JPH06163617A - 半導体装置の封止方法 - Google Patents
半導体装置の封止方法Info
- Publication number
- JPH06163617A JPH06163617A JP4335395A JP33539592A JPH06163617A JP H06163617 A JPH06163617 A JP H06163617A JP 4335395 A JP4335395 A JP 4335395A JP 33539592 A JP33539592 A JP 33539592A JP H06163617 A JPH06163617 A JP H06163617A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sealing material
- tape
- chip
- carrier tape
- support
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 21
- 238000007789 sealing Methods 0.000 title abstract description 8
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 claims abstract description 52
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 28
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 28
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 claims description 2
- 238000001723 curing Methods 0.000 abstract description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract 1
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 abstract 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 16
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 8
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 7
- 206010040844 Skin exfoliation Diseases 0.000 description 5
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 4
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 4
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000004382 potting Methods 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 2
- 239000011265 semifinished product Substances 0.000 description 2
- 229910015363 Au—Sn Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/50—Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto
Landscapes
- Wire Bonding (AREA)
- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】TAB方式を用いた半導体装置の組立てラインに
おいて、半導体チップの樹脂封止を一定品質、一様厚さ
で、しかもキャリアテ−プの損傷の畏れなく良好な作業
性で行い得る半導体装置の封止方法を提供する。 【構成】一定の間隔を隔てて半導体チップを搭載した走
行チップ搭載キャリアテ−プと、上記間隔と等しい間隔
を隔てて硬化性樹脂封止材を支着した走行封止材支着テ
−プとを、封止材支着テ−プの封止材支着面をチップ搭
載キャリアテ−プ側に向け接触させて封止材をチップ搭
載キャリアテ−プのチップ搭載部位に転移させ、次い
で、硬化工程において封止材を硬化させる。
おいて、半導体チップの樹脂封止を一定品質、一様厚さ
で、しかもキャリアテ−プの損傷の畏れなく良好な作業
性で行い得る半導体装置の封止方法を提供する。 【構成】一定の間隔を隔てて半導体チップを搭載した走
行チップ搭載キャリアテ−プと、上記間隔と等しい間隔
を隔てて硬化性樹脂封止材を支着した走行封止材支着テ
−プとを、封止材支着テ−プの封止材支着面をチップ搭
載キャリアテ−プ側に向け接触させて封止材をチップ搭
載キャリアテ−プのチップ搭載部位に転移させ、次い
で、硬化工程において封止材を硬化させる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はTAB(tape automated bo
nding)方式により、ワイヤレスボンディングした半導体
チップを封止する方法に関するものである。
nding)方式により、ワイヤレスボンディングした半導体
チップを封止する方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の組立てにおいて、組立てシ
ステムを自動化し、生産を合理化するうえにTAB方式が
有用である。このTAB方式使用の組立てシステムにおい
ては、通常、図5の(イ)に示すように、ポリイミド
等の耐熱性、引張り強度に優れたフィルム11’に複数
本のSnメツキリ−ド14’,…を印刷法により形成する
と共にセンタ−デバイス孔12’,…、アウタ−リ−ド
孔13’,…並びにパ−フォレシ−ョン孔15’,…を
設けたキャリアテ−プ1’を走行させ、このキャリア
テ−プ1’をチップアタックステ−ションに導き、図5
の(ロ)に示すように、Auバンプ22’を有する半導体
チップ2’をキャリアテ−プ1’のセンタ−デバイス孔
12’において下側からリ−ド先端(インナ−リ−ド)
にAu−Sn共晶ボンディングし、更に、封止ステ−ショ
ンに導き、半導体チップを硬化樹脂で封止し、而るの
ち、キャリアテ−プ1’からチップ2’を、アウタ−リ
−ド孔13’内のアウタ−リ−ド140'をチップ2’側に
つけるようにして打ち抜き、この打ち抜きチップをプリ
ント板に実装している。
ステムを自動化し、生産を合理化するうえにTAB方式が
有用である。このTAB方式使用の組立てシステムにおい
ては、通常、図5の(イ)に示すように、ポリイミド
等の耐熱性、引張り強度に優れたフィルム11’に複数
本のSnメツキリ−ド14’,…を印刷法により形成する
と共にセンタ−デバイス孔12’,…、アウタ−リ−ド
孔13’,…並びにパ−フォレシ−ョン孔15’,…を
設けたキャリアテ−プ1’を走行させ、このキャリア
テ−プ1’をチップアタックステ−ションに導き、図5
の(ロ)に示すように、Auバンプ22’を有する半導体
チップ2’をキャリアテ−プ1’のセンタ−デバイス孔
12’において下側からリ−ド先端(インナ−リ−ド)
にAu−Sn共晶ボンディングし、更に、封止ステ−ショ
ンに導き、半導体チップを硬化樹脂で封止し、而るの
ち、キャリアテ−プ1’からチップ2’を、アウタ−リ
−ド孔13’内のアウタ−リ−ド140'をチップ2’側に
つけるようにして打ち抜き、この打ち抜きチップをプリ
ント板に実装している。
【0003】従来、上記TAB方式における半導体チップ
の樹脂封止法としては、(a)熱硬化性樹脂液をポッティ
ングし、このポッテンィング樹脂液を加熱硬化させる方
法、(b)テ−プ状熱硬化性樹脂をチップ搭載キャリアテ
−プの両面に添わせ、この添付テ−プを予熱して半溶融
状態にし、このテ−プにおけるチツプ包囲部分をプレス
形により打ち抜いてチツプに熱圧着し、次いで、硬化ス
テ−ションにおいてその圧着樹脂を加熱硬化させる方法
(特開昭53−79379号)、(c)走行チップ搭載キ
ャリアテ−プの両側に、テ−プ状であって、同上チップ
搭載キャリアテ−プの二方の隣り同士のリ−ドのアウタ
−リ−ド部の間に対応する部分を開口した樹脂フィルム
を加熱加圧により圧着し、次いで樹脂フィルムを硬化さ
せる方法(特開昭55−43871号)等が公知であ
る。
の樹脂封止法としては、(a)熱硬化性樹脂液をポッティ
ングし、このポッテンィング樹脂液を加熱硬化させる方
法、(b)テ−プ状熱硬化性樹脂をチップ搭載キャリアテ
−プの両面に添わせ、この添付テ−プを予熱して半溶融
状態にし、このテ−プにおけるチツプ包囲部分をプレス
形により打ち抜いてチツプに熱圧着し、次いで、硬化ス
テ−ションにおいてその圧着樹脂を加熱硬化させる方法
(特開昭53−79379号)、(c)走行チップ搭載キ
ャリアテ−プの両側に、テ−プ状であって、同上チップ
搭載キャリアテ−プの二方の隣り同士のリ−ドのアウタ
−リ−ド部の間に対応する部分を開口した樹脂フィルム
を加熱加圧により圧着し、次いで樹脂フィルムを硬化さ
せる方法(特開昭55−43871号)等が公知であ
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、(a)の
ポッテンィング法では、硬化性樹脂液のポットライフの
ために、時間の経過と共に樹脂液の粘度が上昇し、滴下
量を一定に維持し難く、一定品質の封止が困難である。
また、樹脂被覆厚みを一様になし得ず、中央部が必要以
上に厚くなり、パッケ−ジの小型化が容易ではない。
ポッテンィング法では、硬化性樹脂液のポットライフの
ために、時間の経過と共に樹脂液の粘度が上昇し、滴下
量を一定に維持し難く、一定品質の封止が困難である。
また、樹脂被覆厚みを一様になし得ず、中央部が必要以
上に厚くなり、パッケ−ジの小型化が容易ではない。
【0005】他方、(b)のテ−プ状熱硬化性樹脂の金型
打ち抜き法では、キャリアテ−プに添付したテ−プ状熱
硬化性樹脂を金型で打ち抜く際、キャリアテ−プのリ−
ドを傷付ける危険性がある。また、この打ち抜きをテ−
プ状熱硬化性樹脂を半溶融状態にしたうえで行わなけれ
ばならないので、金型に樹脂が付着し易く、作業性にも
問題がある。
打ち抜き法では、キャリアテ−プに添付したテ−プ状熱
硬化性樹脂を金型で打ち抜く際、キャリアテ−プのリ−
ドを傷付ける危険性がある。また、この打ち抜きをテ−
プ状熱硬化性樹脂を半溶融状態にしたうえで行わなけれ
ばならないので、金型に樹脂が付着し易く、作業性にも
問題がある。
【0006】また、(c)の開口フィルムを使用する方法
では、キャリアテ−プのリ−ドが図に示すように、四方
に設けられている場合では、使用できず、リ−ドが対向
する二方の場合に限定される制約がある。
では、キャリアテ−プのリ−ドが図に示すように、四方
に設けられている場合では、使用できず、リ−ドが対向
する二方の場合に限定される制約がある。
【0007】本発明の目的は、TAB方式を用いた半導体
装置の組立てラインにおいて、半導体チップの樹脂封止
を一定品質、一様厚さで、しかもキャリアテ−プの損傷
の畏れなく良好な作業性で行い得る半導体装置の封止方
法を提供することにある。
装置の組立てラインにおいて、半導体チップの樹脂封止
を一定品質、一様厚さで、しかもキャリアテ−プの損傷
の畏れなく良好な作業性で行い得る半導体装置の封止方
法を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置の封
止方法は、一定の間隔を隔てて半導体チップを搭載した
走行チップ搭載キャリアテ−プと、上記間隔と等しい間
隔を隔てて硬化性樹脂封止材を支着した走行封止材支着
テ−プとを、封止材支着テ−プの封止材支着面をチップ
搭載キャリアテ−プ側に向け接触させて封止材をチップ
搭載キャリアテ−プのチップ搭載部位に転移させ、次い
で、硬化工程において封止材を硬化させることを特徴と
する構成である。
止方法は、一定の間隔を隔てて半導体チップを搭載した
走行チップ搭載キャリアテ−プと、上記間隔と等しい間
隔を隔てて硬化性樹脂封止材を支着した走行封止材支着
テ−プとを、封止材支着テ−プの封止材支着面をチップ
搭載キャリアテ−プ側に向け接触させて封止材をチップ
搭載キャリアテ−プのチップ搭載部位に転移させ、次い
で、硬化工程において封止材を硬化させることを特徴と
する構成である。
【0009】
【作用】封止材支着テ−プに支着する封止材を一様厚
み、一定面積とすることにより、半導体チップの封止厚
さが一様となり、封止樹脂量が一定となる。
み、一定面積とすることにより、半導体チップの封止厚
さが一様となり、封止樹脂量が一定となる。
【0010】また、封止材が封止材支着テ−プからチッ
プ搭載キャリアテ−プに転移される際、チップ搭載キャ
リアテ−プに引張り力が作用するが、この引張り力は封
止材の支持テ−プ(セパレ−トテ−プ)に対する支着力
を小さくすることにより低張力にできる。
プ搭載キャリアテ−プに転移される際、チップ搭載キャ
リアテ−プに引張り力が作用するが、この引張り力は封
止材の支持テ−プ(セパレ−トテ−プ)に対する支着力
を小さくすることにより低張力にできる。
【0011】
【実施例】以下、図面により本発明の実施例を説明す
る。図1は本発明において使用する封止材転移装置を示
す説明図である。図1において、Aはチップ搭載キャリ
アテ−プの供給リ−ルである。供給されるチップ搭載キ
ャリアテ−プ1においては、図2に示すように耐熱性、
耐引張り強度に優れた絶縁フィルム11、例えば、ポリ
イミドフィルムに一定の間隔を隔ててセンタ−デバイス
孔12とその孔の二方におけるアウタ−リ−ド孔13と
を設け、しかも各アウタ−リ−ド孔を越えて先端がセン
タ−デバイス孔に達するリ−ド14を複数本設けてなる
キャリアテ−プ10の各センタ−デバイス孔12に、下
側から半導体チップ2を納め、各チップ2のバンプ電極
をリ−ド先端141にワイヤレスボンディングしてある。
る。図1は本発明において使用する封止材転移装置を示
す説明図である。図1において、Aはチップ搭載キャリ
アテ−プの供給リ−ルである。供給されるチップ搭載キ
ャリアテ−プ1においては、図2に示すように耐熱性、
耐引張り強度に優れた絶縁フィルム11、例えば、ポリ
イミドフィルムに一定の間隔を隔ててセンタ−デバイス
孔12とその孔の二方におけるアウタ−リ−ド孔13と
を設け、しかも各アウタ−リ−ド孔を越えて先端がセン
タ−デバイス孔に達するリ−ド14を複数本設けてなる
キャリアテ−プ10の各センタ−デバイス孔12に、下
側から半導体チップ2を納め、各チップ2のバンプ電極
をリ−ド先端141にワイヤレスボンディングしてある。
【0012】Bは封止材支着テ−プの供給リ−ルであ
る。封止材支着テ−プ3においては、片面を剥離処理し
たセパレ−トテ−プ31のその剥離処理面に、上記キャ
リアテ−プ1のセンタ−デバイス孔14,14間の間隔
に等しい間隔で、そのセンタ−デバイス孔14にほぼ等
しい大きさの一様厚さの熱硬化性樹脂層32を支着して
ある。
る。封止材支着テ−プ3においては、片面を剥離処理し
たセパレ−トテ−プ31のその剥離処理面に、上記キャ
リアテ−プ1のセンタ−デバイス孔14,14間の間隔
に等しい間隔で、そのセンタ−デバイス孔14にほぼ等
しい大きさの一様厚さの熱硬化性樹脂層32を支着して
ある。
【0013】Cは加熱・加圧器、Dは封止材支着テ−プ
3のセパレ−トテ−プ31の巻取り−ル、Eは加熱槽、
Fは封止材固着チップ搭載キャリアテ−プの巻取リ−ル
である。
3のセパレ−トテ−プ31の巻取り−ル、Eは加熱槽、
Fは封止材固着チップ搭載キャリアテ−プの巻取リ−ル
である。
【0014】上記装置を使用して本発明により半導体チ
ップを封止するには、図1において、まず、リ−ルAか
らチップ搭載キャリアテ−プ1を、リ−ルBから封止材
支着テ−プ3を、キャリアテ−プ1のリ−ド14形成面
と封止材支着テ−プ3の封止材32支着面とを向かい合
わせにして引き出し、加熱・加圧器Cにおいて、封止材
32を半導体チップ2の表面に圧接させる。
ップを封止するには、図1において、まず、リ−ルAか
らチップ搭載キャリアテ−プ1を、リ−ルBから封止材
支着テ−プ3を、キャリアテ−プ1のリ−ド14形成面
と封止材支着テ−プ3の封止材32支着面とを向かい合
わせにして引き出し、加熱・加圧器Cにおいて、封止材
32を半導体チップ2の表面に圧接させる。
【0015】この場合、図3の(イ)に示すように、加
熱・加圧器Dに加熱金型を使用し、両テ−プ1,3の走
行を一時的に停止し、上型41の降下移動により封止材
32を加熱、加圧してチップ上面21に圧接し(42は
下型)、次いで上型41を上昇移動させ、両テ−プ1,
3を再度走行させる方法(両テ−プを間歇的に走行させ
る)、または、図3の(ロ)に示すように、加熱・加圧
器に加熱ロ−ル43を使用し、両テ−プ1,3を一定の
速度で連続走行させ、加熱ロ−ル43で封止材32をチ
ップ上面21に圧接する(42は下型)方法等を使用で
きる。
熱・加圧器Dに加熱金型を使用し、両テ−プ1,3の走
行を一時的に停止し、上型41の降下移動により封止材
32を加熱、加圧してチップ上面21に圧接し(42は
下型)、次いで上型41を上昇移動させ、両テ−プ1,
3を再度走行させる方法(両テ−プを間歇的に走行させ
る)、または、図3の(ロ)に示すように、加熱・加圧
器に加熱ロ−ル43を使用し、両テ−プ1,3を一定の
速度で連続走行させ、加熱ロ−ル43で封止材32をチ
ップ上面21に圧接する(42は下型)方法等を使用で
きる。
【0016】この加熱・加圧下での封止材32のチップ
2への圧接により、半溶融状態にされた樹脂でチップ2
の表面21、チップのバンプ電極22、リ−ド線先端部
141等がボイドレスで被覆される。
2への圧接により、半溶融状態にされた樹脂でチップ2
の表面21、チップのバンプ電極22、リ−ド線先端部
141等がボイドレスで被覆される。
【0017】このようにして封止材支着テ−プ3の封止
材32をチップ搭載キャリアテ−プ1のチップ表面21
に圧接したのちは、図1において、封止材支着テ−プ3
のセパレ−トテ−プ31を巻取リ−ルDで巻取って剥離
し、封止材32をチップ2側に転移させる。
材32をチップ搭載キャリアテ−プ1のチップ表面21
に圧接したのちは、図1において、封止材支着テ−プ3
のセパレ−トテ−プ31を巻取リ−ルDで巻取って剥離
し、封止材32をチップ2側に転移させる。
【0018】この場合、封止材支着テ−プ3における封
止材32の固着強度をS、セパレ−トテ−プ剥離角度を
θとすれば、セパレ−トテ−プ31の巻取張力T1は、 T1=S/sinθ であり、キャリアテ−プ1に作用する引張り力T2は、 T2=S/tanθ である。而るに、封止材支着テ−プ3における封止材3
2の固着強度Sは、セパレ−トテ−プ31の剥離処理に
よって充分に小さくでき、従って、上記剥離のためのセ
パレ−トテ−プ31の巻取張力T1を低張力にでき、剥
離をスム−ズに行うことができる。また、チップ搭載キ
ャリアテ−プ1に作用する引張り力T2も、充分に低く
でき、チップ搭載キャリアテ−プ1、特に、チップ2と
リ−ド14とのボンディング箇所を安全に維持できる。
止材32の固着強度をS、セパレ−トテ−プ剥離角度を
θとすれば、セパレ−トテ−プ31の巻取張力T1は、 T1=S/sinθ であり、キャリアテ−プ1に作用する引張り力T2は、 T2=S/tanθ である。而るに、封止材支着テ−プ3における封止材3
2の固着強度Sは、セパレ−トテ−プ31の剥離処理に
よって充分に小さくでき、従って、上記剥離のためのセ
パレ−トテ−プ31の巻取張力T1を低張力にでき、剥
離をスム−ズに行うことができる。また、チップ搭載キ
ャリアテ−プ1に作用する引張り力T2も、充分に低く
でき、チップ搭載キャリアテ−プ1、特に、チップ2と
リ−ド14とのボンディング箇所を安全に維持できる。
【0019】このようにして、封止材支着テ−プ3の封
止材32をチップ搭載キャリアテ−プ1のチップ表面2
1に転移したのちは、チップ搭載キャリアテ−プを加熱
槽Eにおいて加熱し、上記転移封止材32のチップ2へ
の固着強度を強化し、而るのち、一旦、巻取リ−ルFで
巻取り、この半製品巻取リ−ル全体を硬化炉(図示され
ていない)に搬入し、封止材の硬化を終結させ、これに
てチップ搭載キャリアテ−プのチップの樹脂封止作業を
終了する。
止材32をチップ搭載キャリアテ−プ1のチップ表面2
1に転移したのちは、チップ搭載キャリアテ−プを加熱
槽Eにおいて加熱し、上記転移封止材32のチップ2へ
の固着強度を強化し、而るのち、一旦、巻取リ−ルFで
巻取り、この半製品巻取リ−ル全体を硬化炉(図示され
ていない)に搬入し、封止材の硬化を終結させ、これに
てチップ搭載キャリアテ−プのチップの樹脂封止作業を
終了する。
【0020】上記において、加熱・加圧器Cによる封止
材32のチップ2への圧着条件如何によっては、加熱槽
Eでの加熱処理を省略することもできる。また、硬化炉
での封止材の硬化時、不要な接着を防止はするために、
半製品を巻取リ−ルFに巻取る際、チップ部分に適当な
セパレ−タを介在させることもできる。
材32のチップ2への圧着条件如何によっては、加熱槽
Eでの加熱処理を省略することもできる。また、硬化炉
での封止材の硬化時、不要な接着を防止はするために、
半製品を巻取リ−ルFに巻取る際、チップ部分に適当な
セパレ−タを介在させることもできる。
【0021】本発明において、封止材には、通常、エポ
キシ樹脂が使用される。この封止材の半導体チップに接
する面には、封止材支着テ−プの移送中等でのこの面の
保護のために、保護層を設けておき、チップ搭載キャリ
アテ−プのチップへの圧着直前に当該保護層を剥離する
ことが望ましく、例えば、図4に示すように、セパレ−
トテ−プ32に熱硬化樹脂層eを弱接着力(S)で積層
し、この熱硬化樹脂層eにトムソン刃等で封止材の外郭
形状の切れ目cを入れ、更に同熱硬化樹脂層e上に前記
接着力Sよりも弱い接着力で保護層33を設け、図1に
おいて、リ−ルBから封止材支着テ−プ3を引き出す際
に、上記切れ目cで囲まれた本来の封止材部分32以外
の部分321を全保護層33と共に剥離除去することがで
きる。
キシ樹脂が使用される。この封止材の半導体チップに接
する面には、封止材支着テ−プの移送中等でのこの面の
保護のために、保護層を設けておき、チップ搭載キャリ
アテ−プのチップへの圧着直前に当該保護層を剥離する
ことが望ましく、例えば、図4に示すように、セパレ−
トテ−プ32に熱硬化樹脂層eを弱接着力(S)で積層
し、この熱硬化樹脂層eにトムソン刃等で封止材の外郭
形状の切れ目cを入れ、更に同熱硬化樹脂層e上に前記
接着力Sよりも弱い接着力で保護層33を設け、図1に
おいて、リ−ルBから封止材支着テ−プ3を引き出す際
に、上記切れ目cで囲まれた本来の封止材部分32以外
の部分321を全保護層33と共に剥離除去することがで
きる。
【0022】また、封止材には、エポキシ樹脂層の外面
に、防湿層、電磁波遮蔽層,静電気発生防止層又は機械
的補強層の何れか、または、二層以上設けた複合構造、
或はエポキシ樹脂層の内面に防湿樹脂層、応力緩和層
(エポキシ樹脂の硬化収縮応力、熱収縮応力の吸収層)
の何れか、または二層以上設けた複合構造を使用するこ
ともできる。
に、防湿層、電磁波遮蔽層,静電気発生防止層又は機械
的補強層の何れか、または、二層以上設けた複合構造、
或はエポキシ樹脂層の内面に防湿樹脂層、応力緩和層
(エポキシ樹脂の硬化収縮応力、熱収縮応力の吸収層)
の何れか、または二層以上設けた複合構造を使用するこ
ともできる。
【0023】
【発明の効果】本発明の半導体装置の封止方法は上述し
た通りの構成であり、封止材支着テ−プからチップ搭載
キャリアテ−プのチップに転移する封止材の厚みを一様
とし、かつ封止材面積を一定とすることにより、チップ
搭載キャリアテ−プのチップを一様厚み、一定樹脂量で
封止でき、小型で、かつ品質のバラツキのない封止が可
能となる。
た通りの構成であり、封止材支着テ−プからチップ搭載
キャリアテ−プのチップに転移する封止材の厚みを一様
とし、かつ封止材面積を一定とすることにより、チップ
搭載キャリアテ−プのチップを一様厚み、一定樹脂量で
封止でき、小型で、かつ品質のバラツキのない封止が可
能となる。
【0024】また、封止材支着テ−プの封止材をチップ
搭載キャリアテ−プのチップ側に圧着したのちに行う封
止材支着テ−プの支持テ−プ(セパレ−トテ−プ)の剥
離を、封止材支着テ−プへの封止材の支着強度を小とし
ておくことにより、低張力でスム−ズに行い得、更に、
同剥離時にチップ搭載キャリアテ−プに作用する引張り
力も充分に低張力にでき、同キャリアテ−プ特にリ−ド
とチップとのワイヤレスボンディングを安全に維持でき
るのて、良好な作業性で、かつ安全に樹脂封止できる。
搭載キャリアテ−プのチップ側に圧着したのちに行う封
止材支着テ−プの支持テ−プ(セパレ−トテ−プ)の剥
離を、封止材支着テ−プへの封止材の支着強度を小とし
ておくことにより、低張力でスム−ズに行い得、更に、
同剥離時にチップ搭載キャリアテ−プに作用する引張り
力も充分に低張力にでき、同キャリアテ−プ特にリ−ド
とチップとのワイヤレスボンディングを安全に維持でき
るのて、良好な作業性で、かつ安全に樹脂封止できる。
【0025】更にまた、キャリアテ−プのリ−ドが四方
であっても、何らの支障なく封止できる。
であっても、何らの支障なく封止できる。
【図1】本発明において使用する封止材転移装置の一例
を示す説明図である。
を示す説明図である。
【図2】本発明において使用する走行チップ搭載キャリ
アテ−プの一例を示す説明図である。
アテ−プの一例を示す説明図である。
【図3】本発明において使用する加熱・加圧器の異なる
例を示す説明図である。
例を示す説明図である。
【図4】本発明において使用する封止材支着テ−プの一
例を示す説明図である。
例を示す説明図である。
【図5】図5の(イ)は公知のTAB方式において使用する
キャリアテ−プを示す説明図、図5の(ロ)は同方式に
よるチップのワイヤレスボンディングを示す説明図であ
る。
キャリアテ−プを示す説明図、図5の(ロ)は同方式に
よるチップのワイヤレスボンディングを示す説明図であ
る。
1 チップ搭載キャリアテ−プ 2 半導体チップ 3 封止材支着テ−プ 32 封止材
Claims (1)
- 【請求項1】一定の間隔を隔てて半導体チップを搭載し
た走行チップ搭載キャリアテ−プと、上記間隔と等しい
間隔を隔てて硬化性樹脂封止材を支着した走行封止材支
着テ−プとを、封止材支着テ−プの封止材支着面をチッ
プ搭載キャリアテ−プ側に向け接触させて封止材をチッ
プ搭載キャリアテ−プのチップ搭載部位に転移させ、次
いで、硬化工程において封止材を硬化させることを特徴
とする半導体装置の封止方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4335395A JPH06163617A (ja) | 1992-11-21 | 1992-11-21 | 半導体装置の封止方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4335395A JPH06163617A (ja) | 1992-11-21 | 1992-11-21 | 半導体装置の封止方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06163617A true JPH06163617A (ja) | 1994-06-10 |
Family
ID=18288067
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4335395A Pending JPH06163617A (ja) | 1992-11-21 | 1992-11-21 | 半導体装置の封止方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06163617A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000007235A1 (en) * | 1998-07-28 | 2000-02-10 | Seiko Epson Corporation | Semiconductor device, method of manufacture thereof, semiconductor module, and electronic device including circuit board and electronic unit board |
KR100280427B1 (ko) * | 1997-12-31 | 2001-03-02 | 김영환 | 반도체 운반용 릴의 실링 보정 장치 |
US6881611B1 (en) | 1996-07-12 | 2005-04-19 | Fujitsu Limited | Method and mold for manufacturing semiconductor device, semiconductor device and method for mounting the device |
US8205766B2 (en) | 2009-05-20 | 2012-06-26 | The Bergquist Company | Method for packaging thermal interface materials |
CN102543901A (zh) * | 2010-12-28 | 2012-07-04 | 日东电工株式会社 | 密封构件、密封方法及光半导体装置的制造方法 |
US8430264B2 (en) | 2009-05-20 | 2013-04-30 | The Bergquist Company | Method for packaging thermal interface materials |
-
1992
- 1992-11-21 JP JP4335395A patent/JPH06163617A/ja active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6881611B1 (en) | 1996-07-12 | 2005-04-19 | Fujitsu Limited | Method and mold for manufacturing semiconductor device, semiconductor device and method for mounting the device |
KR100280427B1 (ko) * | 1997-12-31 | 2001-03-02 | 김영환 | 반도체 운반용 릴의 실링 보정 장치 |
WO2000007235A1 (en) * | 1998-07-28 | 2000-02-10 | Seiko Epson Corporation | Semiconductor device, method of manufacture thereof, semiconductor module, and electronic device including circuit board and electronic unit board |
US6472726B1 (en) | 1998-07-28 | 2002-10-29 | Seiko Epson Corporation | Semiconductor device and method of fabrication thereof, semiconductor module, circuit board, and electronic equipment |
US7045392B2 (en) | 1998-07-28 | 2006-05-16 | Seiko Epson Corporation | Semiconductor device and method of fabrication thereof, semiconductor module, circuit board, and electronic equipment |
US8205766B2 (en) | 2009-05-20 | 2012-06-26 | The Bergquist Company | Method for packaging thermal interface materials |
US8430264B2 (en) | 2009-05-20 | 2013-04-30 | The Bergquist Company | Method for packaging thermal interface materials |
CN102543901A (zh) * | 2010-12-28 | 2012-07-04 | 日东电工株式会社 | 密封构件、密封方法及光半导体装置的制造方法 |
EP2472615A3 (en) * | 2010-12-28 | 2014-01-08 | Nitto Denko Corporation | Sealing member, sealing method, and method for producing optical semiconductor device |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7804168B2 (en) | Ball grid array structures having tape-based circuitry | |
JP3980698B2 (ja) | 無線周波数タグ作成方法 | |
EP0626723B1 (en) | Method for manufacturing a semiconductor device | |
US8766432B2 (en) | Device with semiconductor die attached to a leadframe | |
US6770164B1 (en) | Method for attaching a semiconductor die to a substrate | |
US20020155638A1 (en) | Method for fabricating semiconductor device | |
CA1232372A (en) | Method for encapsulating semiconductor components mounted on a carrier tape | |
US7132755B2 (en) | Adhesive film for manufacturing semiconductor device | |
JPH08306738A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JPH06163617A (ja) | 半導体装置の封止方法 | |
US4919857A (en) | Method of molding a pin holder on a lead frame | |
KR100252788B1 (ko) | 반도체장치의 제조방법 | |
JP2000155820A (ja) | 非接触icカードおよびその製造方法 | |
KR100220709B1 (ko) | 액상의 접착제를 리드 하부면에 도포하는 방법과 장치 및 그로부터 형성된 접착층을 갖는 리드-온-칩(loc)형 반도체 칩 패키지 | |
JPH11251347A (ja) | 半導体パッケージの製造方法 | |
JP2000155821A (ja) | 非接触icカードおよびその製造方法 | |
KR20020089492A (ko) | 웨이퍼 후면에 다이 부착물질의 사전 도포 | |
JPH05291218A (ja) | 樹脂封止型半導体装置の製造方法 | |
KR950008237B1 (ko) | 반도체 패키지 제조방법 | |
JPH08288324A (ja) | 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法 | |
JPS61271848A (ja) | 半導体パツケ−ジの製法 | |
JPH09293806A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JPH07211738A (ja) | 回路素子の封止方法 | |
JP2000228463A (ja) | 半導体装置製造用金属フレーム、その製造方法及び半導体装置の製造方法 | |
JPS59181033A (ja) | 半導体装置 |