JPH06208098A

JPH06208098A - 基板洗浄装置

Info

Publication number: JPH06208098A
Application number: JP5233790A
Authority: JP
Inventors: Harumichi Hirose; 治道広瀬; Hitoshi Sato; 均佐藤; Choichi Kimura; 長市木村
Original assignee: Shibaura Engineering Works Co Ltd
Current assignee: Shibaura Mechatronics Corp
Priority date: 1993-09-20
Filing date: 1993-09-20
Publication date: 1994-07-26
Anticipated expiration: 2011-06-05
Also published as: JP2504916B2

Abstract

(57)【要約】【目的】簡単な構成で基板の上下両面を高い洗浄度で
洗浄することができる基板洗浄装置を提供することであ
る。【構成】液槽２内に、洗浄液３中の水面３ａ近傍に基
板１の搬送手段（搬送ローラ）４と、下方に中空で空気
１４が供給される洗浄ユニット１２を配置する。洗浄液
３の上方に、基板の上面１ａに高圧水を噴射するための
ジェットノズル５を、洗浄ユニット１２内にジェットノ
ズル１０とを、搬送方向と直交してそれぞれ複数配置す
る。洗浄ユニット１２にはジェットノズル１０上部に接
してエアノズル１１を配置する。これにより、ジェット
ノズル５からの高圧水が水面３ａの空気を巻込んでキャ
ビテーション７を発生すると共に、ジェットノズル１０
からの高圧水がエアノズル１１付近の空気１４を巻込ん
でキャビテーション７を発生し、基板の上面１ａ及び下
面１ｂが同時に高い洗浄度で洗浄される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ＬＣＤなどの薄膜基板
製造工程において基板を洗浄する基板洗浄装置の改良に
関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、ＬＣＤなどの薄膜基板製造工程に
おいて基板を洗浄する際には搬送ローラによって基板を
洗浄液槽内に搬送させて洗浄する基板洗浄装置が知られ
ている。特に、近年では、基板に高い洗浄度が要求され
ており、次のような従来技術が提案されている。

【０００３】すなわち、図２に示すように、液槽２内に
は洗浄液３が満たされおり、基板１を支持、搬送する搬
送ローラ４が配設されている。この搬送ローラ４は、基
板１を一定方向に搬送するよう回動自在に複数配設され
ている。そして、このような搬送ローラ４上に基板１が
載置されると、基板の上面１ａが洗浄液３の水面３ａ近
傍に位置するようにして洗浄液３に浸されるように構成
されている。さらに、液槽２内には、基板１の搬送方向
に直交して複数のジェットノズル５が配設されている。
このジェットノズル５は基板の上面１ａに対して高圧水
６を噴射するようになっている。

【０００４】このような構成を有する従来例によれば、
ジェットノズル５から噴射される高圧水６の圧力により
洗浄液３に強い水流が起き、基板の上面１ａに付着して
いる汚れを効果的に洗い流すことができる。しかも、高
圧水６は水面３ａの空気を巻込み、非常に細かい気泡で
あるキャビテーション７を発生させる。そして、このキ
ャビテーション７は基板の上面１ａに衝突して弾けるこ
とにより、上面１ａの微小な汚れを落とすことができ
る。したがって、基板の上面１ａを極めて高い洗浄度で
洗浄することが可能である。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、以上の
ような従来例において、高い洗浄度による洗浄は基板の
上面１ａに対してしか、その効果を及ぼすことができな
かった。すなわち、基板の上面１ａはキャビテーション
７によって洗浄されているため高い洗浄度を有している
が、下面１ｂ側は洗浄液３に浸されているだけであるた
め、上面１ａと比べて格段に洗浄度が低かった。

【０００６】このような課題を解消する従来例として、
液槽２の洗浄液３内にジェットノズル５を配設して基板
下面１ｂに対して高圧水６を噴射する技術が提案されて
いる。この従来例によれば、ジェットノズル５からの高
圧水６が下面１ｂに噴射されて、下面１ｂの汚れを落と
すことができる。

【０００７】ところが、このような従来例においても、
以下のような課題が指摘されていた。すなわち、高圧水
６が下面１ｂに噴射されても、洗浄液３中の下面１ｂ付
近には空気が存在せず、キャビテーション７が発生する
ことがない。従って、微小な汚れを落とすことは困難で
あった。また、基板１の両面を高い洗浄度で洗浄するた
め、２つの液槽２を配置して、基板１の両面を片面づつ
洗浄するよう搬送させる技術も考えられるが、この場
合、装置の大形化を招くことと共に、洗浄液の必要量が
増大するなど、不具合が生じていた。以上のように、従
来技術においては、基板の両面を等しく高い洗浄度で洗
浄することができなかった。

【０００８】本発明の基板洗浄装置は、上記のような従
来技術の持つ課題を解決するために提案されたものであ
り、その目的は、簡単な構成で基板の上下両面を高い洗
浄度で洗浄することができる基板洗浄装置を提供するこ
とである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】以上のような課題を解決
するために、本発明の請求項１記載の基板洗浄装置は、
基板上面が洗浄液に浸されるよう洗浄液の水面付近に設
置される基板の搬送手段と、基板上面に高圧水を噴射す
るよう搬送手段の搬送方向に直交して複数配設される第
１の高圧水ノズルと、基板下面に高圧水を噴射するよう
搬送手段の搬送方向に直交して洗浄液槽内に複数配設さ
れる第２の高圧水ノズルと、基板下面に対して空気を供
給するよう洗浄液槽内に配設される空気供給手段とを備
えたことを構成上の特徴とする。

【００１０】また、本発明の請求項２記載の基板洗浄装
置は、液槽内の基板下面の下方に配置される中空の空気
供給菅と、基板下面に対して空気を噴射するよう空気供
給菅の上面に開口されるエアノズルと、空気供給菅内に
収納され、エアノズルに近接して前記基板下面に高圧水
を噴射するよう配設される高圧水ノズルとを備えたこと
を特徴とする。

【００１１】

【作用】以上のような構成を有する本発明の作用は次の
通りである。すなわち、請求項１記載の基板洗浄装置
は、第１の高圧水ノズルから噴射される高圧水が洗浄液
の水面付近の空気を巻込み、キャビテーションを発生さ
せて基板上面を洗浄する。一方、基板下面は第２の高圧
水ノズルから高圧水が噴射されると同時に、空気供給手
段から空気が供給される。従って、この高圧水と空気に
よりキャビテーションが基板下面付近に発生する。その
ため、このキャビテーションが基板下面を高い洗浄力で
洗浄することができる。

【００１２】また、請求項２記載の基板洗浄装置は、中
空の空気供給菅内に高圧水ノズル部が収納することによ
り、空気供給手段と高圧水ノズルとを一体化することが
できる。そのため、基板下面を洗浄する手段を簡単に液
槽内に配設することができる。さらに空気供給菅に開口
されるエアノズルと高圧水ノズルとが近接しているた
め、高圧水ノズルから噴射される高圧水がエアノズル部
から供給される空気を効率良く巻込むことができる。そ
のため、洗浄液中でも、きめの細かい均一なキャビテー
ションを発生させることが可能であり、基板下面を高い
洗浄度で洗浄することができる。

【００１３】以上のように、本発明によれば、基板の両
面をキャビテーションにより洗浄することが可能であ
り、近年要求される極めて高い洗浄度に応えることがで
きる。

【００１４】

【実施例】以上説明したような本発明の基板洗浄装置の
一実施例を図面に基づいて具体的に説明する。なお、従
来技術と同一の部分に関しては同符号を付し、説明は省
略する。

【００１５】すなわち、図１に示すように、液槽２の下
方には、中空の洗浄ユニット１２が配設されている。こ
の洗浄ユニット１２には、洗浄ユニット１２内部に空気
１４を供給するための供給口１２ａが設けられている。
また、洗浄ユニット１２には、上面に複数の突起が形成
され、この突起中央にエアノズル１１が開口して設けら
れている。これらのエアノズル１１は基板１の下面１ｂ
に対して空気１４を噴射するように構成されている。さ
らに、洗浄ユニット１２内部には、複数のジェットノズ
ル１０を備えた高圧水パイプ１３が収納されている。こ
の高圧水パイプ１３は、ジェットノズル１０に高圧水６
を供給するようになっている。また、ジェットノズル１
０はエアノズル１１の真下に配置され、エアノズル１を
通って１基板１の下面１ｂに向けて高圧水６を噴射する
ようになっている。そして、ジェットノズル１０からの
高圧水６がエアノズル１１付近の空気１４を巻込み、基
板１の下面１ａに向けてキャビテーション７が発生する
ように構成されている。

【００１６】以上のような構成を有する本実施例によれ
ば、基板１下方のエアノズル１１からの空気１４とジェ
ットノズル１０からの高圧水６により、基板の下面１ｂ
に向かってキャビテーション７を発生させることができ
る。しかも、本実施例は、エアノズル１１の真下にジェ
ットノズル１０が配置されているため、高圧水６が空気
１４を効率良く巻込んで、洗浄液３中でも、均一なキャ
ビテーションを発生させることができる。このような基
板の下面１ｂでのキャビテーション７によって、洗浄時
には基板の下面１ｂの微小な汚れを落とすことができ
る。しかも、基板上面１ａは、従来と同様に基板１上方
のジェットノズル５から噴射される高圧水６が洗浄液３
の水面３ａ付近の空気を巻込み、これによりキャビテー
ション７を発生させて基板の上面１ａを高い洗浄度で洗
浄する。

【００１７】従って、本実施例では、基板１の上面１ａ
及び下面１ｂの両方を、同時に高い洗浄度により洗浄す
ることができる。さらに、本実施例は、従来の液槽２内
に洗浄ユニット１２を沈めるだけで構成することが可能
であるため、高洗浄度の装置の小形化に貢献することが
できる。しかも、簡単な設置工事により、従来の装置を
優れた洗浄効果を有する装置とすることができる。この
ように、本実施例の基板洗浄装置は、製造及び設置作業
が容易であることから、全体として生産コストを削減す
ることが可能となる。

【００１８】なお、本発明の基板洗浄装置は、以上のよ
うな実施例に限定されるものではなく、ジェットノズル
とエアノズルを洗浄ユニットに交互に配設しても良く、
また、ジェットノズルとエアノズルの具体的な配設数及
び形状なども適宜選択可能である。

【００１９】

【発明の効果】以上述べたように、本発明の基板洗浄装
置によれば、洗浄液水面付近の基板上面に高圧水を噴射
する第１の高圧水ノズルと、洗浄液槽内に配設されて基
板下面に高圧水及び空気を供給する第２の高圧水ノズル
及び空気供給手段とを備えるという簡単な構成によっ
て、同一の液槽内で基板の上下両面を高圧水及び空気に
より発生するキャビテーションにより洗浄することがで
きるため、装置の小形化に貢献しつつ極めて高い洗浄能
力が有する優れた基板洗浄装置を提供することができ
る。

【００２０】さらに、本発明によれば、空気供給手段と
高圧水ノズルとを一体化することにより、基板下面の洗
浄手段を簡単に配設することができ、且つ、空気を噴射
するエアノズルと高圧水ノズルとを近接させて、高圧水
に空気を効率良く巻込ませることにより、洗浄液中で
も、洗浄力の高いキャビテーションを発生させることが
可能である優れた基板洗浄装置を提供することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例の基板洗浄装置を示す側面断
面図。

【図２】従来例の側面断面図。

【符号の説明】

１…基板２…液槽３…洗浄液４…搬送ローラ５…ジェットノズル６…高圧水７…キャビテーション１０…ジェットノズル１１…エアノズル１２…洗浄ユニット１３…高圧水パイプ１４…空気

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】洗浄液槽内を搬送する基板に対して高圧
水を噴射して洗浄する基板洗浄装置において、前記基板上面が洗浄液に浸されるよう洗浄液の水面付近
に設置される基板の搬送手段と、前記基板上面に高圧水を噴射するよう該搬送手段の搬送
方向に直交して複数配設される第１の高圧水ノズルと、前記基板下面に高圧水を噴射するよう該搬送手段の搬送
方向に直交して洗浄液槽内に複数配設される第２の高圧
水ノズルと、前記基板下面に対して空気を供給するよう洗浄液槽内に
配設される空気供給手段と、を備えたことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項２】液槽内の基板下面の下方に配置される中
空の空気供給菅と、前記基板下面に対して空気を噴射するよう該空気供給菅
の上面に開口されるエアノズルと、前記空気供給菅内に収納され、該エアノズルに近接して
前記基板下面に高圧水を噴射するよう配設される高圧水
ノズルと、を備えたことを特徴とする請求項１記載の基板洗浄装
置。