の比例定数、またaは線形関数a+bF
(fm )の加算定数である。図4による実施例では乗算
装置23は低域通過フィルタ装置22の後に接続されて
いる。図5aには、乗算装置23が低域通過フィルタ装
置22の前に接続されている場合が示されている。
【0048】それに代えて、代替的に、高域通過フィル
タ装置21の前または後に、フィルタされない変調する
電圧uM またはこの高域通過フィルタ装置21によりフ
ィルタされた変調する電圧uM に係数c/aを乗算する
ための乗算装置24が接続されていてよい。図5bに
は、乗算装置24が高域通過フィルタ装置21の後に接
続されている場合が示されており、また図5cには、乗
算装置24が高域通過フィルタ装置21の前に接続され
ている場合が示されている。
【0049】さらに、高域通過フィルタ装置21が配置
されており、半導体レーザー1のポンピングのための電
極11に通ずる信号経路201のなかの信号伝播時間
が、低域通過フィルタ装置22が配置されており、半導
体レーザー1の別の電極12に通ずる信号経路202の
なかの信号伝播時間に等しいことは目的にかなってい
る。これは、必要な場合には、1つまたはそれ以上の遅
延要素を信号経路201および(または)信号経路20
2のなかに挿入することにより実現され得る。
【0050】図4および5aならびに図5bおよび5c
による実施例に対して、伝達関数F(fm )、Fa (f
m )、FHP(fm )およびFTP(fm )に対する上記の
条件のもとに、すべてのこれらの伝達関数および図4お
よび5aの場合には係数a/cおよび図5bおよび5c
の場合には係数c/aが顧慮されている全変調急峻度δ
f/δuM はほぼ δf/δuM =auM (fm ) に等しいこと、すなわちこの全変調急峻度δf/δuM
が実際にほぼ変調周波数fm に無関係であること、従っ
てまた変調する電圧にくらべて周波数変調された光信号
Sのひずみが生じないことが明らかになる。
【0051】変調する電圧が周波数変調された光信号の
ひずみ除去のためにひずませられる方法および装置は一
般に、任意の周波数変調される光学的通信伝送応用に、
たとえばホモダインおよびヘテロダイン受信器のような
光学的重畳受信器にも、他の受信方法、たとえば光学的
周波数弁別器による直接受信にも適しているという利点
を有する。さらに一般に、周波数変調が少なくとも近似
的に理想的な仕方で行われるので、任意の受信器が使用
され得るという利点がある。これらの利点は特に図3、
4aないし4cに示されている本発明の実施例に当ては
まる。
【0052】図6aに示されている高域通過フィルタ装
置21の実施例は、半導体レーザー1のポンプ電極11
に通ずる変調する電圧uM に対する信号経路201のな
かに接続されているキャパシタンス値C1 を有するキャ
パシタンス210と、この信号経路201と基準電位
E、たとえば接地電位との間に接続されている抵抗値R
1 を有する抵抗211とを有する。キャパシタンス値C
1 および抵抗値R1 は fg =1/2πC1 1 が成り立つように選ばれている。ここでfg は前記の第
6の周波数である。
【0053】図6bに示されている低域通過フィルタ装
置22の実施例は、半導体レーザー1の別の電極12に
通ずる変調する電圧uM に対する信号経路202のなか
に接続されている抵抗値R2 を有する抵抗220と、こ
の信号経路202と基準電位E、たとえば接地電位との
間に接続されているキャパシタンス値C2 を有するキャ
パシタンス221とを有する。抵抗値R2 およびキャパ
シタンス値C2 は fg =1/2πC2 2 が成り立つように選ばれている。
【0054】図6cに示されている高域通過および低域
通過フィルタ装置の実施例では、高域通過フィルタ装置
21はキャパシタンス210および抵抗211を有する
図6aによる装置から成っている。それに対して低域通
過フィルタ装置22は、別の電極12に通ずる変調する
電圧uM に対する信号経路202のなかに接続されてい
るインダクタンス値Lを有するインダクタンス222
と、この信号経路202と基準電位E、たとえば接地電
位との間に接続されている抵抗値R3 を有する抵抗22
3とから成っている。半導体レーザー1のポンプ電極1
1に通ずる変調する電圧uM に対する信号経路201の
なかに接続されている高域通過フィルタ装置21のキャ
パシタンス210のキャパシタンス値C1 およびこの信
号経路201と基準電位Eとの間に接続されている抵抗
211の抵抗値R1 ならびに低域通過フィルタ装置22
のインダクタンス222のインダクタンス値Lおよび抵
抗223の抵抗値R3 はそれぞれ fg =1/2πC1 1 =1/(2πR3 /L) が成り立つように選ばれている。
【0055】さらにR1 =R3 に選ぶと、有利な仕方
で、変調する電圧um に対する変調周波数fm に無関係
な入力抵抗が生ずる。
【0056】周波数変調された光信号Sのひずみをこの
信号自体における操作により除去するための装置の図7
および11ないし14に示されている種々の実施例で
は、変調する電圧um を与えるための入力端20および
熱的な伝達関数F(fm )を有する半導体レーザー1な
らびに光学的重畳受信器が前提とされている。入力端2
0はたとえば半導体レーザー1のポンプ電極11の端子
であってよい。
【0057】半導体レーザー1から発せられた周波数変
調された信号周波数fS を有する光信号Sはたとえば光
ファイバ41により受信器の光結合装置4、たとえば光
方向性結合器に供給され、そのなかで周波数変調された
光信号Sに光参照信号送信器3、たとえば受信器の局部
発振器により特定の参照周波数fR の光参照信号RSが
重畳され、こうして互いに重畳させられた両信号が中間
周波数fZF=fS −fR の中間周波数信号ZFを形成す
る。その際にこの中間周波数信号ZFは図2aおよび2
bの前提のもとに時間的に、周波数変調された光信号f
S 自体と同じく挙動し、従ってこれらの両図2aおよび
2bは中間周波数fZFに対しても当てはまる。
【0058】中間周波数信号ZFは受信器の光検出器5
に導かれ、またこれにより電気的信号に変換され、この
電気的信号は受信器の電気的増幅器6において増幅さ
れ、またこの増幅器6の出力端において受信器の出力信
号UA への爾後処理に供され得る。
【0059】図7による第1の実施例では電気的増幅器
6からの電気的中間周波数信号ZFのこの爾後処理は重
要でない。この実施例では、中間周波数fZF=fS −f
R の電気的中間周波数信号ZFが、中間周波数fZFに関
係する振幅信号UDISKを中間周波数信号ZFから発生す
るために、特定の周波数弁別器13に与えられ得ること
のみが重要である。図7による実施例ではそのために中
間周波数信号ZFが増幅器6の後の1つの点において分
岐されている。
【0060】周波数弁別器13は、それから発生される
振幅信号UDISK、たとえば周波数弁別器13の出力電圧
が中間周波数信号ZFの中間周波数fZFの関数として図
8に示されているように挙動するように構成されてい
る。それによればこの振幅信号UDISKは特定の振幅レベ
ルP0 、好ましくは零レベルに関して中間周波数fZF
2つの異なる識別周波数値f0 およびf1 において等し
い方向rに傾けられた2つのレベル通過d0 およびd1
を有する。半導体レーザー1から発せられた周波数変調
された光信号Sが変調する電圧uM にくらべて無ひずみ
の図3bによる理想的な場合には、識別周波数値f0
1 に等しい中間周波数値が生ずる。識別周波数値
0 、f1 からの中間周波数値の周波数偏差の際には、
中間周波数値が振幅信号UDISKの連続的に求められた振
幅レベルPにより発生される出力信号US により生ぜし
められる参照信号RSの参照周波数fR の変化により再
び少なくともほぼ識別周波数値f0 、f1 に復帰するよ
うに調節される。これらの両識別信号f0 およびf1
好ましくは2値信号の2つの2値の値が対応付けられ
る。すなわち識別周波数値f0 にディジタル信号の2値
の値が相当し、識別周波数値f1 に他の2値の値が相当
する。
【0061】図8に示されているように振幅信号UDISK
を発生する周波数弁別器は公知である(R.Noe ほか:E
lectronics Letters 25(198
9)1、第4〜5頁またはT.Imai,K.Iwashita:Pro
c.OOOC´89、神戸、日本、第18C2‐6頁参
照)。両レベル通過d0 およびd1 により、ただ1つの
2値の値の長い列の間に中間周波数fZFを正しい位置に
結び付けることが可能である。
【0062】周波数弁別器13から発生された振幅信号
DISKは調節装置14に供給される。この調節装置14
は、識別周波数値f0 およびf1 に位置する連続的に求
められる振幅信号UDISKの振幅レベルPを実際値とし
て、また特定の振幅レベルP0を目標値として利用し、
またこの目標値P0 からの実際値Pの偏差に関係する出
力信号US を発生する。この出力信号US は参照信号R
Sを発生する周波数変調可能な光参照信号送信器に、目
標値P0 からの実際値Pの偏差が少なくともほぼ取り消
されるように参照信号RSの参照周波数fR を変更する
ための制御信号として供給される。
【0063】図7および8による第1の実施例の特別な
利点は迅速かつ自動的な周波数調節にある。さらに、中
間周波数fZFが少なくとも近似的に図3bに示されてい
る理想的な経過をとるように参照周波数fR を再調整す
れば十分である。調節装置としては典型的にPI調節器
が使用され得る。
【0064】図7による周波数調節ループに類似の調節
ループは原理的に既に知られていることを指摘してお
く。しかしこれらの公知の調節ループにおいて使用され
る周波数弁別器はたいてい、図9から明らかなように、
中間周波数fZFの関数としての出力信号UDEM の1つの
特性を有する。1つの2値信号の2つの2値の値はこの
特性において逆符号の等大の寄与を生じ、その際に中央
の中間周波数fZFは所望のように零通過(f0 +f1
/2に安定化される。従って、2値の値の長い列の間に
この2値の値に属する周波数はこの値に安定化されよ
う。しかしその際に出力信号UDEM は零に等しいので使
用不可能になる。従って、これまでは比較的低い調節器
増幅率、すなわち低い調節器帯域幅が選ばれた。
【0065】図9による特性によれば中間周波数ZFの
安定化は不可能であるが、他方において図10に示され
ているように中間周波数fZFの関数としての出力信号U
DISKの特性を有する復調器によれば準最適な受信器感度
が生ずるであろう。
【0066】本発明により使用される、識別周波数値f
0 およびf1 における等しい方向rに傾けられたレベル
通過d0 およびd1 により、調節器増幅率により決定さ
れる調節器帯域幅fB は有利な仕方でまた従来の技術と
異なって劇的に高められ得る。それによって参照信号送
信器3による送信信号Sの周波数変動の調節が可能にさ
れる。その際に参照信号送信器3の周波数変調特性は0
<fm <fmax (ここでfmax >fB )の範囲内の変調
周波数に対しては少なくとも近似的に一定であるべきで
あろう。その場合に調節は、fB >fh であれば完全に
機能する。このことは通常の半導体レーザーでは不可能
であるので、たとえば同調可能なTTGレーザーが参照
信号送信器3として使用されるべきであろう。その際に
max は約100MHzであり得る。
【0067】図11による実施例では、図7による実施
例とくらべて、電気的中間周波数信号ZFを発生するた
めの装置3ないし6とならんで、変調する電圧uM に少
なくともほぼ相当しまた中間周波数信号ZFから導き出
された信号uA を発生するための装置も必要である。
【0068】導き出された信号uA を発生するためのこ
の装置はたとえば増幅器6からの中間周波数信号ZFを
重畳受信器の出力信号に爾後処理するための図7に示さ
れている装置、すなわち中間周波数信号ZFを復調する
ための復調器7と、復調器7から発せられた復調された
信号の低域通過フィルタリングのためのノイズ消去の役
割をする低域通過フィルタ8と、クロック再取得回路1
0のクロックによりクロックされる、低域通過フィルタ
8から発せられた信号を再生するための決定器回路9と
を有する装置から成っていてよい。決定器回路9は再生
された出力信号を出力端90から発する。クロック再取
得回路10は供給された信号に含まれているクロックを
再取得する。この供給される信号は図7では低域通過フ
ィルタ8からの信号であるが、同じく良好に低域通過フ
ィルタ8に供給される復調器7からの復調された信号で
あってもよい。
【0069】図7によるこの装置では、決定器回路9の
出力端90から取り出し可能な信号は、1/109 より
も小さいかまたはそれに等しい通常の低いビットエラー
レートでは、変調する電圧uM の非常に忠実な再現であ
る。従って、この出力信号は、中間周波数信号ZFから
導き出された、また変調する電圧uM に相当する信号u
A として使用され得る。この導き出された信号uA は出
力端90から直接に取り出されて、または図7により1
つの分岐点91から分岐されて、参照信号Rを発生する
参照信号送信器3の入力端30にこの導き出された信号
A を量子化して負帰還するため、また少なくともほぼ
信号送信器1の伝達関数F(fm )に等しい伝達関数F
QR(fm )を有する導き出された信号uA をひずませる
ための図11に示されている装置15に供給される。そ
の際に参照信号送信器3は、量子化された負帰還のため
の装置15からのひずませられ導き出された信号UQR
より周波数変調可能な光送信器である。
【0070】先に定義された変調急峻度δf/δuM
a+bF(fm )を一緒に決定する係数bにより惹起さ
れる中間周波数fZFの変化は、この実施例では以下に示
されるように広範囲に消去され得る。
【0071】周波数範囲内で fS (fm )=fS0+(a+bF(fm ))・uM (f
m ) fR =fR0+c1 QR(fm )・uA (fm ) が成り立つ。ここでfS0およびfR0は所望の中央の中間
周波数fZP0 =fS0−fR0=(f0 +f1 )/2である
ように選ばれている周波数変調された光信号Sまたは光
参照信号の中央周波数であり、c1 は変調可能な周波数
信号送信器3の周波数変調急峻度および量子化された負
帰還のための装置15の選ばれた基本増幅度から生ずる
比例定数であり、またuA (fm )は変調する電圧uM
に相当する変調され導き出された信号である。FQR(f
m )が少なくともほぼF(fm )に等しく、またuA
少なくともほぼuM に等しく、c1 が少なくともほぼb
に等しく選ばれるという前提のもとに、中間周波数fZF
=fS −fR は少なくともほぼ fZF=fS0−fR0+a・um (fm )=(f0 +f1
/2+a・uM (fm ) となる。すなわちbにより惹起される中間周波数変化は
消去されている。
【0072】量子化された負帰還は参照信号送信器3に
有利な仕方で決定論的な信号のみを供給し、ノイズは供
給しない。従って、この方法はかなり高い周波数まで使
用可能である。
【0073】量子化された負帰還は光結合装置4から図
7中のポジション5ないし9を有する光受信器、量子化
された負帰還のための装置15および参照信号送信器3
を経て結合装置4に戻る閉じられたループのなかの信号
伝播時間t0 の後に初めて有効になる。前記の式のなか
の項bF(fm )がfS (fm )に対して補償されるこ
とが必要条件である。F(fm )は前記の第2の周波数
h まで取るに足りる部分を有するので、少なくとも近
似的に t0 <1/(2πfh ) が成り立たなければならない。fh =10MHzに対し
ては上限としてt0 =16nsが成り立ち、このことが
妥当な技術的費用で実現されるべきである。
【0074】図11による実施例では周波数変調された
信号の図3bによる理想的挙動を可能なかぎり正確に達
成するため、信号送信器1の伝達関数F(fm )が可能
なかぎり正確に模擬されなければならない。その際に、
この伝達関数F(fm )が送信レーザーから送信レーザ
ーへかなり異なっていることにより問題が生ずる。図1
2および13による実施例はその対策として有効であ
る。
【0075】図12による実施例は図7による実施例に
よる迅速な周波数調節と図11による実施例による量子
化された負帰還との組み合わせに相当する。従って、こ
の実施例には図7による周波数弁別器13および調節装
置14も図11による量子化された負帰還のための装置
15も存在している。周波数弁別器13は点67から分
岐された電気的中間周波数信号ZFを、また装置15は
点91から分岐された導き出された信号uA を与えられ
る。さらに,調節装置14の出力信号US および装置1
5によりひずませられ導き出された信号UQRを重畳さ
せ、またこの互いに重畳された信号US +UQRを周波数
変調可能な参照信号送信器3の入力端30に供給するた
めの混合装置16が存在している。
【0076】この組み合わせは、一方では量子化された
負帰還のための装置15の伝達関数FQR(fm )が正確
に信号送信器1の伝達関数F(fm )と合致していなく
てよいという利点を有する。なぜならば、それは周波数
弁別器13および調節装置14による周波数調節により
抑制されるからである。他方では周波数調節ループの帯
域幅fB がより小さく保たれ得る。なぜならば、量子化
された負帰還のための装置15からの高周波の擾乱部分
が調節除去されるからである。より小さい帯域幅fB
より参照周波数発生器へのノイズをわずかにすることが
でき、このことは受信器感度の悪化を防止する。
【0077】図12による実施例で、周波数弁別器13
および調節装置14を有する調節ループを、図8による
弁別器特性を非常に遅く有しかつ(または)有していな
い従来の周波数調節により置換することもできる。図1
2による実施例はこのような実施例にくらべて大きい調
節器帯域幅を有する。
【0078】図13による実施例は、変調する電圧uM
の事前ひずみと特定の量子化された負帰還との組み合わ
せに相当する。変調する電圧uM を事前にひずませるた
めに、変調する電圧uM の高域通過フィルタリングのた
めの特定の高域通過伝達関数FHP(fm )を有する高域
通過フィルタ装置21が設けられている。
【0079】量子化された負帰還のためには、半導体レ
ーザー1から発せられた周波数変調された光信号Sと光
参照信号送信器3から発せられ特定の参照周波数fR
有する参照信号RSとの重畳により中間周波数信号ZF
を発生するための装置が必要である。この装置は図7に
よる結合装置4、光検出器5および増幅器6により構成
することができる。
【0080】さらに、中間周波数信号ZFから導き出さ
れ、また変調する電圧uM に少なくともほぼ相当する信
号UA を発生するための装置が必要である。この装置は
図7による弁別器10、復調器8、決定回路9およびク
ロック再取得回路10により構成することができる。
【0081】中間周波数信号ZFから導き出された信号
A は、参照信号Rを発生する参照信号送信器に、たと
えば図7による参照信号送信器3の入力端30にこの導
き出された信号UA を量子化して負帰還するため、また
高域通過伝達関数FHP(fm)に対して相補性の低域通
過伝達関数1−FHP(fm )を有する導き出された信号
A をひずませるための装置16に与えられる。その際
に参照信号送信器は、量子化された負帰還を得るための
装置16によりひずませられ導き出された信号UQRによ
り周波数変調可能である光送信器でなければならない。
【0082】図11によるこの実施例では高域通過伝達
装置21は有利な仕方でほぼ前記第4の周波数fg を上
回る周波数のみを通すべきであろう。
【0083】周波数範囲内で fS (fm )=fS0+(a+bF(fm ))F
HP(fm )uM (fm ) fR =fR0+c1 (1−FHP(fm ))uA (fm ) が成り立つ。その際にuA は少なくともほぼuM に等し
い。さらにc1 =aに選ぶと、中間周波数fZF=fS
R は fZF=fS0−fR0(a+b(fm )FHP(fm ))uM
(fm ) となる。
【0084】さらに第4の周波数fg を第2 の周波数f
hよりも大きく選ぶと、F(fm )およびFHP(fm
は重なりを有せず、または無視可能な重なりのみを有
し、また少なくともほぼ fZP=fS0−fR0+auM (fm ) が成り立つ。すなわち、bにより惹起される中間周波数
の変化はここでも消去されており、従って知られていな
い熱的なレーザー周波数応答と無関係であり、このこと
はレーザー特性選定の際および量子化された負帰還のた
めの装置16の回路設計の際に顕著なコスト上の利点を
意味する。
【0085】光結合装置4から図7中のポジション5な
いし9を有する光受信器、量子化された負帰還のための
装置16および参照信号発生器3を経て結合装置4へ戻
る閉じられたループのなかの信号伝播時間t0 は、擾乱
項の消去のために1/2πfg よりも小さく選ばれる。
さらに、参照信号送信器3が迅速な周波数変化を行い得
るように、fmax はfg よりも大きく、またはそれに等
しく選ばれる。
【0086】図14による実施例は周波数変換により動
作する。半導体レーザー1から発せられた周波数変調さ
れた光信号Sから、変調周波数fm に関係する誤差信号
FEが発生される。この誤差信号は少なくともほぼ比例
定数d.bで半導体レーザー1の周波数伝達関数の熱的
低域通過部分F(fm )および変調する電圧uM に比例
している。
【0087】この電気的誤差信号UFEにより、周波数変
調された光信号Sの信号周波数fSの周波数変換を行う
電気的に制御可能な周波数変換器17が制御される。
【0088】誤差信号UFEの比例定数d・bは、周波数
変換器17の出力端170に、変調する電圧uM にほぼ
比例しており、また半導体レーザー1の周波数伝達関数
の熱的低域通過部分F(fm )に関係しない光出力信号
S´の周波数変換された光周波数f´S が得られるよう
に選ばれる。
【0089】周波数変換器17が、その光出力信号S´
の周波数変換された光周波数fS ´がそれに供給された
周波数変調された光信号Sの信号周波数fS と周波数変
換器17の制御入力端171に与えられている電気的制
御信号UC とに fS ´=fS +e.UC +g ここでgは零であってもよい1つの定数 が成り立つように関係することを特徴としているなら
ば、周波数変調された光信号Sの信号周波数fS に対す
る明示的な表現 fS (fm )=fS0+(a+b.F(fm )))・uM
(fm ) と結び付いて選択d=−1/eおよびUFE=UC によ
り、周波数変換器170の光出力信号S´の周波数変換
された光周波数fS ´に対して表現 fS ´=fS0+a.uM (fm )+g が得られる。その際にfS0は周波数変調された光信号S
の一定の搬送波周波数を意味し、a.uM (fm )は所
望の、変調周波数fm に無関係な、周波数変換された光
信号S´の無ひずみ性を示す平らな周波数応答を意味
し、またgは半導体レーザー1からの周波数変調された
光信号にくらべての、零であってもよい周波数不一致を
意味する。
【0090】図14にはこの周波数変換の回路的な構成
がブロック接続図で示されている。半導体レーザー1か
らの周波数変調された光信号は2つの出力端191およ
び192を有する光分割器19の入力端190に供給さ
れている。この分割器19は供給され周波数変調された
光信号Sを出力端191に供給される信号部分および出
力端192に供給される信号部分に分割する。出力端1
91からの信号部分は周波数変換のために周波数変換器
17の入力端172に供給される。出力端192からの
信号部分は誤差信号発生器18の入力端184に供給さ
れ、誤差信号発生器18はこの供給された信号部分に関
係して電気的誤差信号UFEを出力端185に発生し、こ
の誤差信号は周波数変換器17の制御入力端171に供
給されている。
【0091】分割器19および誤差信号発生器18の具
体的な構成は光方向性結合器4と、光検出器5と、増幅
器6と、点67を介して増幅器6と接続された周波数弁
別器13とにより与えられている図7の回路部分に存し
得る。周波数弁別器13の出力信号UDISKが周波数変換
器17の入力端171に供給される誤差信号UFEとして
使用される。図7中で光検出器5と向かい合っていない
光方向性結合器4の右側自由端は、周波数変換器17の
入力端172と接続すべき分割器の出力端を形成してい
る。図7中のポジション14および3もポジション7な
いし10も図14による回路に対しては省略される。
【図面の簡単な説明】
【図1】受動的ひずみ除去器の形態でのフィルタにより
変調する電圧をひずませることによって、熱的に惹起さ
れるひずませられた周波数変調された光信号のひずみを
除去するための本発明による装置の一実施例の概要図。
【図2】変調周波数に関係してレーザーのポンプ電極お
よび別の電極に対する変調急峻度の絶対値を例示的かつ
定性的に示すダイアグラム。
【図3】aは交代する2値の値を有する2つのビットパ
ターンの間にただ1つの2値の値のより長いビット列が
生ずる場合について、半導体レーザーから発せられた周
波数変調された2値の光信号の信号周波数の典型的な時
間的挙動を示すダイアグラム、bはaで仮定された周波
数変調された光信号の所望の理想的挙動を時間tを横軸
にとって示すダイアグラム。
【図4】高域および低域通過フィルタにより変調する電
圧をひずませることによって、熱的に惹起されるひずま
せられた周波数変調された光信号のひずみを除去するた
めの本発明による装置の一実施例の概要図。
【図5】aは図1による実施例の変形の要部の概要図、
bは図1による実施例の別の変形の要部の概要図、cは
図1による実施例のさらに別の変形の要部の概要図。
【図6】aは図1による実施例の高域通過フィルタ装置
の一例の概要図、bは図1による実施例の低域通過フィ
ルタ装置の一例の概要図、cは図1による実施例の高域
通過および低域通過フィルタ装置の一例の概要図。
【図7】周波数変調された光信号自体をこの信号に重畳
される参照信号によりひずませることによって、熱的に
惹起されるひずませられ周波数変調された光信号のひず
みを除去するための装置の第1の実施例の概要図。
【図8】周波数変調された光信号から参照信号による重
畳により発生された中間周波数信号に対する、図7によ
る実施例で使用される周波数弁別器の1つの出力電圧を
中間信号の中間周波数に関係して示すダイアグラム。
【図9】図8による周波数弁別器の特性と比較して、周
波数変調された光信号から従来の重畳受信により得られ
る中間周波数信号の復調のために使用される周波数弁別
器の出力電圧をこの中間周波数信号の中間周波数に関係
して示すダイアグラム。
【図10】図8および9による周波数弁別器の特性と比
較して、周波数変調された光信号から従来の重畳受信に
より得られる中間周波数信号の復調のために使用される
他の周波数弁別器の出力電圧をこの中間周波数信号の中
間周波数に関係して示すダイアグラム。
【図11】周波数変調された光信号自体をこの信号に重
畳される参照信号によりひずませることによって、熱的
に惹起されるひずませられ周波数変調された光信号のひ
ずみを除去するための装置の第2の実施例の概要図。
【図12】周波数変調された光信号自体をこの信号に重
畳される参照信号によりひずませることによって、熱的
に惹起されるひずませられた周波数変調された光信号の
ひずみを除去するための装置の第3の実施例の概要図。
【図13】変調信号も周波数変調された信号自体もひず
ませることによって、熱的に惹起されるひずませられ周
波数変調された光信号のひずみを除去するための装置の
実施例の概要図。
【図14】周波数変調された信号をひずませることによ
って、熱的に惹起されるひずませられ周波数変調された
光信号のひずみを除去するための装置であって、ひずみ
除去のために周波数変換器が使用されている装置の別の
実施例の概要図。
【符号の説明】
1 半導体レーザー 3 参照信号送信器 4 光重畳信号の発生のための装置 5、6 電気的中間信号の発生のための装置 7〜10 変調する電圧の発生のための装置 11 ポンプ電極 12 別の電極 13 周波数弁別器 14 調節装置 15 量子化された負帰還のための装置 16 加算または減算装置 17 周波数変換器 18 誤差信号発生器 21 高域通過フィルタ装置 22 低域通過フィルタ装置 23、24 乗算装置 181〜183 フィルタ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H04B 10/06

Claims (30)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体レーザー(1)のポンプ電極(1
    1)に与えられまた変調周波数(fm )により変調する
    電圧(uM )による半導体レーザー(1)のポンピング
    により、周波数変調された光信号(S)を発生するため
    の方法において、半導体レーザー(1)は、発生される
    周波数変調された光信号(S)のひずみを生じさせる、
    変調周波数(fm )に関係する熱的な低域通過部分(F
    (fm))を有する周波数伝達関数を有し、 熱的な低域通過部分(F(fm ))により惹起されるひ
    ずみが完全にまたは部分的に除去されている周波数変調
    された信号(S)を発生するため、 a)ポンプ電極(11)とならんで変調する電圧
    (uM )を与えるための別の電極(12)を有する半導
    体レーザー(1)が使用され、ポンプ電極(11)に与
    えられる変調する電圧(uM )と別の電極(12)に与
    えられる変調する電圧とが、ひずませられ変調する電圧
    (uM )が一緒に周波数変調された光信号(S)のひず
    みを完全にまたは部分的に補償するようにひずませら
    れ、かつ(または) b)周波数変調された光信号(S)自体がこの信号
    (S)の信号周波数(fS )に関して、この信号(S)
    のひずみを完全にまたは部分的に補償するひずみを受け
    させられ、かつ(または) c)周波数変調された光信号(S)と特定の変調可能な
    参照周波数(fR )の光参照信号(RS)との重畳によ
    り、周波数変調された光学的重畳信号(USR)が発生さ
    れ、また参照信号(RS)が参照周波数(fR )に関し
    て、重畳信号(USR)のなかに含まれている周波数変調
    された光信号のひずみを完全にまたは部分的に補償する
    ひずみを受けさせられることを特徴とする周波数変調さ
    れた光信号発生方法。
  2. 【請求項2】 周波数伝達関数がポンプ電極(11)に
    与えられる変調する電圧(uM )に関して少なくともほ
    ぼ熱的低域通過部分(F(fm ))の線形関数(a+b
    F(fm ))である半導体レーザー(1)が使用される
    ことを特徴とする請求項1記載の方法。
  3. 【請求項3】 熱的な低域通過部分(F(fm ))の線
    形関数(a+bF(fm ))が熱的な低域通過部分(F
    (fm ))の比例係数(b)および加算定数(a)を有
    し、 加算定数(a)と、この加算定数(a)と熱的な低域通
    過部分(F(fm ))の比例係数(b)との和(a+
    b)とがそれぞれ正の数値であり、またポンプ電極(1
    1)に供給すべき変調する電圧(uM )も別の電極(1
    1)に供給すべき変調する電圧(uM )もそれぞれフィ
    ルタ(181、183、181、182、183)によ
    り、周波数変調された光信号(S)のひずみが完全にま
    たは部分的に補償されるようにひずませられることを特
    徴とする請求項2記載の方法。
  4. 【請求項4】 熱的な低域通過部分(F(fm ))の線
    形関数(a+bF(fm ))が熱的な低域通過部分(F
    (fm ))の比例係数(b)および加算定数(a)を有
    し、 加算定数(a)と、この加算定数(a)と熱的な低域通
    過部分(F(fm ))の比例係数(b)との和(a+
    b)とがそれぞれ負の数値であり、また少なくともポン
    プ電極(11)に供給すべき変調する電圧(uM )が少
    なくとも1つのフィルタ(181、182)により、周
    波数変調された光信号(S)のひずみが完全にまたは部
    分的に補償されるようにひずませられることを特徴とす
    る請求項2記載の方法。
  5. 【請求項5】 レーザー(1)が別の電極(12)に与
    えられる変調する電圧(uM )に関して、別の電極(1
    2)に関して決定された比例定数(c)を乗算された、
    小さい変調周波数(fm )に対しては値1を、また非常
    に大きい変調周波数(fm )に対しては値0を有する低
    域通過伝達関数(Fa (fm )に等しい、変調周波数
    (fm )に関係する伝達関数(cFa (fm ))を有す
    ることを特徴とする請求項1ないし4の1つに記載の方
    法。
  6. 【請求項6】 変調する電圧(uM )がポンプ電極(1
    1)には高域通過フィルタされて、また別の電極(1
    2)には低域通過フィルタされて供給されることを特徴
    とする請求項2または5記載の方法。
  7. 【請求項7】 半導体レーザー(1)として1つのTT
    Gレーザーが使用されることを特徴とする請求項1ない
    し6の1つに記載の方法。
  8. 【請求項8】 周波数変調された光信号(S)の信号周
    波数(fS )の変化(δf)とポンプ電極(11)に与
    えるべき変調する電圧(uM )の変化(δuM )との間
    の、変調周波数(fm )に関係する比により与えられて
    いる、ポンプ電極(11)に関する変調急峻度(δf/
    δuM )の絶対値(|δf/δuM |)および(また
    は)周波数変調された光信号(S)の信号周波数
    (fS )の変化(δf)とこの変化(δf)を生じさせ
    る別の電極(12)に与えるべき変調する電圧(uM
    の変化(δuM )との間の、変調周波数(fm )に関係
    する比により与えられている、別の電極(12)に関す
    る変調急峻度(δf/δuM )の絶対値(|δf/δu
    M |)が1つの少なくともほぼ平らな経過を有する変調
    周波数(fm )の周波数範囲が、最小の第1の周波数
    (0)とこの第1の周波数と比較して大きい第2の周波
    数(fr )との間のすべての範囲を含んでいる半導体レ
    ーザー(1)が使用されることを特徴とする請求項2な
    いし7の1つに記載の方法。
  9. 【請求項9】 ポンプ電極(11)に関する変調急峻度
    (δf/δuM )の絶対値(|δf/δuM |)が少な
    くとも変調周波数(fm )の第1の周波数(0)と第1
    の周波数(0)と比較して大きくまた第2の周波数(f
    r )と比較して小さい特定の第3の周波数(ft )との
    間の周波数範囲内で、また第3の周波数(ft )と比較
    して大きい特定の第4の周波数(fh )よりも大きい変
    調周波数(fm )に対して1つの少なくともほぼ平らな
    経過を有し、また別の電極(12)に関する変調急峻度
    (δf/δuM )の絶対値(|δf/δuM |)が少な
    くとも変調周波数(fm )の第1の周波数(0)と第4
    の周波数(fn )と比較して大きい第5の周波数(f
    max )との間の周波数範囲内で少なくとも近似的に平ら
    な経過を有する半導体レーザー(1)が使用されること
    を特徴とする請求項8記載の方法。
  10. 【請求項10】 半導体レーザー(1)から発せられた
    周波数変調された光信号(S)から、少なくともほぼ特
    定の比例定数(d.b)により半導体レーザー(1)の
    周波数伝達関数の熱的な低域通過部分(F(fm ))お
    よび変調する電圧(uM )に比例している電気的誤差信
    号(UFE)が発生され、 この誤差信号(UFE)により、周波数変調された光信号
    (S)の信号周波数(fs )の周波数シフトを生じさせ
    る制御可能な周波数変換器(17)が制御され、また誤
    差信号(UFE)の比例定数(d.b)が、周波数変換器
    (17)の出力端(170)における光出力信号(S
    ´)の光周波数(fs ´)が変調される電圧(uM )に
    ほぼ比例するように、また半導体レーザー(1)の周波
    数伝達関数の熱的な低域通過部分(F(fm ))に関係
    しないように選ばれることを特徴とする請求項1ないし
    9の1つに記載の方法。
  11. 【請求項11】 重畳信号(USR)から得られた中間周
    波数信号(UZF)の中間周波数(fZF)に関係する振幅
    信号(UDISK)が、この振幅信号(UDISK)が特定の振
    幅レベル(P0 )に関して中間周波数(fZF)の2つの
    特定の互いに異なる識別周波数値(f0 、f1 )におい
    て等しい方向(r)に傾けられた少なくとも2つのレベ
    ル通過(d0 、d1 )を有するように発生され、また半
    導体レーザー(1)から発せられた周波数変調された光
    信号(S)がひずませられていない理想的な場合には、
    これらの識別周波数値(f0 、f1 )に等しい中間周波
    数値が生じ、また識別周波数値(f0 、f1 )からの中
    間周波数値の周波数偏差の際には、中間周波数値が振幅
    信号(UDISK)の連続的に求められた振幅レベル(P)
    により発生される出力信号(US )により生ぜしめられ
    る参照信号(RS)の参照周波数(fR )の1つの変化
    により再び少なくともほぼ識別周波数値(f0 、f1
    に復帰するように調節されることを特徴とする請求項1
    または10記載の方法。
  12. 【請求項12】 光学的重畳信号(USR)から得られた
    中間周波数信号(UZF)から、変調する電圧(uM )に
    相当する信号(uA )が導き出され、また導き出された
    信号(uA )が、半導体レーザー(1)の変調周波数
    (fm )に関係する伝達関数(F(fm ))に少なくと
    もほぼ等しい周波数伝達関数(FQR(fm ))の低域通
    過フィルタ部分(F(fm ))によりひずませられ、ま
    たこのひずませられた信号(UQR)が、周波数変調され
    た光信号(S)の中間周波数信号(UZF)のなかに含ま
    れているひずみの完全なまたは部分的な補償のために参
    照信号(R)に対して行われる周波数変調の発生のため
    に使用されることを特徴とする請求項1ないし11の1
    つに記載の方法。
  13. 【請求項13】 中間周波数(fZF)に関係する信号
    (UDISK)が連続的に、これらの識別周波数値(f0
    1 )において特定の振幅レベル(P0 )からのこの信
    号(UDISK)の実際の振幅レベル(P)の偏差、従って
    また識別周波数値(f0 、f1 )からの中間周波数値の
    偏差が存在するか否かに関してチェックされ、このよう
    な偏差に関係する出力信号(US )が発生され、またこ
    の出力信号(US )およびひずませられた信号(UQR
    が互いに参照信号(RS)の参照周波数(fR )の変化
    として重畳されて、周波数変調された光信号(S)の重
    畳信号(USR)のなかに含まれているひずみの完全なま
    たは部分的な補償のために使用れさることを特徴とする
    請求項11または12記載の方法。
  14. 【請求項14】 重畳信号(USR)から得られた中間周
    波数信号(UZF)から、変調する電圧(uM )に相当す
    る信号(uA )が導き出され、変調する電圧(uM )が
    変調周波数(fm )に対する高域通過伝達関数(F
    HP(fm ))によりひずませられて半導体レーザー
    (1)に供給され、また導き出された信号(uA )が変
    調周波数(fm )の高域通過伝達関数(FHP(fm ))
    に対して少なくとも近似的に相補性の低域通過伝達関数
    (約1−FHP(fm ))によりひずませられ、またこの
    ひずませられた信号(UQR)が周波数変調された光信号
    (S)の重畳信号(USR)のなかに含まれているひずみ
    の完全なまたは部分的な補償のために参照信号(R)に
    対して行われる周波数変調の発生のために使用されるこ
    とを特徴とする請求項1ないし13の1つに記載の方
    法。
  15. 【請求項15】 請求項6または7による方法を実施す
    るための装置において、 半導体レーザー(1)のポンプ電極(11)に供給すべ
    き変調する電圧(uM)の高域通過フィルタリングのた
    めの高域通過フィルタ装置(21)と、 半導体レーザー(1)の別の電極(12)に供給すべき
    変調する電圧(uM )の低域通過フィルタリングのため
    の低域通過フィルタ装置(22)とを含んでおり、 低域通過フィルタ装置(22)が、第6の周波数
    (fg )にくらべて非常に小さい変調周波数(fm )に
    対してほぼ値1をとり、また第6の周波数(fg )にく
    らべて非常に大きい変調周波数(fm )に対してほぼ値
    0をとる変調周波数(fm )に対する予め定められた低
    域通過伝達関数(FTP( m ))を有し、また高域通過
    フィルタ装置(21)の高域通過伝達関数(F
    HP( m ))が値1から低域通過フィルタ装置(22)
    の低域通過伝達関数(FTP( m ))を差し引いた値に
    等しいことを特徴とする周波数変調された光信号発生装
    置。
  16. 【請求項16】 第6の周波数(fg )が第4の周波数
    (fh )と第5の周波数(fmax )との間に位置してい
    ることを特徴とする請求項15記載の装置。
  17. 【請求項17】 低域通過フィルタ装置(22)の前ま
    たは後に、フィルタされない、またはこの低域通過フィ
    ルタ装置(22)によりフィルタされた変調する電圧
    (uM )に、この周波数伝達関数(a+bF(fm ))
    の熱的な低域通過部分(F(fm ))の線形関数(a+
    bF(fm ))の形態での周波数伝達関数の加算定数
    (a)を別の電極(12)に関する特定の比例係数
    (c)により除算した値に等しい係数(a/c)を乗算
    するための乗算装置(23)が接続されていることを特
    徴とする請求項15または16記載の装置。
  18. 【請求項18】 高域通過フィルタ装置(21)の前ま
    たは後に、フィルタされない、またはこの高域通過フィ
    ルタ装置(21)によりフィルタされた変調する電圧
    (uM )に、この周波数伝達関数(a+bF(fm ))
    の熱的な低域通過部分(F(fm ))の線形関数(a+
    bF(fm ))の形態での周波数伝達関数の加算定数
    (a)により別の電極(12)に関する特定の比例定数
    (c)を除算した値に等しい係数(c/a)を乗算する
    ための乗算装置(24)が接続されていることを特徴と
    する請求項15または16記載の装置。
  19. 【請求項19】 高域通過フィルタ装置(21)が、半
    導体レーザー(1)のポンプ電極(11)に通ずる変調
    する電圧(uM )に対する信号経路(201)のなかに
    接続されているキャパシタンス(210)と、この信号
    経路(201)と基準電位(E)との間に接続されてい
    る抵抗(211)とを有することを特徴とする請求項1
    5ないし18の1つに記載の装置。
  20. 【請求項20】 低域通過フィルタ装置(22)が、半
    導体レーザー(1)の別の電極(12)に通ずる変調す
    る電圧(uM )に対する信号経路(202)のなかに接
    続されている抵抗(220)と、第2の信号経路(20
    2)と基準電位(E)との間に接続されているキャパシ
    タンス(221)とを有することを特徴とする請求項1
    6ないし19の1つに記載の装置。
  21. 【請求項21】 低域通過フィルタ装置(22)が、半
    導体レーザー(1)の別の電極(12)に通ずる変調す
    る電圧(uM )に対する信号経路(202)のなかに接
    続されているインダクタンス(222)とこの信号経路
    (202)と基準電位(E)との間に接続されている抵
    抗(223)とを有することを特徴とする請求項15な
    いし19の1つに記載の装置。
  22. 【請求項22】 高域通過フィルタ装置(21)のキャ
    パシタンス(210)のキャパシタンス値(C1 )およ
    び抵抗(211)の抵抗値(R2 )ならびに低域通過フ
    ィルタ装置(22)の抵抗(220)の抵抗値(R1
    およびキャパシタンス(221)のキャパシタンス値
    (C2 )が、高域通過フィルタ装置(21)のキャパシ
    タンス値(C1 )および抵抗値(R1 )から形成される
    積(C11 )が低域通過フィルタ装置(22)の抵抗
    値(R2 )およびキャパシタンス値(C2 )から形成さ
    れる積(R2 2 )に等しいように選ばれていることを
    特徴とする請求項19または20記載の装置。
  23. 【請求項23】 高域通過フィルタ装置(21)のキャ
    パシタンス(210)のキャパシタンス値(C1 )およ
    び抵抗(211)の抵抗値(R2 )ならびに低域通過フ
    ィルタ装置(22)のインダクタンス(222)のイン
    ダクタンス(L)および抵抗(223)の抵抗値
    (R3 )が、高域通過フィルタ装置(21)のキャパシ
    タンス値(C1 )および抵抗値(R1 )から形成される
    積(C1 1)が低域通過フィルタ装置(22)のイン
    ダクタンス値(L)をその抵抗値(R3 )により除算す
    ることにより形成される商(L/R3 )に等しいように
    選ばれていることを特徴とする請求項19または21記
    載の装置。
  24. 【請求項24】 請求項11による方法を実施するため
    の装置において、 中間周波数信号(ZF)から中間周波数(fZF)に関係
    する振幅信号(UDISK)を発生するための周波数弁別器
    (13)と、 振幅信号(UDISK)の連続的に求められる振幅レベル
    (P)を実際値として、また特定の振幅レベル(P0
    を目標値として利用しており、この目標値からのこの実
    際値(P)の偏差に関係する出力信号(US )を発生す
    る調節装置(14)とを含んでおり、この出力信号(U
    S )が参照信号(RS)を発生する周波数変調可能な光
    参照信号送信器(3)に、目標値(P0 )からの実際値
    (P)の偏差が少なくとも近似的に除去されるように参
    照信号(RS)の参照周波数(fR)を変更するための
    制御信号として供給されていることを特徴とする周波数
    変調された光信号発生装置。
  25. 【請求項25】 参照信号(RS)を発生する周波数変
    調可能な光参照信号送信器(3)が、周波数変調された
    光信号(S)に対して予定されている変調周波数範囲に
    わたって少なくとも近似的に一定である周波数変調特性
    を有することを特徴とする請求項24記載の装置。
  26. 【請求項26】 参照信号(RS)を発生する周波数変
    調可能な光参照信号送信器(3)が同調可能なTTGレ
    ーザーを有することを特徴とする請求項25記載の装
    置。
  27. 【請求項27】 請求項12または13による方法を実
    施するための装置において、 半導体レーザー(1)から発せられた周波数変調された
    光信号(S)と光参照半導体レーザー(3)から発生さ
    れまた特定の参照周波数(fR )を有する参照信号(R
    S)との重畳により光学的重畳信号(URS)を発生する
    ための装置(4)と、 光学的重畳信号(URS)から1つの電気的な中間周波数
    信号(UZF)を発生するための装置(5、6)と、 中間周波数信号(UZF)から変調する電圧(uM )に少
    なくともほぼ相当する導き出された信号(uA )を発生
    するための装置(7、8、9、10)と、 参照信号(R)を発生する参照信号送信器(3)に導き
    出された信号(uA )を量子化して負帰還するため、ま
    た少なくともほぼ半導体レーザー(1)の周波数伝達関
    数(a+bF(fm ))の低域通過部分(F(fm ))
    に等しい伝達関数(FQR(fm ))を有する導き出され
    た信号(uA )をひずませるための装置(15)とを含
    んでおり、 参照信号送信器(3)が、量子化された負帰還のための
    装置(15)からのひずませられ導き出された信号(U
    QR)により周波数変調可能な光送信器であることを特徴
    とする周波数変調された光信号発生装置。
  28. 【請求項28】 請求項8による方法を実施するための
    装置において、 目標値(P0 )からの実際値(P)の偏差に関係する出
    力信号(US )およびひずませられ導き出された信号
    (UQR)を重畳させ、またこの互いに重畳された信号
    (US +UQR)を周波数変調可能な参照信号送信器
    (3)に供給するための加算または減算装置(16)を
    含んでいることを特徴とする請求項24ないし26およ
    び請求項27の1つに記載の装置。
  29. 【請求項29】 請求項14による方法を実施するため
    の装置において、 半導体レーザー(1)のポンプ電極(11)に与えるべ
    き変調する電圧(uM)を高域通過フィルタリングする
    ための特定の高域通過伝達関数(FHP(f(m))を有
    する高域通過フィルタ装置(21)と、 半導体レーザー(1)から発せられた周波数変調された
    光信号(S)と光参照信号送信器(3)から発生されま
    た特定の参照周波数(fR )を有する光参照信号(R)
    との重畳により光学的重畳信号(URS)を発生するため
    の装置(4)と、 光学的重畳信号(USR) から変調信号(U)に少なくと
    もほぼ相当する導き出された信号(uA )を発生するた
    めの装置(5ないし10)と、 参照信号(RS)を発生する参照半導体レーザー(3)
    に導き出された信号(uA )を量子化して負帰還するた
    め、また高域通過伝達関数(FHP(fm ))に対して少
    なくともほぼ相補性の低域通過伝達関数(1−FHP(f
    m ))を有する導き出された信号(uA )をひずませる
    ための装置(16)とを含んでおり、 参照信号送信器(3)が、ひずませられ導き出された信
    号(UQR)により周波数変調可能な光送信器であること
    を特徴とする周波数変調された光信号発生装置。
  30. 【請求項30】 請求項10による方法を実施するため
    の装置において、 周波数変調された光信号(S)を2つの信号部分に分割
    するための光分割器(19)と、 両信号部分の1つを供給されており、また供給された制
    御信号に関係して、供給された信号部分における周波数
    変換を行う制御可能な周波数変換器(17)と、 他方の信号部分を供給されており、またこの信号部分に
    関係して、周波数変換器(17)に制御信号として供給
    される誤差信号(UFE)を発生する誤差信号発生器(1
    8)とを含んでいることを特徴とする周波数変調された
    光信号発生装置。
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