[go: up one dir, main page]

JPH06163617A - 半導体装置の封止方法 - Google Patents

半導体装置の封止方法

Info

Publication number
JPH06163617A
JPH06163617A JP4335395A JP33539592A JPH06163617A JP H06163617 A JPH06163617 A JP H06163617A JP 4335395 A JP4335395 A JP 4335395A JP 33539592 A JP33539592 A JP 33539592A JP H06163617 A JPH06163617 A JP H06163617A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sealing material
tape
chip
carrier tape
support
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4335395A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuhiko Mogami
和彦 最上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nitto Denko Corp filed Critical Nitto Denko Corp
Priority to JP4335395A priority Critical patent/JPH06163617A/ja
Publication of JPH06163617A publication Critical patent/JPH06163617A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/50Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】TAB方式を用いた半導体装置の組立てラインに
おいて、半導体チップの樹脂封止を一定品質、一様厚さ
で、しかもキャリアテ−プの損傷の畏れなく良好な作業
性で行い得る半導体装置の封止方法を提供する。 【構成】一定の間隔を隔てて半導体チップを搭載した走
行チップ搭載キャリアテ−プと、上記間隔と等しい間隔
を隔てて硬化性樹脂封止材を支着した走行封止材支着テ
−プとを、封止材支着テ−プの封止材支着面をチップ搭
載キャリアテ−プ側に向け接触させて封止材をチップ搭
載キャリアテ−プのチップ搭載部位に転移させ、次い
で、硬化工程において封止材を硬化させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はTAB(tape automated bo
nding)方式により、ワイヤレスボンディングした半導体
チップを封止する方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の組立てにおいて、組立てシ
ステムを自動化し、生産を合理化するうえにTAB方式が
有用である。このTAB方式使用の組立てシステムにおい
ては、通常、図5の(イ)に示すように、ポリイミド
等の耐熱性、引張り強度に優れたフィルム11’に複数
本のSnメツキリ−ド14’,…を印刷法により形成する
と共にセンタ−デバイス孔12’,…、アウタ−リ−ド
孔13’,…並びにパ−フォレシ−ョン孔15’,…を
設けたキャリアテ−プ1’を走行させ、このキャリア
テ−プ1’をチップアタックステ−ションに導き、図5
の(ロ)に示すように、Auバンプ22’を有する半導体
チップ2’をキャリアテ−プ1’のセンタ−デバイス孔
12’において下側からリ−ド先端(インナ−リ−ド)
にAu−Sn共晶ボンディングし、更に、封止ステ−ショ
ンに導き、半導体チップを硬化樹脂で封止し、而るの
ち、キャリアテ−プ1’からチップ2’を、アウタ−リ
−ド孔13’内のアウタ−リ−ド140'をチップ2’側に
つけるようにして打ち抜き、この打ち抜きチップをプリ
ント板に実装している。
【0003】従来、上記TAB方式における半導体チップ
の樹脂封止法としては、(a)熱硬化性樹脂液をポッティ
ングし、このポッテンィング樹脂液を加熱硬化させる方
法、(b)テ−プ状熱硬化性樹脂をチップ搭載キャリアテ
−プの両面に添わせ、この添付テ−プを予熱して半溶融
状態にし、このテ−プにおけるチツプ包囲部分をプレス
形により打ち抜いてチツプに熱圧着し、次いで、硬化ス
テ−ションにおいてその圧着樹脂を加熱硬化させる方法
(特開昭53−79379号)、(c)走行チップ搭載キ
ャリアテ−プの両側に、テ−プ状であって、同上チップ
搭載キャリアテ−プの二方の隣り同士のリ−ドのアウタ
−リ−ド部の間に対応する部分を開口した樹脂フィルム
を加熱加圧により圧着し、次いで樹脂フィルムを硬化さ
せる方法(特開昭55−43871号)等が公知であ
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、(a)の
ポッテンィング法では、硬化性樹脂液のポットライフの
ために、時間の経過と共に樹脂液の粘度が上昇し、滴下
量を一定に維持し難く、一定品質の封止が困難である。
また、樹脂被覆厚みを一様になし得ず、中央部が必要以
上に厚くなり、パッケ−ジの小型化が容易ではない。
【0005】他方、(b)のテ−プ状熱硬化性樹脂の金型
打ち抜き法では、キャリアテ−プに添付したテ−プ状熱
硬化性樹脂を金型で打ち抜く際、キャリアテ−プのリ−
ドを傷付ける危険性がある。また、この打ち抜きをテ−
プ状熱硬化性樹脂を半溶融状態にしたうえで行わなけれ
ばならないので、金型に樹脂が付着し易く、作業性にも
問題がある。
【0006】また、(c)の開口フィルムを使用する方法
では、キャリアテ−プのリ−ドが図に示すように、四方
に設けられている場合では、使用できず、リ−ドが対向
する二方の場合に限定される制約がある。
【0007】本発明の目的は、TAB方式を用いた半導体
装置の組立てラインにおいて、半導体チップの樹脂封止
を一定品質、一様厚さで、しかもキャリアテ−プの損傷
の畏れなく良好な作業性で行い得る半導体装置の封止方
法を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置の封
止方法は、一定の間隔を隔てて半導体チップを搭載した
走行チップ搭載キャリアテ−プと、上記間隔と等しい間
隔を隔てて硬化性樹脂封止材を支着した走行封止材支着
テ−プとを、封止材支着テ−プの封止材支着面をチップ
搭載キャリアテ−プ側に向け接触させて封止材をチップ
搭載キャリアテ−プのチップ搭載部位に転移させ、次い
で、硬化工程において封止材を硬化させることを特徴と
する構成である。
【0009】
【作用】封止材支着テ−プに支着する封止材を一様厚
み、一定面積とすることにより、半導体チップの封止厚
さが一様となり、封止樹脂量が一定となる。
【0010】また、封止材が封止材支着テ−プからチッ
プ搭載キャリアテ−プに転移される際、チップ搭載キャ
リアテ−プに引張り力が作用するが、この引張り力は封
止材の支持テ−プ(セパレ−トテ−プ)に対する支着力
を小さくすることにより低張力にできる。
【0011】
【実施例】以下、図面により本発明の実施例を説明す
る。図1は本発明において使用する封止材転移装置を示
す説明図である。図1において、Aはチップ搭載キャリ
アテ−プの供給リ−ルである。供給されるチップ搭載キ
ャリアテ−プ1においては、図2に示すように耐熱性、
耐引張り強度に優れた絶縁フィルム11、例えば、ポリ
イミドフィルムに一定の間隔を隔ててセンタ−デバイス
孔12とその孔の二方におけるアウタ−リ−ド孔13と
を設け、しかも各アウタ−リ−ド孔を越えて先端がセン
タ−デバイス孔に達するリ−ド14を複数本設けてなる
キャリアテ−プ10の各センタ−デバイス孔12に、下
側から半導体チップ2を納め、各チップ2のバンプ電極
をリ−ド先端141にワイヤレスボンディングしてある。
【0012】Bは封止材支着テ−プの供給リ−ルであ
る。封止材支着テ−プ3においては、片面を剥離処理し
たセパレ−トテ−プ31のその剥離処理面に、上記キャ
リアテ−プ1のセンタ−デバイス孔14,14間の間隔
に等しい間隔で、そのセンタ−デバイス孔14にほぼ等
しい大きさの一様厚さの熱硬化性樹脂層32を支着して
ある。
【0013】Cは加熱・加圧器、Dは封止材支着テ−プ
3のセパレ−トテ−プ31の巻取り−ル、Eは加熱槽、
Fは封止材固着チップ搭載キャリアテ−プの巻取リ−ル
である。
【0014】上記装置を使用して本発明により半導体チ
ップを封止するには、図1において、まず、リ−ルAか
らチップ搭載キャリアテ−プ1を、リ−ルBから封止材
支着テ−プ3を、キャリアテ−プ1のリ−ド14形成面
と封止材支着テ−プ3の封止材32支着面とを向かい合
わせにして引き出し、加熱・加圧器Cにおいて、封止材
32を半導体チップ2の表面に圧接させる。
【0015】この場合、図3の(イ)に示すように、加
熱・加圧器Dに加熱金型を使用し、両テ−プ1,3の走
行を一時的に停止し、上型41の降下移動により封止材
32を加熱、加圧してチップ上面21に圧接し(42は
下型)、次いで上型41を上昇移動させ、両テ−プ1,
3を再度走行させる方法(両テ−プを間歇的に走行させ
る)、または、図3の(ロ)に示すように、加熱・加圧
器に加熱ロ−ル43を使用し、両テ−プ1,3を一定の
速度で連続走行させ、加熱ロ−ル43で封止材32をチ
ップ上面21に圧接する(42は下型)方法等を使用で
きる。
【0016】この加熱・加圧下での封止材32のチップ
2への圧接により、半溶融状態にされた樹脂でチップ2
の表面21、チップのバンプ電極22、リ−ド線先端部
141等がボイドレスで被覆される。
【0017】このようにして封止材支着テ−プ3の封止
材32をチップ搭載キャリアテ−プ1のチップ表面21
に圧接したのちは、図1において、封止材支着テ−プ3
のセパレ−トテ−プ31を巻取リ−ルDで巻取って剥離
し、封止材32をチップ2側に転移させる。
【0018】この場合、封止材支着テ−プ3における封
止材32の固着強度をS、セパレ−トテ−プ剥離角度を
θとすれば、セパレ−トテ−プ31の巻取張力T1は、 T1=S/sinθ であり、キャリアテ−プ1に作用する引張り力T2は、 T2=S/tanθ である。而るに、封止材支着テ−プ3における封止材3
2の固着強度Sは、セパレ−トテ−プ31の剥離処理に
よって充分に小さくでき、従って、上記剥離のためのセ
パレ−トテ−プ31の巻取張力T1を低張力にでき、剥
離をスム−ズに行うことができる。また、チップ搭載キ
ャリアテ−プ1に作用する引張り力T2も、充分に低く
でき、チップ搭載キャリアテ−プ1、特に、チップ2と
リ−ド14とのボンディング箇所を安全に維持できる。
【0019】このようにして、封止材支着テ−プ3の封
止材32をチップ搭載キャリアテ−プ1のチップ表面2
1に転移したのちは、チップ搭載キャリアテ−プを加熱
槽Eにおいて加熱し、上記転移封止材32のチップ2へ
の固着強度を強化し、而るのち、一旦、巻取リ−ルFで
巻取り、この半製品巻取リ−ル全体を硬化炉(図示され
ていない)に搬入し、封止材の硬化を終結させ、これに
てチップ搭載キャリアテ−プのチップの樹脂封止作業を
終了する。
【0020】上記において、加熱・加圧器Cによる封止
材32のチップ2への圧着条件如何によっては、加熱槽
Eでの加熱処理を省略することもできる。また、硬化炉
での封止材の硬化時、不要な接着を防止はするために、
半製品を巻取リ−ルFに巻取る際、チップ部分に適当な
セパレ−タを介在させることもできる。
【0021】本発明において、封止材には、通常、エポ
キシ樹脂が使用される。この封止材の半導体チップに接
する面には、封止材支着テ−プの移送中等でのこの面の
保護のために、保護層を設けておき、チップ搭載キャリ
アテ−プのチップへの圧着直前に当該保護層を剥離する
ことが望ましく、例えば、図4に示すように、セパレ−
トテ−プ32に熱硬化樹脂層eを弱接着力(S)で積層
し、この熱硬化樹脂層eにトムソン刃等で封止材の外郭
形状の切れ目cを入れ、更に同熱硬化樹脂層e上に前記
接着力Sよりも弱い接着力で保護層33を設け、図1に
おいて、リ−ルBから封止材支着テ−プ3を引き出す際
に、上記切れ目cで囲まれた本来の封止材部分32以外
の部分321を全保護層33と共に剥離除去することがで
きる。
【0022】また、封止材には、エポキシ樹脂層の外面
に、防湿層、電磁波遮蔽層,静電気発生防止層又は機械
的補強層の何れか、または、二層以上設けた複合構造、
或はエポキシ樹脂層の内面に防湿樹脂層、応力緩和層
(エポキシ樹脂の硬化収縮応力、熱収縮応力の吸収層)
の何れか、または二層以上設けた複合構造を使用するこ
ともできる。
【0023】
【発明の効果】本発明の半導体装置の封止方法は上述し
た通りの構成であり、封止材支着テ−プからチップ搭載
キャリアテ−プのチップに転移する封止材の厚みを一様
とし、かつ封止材面積を一定とすることにより、チップ
搭載キャリアテ−プのチップを一様厚み、一定樹脂量で
封止でき、小型で、かつ品質のバラツキのない封止が可
能となる。
【0024】また、封止材支着テ−プの封止材をチップ
搭載キャリアテ−プのチップ側に圧着したのちに行う封
止材支着テ−プの支持テ−プ(セパレ−トテ−プ)の剥
離を、封止材支着テ−プへの封止材の支着強度を小とし
ておくことにより、低張力でスム−ズに行い得、更に、
同剥離時にチップ搭載キャリアテ−プに作用する引張り
力も充分に低張力にでき、同キャリアテ−プ特にリ−ド
とチップとのワイヤレスボンディングを安全に維持でき
るのて、良好な作業性で、かつ安全に樹脂封止できる。
【0025】更にまた、キャリアテ−プのリ−ドが四方
であっても、何らの支障なく封止できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明において使用する封止材転移装置の一例
を示す説明図である。
【図2】本発明において使用する走行チップ搭載キャリ
アテ−プの一例を示す説明図である。
【図3】本発明において使用する加熱・加圧器の異なる
例を示す説明図である。
【図4】本発明において使用する封止材支着テ−プの一
例を示す説明図である。
【図5】図5の(イ)は公知のTAB方式において使用する
キャリアテ−プを示す説明図、図5の(ロ)は同方式に
よるチップのワイヤレスボンディングを示す説明図であ
る。
【符号の説明】
1 チップ搭載キャリアテ−プ 2 半導体チップ 3 封止材支着テ−プ 32 封止材

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一定の間隔を隔てて半導体チップを搭載し
    た走行チップ搭載キャリアテ−プと、上記間隔と等しい
    間隔を隔てて硬化性樹脂封止材を支着した走行封止材支
    着テ−プとを、封止材支着テ−プの封止材支着面をチッ
    プ搭載キャリアテ−プ側に向け接触させて封止材をチッ
    プ搭載キャリアテ−プのチップ搭載部位に転移させ、次
    いで、硬化工程において封止材を硬化させることを特徴
    とする半導体装置の封止方法。
JP4335395A 1992-11-21 1992-11-21 半導体装置の封止方法 Pending JPH06163617A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4335395A JPH06163617A (ja) 1992-11-21 1992-11-21 半導体装置の封止方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4335395A JPH06163617A (ja) 1992-11-21 1992-11-21 半導体装置の封止方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06163617A true JPH06163617A (ja) 1994-06-10

Family

ID=18288067

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4335395A Pending JPH06163617A (ja) 1992-11-21 1992-11-21 半導体装置の封止方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH06163617A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000007235A1 (en) * 1998-07-28 2000-02-10 Seiko Epson Corporation Semiconductor device, method of manufacture thereof, semiconductor module, and electronic device including circuit board and electronic unit board
KR100280427B1 (ko) * 1997-12-31 2001-03-02 김영환 반도체 운반용 릴의 실링 보정 장치
US6881611B1 (en) 1996-07-12 2005-04-19 Fujitsu Limited Method and mold for manufacturing semiconductor device, semiconductor device and method for mounting the device
US8205766B2 (en) 2009-05-20 2012-06-26 The Bergquist Company Method for packaging thermal interface materials
CN102543901A (zh) * 2010-12-28 2012-07-04 日东电工株式会社 密封构件、密封方法及光半导体装置的制造方法
US8430264B2 (en) 2009-05-20 2013-04-30 The Bergquist Company Method for packaging thermal interface materials

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6881611B1 (en) 1996-07-12 2005-04-19 Fujitsu Limited Method and mold for manufacturing semiconductor device, semiconductor device and method for mounting the device
KR100280427B1 (ko) * 1997-12-31 2001-03-02 김영환 반도체 운반용 릴의 실링 보정 장치
WO2000007235A1 (en) * 1998-07-28 2000-02-10 Seiko Epson Corporation Semiconductor device, method of manufacture thereof, semiconductor module, and electronic device including circuit board and electronic unit board
US6472726B1 (en) 1998-07-28 2002-10-29 Seiko Epson Corporation Semiconductor device and method of fabrication thereof, semiconductor module, circuit board, and electronic equipment
US7045392B2 (en) 1998-07-28 2006-05-16 Seiko Epson Corporation Semiconductor device and method of fabrication thereof, semiconductor module, circuit board, and electronic equipment
US8205766B2 (en) 2009-05-20 2012-06-26 The Bergquist Company Method for packaging thermal interface materials
US8430264B2 (en) 2009-05-20 2013-04-30 The Bergquist Company Method for packaging thermal interface materials
CN102543901A (zh) * 2010-12-28 2012-07-04 日东电工株式会社 密封构件、密封方法及光半导体装置的制造方法
EP2472615A3 (en) * 2010-12-28 2014-01-08 Nitto Denko Corporation Sealing member, sealing method, and method for producing optical semiconductor device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7804168B2 (en) Ball grid array structures having tape-based circuitry
JP3980698B2 (ja) 無線周波数タグ作成方法
EP0626723B1 (en) Method for manufacturing a semiconductor device
US8766432B2 (en) Device with semiconductor die attached to a leadframe
US6770164B1 (en) Method for attaching a semiconductor die to a substrate
US20020155638A1 (en) Method for fabricating semiconductor device
CA1232372A (en) Method for encapsulating semiconductor components mounted on a carrier tape
US7132755B2 (en) Adhesive film for manufacturing semiconductor device
JPH08306738A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JPH06163617A (ja) 半導体装置の封止方法
US4919857A (en) Method of molding a pin holder on a lead frame
KR100252788B1 (ko) 반도체장치의 제조방법
JP2000155820A (ja) 非接触icカードおよびその製造方法
KR100220709B1 (ko) 액상의 접착제를 리드 하부면에 도포하는 방법과 장치 및 그로부터 형성된 접착층을 갖는 리드-온-칩(loc)형 반도체 칩 패키지
JPH11251347A (ja) 半導体パッケージの製造方法
JP2000155821A (ja) 非接触icカードおよびその製造方法
KR20020089492A (ko) 웨이퍼 후면에 다이 부착물질의 사전 도포
JPH05291218A (ja) 樹脂封止型半導体装置の製造方法
KR950008237B1 (ko) 반도체 패키지 제조방법
JPH08288324A (ja) 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法
JPS61271848A (ja) 半導体パツケ−ジの製法
JPH09293806A (ja) 半導体装置及びその製造方法
JPH07211738A (ja) 回路素子の封止方法
JP2000228463A (ja) 半導体装置製造用金属フレーム、その製造方法及び半導体装置の製造方法
JPS59181033A (ja) 半導体装置