JPH06157428A - Aromatic dinitro compound, aromatic diamino compound and their production - Google Patents
Aromatic dinitro compound, aromatic diamino compound and their productionInfo
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- JPH06157428A JPH06157428A JP31881892A JP31881892A JPH06157428A JP H06157428 A JPH06157428 A JP H06157428A JP 31881892 A JP31881892 A JP 31881892A JP 31881892 A JP31881892 A JP 31881892A JP H06157428 A JPH06157428 A JP H06157428A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、1,3−または1,4
−ビス(3−ニトロ−5−トリフルオロメチルフェノキ
シ)ベンゼン、1,3−または1,4−ビス(3−アミ
ノ−5−トリフルオロメチルフェノキシ)ベンゼンおよ
びそれらの製造方法に関するものである。この化合物
は、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ビス
マレイミドおよびエポキシ樹脂等の出発原料として有用
な化合物である。The present invention relates to 1,3- or 1,4
-Bis (3-nitro-5-trifluoromethylphenoxy) benzene, 1,3- or 1,4-bis (3-amino-5-trifluoromethylphenoxy) benzene and a method for producing them. This compound is a useful compound as a starting material for polyimide, polyamide, polyamideimide, bismaleimide, epoxy resin and the like.
【0002】[0002]
【従来の技術】ポリイミド樹脂は、その耐熱性、機械物
性、接着性等の諸特性において、有機高分子の中で、最
高の部類に属し、それらの特性を活かして、各種の耐熱
性機械部品、接着剤、電子材料部品等に幅広く用いられ
ていることは周知である。しかしながら、ポリイミド樹
脂には、テフロン樹脂等の低誘電樹脂に比較して、誘電
率が高いという問題点が存在している。誘電率は、電子
材料分野において、非常に重要な要素である。現在商品
化されているポリイミド樹脂の誘電率は、4,4’−ジ
アミノジフェニルエーテルとピロメリット酸二無水物か
らなるポリイミド(商品名、カプトン)では3.5/1
MHz、4,4’−ジアミノジフェニルエーテルとビフ
ェニルテトラカルボン酸二無水物からなるポリイミド
(商品名、ユーピレックス)では3.5/1MHz、
3,3’−ジアミノベンゾフェノンとベンゾフェノンテ
トラカルボン酸二無水物(商品名、LRAC−TPI)
では3.7/1MHzである。現在、ポリイミド樹脂
は、すでにフレキシブルプリント基盤の絶縁材料として
用いられているが、近年の電子回路の高集積化に伴い、
さらに誘電率の低い絶縁材料、具体的には、誘電率が
2.9/1MHz以下のポリイミド樹脂が望まれてい
る。2. Description of the Related Art Polyimide resins belong to the highest class among organic polymers in various properties such as heat resistance, mechanical properties and adhesiveness, and by utilizing these properties, various heat resistant mechanical parts can be used. It is well known that it is widely used for adhesives, electronic material parts and the like. However, the polyimide resin has a problem that its dielectric constant is higher than that of a low dielectric resin such as Teflon resin. The dielectric constant is a very important factor in the field of electronic materials. The dielectric constant of currently commercialized polyimide resin is 3.5 / 1 for polyimide (trade name, Kapton) composed of 4,4'-diaminodiphenyl ether and pyromellitic dianhydride.
MHz, 4,1'-diaminodiphenyl ether and biphenyl tetracarboxylic acid dianhydride polyimide (trade name, Upilex) 3.5 / 1 MHz,
3,3'-Diaminobenzophenone and benzophenone tetracarboxylic dianhydride (trade name, LRAC-TPI)
Then, it is 3.7 / 1 MHz. Currently, polyimide resin has already been used as an insulating material for flexible printed boards, but with the recent high integration of electronic circuits,
Further, an insulating material having a low dielectric constant, specifically, a polyimide resin having a dielectric constant of 2.9 / 1 MHz or less is desired.
【0003】誘電率が高いという問題は、樹脂中の電子
移動に起因するものであり、ポリマー主鎖中の電子の移
動を制約することにより、誘電率の低減は可能である。
具体的には、ポリイミドの分子ユニットに、電子求引性
のフッ素原子を導入することが有効であることが知られ
ている。例えば、低誘電材料用ポリイミドモノマーとし
て、ヘキサフルオロイソプロピリデン基を含む芳香族ジ
アミン類が開示されている(特開平1−19065
2)。しかしながら、これらの芳香族ジアミンは、合成
法が多段階であったり、又、それらから得られるポリイ
ミド樹脂を成形加工する際の溶融流動性が不足している
等、工業的、物性的な問題点がある。The problem of high permittivity is due to electron transfer in the resin, and it is possible to reduce the permittivity by limiting the transfer of electrons in the polymer main chain.
Specifically, it is known that it is effective to introduce an electron-attracting fluorine atom into the molecular unit of polyimide. For example, aromatic diamines containing a hexafluoroisopropylidene group have been disclosed as polyimide monomers for low dielectric materials (JP-A-1-19065).
2). However, these aromatic diamines have industrial and physical problems such as a multi-step synthetic method and insufficient melt fluidity when molding and processing a polyimide resin obtained from them. There is.
【0004】一方、低誘電材料としてビス[(トリフル
オロメチル)アミノフェノキシ]ベンゼン類をモノマー
ユニットとするポリイミドが、特開昭59−18912
2、特開平3−6528に記述されている。しかしなが
ら、これらは、ポリイミドの一成分としての記述であ
り、該特許には、このジアミン化合物の物性はおろか、
製造法についての詳細な記述はなんらなされていない。
また、特開平3−6528に記載されているジアミン化
合物は、アミノ基がエーテル結合に対してパラ位となっ
ている1,4−ビス(4−アミノ−2−トリフルオロメ
チルフェノキシ)ベンゼンであり、この化合物は結合位
がすべてパラ位にあるため、得られるポリイミドは剛直
な構造となり、成形加工する際の溶融流動性が不足する
欠点がある。また、結合がパラ位にあることによって共
役系が延長され、誘電率の上昇を招くおそれがある。On the other hand, a polyimide having a monomer unit of bis [(trifluoromethyl) aminophenoxy] benzenes as a low dielectric material is disclosed in JP-A-59-18912.
2, described in JP-A-3-6528. However, these are descriptions as one component of polyimide, and in the patent, let alone the physical properties of this diamine compound,
No detailed description of the manufacturing method is given.
The diamine compound described in JP-A-3-6528 is 1,4-bis (4-amino-2-trifluoromethylphenoxy) benzene in which the amino group is in the para position relative to the ether bond. Since all the bonding positions of this compound are in the para position, the obtained polyimide has a rigid structure, and there is a drawback that the melt fluidity during molding is insufficient. Further, the para-position of the bond extends the conjugated system, which may lead to an increase in the dielectric constant.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、低誘
電で、かつ、成形加工性に優れたポリイミドの原料等と
して有用な、新規の化合物を提供することである。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a novel compound useful as a raw material for polyimide having low dielectric properties and excellent moldability.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決するため鋭意検討した結果、本発明を完成するに
至った。すなわち、本発明は、式(1)(化4)で表さ
れる芳香族ジニトロ化合物および式(2)(化4)で表
される芳香族ジアミノ化合物に関するものである。ま
た、3,5−ジニトロベンゾトリフルオライドとレゾル
シンまたはハイドロキノンを塩基の存在下、非プロトン
性極性溶剤中で縮合させる前記の芳香族ジニトロ化合物
の製造方法およびこれを還元する前記の芳香族ジアミノ
化合物の製造方法に関するものである。Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have completed the present invention as a result of extensive studies to solve the above problems. That is, the present invention relates to an aromatic dinitro compound represented by formula (1) (formula 4) and an aromatic diamino compound represented by formula (2) (formula 4). In addition, a method for producing the above aromatic dinitro compound by condensing 3,5-dinitrobenzotrifluoride and resorcin or hydroquinone in the presence of a base in an aprotic polar solvent and the above aromatic diamino compound for reducing the same. The present invention relates to a manufacturing method.
【0007】[0007]
【化4】 本発明の1,3−または1,4−ビス(3−アミノ−5
−トリフルオロメチルフェノキシ)ベンゼンは、エーテ
ル結合基に対して、メタ位にトリフルオロメチル基とア
ミノ基が置換している。従って、このジアミンから得ら
れるポリイミド樹脂は、ポリマー分子の折れ曲がり構造
に由来する成形加工性、および、トリフルオロメチル基
に由来する低誘電率等、優れた性能を有する。[Chemical 4] 1,3- or 1,4-bis (3-amino-5) of the present invention
-Trifluoromethylphenoxy) benzene has a trifluoromethyl group and an amino group substituted at the meta position with respect to the ether bond group. Therefore, the polyimide resin obtained from this diamine has excellent properties such as moldability due to the bent structure of the polymer molecule and low dielectric constant due to the trifluoromethyl group.
【0008】以下、本発明の1,3−または1,4−ビ
ス(3−ニトロ−5−トリフルオロメチルフェノキシ)
ベンゼンおよび1,3−または1,4−ビス(3−アミ
ノ−5−トリフルオロメチルフェノキシ)ベンゼンの製
造法を具体的に説明する。本発明の1,3−または1,
4−ビス(3−ニトロ−5−トリフルオロメチルフェノ
キシ)ベンゼンは、3,5−ジニトロベンゾトリフルオ
ライドと、レゾルシンまたはハイドロキノンを塩基の存
在下、非プロトン性極性溶剤中で反応させることにより
高収率で製造できる。原料である3,5−ジニトロベン
ゾトリフルオライドの製法は公知であり、ジャーナル・
オブ・アメリカン・ケミカル・ソサェティー(J.Am.Che
m.Soc.)74,3011〜14に示されるように、ベン
ゾトリフルオライドに混酸を作用させて得られる。本発
明の反応では、レゾルシンまたはハイドロキノンに対
し、3,5−ジニトロベンゾトリフルオライドを2倍当
量以上用いるが、後処理の煩雑さ、コスト等を考慮すれ
ば、2〜2.5倍当量用いることが望ましい。Hereinafter, 1,3- or 1,4-bis (3-nitro-5-trifluoromethylphenoxy) of the present invention
The method for producing benzene and 1,3- or 1,4-bis (3-amino-5-trifluoromethylphenoxy) benzene will be specifically described. 1,3- or 1, of the present invention
4-bis (3-nitro-5-trifluoromethylphenoxy) benzene has a high yield by reacting 3,5-dinitrobenzotrifluoride with resorcin or hydroquinone in the presence of a base in an aprotic polar solvent. Can be manufactured at a rate. The production method of the raw material 3,5-dinitrobenzotrifluoride is known,
Of American Chemical Society (J.Am.Che
m.Soc.) 74 , 3011-14, it is obtained by reacting a mixed acid with benzotrifluoride. In the reaction of the present invention, 3,5-dinitrobenzotrifluoride is used in an amount of 2 equivalents or more with respect to resorcin or hydroquinone, but in consideration of complexity of post-treatment, cost, etc., use 2 to 2.5 equivalents. Is desirable.
【0009】本発明で使用する塩基としては、アルカリ
金属の炭酸塩、炭酸水素塩、水酸化物またはアルコキシ
ドであり、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、水酸化カ
リウム、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、炭酸水素
ナトリウム、炭酸リチウム、水酸化リチウム、ナトリウ
ムメトキシド、カリウムイソプロポキシド等が挙げられ
る。これらの塩基の使用量は、原料のレゾルシンまたは
ハイドロキノンの水酸基に対して、当量以上あればよ
く、1〜2倍当量が好ましい。本発明で使用する非プロ
トン性極性溶剤としては、ホルムアミド、N−メチルホ
ルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−
ジエチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミ
ド、N−メチルピロリドン、1,3−ジメチル−2−イ
ミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等
が挙げられる。これらの溶剤の使用量は、特に限定され
ないが、通常、原料に対して1〜10重量倍で十分であ
る。The base used in the present invention is an alkali metal carbonate, hydrogen carbonate, hydroxide or alkoxide, which is potassium carbonate, potassium hydrogen carbonate, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium hydroxide or hydrogen carbonate. Sodium, lithium carbonate, lithium hydroxide, sodium methoxide, potassium isopropoxide and the like can be mentioned. The amount of these bases used may be equivalent to or more than the hydroxyl group of the raw material resorcin or hydroquinone, and is preferably 1 to 2 times equivalent. As the aprotic polar solvent used in the present invention, formamide, N-methylformamide, N, N-dimethylformamide, N, N-
Examples thereof include diethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, dimethyl sulfoxide, sulfolane and the like. The amount of these solvents to be used is not particularly limited, but usually 1 to 10 times by weight of the raw material is sufficient.
【0010】本発明の一般的な反応方法としては、所定
量のレゾルシンまたはハイドロキノン、塩基および溶剤
を装入し、レゾルシンまたはハイドロキノンをアルカリ
金属塩とした後、3,5−ジニトロベンゾトリフルオラ
イドを添加して反応させるか、あるいは、あらかじめ
3,5−ジニトロベンゾトリフルオライドを含む全原料
を同時に加え、そのまま昇温して反応させるかのいずれ
であってもよい。また、これらに限定されるものではな
く、その他の方法により適宜実施できる。反応温度は通
常、40〜250℃の範囲であるが、好ましくは80〜
180℃の範囲である。また、本発明の方法では、反応
を促進するための触媒として、銅粉および銅系化合物ま
たはクラウンエーテル、ポリエチレングリコール、四級
アンモニウム塩、四級ホスホニウム塩のような相関移動
触媒を使用しても、なんら差しつかえない。反応系内に
水が存在する場合は、反応中に、窒素ガス等を通気させ
ることによって、系外に除去する方法もあるが、通常
は、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等
を少量使用して、共沸により系外へ除去する方法が多用
される。反応の終点は、薄層クロマトグラフィーまたは
高速液体クロマトグラフィーにより、原料の減少をみな
がら決定することができる。As a general reaction method of the present invention, a predetermined amount of resorcin or hydroquinone, a base and a solvent are charged, and after resorcin or hydroquinone is converted to an alkali metal salt, 3,5-dinitrobenzotrifluoride is added. Alternatively, all the raw materials containing 3,5-dinitrobenzotrifluoride may be added in advance at the same time, and the temperature may be raised as it is to react. Moreover, the present invention is not limited to these and can be appropriately implemented by other methods. The reaction temperature is usually in the range of 40 to 250 ° C, preferably 80 to 250 ° C.
It is in the range of 180 ° C. In the method of the present invention, a copper powder and a copper compound or a phase transfer catalyst such as a crown ether, polyethylene glycol, a quaternary ammonium salt, or a quaternary phosphonium salt may be used as a catalyst for promoting the reaction. , It's okay. When water is present in the reaction system, it may be removed outside the system by bubbling nitrogen gas or the like during the reaction, but usually, a small amount of benzene, toluene, xylene, chlorobenzene, etc. is used. Then, a method of removing it out of the system by azeotropic distillation is often used. The end point of the reaction can be determined by thin layer chromatography or high performance liquid chromatography while observing the decrease of the raw materials.
【0011】1,3−または1,4−ビス(3−アミノ
−5−トリフルオロメチルフェノキシ)ベンゼンは、上
記製造法によって得られたジニトロ化合物を還元するこ
とにより、製造することができる。ジニトロ化合物を還
元する方法は、特に制限はなく、通常ニトロ基をアミノ
基に還元する方法(例えば、新実験化学講座、15巻、
酸化と還元II、丸善(1977))を適用できるが、工
業的には接触還元が好ましい。接触還元の場合、使用さ
れる還元触媒としては、一般に接触還元に用いられてい
る金属触媒、例えば、ニッケル、パラジウム、白金、ロ
ジウム、ルテニウム、コバルト、銅などを使用すること
ができる。工業的には、パラジウム触媒を使用するのが
好ましい。これらの触媒は、金属の状態でも使用するこ
とができるが、通常、カーボン、硫酸バリウム、シリカ
ゲル、アルミナ、セライトなどの担体表面に担持させて
用いたり、また、ニッケル、コバルト、銅などのラネー
触媒としても用いられる。触媒の使用量は、特に制限は
ないが、原料のジニトロ化合物にたいして、金属とし
て、0.01〜10重量%の範囲であり、通常、金属の
状態で使用する場合は2〜8重量%、担体に担持させた
場合では、0.1〜5重量%の範囲である。1,3- or 1,4-bis (3-amino-5-trifluoromethylphenoxy) benzene can be produced by reducing the dinitro compound obtained by the above production method. The method for reducing the dinitro compound is not particularly limited, and usually a method for reducing a nitro group to an amino group (for example, New Experimental Chemistry Course, Volume 15,
Oxidation and reduction II, Maruzen (1977)) can be applied, but industrially catalytic reduction is preferred. In the case of catalytic reduction, the reduction catalyst used may be a metal catalyst generally used for catalytic reduction, such as nickel, palladium, platinum, rhodium, ruthenium, cobalt or copper. Industrially, it is preferable to use a palladium catalyst. These catalysts can be used in a metal state, but usually, they are used by supporting them on the surface of a carrier such as carbon, barium sulfate, silica gel, alumina, and celite, and Raney catalysts such as nickel, cobalt, and copper. Also used as. The amount of the catalyst used is not particularly limited, but is in the range of 0.01 to 10% by weight as a metal with respect to the dinitro compound as a raw material, and usually 2 to 8% by weight when used in a metal state, the carrier. In the case of being supported on, the range is 0.1 to 5% by weight.
【0012】また、本発明の方法で使用する反応溶媒と
しては、反応に不活性なものであれば特に制限されるも
のではなく、例えば、メタノール、エタノール、イソプ
ロピルアルコール等のアルコール類、エチレングリコー
ル、プロピレングリコール等のグリコール類、エーテ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチルセロソル
ブ等のエーテル類が好ましいが、場合によっては、ヘキ
サン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸エ
チル、酢酸ブチル等のエステル類、およびN,N−ジメ
チルホルムアミド等の非プロトン性極性溶剤も使用でき
る。なお、水と混和しない反応溶媒を使用した際に、反
応の進行が遅い場合は、四級アンモニウム塩、四級ホス
ホニウム塩のような一般に使用されている相関移動触媒
を加えることによって速めることができる。溶媒の使用
量は、原料を懸濁させるかあるいは完全に溶解させるに
足る量で十分であり特に制限されないが、通常、原料に
対して0.5〜10重量倍で十分である。The reaction solvent used in the method of the present invention is not particularly limited as long as it is inert to the reaction, and examples thereof include alcohols such as methanol, ethanol and isopropyl alcohol, ethylene glycol, Glycols such as propylene glycol, ethers such as ether, dioxane, tetrahydrofuran and methyl cellosolve are preferable, but in some cases, aliphatic hydrocarbons such as hexane and cyclohexane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene. Esters such as ethyl acetate and butyl acetate, and aprotic polar solvents such as N, N-dimethylformamide can also be used. When a reaction solvent that is immiscible with water is used and the reaction proceeds slowly, it can be accelerated by adding a commonly used phase transfer catalyst such as a quaternary ammonium salt or a quaternary phosphonium salt. . The amount of the solvent used is sufficient to suspend or completely dissolve the raw material and is not particularly limited, but usually 0.5 to 10 times by weight of the raw material is sufficient.
【0013】反応温度は、特に制限はなく、20〜20
0℃の範囲であるが、好ましくは20〜100℃の範囲
である。また、反応圧力は、常圧〜50atm程度であ
る。反応は、通常、原料を溶媒に溶解もしくは懸濁させ
た状態で触媒を加え、ついで撹拌下に所定の温度で水素
を導入して還元反応を行う。反応の終点は、水素吸収量
あるいは薄層クロマトグラフィーや高速液体クロマトグ
ラフィーなどによっても決定できる。反応終了後、還元
に使用した触媒を除いた後、反応溶剤を留去することに
より、目的物である1,3−または1,4−ビス(3−
アミノ−5−トリフルオロメチルフェノキシ)ベンゼン
が得られる。得られた生成物は、さらに塩酸塩として精
製する等、通常使用される精製法で精製することもでき
る。The reaction temperature is not particularly limited and may be 20 to 20.
The temperature is in the range of 0 ° C, but is preferably in the range of 20 to 100 ° C. The reaction pressure is about atmospheric pressure to 50 atm. In the reaction, a catalyst is usually added in a state where raw materials are dissolved or suspended in a solvent, and then hydrogen is introduced at a predetermined temperature with stirring to carry out a reduction reaction. The end point of the reaction can also be determined by the amount of absorbed hydrogen, thin layer chromatography, high performance liquid chromatography, or the like. After completion of the reaction, the catalyst used for the reduction was removed, and then the reaction solvent was distilled off to give 1,3- or 1,4-bis (3-
Amino-5-trifluoromethylphenoxy) benzene is obtained. The obtained product can be further purified by a commonly used purification method such as purification as a hydrochloride.
【0014】[0014]
【実施例】以下、本発明の方法を実施例により、更に詳
細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。 実施例1 温度計、還流冷却器、撹拌器を取り付けた四つ口フラス
コに、DMF500ml、トルエン50ml、3,5−
ジニトロベンゾトリフルオライド80g(0.339m
ol)、レゾルシン18.7g(0.16 9mo
l)、炭酸カリウム28.1g(0.203mol)を
それぞれ装入し、撹拌下に110℃まで昇温した後、1
10℃で5時間熟成した。反応終了後、室温まで冷却
し、濾過して無機塩を取り除いた。濾液を濃縮すること
により目的物である1,3−ビス(3−ニトロ−5−ト
リフルオロメチルフェノキシ)ベンゼンを得た。 収量 72g、収率 87% 元素分析(C20H10N2 O6 F6 ) C H N F 計算値(%) 49.20 2.06 5.74 23.34 実測値(%) 49.17 2.10 5.78 23.291 H−NMR δ(CDCl3 、ppm) 6.82〜6.96(2H(1) 、m)、 7.02〜7.04(2H(2) 、m)、 7.45〜7.54(1H(3) 、m)、 7.61〜7.63(1H(4) 、m)、 7.98〜8.03(2H(5) 、m)、 8.23〜8.35(2H(6) 、m) (1)〜(6)は下記式(化5)の位置を示す。EXAMPLES The method of the present invention will now be described in more detail by way of examples, but the present invention is not limited thereto. Example 1 In a four-necked flask equipped with a thermometer, a reflux condenser and a stirrer, DMF 500 ml, toluene 50 ml, 3,5-
Dinitrobenzotrifluoride 80g (0.339m
ol), 18.7 g of resorcin (0.169 mo
1) and 28.1 g (0.203 mol) of potassium carbonate were charged respectively, and the temperature was raised to 110 ° C. with stirring, and then 1
It was aged at 10 ° C for 5 hours. After the reaction was completed, it was cooled to room temperature and filtered to remove inorganic salts. The filtrate was concentrated to obtain the target product, 1,3-bis (3-nitro-5-trifluoromethylphenoxy) benzene. Yield 72 g, 87% yield elemental analysis (C 20 H 10 N 2 O 6 F 6) C H N F Calculated (%) 49.20 2.06 5.74 23.34 Found (%) 49.17 2.10 5.78 23.29 1 H-NMR δ (CDCl 3 , ppm) 6.82 to 6.96 (2H (1), m), 7.02 to 7.04 (2H (2), m) ), 7.45 to 7.54 (1H (3), m), 7.61 to 7.63 (1H (4), m), 7.98 to 8.03 (2H (5), m), 8.23 to 8.35 (2H (6), m) (1) to (6) represent the positions of the following formula (Formula 5).
【0015】[0015]
【化5】 [Chemical 5]
【0016】実施例2 温度計、還流冷却器、撹拌器を取り付けた還元装置に、
1,3−ビス(3−ニトロ−5−トリフルオロメチルフ
ェノキシ)ベンゼン72g(0.147mol)、イソ
プロピルアルコール500mlおよび5%Pd/C(5
0%含水品)7.2gを装入し、水素雰囲気下、50℃
で5時間反応した。反応終了後、触媒を濾別し濾液を減
圧濃縮し、残渣にイソプロパノール200gを加えて溶
解させ、さらに溶液に36%HCl400gを加えて目
的物を塩酸塩として析出させた。得られた塩酸塩を、水
150g、1,2−ジクロロエタン(EDC)200g
中に懸濁させ、28%アンモニア水で中和し、分液し、
EDC層を水洗した後、溶媒を留去し、褐色粘稠液状の
1,3−ビス(3−アミノ−5−トリフルオロメチルフ
ェノキシ)ベンゼンを得た。 収量 33.8g、収率 53.7% 元素分析(C20H14N2 O2 F6 ) C H N F 計算値(%) 56.08 3.29 6.54 26.61 実測値(%) 56.12 3.26 6.57 26.571 H−NMR δ(CDCl3 ,ppm) 3.85(4H(1) 、S)、 6.41〜6.45(2H(2) 、m)、 6.61〜6.70(4H(3) 、m)、 6.73〜6.77(2H(4) 、m)、 6.82〜6.96(1H(5) 、m)、 7.16〜7.40(1H(6) 、m) (1)〜(6)は下記式(化6)の位置を示す。Example 2 A reducing device equipped with a thermometer, a reflux condenser, and a stirrer,
72 g (0.147 mol) of 1,3-bis (3-nitro-5-trifluoromethylphenoxy) benzene, 500 ml of isopropyl alcohol and 5% Pd / C (5
(0% water-containing product) (7.2 g) was charged, and in a hydrogen atmosphere at 50 ° C.
And reacted for 5 hours. After completion of the reaction, the catalyst was filtered off, the filtrate was concentrated under reduced pressure, 200 g of isopropanol was added to the residue to dissolve it, and 400 g of 36% HCl was added to the solution to precipitate the desired product as a hydrochloride. 150 g of water and 200 g of 1,2-dichloroethane (EDC) were obtained.
Suspended in water, neutralized with 28% ammonia water, separated,
After washing the EDC layer with water, the solvent was distilled off to obtain 1,3-bis (3-amino-5-trifluoromethylphenoxy) benzene as a brown viscous liquid. Yield 33.8 g, yield 53.7% Elemental analysis (C 20 H 14 N 2 O 2 F 6) C H N F Calculated (%) 56.08 3.29 6.54 26.61 Found (% ) 56.12 3.26 6.57 26.57 1 H- NMR δ (CDCl 3, ppm) 3.85 (4H (1), S), 6.41~6.45 (2H (2), m ), 6.61 to 6.70 (4H (3), m), 6.73 to 6.77 (2H (4), m), 6.82 to 6.96 (1H (5), m), 7.16 to 7.40 (1H (6), m) (1) to (6) represent the positions of the following formula (Formula 6).
【0017】[0017]
【化6】 [Chemical 6]
【0018】実施例3 温度計、還流冷却器、撹拌器を取り付けた四つ口フラス
コに、DMF250ml、トルエン50ml、3,5−
ジニトロベンゾトリフルオライド50g(0.212m
ol)、ハイドロキノン11.7g(0.106mo
l)、炭酸カリウム17.6g(0.127mol)を
それぞれ装入し、撹拌下に120℃まで昇温した後、1
20℃で8時間熟成した。反応終了後、80℃に冷却
し、濾過して無機塩を取り除いた。濾液に水180ml
を加え、室温まで冷却して目的物を晶析させた。晶析し
た結晶を濾別し、さらにイソプロピルアルコールで再結
晶を行い目的物である1,4−ビス(3−ニトロ−5−
トリフルオロメチルフェノキシ)ベンゼンを得た。融点
162.8〜163.3℃ 収量 36.5g、収率 70.5% 元素分析(C20H10N2 O6 F6 ) C H N F 計算値(%) 49.20 2.06 5.74 23.34 実測値(%) 49.15 2.10 5.72 23.301 H−NMR δ(CDCl3 、ppm) 7.20(4H(1) 、S)、 7.60〜7.62(2H(2) 、m)、 7.69〜8.01(1H(3) 、m)、 7.21(2H(4) 、s) (1)〜(4)は下記式(化7)の位置を示す。Example 3 In a four-necked flask equipped with a thermometer, a reflux condenser and a stirrer, DMF 250 ml, toluene 50 ml, 3,5-
50 g of dinitrobenzotrifluoride (0.212 m
ol), 11.7 g of hydroquinone (0.106 mo)
1) and 17.6 g (0.127 mol) of potassium carbonate were charged respectively, and the temperature was raised to 120 ° C. with stirring, and then 1
Aged at 20 ° C. for 8 hours. After the reaction was completed, it was cooled to 80 ° C. and filtered to remove inorganic salts. 180 ml of water in the filtrate
Was added and cooled to room temperature to crystallize the desired product. The crystallized crystals were separated by filtration, and recrystallized from isopropyl alcohol to give the desired product, 1,4-bis (3-nitro-5-5).
Trifluoromethylphenoxy) benzene was obtained. Mp 162.8 to 163.3 ° C. Yield 36.5 g, 70.5% yield elemental analysis (C 20 H 10 N 2 O 6 F 6) C H N F Calculated (%) 49.20 2.06 5 .74 23.34 measured value (%) 49.15 2.10 5.72 23.30 1 H-NMR δ (CDCl 3 , ppm) 7.20 (4H (1), S), 7.60 to 7. .62 (2H (2), m), 7.69 to 8.01 (1H (3), m), 7.21 (2H (4), s) (1) to (4) The position of 7) is shown.
【0019】[0019]
【化7】 [Chemical 7]
【0020】実施例4 温度計、還流冷却器、撹拌器を取り付けた還元装置に、
1,4−ビス(3−ニトロ−5−トリフルオロメチルフ
ェノキシ)ベンゼン36.5g(0.0747mo
l)、N,N,−ジメチホルムアミド250mlおよび
Pd−アルミナ1.8gを装入し、水素雰囲気下、50
℃で6時間反応した。反応終了後、触媒を濾別し濾液を
減圧濃縮して、白色結晶の1,4−ビス(3−アミノ−
5−トリフルオロメチルフェノキシ)ベンゼンを得た。
融点 157.4〜158.0℃ 収量 36.5g、収率 70.5% 元素分析(C20H14N2 O2 F6 ) C H N F 計算値(%) 56.08 3.29 6.54 26.61 実測値(%) 56.04 3.32 6.56 26.561 H−NMR δ(DMSO、ppm) 5.72(4H(1) 、S)、 6.39〜6.41(4H(2) 、m)、 6.63(2H(3) 、s)、 7.12(4H(4) 、s) (1)〜(4)は下記式(化8)の位置を示す。Example 4 A reducing device equipped with a thermometer, a reflux condenser, and a stirrer,
1,4-bis (3-nitro-5-trifluoromethylphenoxy) benzene 36.5 g (0.0747mo)
1), N, N, -dimethyformamide (250 ml) and Pd-alumina (1.8 g) were charged, and the mixture was charged with hydrogen under an atmosphere of 50.
The reaction was carried out at ℃ for 6 hours. After completion of the reaction, the catalyst was filtered off and the filtrate was concentrated under reduced pressure to give white crystals of 1,4-bis (3-amino-).
5-Trifluoromethylphenoxy) benzene was obtained.
Melting point 157.4 to 158.0 ° C. Yield 36.5 g, Yield 70.5% Elemental analysis (C 20 H 14 N 2 O 2 F 6 ) C H N F calculated value (%) 56.08 3.296 .54 26.61 actual value (%) 56.04 3.32 6.56 26.56 1 H-NMR δ (DMSO, ppm) 5.72 (4H (1), S), 6.39 to 6. 41 (4H (2), m), 6.63 (2H (3), s), 7.12 (4H (4), s) (1) to (4) are represented by the following formula (Formula 8). Show.
【0021】[0021]
【化8】 [Chemical 8]
【0022】使用例 実施例2、3で得られた1,3−ビス(3−アミノ−5
−トリフルオロメチルフェノキシ)ベンゼン(m−AP
B−2CF3 )、1,4−ビス(3−ニトロ−5−トリ
フルオロメチルフェノキシ)ベンゼン(m−APB−2
CF3 )を、それぞれ、2,2,−ビス(3,4−ジカ
ルボキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサ
フルオロプロパン二無水物と縮合させて得られたポリイ
ミドの物性を表1(表1)に示した。Example of use 1,3-bis (3-amino-5) obtained in Examples 2 and 3
-Trifluoromethylphenoxy) benzene (m-AP
B-2CF 3), 1,4- bis (3-nitro-5-trifluoromethylphenoxy) benzene (m-APB-2
CF 3 ) of polyimide obtained by condensing 2,2, -bis (3,4-dicarboxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride, respectively. The physical properties are shown in Table 1 (Table 1).
【0023】[0023]
【表1】 Tg(ガラス転移温度):DSCにより測定 η(粘度):ポリイミド 0.5g/100 cc−N,N-ジメチル
アセトアミド、35℃で測定 誘電率:ASTM D150-87により、23℃、湿度50%で測定[Table 1] Tg (glass transition temperature): measured by DSC η (viscosity): polyimide 0.5 g / 100 cc-N, N-dimethylacetamide, measured at 35 ° C Dielectric constant: measured by ASTM D150-87 at 23 ° C, humidity 50%
【0024】[0024]
【発明の効果】本発明は、新規な芳香族ジニトロ化合
物、芳香族ジアミノ化合物およびそれらの製造方法を提
供するものである。本発明の芳香族ジアミノ化合物は、
低誘電性で、成形加工性に優れたポリイミド等の原料と
して極めて有用である。INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention provides a novel aromatic dinitro compound, aromatic diamino compound and a method for producing them. The aromatic diamino compound of the present invention is
It is extremely useful as a raw material for polyimide and the like, which has low dielectric properties and excellent moldability.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山口 彰宏 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Akihiro Yamaguchi 1190 Kasama-cho, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd.
Claims (4)
たは1,4−ビス(3−ニトロ−5−トリフルオロメチ
ルフェノキシ)ベンゼン。 【化1】 1. 1,3- or 1,4-bis (3-nitro-5-trifluoromethylphenoxy) benzene represented by the formula (1) (formula 1). [Chemical 1]
たは1,4−ビス(3−アミノ−5−トリフルオロメチ
ルフェノキシ)ベンゼン。 【化2】 2. 1,3- or 1,4-bis (3-amino-5-trifluoromethylphenoxy) benzene represented by the formula (2) (formula 2). [Chemical 2]
ドと、レゾルシンまたはハイドロキノンを、塩基の存在
下、非プロトン性極性溶剤中で縮合させることを特徴と
する請求項1記載の1,3−または1,4−ビス(3−
ニトロ−5−トリフルオロメチルフェノキシ)ベンゼン
の製造方法。3. 1,3- or 1 according to claim 1, wherein 3,5-dinitrobenzotrifluoride and resorcin or hydroquinone are condensed in the presence of a base in an aprotic polar solvent. , 4-bis (3-
Method for producing nitro-5-trifluoromethylphenoxy) benzene.
トロ化合物を還元することを特徴とする請求項2記載の
1,3−または1,4−ビス(3−アミノ−5−トリフ
ルオロメチルフェノキシ)ベンゼンの製造方法。 【化3】 4. The 1,3- or 1,4-bis (3-amino-5) according to claim 2, wherein the aromatic dinitro compound represented by the formula (1) (formula 3) is reduced. -Method for producing trifluoromethylphenoxy) benzene. [Chemical 3]
Priority Applications (6)
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---|---|---|---|
JP31881892A JPH06157428A (en) | 1992-11-27 | 1992-11-27 | Aromatic dinitro compound, aromatic diamino compound and their production |
US08/040,608 US5354839A (en) | 1992-04-07 | 1993-03-31 | Polyimide and preparation process of same |
CA002093480A CA2093480C (en) | 1992-04-07 | 1993-04-06 | Aromatic diamine and polyimide, and preparation process of same |
DE69312549T DE69312549T2 (en) | 1992-04-07 | 1993-04-07 | Aromatic diamine and polyimide, process for their preparation |
EP93302719A EP0565352B1 (en) | 1992-04-07 | 1993-04-07 | Aromatic diamine and polyimide, and preparation process of same |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001302598A (en) * | 2000-04-27 | 2001-10-31 | Inst Of Physical & Chemical Res | Method for producing aromatic polyamine and aromatic diamine compound |
US6458912B1 (en) | 1998-05-13 | 2002-10-01 | Mitsui Chemicals, Inc. | Crystalline polyimide for melt molding with satisfactory thermal stability |
-
1992
- 1992-11-27 JP JP31881892A patent/JPH06157428A/en active Pending
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US6458912B1 (en) | 1998-05-13 | 2002-10-01 | Mitsui Chemicals, Inc. | Crystalline polyimide for melt molding with satisfactory thermal stability |
JP2001302598A (en) * | 2000-04-27 | 2001-10-31 | Inst Of Physical & Chemical Res | Method for producing aromatic polyamine and aromatic diamine compound |
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