JPH06162972A - 透過型陽極を有するｘ線管 - Google Patents
透過型陽極を有するｘ線管Info
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- JPH06162972A JPH06162972A JP5209682A JP20968293A JPH06162972A JP H06162972 A JPH06162972 A JP H06162972A JP 5209682 A JP5209682 A JP 5209682A JP 20968293 A JP20968293 A JP 20968293A JP H06162972 A JPH06162972 A JP H06162972A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/04—Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
- H01J35/08—Anodes; Anti cathodes
- H01J35/10—Rotary anodes; Arrangements for rotating anodes; Cooling rotary anodes
-
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-
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- H01J35/08—Anodes; Anti cathodes
- H01J35/112—Non-rotating anodes
- H01J35/116—Transmissive anodes
Abstract
(57)【要約】
【目的】 従来の反射型陽極を有するＸ線管に比較して
電力をより有効に利用し得るＸ線管を製作する。 【構成】 Ｘ線管は、運転時に電子により衝突され、原
子番号の大きい１又は２以上の金属から成るターゲット
層と、原子番号の小さい１又は２以上の物質から成り、
該ターゲット層に接続されるキャリア層とから構成され
る透過型陽極を有している。電子の入射方向とＸ線管外
部で使用されキャリア層を透過するＸ線の一部との間の
角θを１０°から４０°の範囲にすることにより、Ｘ線
の強度を増加することができる。
電力をより有効に利用し得るＸ線管を製作する。 【構成】 Ｘ線管は、運転時に電子により衝突され、原
子番号の大きい１又は２以上の金属から成るターゲット
層と、原子番号の小さい１又は２以上の物質から成り、
該ターゲット層に接続されるキャリア層とから構成され
る透過型陽極を有している。電子の入射方向とＸ線管外
部で使用されキャリア層を透過するＸ線の一部との間の
角θを１０°から４０°の範囲にすることにより、Ｘ線
の強度を増加することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、動作状態において電子
により衝突され、大きな原子番号の１又は２以上の金属
から成る、ターゲット層と、該ターゲット層に結合さ
れ、小さい原子番号の１又は２以上の物質から成るキャ
リア層とから構成される透過型陽極を有するＸ線管に係
る。
により衝突され、大きな原子番号の１又は２以上の金属
から成る、ターゲット層と、該ターゲット層に結合さ
れ、小さい原子番号の１又は２以上の物質から成るキャ
リア層とから構成される透過型陽極を有するＸ線管に係
る。
【０００２】
【従来の技術】この種のＸ線管は、例えばドイツ公開明
細書第２，７２９，８３３号、米国特許明細書第２，０
９０，６３６号、米国特許明細書第３，８９４，２３９
号によって知られている。上記二つの層の厚さに関して
は互いに矛盾する条件が課せられている。一方では、タ
ーゲット層は、入射電子をできるだけ高い割合のＸ線量
子に変換できるようにできるだけ厚い方が好ましい。他
方、この層は、そこで発生するＸ線量子が減衰するのを
最小に抑えるためにできるだけ薄くなければならない。
キャリア層は、一方では、出射されるＸ線の減衰を最小
化するために充分薄くなければならなく、他方、機械的
な安定性とターゲット層で発生する熱エネルギーの消散
を確保するために充分な厚さでなくてはならない。
細書第２，７２９，８３３号、米国特許明細書第２，０
９０，６３６号、米国特許明細書第３，８９４，２３９
号によって知られている。上記二つの層の厚さに関して
は互いに矛盾する条件が課せられている。一方では、タ
ーゲット層は、入射電子をできるだけ高い割合のＸ線量
子に変換できるようにできるだけ厚い方が好ましい。他
方、この層は、そこで発生するＸ線量子が減衰するのを
最小に抑えるためにできるだけ薄くなければならない。
キャリア層は、一方では、出射されるＸ線の減衰を最小
化するために充分薄くなければならなく、他方、機械的
な安定性とターゲット層で発生する熱エネルギーの消散
を確保するために充分な厚さでなくてはならない。
【０００３】これらの矛盾する条件のため、この種のＸ
線管は、実際に使用するのがむずかしく、特に医療用や
工業用の検査において重要となる５０〜５００ｋＶの電
圧範囲で使用するのが困難である。これらの目的のため
に、Ｘ線が電子が入射する側の陽極から出るような陽極
を有するＸ線管の利用がなされる。従って、これらの陽
極を、以後「反射陽極」と言う。
線管は、実際に使用するのがむずかしく、特に医療用や
工業用の検査において重要となる５０〜５００ｋＶの電
圧範囲で使用するのが困難である。これらの目的のため
に、Ｘ線が電子が入射する側の陽極から出るような陽極
を有するＸ線管の利用がなされる。従って、これらの陽
極を、以後「反射陽極」と言う。
【０００４】Ｘ線管において、ほんのわずかの印加され
た電子エネルギーだけが５００ｋＶまでの電圧範囲でＸ
線の放射線に変換される。他のエネルギーは陽極の温度
を上げさせる。Ｘ線管の外部では発生したＸ線の一部だ
けが有効な放射ビームとして利用されるだけである。
た電子エネルギーだけが５００ｋＶまでの電圧範囲でＸ
線の放射線に変換される。他のエネルギーは陽極の温度
を上げさせる。Ｘ線管の外部では発生したＸ線の一部だ
けが有効な放射ビームとして利用されるだけである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、５０
ｋＶから５００ｋＶの範囲の動作電圧を有し、Ｘ線管の
動作に適用される電子エネルギーが、反射陽極を有する
Ｘ線管のものと比較してより有効なＸ線を発生するＸ線
管を構成することにある。
ｋＶから５００ｋＶの範囲の動作電圧を有し、Ｘ線管の
動作に適用される電子エネルギーが、反射陽極を有する
Ｘ線管のものと比較してより有効なＸ線を発生するＸ線
管を構成することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この目的は、電子の入射
方向とキャリア層を通して出射する有効な放射ビームの
Ｘ線の方向との角度θを１０°から４０°の範囲にする
ことにより達成される。本発明は、Ｘ線の強度は、電子
の方向に対して放射されるＸ線によって囲まれる角度に
大きく依存するという認識に基づいている。もし、ター
ゲットによる減衰を考慮しなければ、明白な強度の最大
値は、中心軸がＸ線を発生する電子ビームの方向により
形成される円錐の外部表面に現われる。この円錐の開口
角度は動作電圧に依存し、動作電圧が高くなればなるほ
ど小さくなる。６０ｋＶの動作電圧に対し、最大強度の
円錐の開口角の半分の値は約４０°となり、５００ｋＶ
の動作電圧に対し、約１０°となる。
方向とキャリア層を通して出射する有効な放射ビームの
Ｘ線の方向との角度θを１０°から４０°の範囲にする
ことにより達成される。本発明は、Ｘ線の強度は、電子
の方向に対して放射されるＸ線によって囲まれる角度に
大きく依存するという認識に基づいている。もし、ター
ゲットによる減衰を考慮しなければ、明白な強度の最大
値は、中心軸がＸ線を発生する電子ビームの方向により
形成される円錐の外部表面に現われる。この円錐の開口
角度は動作電圧に依存し、動作電圧が高くなればなるほ
ど小さくなる。６０ｋＶの動作電圧に対し、最大強度の
円錐の開口角の半分の値は約４０°となり、５００ｋＶ
の動作電圧に対し、約１０°となる。
【０００７】本発明は、有効放射ビーム、即ちＸ線管の
外部でのＸ放射の部分と、Ｘ線を発生する電子の発生の
方向との間の角度を適切に選定するという事実を利用す
るものである。一般に、有効放射線ビームは、少なくと
も１方向に０以外の開口角度を持っている。有効放射線
ビームの中心にあるＸ線と電子の入射方向との間の角度
は、特許請求の範囲に記載されているように選定され
る。
外部でのＸ放射の部分と、Ｘ線を発生する電子の発生の
方向との間の角度を適切に選定するという事実を利用す
るものである。一般に、有効放射線ビームは、少なくと
も１方向に０以外の開口角度を持っている。有効放射線
ビームの中心にあるＸ線と電子の入射方向との間の角度
は、特許請求の範囲に記載されているように選定され
る。
【０００８】これまでに知られている透過陽極型Ｘ線管
においては、有効な放射ビームは、普通は、電子の通路
の延長線に沿い、即ち角度０してある。しかしながら、
角度θが０よりずれている透過陽極型Ｘ線管もある。例
えば、米国特許明細書第３，８９４，２３９号によっ
て、放射線出射窓に関して約８０°傾斜しているターゲ
ット層にほぼ垂直に電子ビームが入射されるような透過
型陽極を有する回転陽極型Ｘ線管が知られている。ター
ゲット層で発生される制御放射線の連続スペクトルは、
ターゲット層で発生する蛍光放射線よりも実質的に大き
い割合で減衰される。
においては、有効な放射ビームは、普通は、電子の通路
の延長線に沿い、即ち角度０してある。しかしながら、
角度θが０よりずれている透過陽極型Ｘ線管もある。例
えば、米国特許明細書第３，８９４，２３９号によっ
て、放射線出射窓に関して約８０°傾斜しているターゲ
ット層にほぼ垂直に電子ビームが入射されるような透過
型陽極を有する回転陽極型Ｘ線管が知られている。ター
ゲット層で発生される制御放射線の連続スペクトルは、
ターゲット層で発生する蛍光放射線よりも実質的に大き
い割合で減衰される。
【０００９】さらに、ドイツ公開明細書第２，７２９，
８３３号の図７に示されるように、陽極の周辺に分散配
置される２つのグループの陰極によりＸ線が発生される
環状陽極を有し、その陰極が線源の中を延びる中心面の
両側に位置しているＸ線管が知られている。この結果、
毎回４５°の角θが得られる。しかしながら、引用した
文献のいずれも、Ｘ放射は、１５°（高電圧時）から４
０°（低電圧時）の間の角度範囲で特に強くなる、とい
う事実を利用するものでない。
８３３号の図７に示されるように、陽極の周辺に分散配
置される２つのグループの陰極によりＸ線が発生される
環状陽極を有し、その陰極が線源の中を延びる中心面の
両側に位置しているＸ線管が知られている。この結果、
毎回４５°の角θが得られる。しかしながら、引用した
文献のいずれも、Ｘ放射は、１５°（高電圧時）から４
０°（低電圧時）の間の角度範囲で特に強くなる、とい
う事実を利用するものでない。
【００１０】最後に、国際公開第０９２／０３８３７号
によって、電子が陽極に１０°の角度で入射し（通常の
７０°−９０°でなく）、有効放射線ビームが陽極に対
して５°乃至１５°の角度で広がる反射型陽極を有する
Ｘ線管が知られている。しかしながら、その放射線出射
窓は、散乱電子によって強く加熱される傾向にある。本
発明の実施例においては、Ｘ線の出力に非常に重要な、
ターゲット層の単位表面積当りの重量ｗをｇ／ｃｍ2 で
表わした場合、少なくとも次式を満足するものである： ｗ＝１．０８・１０-6・（Ａ／Ｚ）2.5 ・Ｕ1.6 ・cos
β ここで、Ａはターゲット層の金属の原子量、Ｚはその原
子番号、ＵはＸ線管の定格動作電圧のｋＶ値、βは電子
の入射方向とターゲット層に対する垂直線との間の角度
を表わす。タングステンのターゲット層を有するＸ線管
を例にとると、単位表面積当たりの重量０．０１７ｇ／
ｃｍ2 、即ち厚さ８．６μｍ（動作電圧Ｕ＝１００ｋＶ
でβ＝０の場合）となる。
によって、電子が陽極に１０°の角度で入射し（通常の
７０°−９０°でなく）、有効放射線ビームが陽極に対
して５°乃至１５°の角度で広がる反射型陽極を有する
Ｘ線管が知られている。しかしながら、その放射線出射
窓は、散乱電子によって強く加熱される傾向にある。本
発明の実施例においては、Ｘ線の出力に非常に重要な、
ターゲット層の単位表面積当りの重量ｗをｇ／ｃｍ2 で
表わした場合、少なくとも次式を満足するものである： ｗ＝１．０８・１０-6・（Ａ／Ｚ）2.5 ・Ｕ1.6 ・cos
β ここで、Ａはターゲット層の金属の原子量、Ｚはその原
子番号、ＵはＸ線管の定格動作電圧のｋＶ値、βは電子
の入射方向とターゲット層に対する垂直線との間の角度
を表わす。タングステンのターゲット層を有するＸ線管
を例にとると、単位表面積当たりの重量０．０１７ｇ／
ｃｍ2 、即ち厚さ８．６μｍ（動作電圧Ｕ＝１００ｋＶ
でβ＝０の場合）となる。
【００１１】本発明は異なる用途の異なるＸ線管に使用
できる。本発明の好ましい実施例においては、Ｘ線管
は、回転陽極型Ｘ線管として構成され、ターゲット層は
（例えばタングステン及び／又はレニウムから成る）、
Ｘ線管の外部で使用されるＸ線の方向に対する角度を囲
む裁頭円錐の表面に位置し、その角度は前記方向と入射
電子の方向との間の角度よりも小さい。陽極は次に、回
転軸を中心として対称形となる皿のような形に形作ら
れ、ターゲット層が設けられるその内側の面は、電子を
放出する電子源に対向しており、その有効放射ビーム
は、回転軸に対して好ましくは９０°の角度でその外部
表面より放射する。
できる。本発明の好ましい実施例においては、Ｘ線管
は、回転陽極型Ｘ線管として構成され、ターゲット層は
（例えばタングステン及び／又はレニウムから成る）、
Ｘ線管の外部で使用されるＸ線の方向に対する角度を囲
む裁頭円錐の表面に位置し、その角度は前記方向と入射
電子の方向との間の角度よりも小さい。陽極は次に、回
転軸を中心として対称形となる皿のような形に形作ら
れ、ターゲット層が設けられるその内側の面は、電子を
放出する電子源に対向しており、その有効放射ビーム
は、回転軸に対して好ましくは９０°の角度でその外部
表面より放射する。
【００１２】本発明を以下図面を参照して詳細に説明す
る。
る。
【００１３】
【実施例】図１に示される透過型陽極は、小さい原子番
号を持つ物質から成るキャリア層２上に設けられた大き
い原子番号を持つ金属から成るターゲット層１を有す
る。ターゲット層１は、例えば、タングステン又はレニ
ウム、或いはそれらの合金によって構成することができ
る。ターゲット層に適する他の金属としては、プラチナ
又はトリウムがある。キャリア層２は、グラファイト又
はベリリウムからなり、その厚さは、一方において適切
な機械的強度を有し、他方においては、Ｘ放射の減衰を
可能な限り低くするようなものとされる。
号を持つ物質から成るキャリア層２上に設けられた大き
い原子番号を持つ金属から成るターゲット層１を有す
る。ターゲット層１は、例えば、タングステン又はレニ
ウム、或いはそれらの合金によって構成することができ
る。ターゲット層に適する他の金属としては、プラチナ
又はトリウムがある。キャリア層２は、グラファイト又
はベリリウムからなり、その厚さは、一方において適切
な機械的強度を有し、他方においては、Ｘ放射の減衰を
可能な限り低くするようなものとされる。
【００１４】矢印３は、ターゲット層１に垂直線に対し
て角度βで入射する電子ビームを示す。入射点を中心と
して円錐状に伝搬するＸ放射が発生される。しかし、理
論的及び実験的な調査によると、ターゲット層による減
衰を考慮に入れなければ、所定の開口角度θを持つ円錐
（その頂点は電子の入射する点にあり、その対称軸は電
子ビーム方向である）の表面を伝搬するＸ線が最も強い
強度を持っている。その円錐の上部の境界線４ａと下部
の境界線４ｂが図１に示されている。円錐の開口角θの
半分の角は、動作電圧に依存し、略次の表に従う。
て角度βで入射する電子ビームを示す。入射点を中心と
して円錐状に伝搬するＸ放射が発生される。しかし、理
論的及び実験的な調査によると、ターゲット層による減
衰を考慮に入れなければ、所定の開口角度θを持つ円錐
（その頂点は電子の入射する点にあり、その対称軸は電
子ビーム方向である）の表面を伝搬するＸ線が最も強い
強度を持っている。その円錐の上部の境界線４ａと下部
の境界線４ｂが図１に示されている。円錐の開口角θの
半分の角は、動作電圧に依存し、略次の表に従う。
【００１５】
【表２】
【００１６】従って、Ｘ線管は有効放射ビームの方向が
円錐面にある１つのＸ線と一致するように構成されねば
ならない。ターゲット層で生成されるＸ線は、その層の
面に対して、異なる角度で進行し、図は、最も小さい角
度α1 と、最も大きい角度α2を示している。これらの
角度は次の式によっ表わされる。
円錐面にある１つのＸ線と一致するように構成されねば
ならない。ターゲット層で生成されるＸ線は、その層の
面に対して、異なる角度で進行し、図は、最も小さい角
度α1 と、最も大きい角度α2を示している。これらの
角度は次の式によっ表わされる。
【００１７】 α1 ＝９０°−β−θ （１） α2 ＝９０°−β＋θ （２） 放射線の出力のための最適なターゲット層の単位表面積
当りの重量は、およそ次の関係式によって与えられる。 ｗ＝１．０８・１０-6・（Ａ／Ｚ）2.5 ・Ｕ1.6 ・cos β （３） ここで、Ａはターゲット層の金属の原子量、Ｚはその原
子番号である。βは、電子の入射角度、即ち、入射電子
ビーム３の方向とターゲット層に対する垂直線との間の
角度を表す。ターゲット層が２以上の金属の合金ででき
ているときは、ターゲット層の単位表面積当たりの重量
は、合金の各金属についてｗを式（３）に従って計算さ
れ、その計算値をそれぞれの金属の割合に従って重みつ
けして合計される。
当りの重量は、およそ次の関係式によって与えられる。 ｗ＝１．０８・１０-6・（Ａ／Ｚ）2.5 ・Ｕ1.6 ・cos β （３） ここで、Ａはターゲット層の金属の原子量、Ｚはその原
子番号である。βは、電子の入射角度、即ち、入射電子
ビーム３の方向とターゲット層に対する垂直線との間の
角度を表す。ターゲット層が２以上の金属の合金ででき
ているときは、ターゲット層の単位表面積当たりの重量
は、合金の各金属についてｗを式（３）に従って計算さ
れ、その計算値をそれぞれの金属の割合に従って重みつ
けして合計される。
【００１８】放射線の出射方向を表に従って選択し、そ
して、ターゲット層の厚さを式（３）によって算出した
ものを用いた場合、有効Ｘ線ビームのＸ放射の強度は、
同じ管電圧値、同じ管電流値で、電子ビームの入射方向
と放射線の出射方向との間の角度を約９０°とする反射
陽極を有するＸ線管におけるより、非常に高くなる。強
度の増加は、電圧が高くなる程高くなる。しかしなが
ら、Ｘ線管を定格電圧以外の電圧で動作させる場合はこ
れらの強度に関する利点は減じられる。
して、ターゲット層の厚さを式（３）によって算出した
ものを用いた場合、有効Ｘ線ビームのＸ放射の強度は、
同じ管電圧値、同じ管電流値で、電子ビームの入射方向
と放射線の出射方向との間の角度を約９０°とする反射
陽極を有するＸ線管におけるより、非常に高くなる。強
度の増加は、電圧が高くなる程高くなる。しかしなが
ら、Ｘ線管を定格電圧以外の電圧で動作させる場合はこ
れらの強度に関する利点は減じられる。
【００１９】図２は、本発明による透過陽極を有する回
転陽極型Ｘ線管の一実施例を示す。Ｘ線管はガラスから
成る管外被５を有し、その中には、陰極装置６と陽極装
置７が配置されている。陽極装置は、ロータ８に既知の
方法で結合され、Ｘ線管の内部で回転可能に軸支される
透過陽極２により構成されている。ロータは、ガラスの
エンベロープの外部に設けられ図２には示されていない
ステータによって回転される。
転陽極型Ｘ線管の一実施例を示す。Ｘ線管はガラスから
成る管外被５を有し、その中には、陰極装置６と陽極装
置７が配置されている。陽極装置は、ロータ８に既知の
方法で結合され、Ｘ線管の内部で回転可能に軸支される
透過陽極２により構成されている。ロータは、ガラスの
エンベロープの外部に設けられ図２には示されていない
ステータによって回転される。
【００２０】透過陽極は、グラファイトから成り陰極装
置６の方に開いている皿の形状をしたキャリア部材２を
有している。陰極装置６に設けられた電子出射器からの
電子ビーム３が衝突する透過型陽極の領域に、レニウム
からなるターゲット層１がキャリア部材２上に設けられ
ている。もし、このＸ線管がコンピュータトモグラフィ
に用いられ、１５０ｋＶの動作電圧用として作られ、そ
して電子ビーム３が垂直方向に対して４０°の角度で層
に入射すると、この層の単位表面積当りの重量は式
（３）に従うと、０．０２４ｇ／ｃｍ2 となる。これ
は、厚さ１１．５μｍのレニウム層によって達成され
る。
置６の方に開いている皿の形状をしたキャリア部材２を
有している。陰極装置６に設けられた電子出射器からの
電子ビーム３が衝突する透過型陽極の領域に、レニウム
からなるターゲット層１がキャリア部材２上に設けられ
ている。もし、このＸ線管がコンピュータトモグラフィ
に用いられ、１５０ｋＶの動作電圧用として作られ、そ
して電子ビーム３が垂直方向に対して４０°の角度で層
に入射すると、この層の単位表面積当りの重量は式
（３）に従うと、０．０２４ｇ／ｃｍ2 となる。これ
は、厚さ１１．５μｍのレニウム層によって達成され
る。
【００２１】Ｘ線管は、ハウジングの内部に取付けら
れ、図２では、その右側にハウジングの一部の壁１０だ
けが示されている。ハウジングの壁は、充分の厚さの例
えば鉛のようなＸ線吸収材料により裏打ちされている。
例えば、アルミニウムのようなＸ線透過材料から成る放
射線出射窓１１がターゲット層のレベルの個所のみに設
けられていて、これによりその区域でのみ有効放射が出
射される。有効放射線は、回転軸に垂直にそして電子ビ
ームの方向に対して３０°の角度で伝搬する。ＣＴ検査
の場合、実質的には平らで扇形をした放射線ビームが図
２の面に対して垂直の方向に放射窓によって形式され
る。Ｘ線出射窓の最大寸法の方向もまた図の面に対して
垂直に延在している。
れ、図２では、その右側にハウジングの一部の壁１０だ
けが示されている。ハウジングの壁は、充分の厚さの例
えば鉛のようなＸ線吸収材料により裏打ちされている。
例えば、アルミニウムのようなＸ線透過材料から成る放
射線出射窓１１がターゲット層のレベルの個所のみに設
けられていて、これによりその区域でのみ有効放射が出
射される。有効放射線は、回転軸に垂直にそして電子ビ
ームの方向に対して３０°の角度で伝搬する。ＣＴ検査
の場合、実質的には平らで扇形をした放射線ビームが図
２の面に対して垂直の方向に放射窓によって形式され
る。Ｘ線出射窓の最大寸法の方向もまた図の面に対して
垂直に延在している。
【００２２】本発明は、ガラスの外被を有する回転陽極
型のＸ線管で医療用の目的に使われるものとして説明さ
れたが、本発明は他の実施例にもまた使用できる。例え
ば、回転型陽極の代りに静止陽極も使用できる。ガラス
の外被から成るＸ線管の代りに、陰極及び／又は陽極が
絶縁材を介して接続される金属の外被を有するＸ線管も
使用できる。Ｘ線管は、また工業分野における非破壊検
査にも使用できる。これらの目的のためには、管電圧２
００〜５００ｋＶの範囲で特に高い効率が得られる。
型のＸ線管で医療用の目的に使われるものとして説明さ
れたが、本発明は他の実施例にもまた使用できる。例え
ば、回転型陽極の代りに静止陽極も使用できる。ガラス
の外被から成るＸ線管の代りに、陰極及び／又は陽極が
絶縁材を介して接続される金属の外被を有するＸ線管も
使用できる。Ｘ線管は、また工業分野における非破壊検
査にも使用できる。これらの目的のためには、管電圧２
００〜５００ｋＶの範囲で特に高い効率が得られる。
【図１】透過型陽極の一部分の原理図である。
【図２】本発明による透過型陽極を有する回転陽極型Ｘ
線管を示す図である。
線管を示す図である。
１ ターゲット層 ２ キャリア層 ３ 電子ビーム ４ Ｘ線 ５ 外被 ６ 陰極装置 ７ 陽極装置 ８ ロータ １０ ハウジング壁 １１ 放射線出射窓
Claims (4)
- 【請求項１】 動作状態において電子により衝突され、
大きな原子番号の１又は２以上の金属から成るターゲッ
ト層と、ターゲット層に結合され小さな原子番号の１又
は２以上の物質から成るキャリア層とを含む透過型陽極
を有するＸ線管であって、電子の入射方向とキャリア層
を透過して放出される有効放射ビームにおけるＸ線の方
向との間の角θが１０°から４０°の範囲にあることを
特徴とするＸ線管。 - 【請求項２】 前記角度θ及びＸ線管の定格動作電圧は
少くともほぼ次の関係： 【表１】 を満足することを特徴とする請求項１のＸ線管。 - 【請求項３】 ターゲット層の単位表面積当りの重量を
ｇ／ｃｍ2 で表わすとき、少くともほぼ次の関係： ｗ＝１．０８・１０-6・（Ａ／Ｚ）2.5 ・Ｕ1.6 ・cos
β ここで、Ａはターゲット層の金属の原子量、Ｚはその原
子番号、ＵはＸ線管のｋＶ単位の定格動作電圧、βは電
子の入射方向とターゲット層に対する垂直方向とによっ
て形成される角度を表わす、を満足することを特徴とす
る前記請求項１又は２記載のＸ線管。 - 【請求項４】 回転陽極型Ｘ線管として構成され、ター
ゲット層（１）は、Ｘ線管の外部で使用されるＸ線の方
向に対する角（α1 ）を囲む裁頭円錐形の表面に配置さ
れ、前記角（α1 ）は前記Ｘ線の方向と電子の入射方向
との間の角（θ）よりも小さいことを特徴とする前記請
求項１乃至３のうちいずれか一項に記載のＸ線管。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4228559:3 | 1992-08-27 | ||
| DE4228559A DE4228559A1 (de) | 1992-08-27 | 1992-08-27 | Röntgenröhre mit einer Transmissionsanode |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06162972A true JPH06162972A (ja) | 1994-06-10 |
Family
ID=6466593
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5209682A Pending JPH06162972A (ja) | 1992-08-27 | 1993-08-24 | 透過型陽極を有するｘ線管 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0584871B1 (ja) |
| JP (1) | JPH06162972A (ja) |
| DE (2) | DE4228559A1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2012124098A (ja) * | 2010-12-10 | 2012-06-28 | Canon Inc | 放射線発生装置および放射線撮影装置 |
| JP2012138203A (ja) * | 2010-12-24 | 2012-07-19 | Aet Inc | Ｘ線発生装置とｘ線発生装置群を用いたｘ線照射装置 |
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| EP1146542A1 (en) * | 2000-04-11 | 2001-10-17 | General Electric Company | Apparatus and method for increasing X-ray tube power per target thermal load |
| DE10130070A1 (de) | 2001-06-21 | 2003-01-02 | Philips Corp Intellectual Pty | Röntgenstrahler mit Flüssigmetall-Target |
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| US8275091B2 (en) | 2002-07-23 | 2012-09-25 | Rapiscan Systems, Inc. | Compact mobile cargo scanning system |
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| US9208988B2 (en) | 2005-10-25 | 2015-12-08 | Rapiscan Systems, Inc. | Graphite backscattered electron shield for use in an X-ray tube |
| GB0525593D0 (en) | 2005-12-16 | 2006-01-25 | Cxr Ltd | X-ray tomography inspection systems |
| US8837669B2 (en) | 2003-04-25 | 2014-09-16 | Rapiscan Systems, Inc. | X-ray scanning system |
| GB0309371D0 (en) | 2003-04-25 | 2003-06-04 | Cxr Ltd | X-Ray tubes |
| US9113839B2 (en) | 2003-04-25 | 2015-08-25 | Rapiscon Systems, Inc. | X-ray inspection system and method |
| US8451974B2 (en) | 2003-04-25 | 2013-05-28 | Rapiscan Systems, Inc. | X-ray tomographic inspection system for the identification of specific target items |
| US8094784B2 (en) | 2003-04-25 | 2012-01-10 | Rapiscan Systems, Inc. | X-ray sources |
| US10483077B2 (en) | 2003-04-25 | 2019-11-19 | Rapiscan Systems, Inc. | X-ray sources having reduced electron scattering |
| GB0309385D0 (en) | 2003-04-25 | 2003-06-04 | Cxr Ltd | X-ray monitoring |
| US8223919B2 (en) | 2003-04-25 | 2012-07-17 | Rapiscan Systems, Inc. | X-ray tomographic inspection systems for the identification of specific target items |
| US8243876B2 (en) | 2003-04-25 | 2012-08-14 | Rapiscan Systems, Inc. | X-ray scanners |
| GB0309374D0 (en) | 2003-04-25 | 2003-06-04 | Cxr Ltd | X-ray sources |
| US7949101B2 (en) | 2005-12-16 | 2011-05-24 | Rapiscan Systems, Inc. | X-ray scanners and X-ray sources therefor |
| GB0309383D0 (en) | 2003-04-25 | 2003-06-04 | Cxr Ltd | X-ray tube electron sources |
| GB0812864D0 (en) | 2008-07-15 | 2008-08-20 | Cxr Ltd | Coolign anode |
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| US8804899B2 (en) | 2003-04-25 | 2014-08-12 | Rapiscan Systems, Inc. | Imaging, data acquisition, data transmission, and data distribution methods and systems for high data rate tomographic X-ray scanners |
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| CA3149539A1 (en) | 2019-09-16 | 2021-03-25 | Voti Inc. | Probabilistic image analysis |
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1992
- 1992-08-27 DE DE4228559A patent/DE4228559A1/de not_active Withdrawn
-
1993
- 1993-08-18 DE DE59304524T patent/DE59304524D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1993-08-18 EP EP93202435A patent/EP0584871B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1993-08-24 JP JP5209682A patent/JPH06162972A/ja active Pending
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE59304524D1 (de) | 1997-01-02 |
| EP0584871B1 (de) | 1996-11-20 |
| EP0584871A1 (de) | 1994-03-02 |
| DE4228559A1 (de) | 1994-03-03 |
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