JPH06150304A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体およびその製造方法Info
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- JPH06150304A JPH06150304A JP29420592A JP29420592A JPH06150304A JP H06150304 A JPH06150304 A JP H06150304A JP 29420592 A JP29420592 A JP 29420592A JP 29420592 A JP29420592 A JP 29420592A JP H06150304 A JPH06150304 A JP H06150304A
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- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 電磁変換特性を犠牲にすることなく、摩擦特
性および浮上特性を向上可能な磁気記録媒体およびその
製造方法を実現すること。 【構成】 アルミニウム合金基板２の両面側にＮｉ−Ｐ
めっき層３が形成された磁気記録ディスク用基板１ａに
対して、研磨テープを用いてテクスチャリング工程を施
して、最大クロス角が３０°〜５０°のテクスチャーを
形成した後に、平均粒径が約１μｍ以下の遊離砥粒とし
ての多結晶ダイヤモンド砥粒を用いて、テクスチャリン
グ工程で発生した異常突起を除去するスラリー研磨工程
を行う。
性および浮上特性を向上可能な磁気記録媒体およびその
製造方法を実現すること。 【構成】 アルミニウム合金基板２の両面側にＮｉ−Ｐ
めっき層３が形成された磁気記録ディスク用基板１ａに
対して、研磨テープを用いてテクスチャリング工程を施
して、最大クロス角が３０°〜５０°のテクスチャーを
形成した後に、平均粒径が約１μｍ以下の遊離砥粒とし
ての多結晶ダイヤモンド砥粒を用いて、テクスチャリン
グ工程で発生した異常突起を除去するスラリー研磨工程
を行う。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は磁気記録媒体およびその
製造方法に関し、特に、磁気記録媒体表面の摩擦特性向
上技術に関する。
製造方法に関し、特に、磁気記録媒体表面の摩擦特性向
上技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】コンピュータの外部記憶装置である固定
磁気記録装置などに搭載される磁気記録ディスク（磁気
記録媒体）において、その表面状態は磁気記録ディスク
の記録密度および信頼性を大きく支配する。たとえば、
磁気記録ディスク表面と、この表面上をコンタクトスタ
ートストップ（ＣＳＳ）される磁気ヘッドとの摩擦係数
が大きい場合には、磁気記録ディスク表面に磁気ヘッド
が吸着しやすく、磁気ヘッドのドライブ機構の破損また
は磁気記録ディスクが回転不能というトラブルが発生し
やすくなる。このため、磁気記録ディスク用基板の表面
側には、テープテクスチャー加工によってテクスチャー
が形成され、このテクスチャーの形成によって生じるＲ
MAX が約８００Åの突起を多くして、磁気記録ディスク
表面への磁気ヘッドの吸着を防止している。ここで、磁
気記録ディスク用基板の表面側に形成されたテクスチャ
ー同士の最大クロス角は１０°以下に設定されている。
磁気記録装置などに搭載される磁気記録ディスク（磁気
記録媒体）において、その表面状態は磁気記録ディスク
の記録密度および信頼性を大きく支配する。たとえば、
磁気記録ディスク表面と、この表面上をコンタクトスタ
ートストップ（ＣＳＳ）される磁気ヘッドとの摩擦係数
が大きい場合には、磁気記録ディスク表面に磁気ヘッド
が吸着しやすく、磁気ヘッドのドライブ機構の破損また
は磁気記録ディスクが回転不能というトラブルが発生し
やすくなる。このため、磁気記録ディスク用基板の表面
側には、テープテクスチャー加工によってテクスチャー
が形成され、このテクスチャーの形成によって生じるＲ
MAX が約８００Åの突起を多くして、磁気記録ディスク
表面への磁気ヘッドの吸着を防止している。ここで、磁
気記録ディスク用基板の表面側に形成されたテクスチャ
ー同士の最大クロス角は１０°以下に設定されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
磁気記録ディスクにおいては、３．５″のディスク当た
りに換算して記録容量が１００ＭＢ以下の場合には、磁
気ヘッドの材質としてＭｎ−Ｚｎ−ｆｅｒｒｉｔｅスラ
イダーが用いられ、また、浮上保証量が０．０８μｍ程
度で充分であるため、テクスチャー同士の最大クロス角
が１０°以下であっても、ＣＳＳ耐久性を確保できてい
たが、磁気記録ディスクの高密度記録化にともなって、
０．０６μｍの浮上保証量が要求され、しかも、磁気ヘ
ッドの材質としてアルチックヘッドが採用されると、Ｃ
ＳＳ耐久性の面で対応できないという問題点がある。こ
のような問題点を解消するために、テクスチャー同士の
最大クロス角を大きくする方法があるが、テクスチャー
は、円周方向の磁気的配向を強めるのにも寄与している
ため、テクスチャー同士の最大クロス角を大きくしすぎ
ると、その効果が弱められて角形比や保磁力が低下し、
電磁変換特性が犠牲になってしまうという問題点があ
る。
磁気記録ディスクにおいては、３．５″のディスク当た
りに換算して記録容量が１００ＭＢ以下の場合には、磁
気ヘッドの材質としてＭｎ−Ｚｎ−ｆｅｒｒｉｔｅスラ
イダーが用いられ、また、浮上保証量が０．０８μｍ程
度で充分であるため、テクスチャー同士の最大クロス角
が１０°以下であっても、ＣＳＳ耐久性を確保できてい
たが、磁気記録ディスクの高密度記録化にともなって、
０．０６μｍの浮上保証量が要求され、しかも、磁気ヘ
ッドの材質としてアルチックヘッドが採用されると、Ｃ
ＳＳ耐久性の面で対応できないという問題点がある。こ
のような問題点を解消するために、テクスチャー同士の
最大クロス角を大きくする方法があるが、テクスチャー
は、円周方向の磁気的配向を強めるのにも寄与している
ため、テクスチャー同士の最大クロス角を大きくしすぎ
ると、その効果が弱められて角形比や保磁力が低下し、
電磁変換特性が犠牲になってしまうという問題点があ
る。
【０００４】さらに、磁気記録ディスク用基板の表面側
に対するテープテクスチャー加工においては、突起の形
成を制御しきれずに異常突起が発生しやすいため、磁気
記録媒体に対する磁気ヘッドの低浮上距離化を達成でき
ないという問題点もある。
に対するテープテクスチャー加工においては、突起の形
成を制御しきれずに異常突起が発生しやすいため、磁気
記録媒体に対する磁気ヘッドの低浮上距離化を達成でき
ないという問題点もある。
【０００５】以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、
磁気記録媒体の電磁変換特性を犠牲にすることなく、磁
気記録媒体と磁気ヘッドとの摩擦特性の向上、さらに
は、磁気記録媒体に対する磁気ヘッドの低浮上距離化を
実現可能な磁気記録媒体の製造方法を実現することにあ
る。
磁気記録媒体の電磁変換特性を犠牲にすることなく、磁
気記録媒体と磁気ヘッドとの摩擦特性の向上、さらに
は、磁気記録媒体に対する磁気ヘッドの低浮上距離化を
実現可能な磁気記録媒体の製造方法を実現することにあ
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明に係る磁気記録媒体においては、磁気記録媒
体用基板の磁性層が形成された面側に円周方向成分をも
って互いに交差する状態に形成されたテクスチャー同士
の最大クロス角を３０°から５０°までの範囲に設定す
ることである。
に、本発明に係る磁気記録媒体においては、磁気記録媒
体用基板の磁性層が形成された面側に円周方向成分をも
って互いに交差する状態に形成されたテクスチャー同士
の最大クロス角を３０°から５０°までの範囲に設定す
ることである。
【０００７】ここで、研磨テープなどの固定砥粒による
テクスチャー加工によって磁気記録媒体用基板の表面側
に発生した異常突起を除去する目的に、固定砥粒を用い
たテクスチャー工程の後に、テクスチャーが形成された
磁気記録媒体用基板の表層側を、遊離砥粒を含むスラリ
ー状の研磨液で研磨するスラリー研磨工程を行うことが
好ましい。
テクスチャー加工によって磁気記録媒体用基板の表面側
に発生した異常突起を除去する目的に、固定砥粒を用い
たテクスチャー工程の後に、テクスチャーが形成された
磁気記録媒体用基板の表層側を、遊離砥粒を含むスラリ
ー状の研磨液で研磨するスラリー研磨工程を行うことが
好ましい。
【０００８】ここで、スラリー研磨工程に用いる遊離砥
粒としては、平均粒径が１μｍ以下のアルミナ砥粒を利
用できる。また、スラリー研磨工程に用いる遊離砥粒と
して、平均粒径が１μｍ以下の多結晶ダイヤモンド砥粒
を用いた場合には、保磁力や角形比を向上できる点で好
ましい。
粒としては、平均粒径が１μｍ以下のアルミナ砥粒を利
用できる。また、スラリー研磨工程に用いる遊離砥粒と
して、平均粒径が１μｍ以下の多結晶ダイヤモンド砥粒
を用いた場合には、保磁力や角形比を向上できる点で好
ましい。
【０００９】
【作用】本発明に係る磁気記録媒体においては、磁気記
録媒体用基板に形成されたテクスチャー同士の最大クロ
ス角が３０°以上であるため、磁気記録媒体と磁気ヘッ
ドとの摩擦特性を向上することができる一方、その上限
を５０°に設定してあるため、磁気的配向の著しい低下
を防止でき、磁気記録媒体の電磁変換特性が犠牲になら
ない。
録媒体用基板に形成されたテクスチャー同士の最大クロ
ス角が３０°以上であるため、磁気記録媒体と磁気ヘッ
ドとの摩擦特性を向上することができる一方、その上限
を５０°に設定してあるため、磁気的配向の著しい低下
を防止でき、磁気記録媒体の電磁変換特性が犠牲になら
ない。
【００１０】ここで、テクスチャーが形成された磁気記
録媒体用基板の表面に対して、遊離砥粒を用いたスラリ
ー研磨工程を行う場合には、研磨テープなどの固定砥粒
によるテクスチャー加工では、磁気記録媒体用基板の表
面を研削する能力が高い一方、ばりとしての異常突起が
形成されやすいが、この異常突起をスラリー研磨工程で
除去することができる。すなわち、スラリー研磨工程で
は、遊離砥粒を用いるため、研磨中の各砥粒が可動状態
にあるので、ばりが発生せず、研磨する能力が高い。従
って、異常突起を完全に除去することができるので、磁
気記録媒体の浮上特性を向上することができる。
録媒体用基板の表面に対して、遊離砥粒を用いたスラリ
ー研磨工程を行う場合には、研磨テープなどの固定砥粒
によるテクスチャー加工では、磁気記録媒体用基板の表
面を研削する能力が高い一方、ばりとしての異常突起が
形成されやすいが、この異常突起をスラリー研磨工程で
除去することができる。すなわち、スラリー研磨工程で
は、遊離砥粒を用いるため、研磨中の各砥粒が可動状態
にあるので、ばりが発生せず、研磨する能力が高い。従
って、異常突起を完全に除去することができるので、磁
気記録媒体の浮上特性を向上することができる。
【００１１】
【実施例】次に、添付図面に基づいて、本発明の実施例
に係る磁気記録媒体およびその製造方法を説明する。
に係る磁気記録媒体およびその製造方法を説明する。
【００１２】〔実施例１〕 （磁気記録ディスクの構成）図１は、本発明の実施例１
に係る磁気記録ディスク（磁気記録媒体）の一部を切り
欠いて示す概略斜視図である。
に係る磁気記録ディスク（磁気記録媒体）の一部を切り
欠いて示す概略斜視図である。
【００１３】図において、１は磁気記録ディスク（磁気
記録媒体）であり、この磁気記録ディスク１を形成する
ための磁気記録ディスク用基板１ａは、その基体たるア
ルミニウム合金基板２（非磁性基体）の両面側に、下地
金属層たるＮｉ−Ｐめっき層３が無電解めっきにより形
成されたものである。この磁気記録ディスク１において
は、磁気記録ディスク用基板１ａの表面側に、Ｃｒ層な
どの非磁性金属下地層４と、その表面側にスパッタ形成
されたＣｏ合金層などの強磁性合金磁性層５と、その表
面側にスパッタ形成されたカーボン層などの表面保護層
６とを有し、さらに、表面保護層６の表面には潤滑剤層
が塗布されている。ここで、Ｎｉ−Ｐめっき層３の表面
には、鏡面加工された後に形成された微細な凹凸（テク
スチャー）を有し、これらの凹凸は磁気記録ディスク１
の表面にまで反映されている。
記録媒体）であり、この磁気記録ディスク１を形成する
ための磁気記録ディスク用基板１ａは、その基体たるア
ルミニウム合金基板２（非磁性基体）の両面側に、下地
金属層たるＮｉ−Ｐめっき層３が無電解めっきにより形
成されたものである。この磁気記録ディスク１において
は、磁気記録ディスク用基板１ａの表面側に、Ｃｒ層な
どの非磁性金属下地層４と、その表面側にスパッタ形成
されたＣｏ合金層などの強磁性合金磁性層５と、その表
面側にスパッタ形成されたカーボン層などの表面保護層
６とを有し、さらに、表面保護層６の表面には潤滑剤層
が塗布されている。ここで、Ｎｉ−Ｐめっき層３の表面
には、鏡面加工された後に形成された微細な凹凸（テク
スチャー）を有し、これらの凹凸は磁気記録ディスク１
の表面にまで反映されている。
【００１４】ここで、テクスチャーは、磁気記録ディス
ク用基板１ａに対して研磨テープを接触させた状態で、
磁気記録ディスク用基板１ａを円周方向に回転させ、か
つ、研磨テープを磁気記録ディスク用基板１ａの半径方
向にオシレーション動作させることによって形成したも
のであるため、テクスチャー同士は互いに交差する状態
に形成され、本例の磁気記録ディスク１においては、テ
クスチャー同士の最大クロス角が３０°から５０°まで
の範囲にある。また、Ｎｉ−Ｐめっき層３の表面におい
て、テクスチャーを形成するときに生じた異常突起は、
テクスチャリング工程の後に、スラリー研磨工程により
完全に除去されている。従って、本例の磁気記録ディス
ク１においては、データに基づいて後に詳述するとお
り、最大クロス角が３０°以上のテクスチャーの形成に
よって、その表面の摩擦特性が改善されており、磁気記
録ディスク１の表面上で磁気ヘッドがＣＳＳされても、
磁気ヘッドが磁気記録ディスク１の表面に吸着しにくい
ので、磁気ヘッドのドライブ機構の損傷や磁気記録ディ
スク１の回転不能というトラブルが発生しにくくなって
いる。また、テクスチャー同士の最大クロス角が５０°
以下に設定されているため、磁気的配向性も極端には低
下しておらず、電磁変換特性が良好である。さらに、磁
気記録ディスク１の表面に異常突起がないため、磁気ヘ
ッドの浮上距離を圧縮でき、磁気記録ディスク１の記録
トラックを高密度化可能である。
ク用基板１ａに対して研磨テープを接触させた状態で、
磁気記録ディスク用基板１ａを円周方向に回転させ、か
つ、研磨テープを磁気記録ディスク用基板１ａの半径方
向にオシレーション動作させることによって形成したも
のであるため、テクスチャー同士は互いに交差する状態
に形成され、本例の磁気記録ディスク１においては、テ
クスチャー同士の最大クロス角が３０°から５０°まで
の範囲にある。また、Ｎｉ−Ｐめっき層３の表面におい
て、テクスチャーを形成するときに生じた異常突起は、
テクスチャリング工程の後に、スラリー研磨工程により
完全に除去されている。従って、本例の磁気記録ディス
ク１においては、データに基づいて後に詳述するとお
り、最大クロス角が３０°以上のテクスチャーの形成に
よって、その表面の摩擦特性が改善されており、磁気記
録ディスク１の表面上で磁気ヘッドがＣＳＳされても、
磁気ヘッドが磁気記録ディスク１の表面に吸着しにくい
ので、磁気ヘッドのドライブ機構の損傷や磁気記録ディ
スク１の回転不能というトラブルが発生しにくくなって
いる。また、テクスチャー同士の最大クロス角が５０°
以下に設定されているため、磁気的配向性も極端には低
下しておらず、電磁変換特性が良好である。さらに、磁
気記録ディスク１の表面に異常突起がないため、磁気ヘ
ッドの浮上距離を圧縮でき、磁気記録ディスク１の記録
トラックを高密度化可能である。
【００１５】（磁気記録ディスクの製造方法）このよう
な構成の磁気記録ディスク１の製造方法を、以下に説明
する。
な構成の磁気記録ディスク１の製造方法を、以下に説明
する。
【００１６】まず、約３．５″の円板状のアルミニウム
合金基板２の表面にＮｉ−Ｐめっき層３を無電解めっき
形成した後に、鏡面加工を施してその表面を平滑化す
る。このようにして、非磁性体からなる磁気記録ディス
ク用基板１ａを形成する。
合金基板２の表面にＮｉ−Ｐめっき層３を無電解めっき
形成した後に、鏡面加工を施してその表面を平滑化す
る。このようにして、非磁性体からなる磁気記録ディス
ク用基板１ａを形成する。
【００１７】その後に、磁気記録ディスク１表面の摩擦
特性を改善するための、テクスチャリング工程を行う。
この工程においては、たとえば♯６０００の固定砥粒を
備える研磨テープを用いてＮｉ−Ｐめっき層３の表面に
微細な凹凸を形成する。この工程では、磁気記録ディス
ク用基板１ａを円周方向に回転させた状態で、研磨テー
プの研磨面を磁気記録ディスク用基板１ａに対して付勢
した状態で行う。ここで、研磨テープの背面側をゴムロ
ーラなどによって押し付けながら行うが、研磨テープを
磁気記録ディスク用基板１ａの表面上を半径方向にオシ
レーション動作させて、テクスチャーに所定のクロス角
をもたせ、本例においては、テクスチャー同士の最大ク
ロス角が３０°から５０°までの範囲にある。このと
き、研磨テープを所定の送り速度で移動させて、研磨テ
ープの新たな面で磁気記録ディスク用基板１ａの表面を
研磨する。この間、研磨テープと磁気記録ディスク用基
板１ａとの間には、研磨液が供給される。なお、テクス
チャリング工程は、一回に限らず、磁気記録ディスク１
と研磨テープとの相対的な移動条件などを変えて、複数
回行う場合もある（テクスチャリング工程）。
特性を改善するための、テクスチャリング工程を行う。
この工程においては、たとえば♯６０００の固定砥粒を
備える研磨テープを用いてＮｉ−Ｐめっき層３の表面に
微細な凹凸を形成する。この工程では、磁気記録ディス
ク用基板１ａを円周方向に回転させた状態で、研磨テー
プの研磨面を磁気記録ディスク用基板１ａに対して付勢
した状態で行う。ここで、研磨テープの背面側をゴムロ
ーラなどによって押し付けながら行うが、研磨テープを
磁気記録ディスク用基板１ａの表面上を半径方向にオシ
レーション動作させて、テクスチャーに所定のクロス角
をもたせ、本例においては、テクスチャー同士の最大ク
ロス角が３０°から５０°までの範囲にある。このと
き、研磨テープを所定の送り速度で移動させて、研磨テ
ープの新たな面で磁気記録ディスク用基板１ａの表面を
研磨する。この間、研磨テープと磁気記録ディスク用基
板１ａとの間には、研磨液が供給される。なお、テクス
チャリング工程は、一回に限らず、磁気記録ディスク１
と研磨テープとの相対的な移動条件などを変えて、複数
回行う場合もある（テクスチャリング工程）。
【００１８】つぎに、テクスチャリング工程において磁
気記録ディスク用基板１ａの表面に形成された異常突起
を除去するために、磁気記録ディスク用基板１ａの表面
（Ｎｉ−Ｐめっき層３の表層）に対してスラリー研磨工
程を行う。このスラリー研磨工程においては、テクスチ
ャリング工程のように砥粒が固定された研磨テープを利
用するのではなく、アルミナ砥粒（遊離砥粒）を用い
る。ここで、遊離砥粒としては、テクスチャリング工程
に用いた研磨テープに固定されている固定砥粒の粒径よ
り小さな粒径の遊離砥粒として、平均粒径が約１μｍ以
下のものを用いる。この工程においては、研磨中の磁気
記録ディスク用基板１ａの表面付近を、模式的に図２に
示すように、表面の硬度が約５０°のゴムローラなどに
よって帯状の織布７をＮｉ−Ｐめっき層３の表面に対し
て押し付け、この状態で、この織布７とＮｉ−Ｐめっき
層３の表面との間に、遊離砥粒８を純水に分散させてス
ラリー状にした研磨液９を供給する。そして、磁気記録
ディスク用基板１ａを円周方向に回転させる一方、織布
７を磁気記録ディスク用基板１ａの半径方向にオシレー
ション動作させて、Ｎｉ−Ｐめっき層３の全面を薄く研
磨する。ここで、磁気記録ディスク用基板１ａの回転速
度と、織布７の磁気記録ディスク用基板１ａの半径方向
に対するオシレーション動作とを調整して、研磨によっ
て形成される溝同士が約２°のクロス角をもつように設
定してある。この間、織布７を所定の送り速度で移動さ
せて新たな面が研磨に用いられる。ここで、織布７自身
は研磨性および研削性がなく、また、各遊離砥粒８は織
布７とＮｉ−Ｐめっき層３との間で可動状態にある。し
かも、織布７は、その背面側から弾性を有するゴムロー
ラによって付勢されている。このため、このスラリー研
磨工程においては、研磨テープを用いた場合とは異な
り、ばりなどを発生させることなく、その表面に存在す
る異常突起を効率よく除去できる。それ故、Ｎｉ−Ｐめ
っき層３の最表面のみを薄く研磨するだけでよいので、
先に形成されたテクスチャーを損傷することがない。
（スラリー研磨工程）。
気記録ディスク用基板１ａの表面に形成された異常突起
を除去するために、磁気記録ディスク用基板１ａの表面
（Ｎｉ−Ｐめっき層３の表層）に対してスラリー研磨工
程を行う。このスラリー研磨工程においては、テクスチ
ャリング工程のように砥粒が固定された研磨テープを利
用するのではなく、アルミナ砥粒（遊離砥粒）を用い
る。ここで、遊離砥粒としては、テクスチャリング工程
に用いた研磨テープに固定されている固定砥粒の粒径よ
り小さな粒径の遊離砥粒として、平均粒径が約１μｍ以
下のものを用いる。この工程においては、研磨中の磁気
記録ディスク用基板１ａの表面付近を、模式的に図２に
示すように、表面の硬度が約５０°のゴムローラなどに
よって帯状の織布７をＮｉ−Ｐめっき層３の表面に対し
て押し付け、この状態で、この織布７とＮｉ−Ｐめっき
層３の表面との間に、遊離砥粒８を純水に分散させてス
ラリー状にした研磨液９を供給する。そして、磁気記録
ディスク用基板１ａを円周方向に回転させる一方、織布
７を磁気記録ディスク用基板１ａの半径方向にオシレー
ション動作させて、Ｎｉ−Ｐめっき層３の全面を薄く研
磨する。ここで、磁気記録ディスク用基板１ａの回転速
度と、織布７の磁気記録ディスク用基板１ａの半径方向
に対するオシレーション動作とを調整して、研磨によっ
て形成される溝同士が約２°のクロス角をもつように設
定してある。この間、織布７を所定の送り速度で移動さ
せて新たな面が研磨に用いられる。ここで、織布７自身
は研磨性および研削性がなく、また、各遊離砥粒８は織
布７とＮｉ−Ｐめっき層３との間で可動状態にある。し
かも、織布７は、その背面側から弾性を有するゴムロー
ラによって付勢されている。このため、このスラリー研
磨工程においては、研磨テープを用いた場合とは異な
り、ばりなどを発生させることなく、その表面に存在す
る異常突起を効率よく除去できる。それ故、Ｎｉ−Ｐめ
っき層３の最表面のみを薄く研磨するだけでよいので、
先に形成されたテクスチャーを損傷することがない。
（スラリー研磨工程）。
【００１９】しかる後に、Ｎｉ−Ｐめっき層３の表面上
に、非磁性金属下地層４，強磁性合金磁性層５および保
護層６を、スパッタ法などにより、順次、形成する。
に、非磁性金属下地層４，強磁性合金磁性層５および保
護層６を、スパッタ法などにより、順次、形成する。
【００２０】このように、本例に係る磁気記録ディスク
１の製造方法においては、研磨テープを用いるテクスチ
ャリング工程の後に、遊離砥粒を用いるスラリー研磨工
程を行うため、磁気記録ディスク１の表面には、異常突
起がなく、また、テクスチャリングも残存している。
１の製造方法においては、研磨テープを用いるテクスチ
ャリング工程の後に、遊離砥粒を用いるスラリー研磨工
程を行うため、磁気記録ディスク１の表面には、異常突
起がなく、また、テクスチャリングも残存している。
【００２１】つぎに、本例の製造方法により得られた磁
気記録ディスク１について、摩擦特性，浮上特性および
電磁変換特性を評価した結果を説明する。
気記録ディスク１について、摩擦特性，浮上特性および
電磁変換特性を評価した結果を説明する。
【００２２】（磁気ヘッドの最小浮上高さとテクスチャ
ー加工時間との関係）まず、本例の磁気記録ディスク１
に対する磁気ヘッドの最小浮上高さと、テクスチャリン
グ工程におけるテクスチャーの加工時間との関係を測定
した結果を、図３に実線３１で示す。ここで、最小浮上
高さについては、磁気ヘッドが磁気記録ディスクの表面
に近接させても、その異常突起などと衝突することがな
い距離をもって規定した。なお、従来の製造方法によっ
て形成した磁気記録ディスク、すなわち、テープテクス
チャー加工のみを施した磁気記録ディスクに対しても、
磁気ヘッドの最小浮上高さとテクスチャーの加工時間と
の関係を測定し、その結果は、図３に一点鎖線３２で示
してある。
ー加工時間との関係）まず、本例の磁気記録ディスク１
に対する磁気ヘッドの最小浮上高さと、テクスチャリン
グ工程におけるテクスチャーの加工時間との関係を測定
した結果を、図３に実線３１で示す。ここで、最小浮上
高さについては、磁気ヘッドが磁気記録ディスクの表面
に近接させても、その異常突起などと衝突することがな
い距離をもって規定した。なお、従来の製造方法によっ
て形成した磁気記録ディスク、すなわち、テープテクス
チャー加工のみを施した磁気記録ディスクに対しても、
磁気ヘッドの最小浮上高さとテクスチャーの加工時間と
の関係を測定し、その結果は、図３に一点鎖線３２で示
してある。
【００２３】図３に示すように、本例の磁気記録ディス
クの最小浮上高さと、従来の磁気記録ディスクの最小浮
上高さとを同じテクスチャー加工時間で比較すると、本
例の磁気記録ディスク１においては、約０．０５μｍ以
下にまで低浮上距離化が可能であるのに対して、従来の
磁気記録ディスクにおいては、０．０６μｍの浮上量で
限界である。すなわち、本例の磁気記録ディスク１の方
が、浮上距離を圧縮することが可能であるため、その記
録トラックを高密度化することができる。
クの最小浮上高さと、従来の磁気記録ディスクの最小浮
上高さとを同じテクスチャー加工時間で比較すると、本
例の磁気記録ディスク１においては、約０．０５μｍ以
下にまで低浮上距離化が可能であるのに対して、従来の
磁気記録ディスクにおいては、０．０６μｍの浮上量で
限界である。すなわち、本例の磁気記録ディスク１の方
が、浮上距離を圧縮することが可能であるため、その記
録トラックを高密度化することができる。
【００２４】（ドラッグテスト６０分経過後の摩擦係数
と最大クロス角との関係）つぎに、本例の磁気記録ディ
スク１に対して、ドラッグテスト（連続摺動テスト）を
行い、ドラッグテスト開始から６０分経過後の平均摩擦
係数（μave ）とテクスチャー同士の最大クロス角（Ｃ
ｒｏｓｓ Ａｎｇｌｅ）との関係を測定した結果を図４
に実線４１で示し、そのΔμを図４に点線４２で示す。
と最大クロス角との関係）つぎに、本例の磁気記録ディ
スク１に対して、ドラッグテスト（連続摺動テスト）を
行い、ドラッグテスト開始から６０分経過後の平均摩擦
係数（μave ）とテクスチャー同士の最大クロス角（Ｃ
ｒｏｓｓ Ａｎｇｌｅ）との関係を測定した結果を図４
に実線４１で示し、そのΔμを図４に点線４２で示す。
【００２５】図４に示すように、テクスチャー同士の最
大クロス角が３０°以下の場合には、最大クロス角が大
きくなどほど、平均摩擦係数（μave ）は小さくなる傾
向があるのに対して、最大クロス角が３０°以上に設定
した場合には、平均摩擦係数（μave ）が低い値から殆
ど変化しない傾向にあり、本例の磁気記録ディスク１に
おいて設定した最大クロス角（３０°〜５０°）は、平
均摩擦係数（μave ）を充分に低い値に保持可能な条件
である。
大クロス角が３０°以下の場合には、最大クロス角が大
きくなどほど、平均摩擦係数（μave ）は小さくなる傾
向があるのに対して、最大クロス角が３０°以上に設定
した場合には、平均摩擦係数（μave ）が低い値から殆
ど変化しない傾向にあり、本例の磁気記録ディスク１に
おいて設定した最大クロス角（３０°〜５０°）は、平
均摩擦係数（μave ）を充分に低い値に保持可能な条件
である。
【００２６】（ＣＳＳの繰り返しにともなう摩擦係数μ
の変化と、最大クロス角との関係）つぎに、最大クロス
角が８°の磁気記録ディスクと、最大クロス角が５０°
の磁気記録ディスクについて、その表面上で１０ｇｆ負
荷の磁気ヘッド（アルチックヘッド）をＣＳＳさせた場
合におけるＣＳＳ回数と、磁気ヘッドと磁気記録ディス
クの表面との摩擦係数μとの関係を図５に実線５１，点
線５２で示す。ここで、実線５１は最大クロス角が５０
°の磁気記録ディスクの試験結果を示し、点線５２は最
大クロス角が８°の磁気記録ディスクの試験結果であ
る。なお、いずれの条件の磁気記録ディスクも２つの試
料で評価を行い、それぞれのデータを図５に示してあ
る。
の変化と、最大クロス角との関係）つぎに、最大クロス
角が８°の磁気記録ディスクと、最大クロス角が５０°
の磁気記録ディスクについて、その表面上で１０ｇｆ負
荷の磁気ヘッド（アルチックヘッド）をＣＳＳさせた場
合におけるＣＳＳ回数と、磁気ヘッドと磁気記録ディス
クの表面との摩擦係数μとの関係を図５に実線５１，点
線５２で示す。ここで、実線５１は最大クロス角が５０
°の磁気記録ディスクの試験結果を示し、点線５２は最
大クロス角が８°の磁気記録ディスクの試験結果であ
る。なお、いずれの条件の磁気記録ディスクも２つの試
料で評価を行い、それぞれのデータを図５に示してあ
る。
【００２７】図５に示すように、最大クロス角が５０°
の磁気記録ディスクの摩擦係数（μ）は、ＣＳＳ動作を
２００００サイクル行った後においても約０．６である
のに対して、最大クロス角が８°の磁気記録ディスクの
摩擦係数（μ）は、試験開始の比較的初期から約１．０
に達し、限界値を越えている。これは、最大クロス角が
５０°の磁気記録ディスクにおいては、ＣＳＳ動作を繰
り返しても磁気記録ディスク表面が良好な状態に維持さ
れていることを意味する。
の磁気記録ディスクの摩擦係数（μ）は、ＣＳＳ動作を
２００００サイクル行った後においても約０．６である
のに対して、最大クロス角が８°の磁気記録ディスクの
摩擦係数（μ）は、試験開始の比較的初期から約１．０
に達し、限界値を越えている。これは、最大クロス角が
５０°の磁気記録ディスクにおいては、ＣＳＳ動作を繰
り返しても磁気記録ディスク表面が良好な状態に維持さ
れていることを意味する。
【００２８】（電磁変換特性と最大クロス角との関係）
つぎに、本例の磁気記録ディスク１における保磁力Ｈc
と、テクスチャー同士の最大クロス角（Ｃｒｏｓｓ Ａ
ｎｇｌｅ）との関係を図６に示す。ここで、実線６１は
保磁力Ｈｃと最大クロス角との関係を示し、点線６２は
残留磁束密度Ｂｒδと最大クロス角との関係を示す。
つぎに、本例の磁気記録ディスク１における保磁力Ｈc
と、テクスチャー同士の最大クロス角（Ｃｒｏｓｓ Ａ
ｎｇｌｅ）との関係を図６に示す。ここで、実線６１は
保磁力Ｈｃと最大クロス角との関係を示し、点線６２は
残留磁束密度Ｂｒδと最大クロス角との関係を示す。
【００２９】また、本例の磁気記録ディスク１における
角形比Ｓとテクスチャー同士の最大クロス角（Ｃｒｏｓ
ｓ Ａｎｇｌｅ）との関係を図７に示す。ここで、実線
７１は角形比Ｓと最大クロス角との関係を示し、点線７
２は保磁力角形比Ｓ* と最大クロス角との関係を示す。
角形比Ｓとテクスチャー同士の最大クロス角（Ｃｒｏｓ
ｓ Ａｎｇｌｅ）との関係を図７に示す。ここで、実線
７１は角形比Ｓと最大クロス角との関係を示し、点線７
２は保磁力角形比Ｓ* と最大クロス角との関係を示す。
【００３０】前述したとおり、図４および図５に示す結
果から、テクスチャー同士の最大クロス角が大きな磁気
記録ディスク１は、ＣＳＳ特性および摩擦特性が良好で
あると判断できる一方、テクスチャー同士の最大クロス
角が３０°〜５０°の範囲にある磁気記録ディスク１
は、図６および図７に示すように、電磁変換特性を規定
する保磁力Ｈｃ，残留磁束密度Ｂｒ，角形比Ｓおよび保
磁力角形比Ｓ* のいずれもが比較的大きな値を維持して
いる。これに対して、最大クロス角が５０°を越える場
合には、電磁変換特性を規定する保磁力Ｈｃ，残留磁束
密度Ｂｒ，角形比Ｓおよび保磁力角形比Ｓ* が大きく低
下する傾向にある。
果から、テクスチャー同士の最大クロス角が大きな磁気
記録ディスク１は、ＣＳＳ特性および摩擦特性が良好で
あると判断できる一方、テクスチャー同士の最大クロス
角が３０°〜５０°の範囲にある磁気記録ディスク１
は、図６および図７に示すように、電磁変換特性を規定
する保磁力Ｈｃ，残留磁束密度Ｂｒ，角形比Ｓおよび保
磁力角形比Ｓ* のいずれもが比較的大きな値を維持して
いる。これに対して、最大クロス角が５０°を越える場
合には、電磁変換特性を規定する保磁力Ｈｃ，残留磁束
密度Ｂｒ，角形比Ｓおよび保磁力角形比Ｓ* が大きく低
下する傾向にある。
【００３１】以上のとおり、本例の磁気記録ディスクお
よびその製造方法によれば、テクスチャー同士の最大ク
ロス角が３０°以上であるため、磁気ヘッドとの摩擦特
性を向上することができる一方、その上限を５０°に設
定してあるため、磁気記録ディスク１の電磁変換特性が
犠牲にならない。また、テクスチャリング工程において
発生した異常突起をスラリー研磨工程で除去するため、
磁気記録ディスク１に対する磁気ヘッドの低浮上距離化
を実現できる。それ故、本例の磁気記録ディスク１にお
いては、記録密度および信頼性のいずれをも向上するこ
とができる。
よびその製造方法によれば、テクスチャー同士の最大ク
ロス角が３０°以上であるため、磁気ヘッドとの摩擦特
性を向上することができる一方、その上限を５０°に設
定してあるため、磁気記録ディスク１の電磁変換特性が
犠牲にならない。また、テクスチャリング工程において
発生した異常突起をスラリー研磨工程で除去するため、
磁気記録ディスク１に対する磁気ヘッドの低浮上距離化
を実現できる。それ故、本例の磁気記録ディスク１にお
いては、記録密度および信頼性のいずれをも向上するこ
とができる。
【００３２】〔実施例２〕つぎに、本発明の実施例２に
係る磁気記録ディスクおよびその製造方法について説明
する。
係る磁気記録ディスクおよびその製造方法について説明
する。
【００３３】ここで、本例の磁気記録ディスクの基本的
な構成については、実施例１に係る磁気ディスクと同様
であるため、その説明については省略する。
な構成については、実施例１に係る磁気ディスクと同様
であるため、その説明については省略する。
【００３４】また、本例の磁気記録ディスクの製造方法
においては、その基本的な工程が実施例１に係る磁気記
録ディスクの製造方法と同様であるため、図１および図
２を参照して、その特徴点のみについて説明する。
においては、その基本的な工程が実施例１に係る磁気記
録ディスクの製造方法と同様であるため、図１および図
２を参照して、その特徴点のみについて説明する。
【００３５】まず、実施例１に係る磁気記録ディスクの
製造方法と同様に、アルミニウム合金基板２の表面にＮ
ｉ−Ｐめっき層３を形成して、磁気記録ディスク用基板
１ａを形成した後に、磁気記録ディスク１表面の摩擦特
性を改善するためのテクスチャリング工程を行う。この
工程においては、たとえば♯６０００の固定砥粒を備え
る研磨テープを用いてＮｉ−Ｐめっき層３の表面に微細
な凹凸を形成する。この工程では、研磨テープの研磨面
を磁気記録ディスク用基板１ａに対して付勢した状態
で、磁気記録ディスク用基板１ａを円周方向に回転さ
せ、かつ、研磨テープを磁気記録ディスク用基板１ａの
表面上を半径方向にオシレーション動作させて、その表
面全体に形成されるテクスチャーに所定の最大クロス角
をもたせる。
製造方法と同様に、アルミニウム合金基板２の表面にＮ
ｉ−Ｐめっき層３を形成して、磁気記録ディスク用基板
１ａを形成した後に、磁気記録ディスク１表面の摩擦特
性を改善するためのテクスチャリング工程を行う。この
工程においては、たとえば♯６０００の固定砥粒を備え
る研磨テープを用いてＮｉ−Ｐめっき層３の表面に微細
な凹凸を形成する。この工程では、研磨テープの研磨面
を磁気記録ディスク用基板１ａに対して付勢した状態
で、磁気記録ディスク用基板１ａを円周方向に回転さ
せ、かつ、研磨テープを磁気記録ディスク用基板１ａの
表面上を半径方向にオシレーション動作させて、その表
面全体に形成されるテクスチャーに所定の最大クロス角
をもたせる。
【００３６】本例において、テクスチャー同士の最大ク
ロス角は、約３０°に設定してある（テクスチャリング
工程）。
ロス角は、約３０°に設定してある（テクスチャリング
工程）。
【００３７】つぎに、磁気記録ディスク用基板１ａの表
面に形成された異常突起を除去するためのスラリー研磨
工程を行う。このスラリー研磨工程において、本例の磁
気記録ディスクの製造方法では、多結晶ダイヤモンド砥
粒（遊離砥粒）を用いる。すなわち、図２に示すよう
に、ゴムローラなどによって帯状の織布７をＮｉ−Ｐめ
っき層３の表面に対して押し付け、この状態で、この織
布７とＮｉ−Ｐめっき層３の表面との間に、遊離砥粒８
としての多結晶ダイヤモンド砥粒を純水に分散させてス
ラリー状にした研磨液９を供給する。そして、磁気記録
ディスク用基板１ａを円周方向に回転させる一方、織布
７を磁気記録ディスク用基板１ａの半径方向にオシレー
ション動作させて、Ｎｉ−Ｐめっき層３の全面を薄く研
磨する。ここで、磁気記録ディスク用基板１ａの回転速
度と、織布７の磁気記録ディスク用基板１ａの半径方向
に対するオシレーション動作とを調整して、研磨によっ
て形成される溝同士が約２°のクロス角をもつように設
定してある。このようなスラリー研磨工程においては、
研磨テープを用いた場合とは異なり、ばりなどを発生さ
せることなく、その表面に存在する異常突起を効率よく
除去できる。それ故、Ｎｉ−Ｐめっき層３の最表面のみ
を薄く研磨するだけでよいので、先に形成されたテクス
チャーを損傷することがない。（スラリー研磨工程）。
面に形成された異常突起を除去するためのスラリー研磨
工程を行う。このスラリー研磨工程において、本例の磁
気記録ディスクの製造方法では、多結晶ダイヤモンド砥
粒（遊離砥粒）を用いる。すなわち、図２に示すよう
に、ゴムローラなどによって帯状の織布７をＮｉ−Ｐめ
っき層３の表面に対して押し付け、この状態で、この織
布７とＮｉ−Ｐめっき層３の表面との間に、遊離砥粒８
としての多結晶ダイヤモンド砥粒を純水に分散させてス
ラリー状にした研磨液９を供給する。そして、磁気記録
ディスク用基板１ａを円周方向に回転させる一方、織布
７を磁気記録ディスク用基板１ａの半径方向にオシレー
ション動作させて、Ｎｉ−Ｐめっき層３の全面を薄く研
磨する。ここで、磁気記録ディスク用基板１ａの回転速
度と、織布７の磁気記録ディスク用基板１ａの半径方向
に対するオシレーション動作とを調整して、研磨によっ
て形成される溝同士が約２°のクロス角をもつように設
定してある。このようなスラリー研磨工程においては、
研磨テープを用いた場合とは異なり、ばりなどを発生さ
せることなく、その表面に存在する異常突起を効率よく
除去できる。それ故、Ｎｉ−Ｐめっき層３の最表面のみ
を薄く研磨するだけでよいので、先に形成されたテクス
チャーを損傷することがない。（スラリー研磨工程）。
【００３８】しかる後に、Ｎｉ−Ｐめっき層３の表面上
に、非磁性金属下地層４，強磁性合金磁性層５および保
護層６を、スパッタ法などで、順次、形成していく。
に、非磁性金属下地層４，強磁性合金磁性層５および保
護層６を、スパッタ法などで、順次、形成していく。
【００３９】このように、本例に係る磁気記録ディスク
１の製造方法においては、研磨テープを用いるテクスチ
ャリング工程の後に、遊離砥粒を用いるスラリー研磨工
程を行うため、磁気記録ディスク１の表面には、異常突
起がなく、また、テクスチャリング工程で形成された状
態のまま残存している。
１の製造方法においては、研磨テープを用いるテクスチ
ャリング工程の後に、遊離砥粒を用いるスラリー研磨工
程を行うため、磁気記録ディスク１の表面には、異常突
起がなく、また、テクスチャリング工程で形成された状
態のまま残存している。
【００４０】さらに、本例の磁気記録ディスク１におい
ては、強磁性合金磁性層５の形成工程において、強磁性
合金磁性層５は、磁気記録ディスク１の面内異方性がな
い状態で成膜される。すなわち、磁気記録ディスク１の
製造方法において、図８のグラフ中に模式的に示すよう
に、Ｎｉ−Ｐめっき層３および非磁性金属下地層４が形
成された後の磁気記録ディスクは、矢印Ａで示される方
向に搬送されながら、強磁性合金磁性層５の成膜工程が
行われるため、位置Ｂにおいては、円周方向成分をもっ
て形成されたテクスチャーの接線方向と搬送方向とが０
°の角度をなす位置と見做すことができる一方、位置Ｃ
においては、そのテクスチャーの接線方向と搬送方向と
が９０°の角度をなす位置と見做すことができ、それぞ
れの位置における非磁性金属下地層４の磁気的配向に差
が生じやすいが、本例の磁気記録ディスク１について、
位置Ｂの保磁力Ｈｃと位置Ｃの保磁力Ｈｃとが同等であ
ることが確認されている。
ては、強磁性合金磁性層５の形成工程において、強磁性
合金磁性層５は、磁気記録ディスク１の面内異方性がな
い状態で成膜される。すなわち、磁気記録ディスク１の
製造方法において、図８のグラフ中に模式的に示すよう
に、Ｎｉ−Ｐめっき層３および非磁性金属下地層４が形
成された後の磁気記録ディスクは、矢印Ａで示される方
向に搬送されながら、強磁性合金磁性層５の成膜工程が
行われるため、位置Ｂにおいては、円周方向成分をもっ
て形成されたテクスチャーの接線方向と搬送方向とが０
°の角度をなす位置と見做すことができる一方、位置Ｃ
においては、そのテクスチャーの接線方向と搬送方向と
が９０°の角度をなす位置と見做すことができ、それぞ
れの位置における非磁性金属下地層４の磁気的配向に差
が生じやすいが、本例の磁気記録ディスク１について、
位置Ｂの保磁力Ｈｃと位置Ｃの保磁力Ｈｃとが同等であ
ることが確認されている。
【００４１】具体的には、磁気記録ディスク１の位置
Ｂ，Ｃでの保磁力Ｈｃと、スラリー研磨工程における研
磨時間との関係について、図８において、実線８１で位
置Ｂ（搬送方向に対する０°の位置）における保磁力Ｈ
ｃとスラリー研磨時間との関係を示し、点線８２で位置
Ｃ（搬送方向に対する９０°の位置）における保磁力Ｈ
ｃとスラリー研磨時間との関係を示すように、スラリー
研磨を一定時間以上行えば、磁気記録ディスクの面上に
おける位置Ａと位置Ｂとの間の保磁力特性の差、すなわ
ち、面内異方性がなくなる傾向にある。このような傾向
は、遊離砥粒として、アルミナ，ＳｉＣや単結晶ダイヤ
モンドなどの遊離砥粒を使用した場合には発現しない。
その理由については、多結晶ダイヤモンドが、粒子自体
に複数の鋭い切削辺をもつため、磁気記録ディスク用基
板１ａの表面にピッチの細かい溝を形成し、円周方向に
対する磁気的配向を著しく向上しているためと考えられ
る。
Ｂ，Ｃでの保磁力Ｈｃと、スラリー研磨工程における研
磨時間との関係について、図８において、実線８１で位
置Ｂ（搬送方向に対する０°の位置）における保磁力Ｈ
ｃとスラリー研磨時間との関係を示し、点線８２で位置
Ｃ（搬送方向に対する９０°の位置）における保磁力Ｈ
ｃとスラリー研磨時間との関係を示すように、スラリー
研磨を一定時間以上行えば、磁気記録ディスクの面上に
おける位置Ａと位置Ｂとの間の保磁力特性の差、すなわ
ち、面内異方性がなくなる傾向にある。このような傾向
は、遊離砥粒として、アルミナ，ＳｉＣや単結晶ダイヤ
モンドなどの遊離砥粒を使用した場合には発現しない。
その理由については、多結晶ダイヤモンドが、粒子自体
に複数の鋭い切削辺をもつため、磁気記録ディスク用基
板１ａの表面にピッチの細かい溝を形成し、円周方向に
対する磁気的配向を著しく向上しているためと考えられ
る。
【００４２】すなわち、テクスチャーを形成していない
磁気記録ディスク用基板１ａの表面に対して、多結晶ダ
イヤモンド砥粒を用いてスラリー研磨を行い、その表面
をＳＴＭによって観察したところ、その表面状態は、模
式的に図９（ａ）に示すように、アルミナ砥粒を用いて
スラリー研磨を行った場合（図９（ｂ）に示す。）に比
較して、細かいピッチで鋭い溝が多数形成され、これら
の溝の方向性によって、磁気的配向がストレート加工の
場合よりも向上しているためと考えられる。また、図８
には、角形比Ｓとスラリー研磨時間との関係を一点鎖線
８３で示してあるが、角形比Ｓについては、スラリー研
磨時間が短い場合でも、位置Ｂ，Ｃによる差は認められ
ない。
磁気記録ディスク用基板１ａの表面に対して、多結晶ダ
イヤモンド砥粒を用いてスラリー研磨を行い、その表面
をＳＴＭによって観察したところ、その表面状態は、模
式的に図９（ａ）に示すように、アルミナ砥粒を用いて
スラリー研磨を行った場合（図９（ｂ）に示す。）に比
較して、細かいピッチで鋭い溝が多数形成され、これら
の溝の方向性によって、磁気的配向がストレート加工の
場合よりも向上しているためと考えられる。また、図８
には、角形比Ｓとスラリー研磨時間との関係を一点鎖線
８３で示してあるが、角形比Ｓについては、スラリー研
磨時間が短い場合でも、位置Ｂ，Ｃによる差は認められ
ない。
【００４３】なお、本例の磁気記録ディスク１について
も、磁気ヘッドの最小浮上高さ，ドラッグテスト６０分
経過後の摩擦係数，ＣＳＳの繰り返しにともなう摩擦係
数μの変化および電磁変換特性などの測定を行ったが、
実施例１に係る磁気記録ディスクと同様に、テクスチャ
リング工程において発生した異常突起を遊離砥粒を用い
て除去しているため、磁気記録ディスクの浮上特性が向
上していること、テクスチャリング工程で形成したテク
スチャー同士の最大クロス角が３０°以上に設定されて
いるため、磁気記録ディスクと磁気ヘッドとの摩擦特性
が良好であること、テクスチャー同士の最大クロス角が
５０°以下に設定されているため、電磁変換特性が良好
であることが確認されている。
も、磁気ヘッドの最小浮上高さ，ドラッグテスト６０分
経過後の摩擦係数，ＣＳＳの繰り返しにともなう摩擦係
数μの変化および電磁変換特性などの測定を行ったが、
実施例１に係る磁気記録ディスクと同様に、テクスチャ
リング工程において発生した異常突起を遊離砥粒を用い
て除去しているため、磁気記録ディスクの浮上特性が向
上していること、テクスチャリング工程で形成したテク
スチャー同士の最大クロス角が３０°以上に設定されて
いるため、磁気記録ディスクと磁気ヘッドとの摩擦特性
が良好であること、テクスチャー同士の最大クロス角が
５０°以下に設定されているため、電磁変換特性が良好
であることが確認されている。
【００４４】以上のとおり、本例に係る磁気記録ディス
クの製造方法においては、テクスチャー同士の最大クロ
ス角を電磁変換特性が低下しない範囲で大きく設定し、
かつ、異常突起をスラリー状の研磨液を用いて除去する
ため、磁気記録ディスクの浮上特性および摩擦特性のい
ずれをも向上できることに加えて、その電磁変化特性の
面内異方性を解消することもできる。また、多結晶ダイ
ヤモンド砥粒を利用したスラリー研磨工程によって、細
かいピッチで鋭い溝を円周方向に形成するため、その円
周方向の磁気特性が向上するため、テクスチャー同士の
最大クロス角の上限を緩くしても、電磁変換特性が大き
く低下しない。
クの製造方法においては、テクスチャー同士の最大クロ
ス角を電磁変換特性が低下しない範囲で大きく設定し、
かつ、異常突起をスラリー状の研磨液を用いて除去する
ため、磁気記録ディスクの浮上特性および摩擦特性のい
ずれをも向上できることに加えて、その電磁変化特性の
面内異方性を解消することもできる。また、多結晶ダイ
ヤモンド砥粒を利用したスラリー研磨工程によって、細
かいピッチで鋭い溝を円周方向に形成するため、その円
周方向の磁気特性が向上するため、テクスチャー同士の
最大クロス角の上限を緩くしても、電磁変換特性が大き
く低下しない。
【００４５】なお、いずれの実施例に係る磁気記録ディ
スクの製造方法においても、遊離砥粒の粒径は、テクス
チャリング工程において発生した異常突起の状態によっ
て変更可能であり、テクスチャリング工程に用いた研磨
テープの砥粒の粒径と同等のものも使用できるが、粒径
が１μｍ以下の遊離砥粒を用いれば、異常突起の発生状
況にかかわらずに対応することができる。また、遊離砥
粒をスラリー状の研磨液に配合するにあたっては、純水
の他、各種の溶媒を用いることができ、その種類には限
定がない。さらに、磁気記録媒体に用いる各層の材料や
製造条件、スラリー研磨工程における織布などの押し付
け圧力などについては、磁気記録媒体の用途や遊離砥粒
の種類などによって、それぞれ最適な条件に設定される
べき性質のものであり、限定がない。
スクの製造方法においても、遊離砥粒の粒径は、テクス
チャリング工程において発生した異常突起の状態によっ
て変更可能であり、テクスチャリング工程に用いた研磨
テープの砥粒の粒径と同等のものも使用できるが、粒径
が１μｍ以下の遊離砥粒を用いれば、異常突起の発生状
況にかかわらずに対応することができる。また、遊離砥
粒をスラリー状の研磨液に配合するにあたっては、純水
の他、各種の溶媒を用いることができ、その種類には限
定がない。さらに、磁気記録媒体に用いる各層の材料や
製造条件、スラリー研磨工程における織布などの押し付
け圧力などについては、磁気記録媒体の用途や遊離砥粒
の種類などによって、それぞれ最適な条件に設定される
べき性質のものであり、限定がない。
【００４６】
【発明の効果】以上のとおり、本発明に係る磁気記録媒
体の製造方法においては、テクスチャー同士の最大クロ
ス角を電磁変換特性が低下しない３０°〜５０°の範囲
に設定してあることに特徴を有する。従って、本発明に
よれば、電磁変換特性を犠牲にすることなく、テクスチ
ャー同士の最大クロス角を大きく設定してあるため、磁
気記録ディスクと磁気ヘッドとの間の摩擦特性およびＣ
ＳＳ特性を向上することができる。
体の製造方法においては、テクスチャー同士の最大クロ
ス角を電磁変換特性が低下しない３０°〜５０°の範囲
に設定してあることに特徴を有する。従って、本発明に
よれば、電磁変換特性を犠牲にすることなく、テクスチ
ャー同士の最大クロス角を大きく設定してあるため、磁
気記録ディスクと磁気ヘッドとの間の摩擦特性およびＣ
ＳＳ特性を向上することができる。
【００４７】また、テクスチャリング工程の後にスラリ
ー研磨工程を行う場合には、テクスチャリング工程にお
いて発生した異常突起をスラリー研磨工程で除去するた
め、磁気記録ディスクの浮上特性を向上することができ
る。とくに、スラリー研磨工程に用いる遊離砥粒とし
て、多結晶ダイヤモンド砥粒を用いた場合には、細かい
ピッチで鋭い溝を円周方向に形成するため、その円周方
向の磁気特性が向上するため、面内異方性が解消される
とともに、テクスチャー同士のクロス角の上限値を緩く
することもできる。
ー研磨工程を行う場合には、テクスチャリング工程にお
いて発生した異常突起をスラリー研磨工程で除去するた
め、磁気記録ディスクの浮上特性を向上することができ
る。とくに、スラリー研磨工程に用いる遊離砥粒とし
て、多結晶ダイヤモンド砥粒を用いた場合には、細かい
ピッチで鋭い溝を円周方向に形成するため、その円周方
向の磁気特性が向上するため、面内異方性が解消される
とともに、テクスチャー同士のクロス角の上限値を緩く
することもできる。
【図１】本発明の実施例１に係る磁気記録ディスクの一
部を切り欠いて示す概略斜視図である。
部を切り欠いて示す概略斜視図である。
【図２】本発明の実施例１に係る磁気記録ディスクの製
造方法におけるスラリー研磨工程中の磁気記録ディスク
用基板表面の状態を示す概念図である。
造方法におけるスラリー研磨工程中の磁気記録ディスク
用基板表面の状態を示す概念図である。
【図３】本発明の実施例１および従来例に係る磁気記録
ディスクにおいて、磁気記録ディスクに対する磁気ヘッ
ドの最小浮上高さのテクスチャーの加工時間依存性を示
すグラフ図である。
ディスクにおいて、磁気記録ディスクに対する磁気ヘッ
ドの最小浮上高さのテクスチャーの加工時間依存性を示
すグラフ図である。
【図４】本発明の実施例１に係る磁気記録ディスクにお
いて、連続摺動テストによる摩擦係数のテクスチャー最
大クロス角依存性を示すグラフ図である。
いて、連続摺動テストによる摩擦係数のテクスチャー最
大クロス角依存性を示すグラフ図である。
【図５】本発明の実施例１に係るテクスチャー最大クロ
ス角が５０°の磁気記録ディスクＣＳＳ結果と、その比
較例に係るテクスチャー最大クロス角が８°の磁気記録
ディスクのＣＳＳ結果とを比較して示すグラフ図であ
る。
ス角が５０°の磁気記録ディスクＣＳＳ結果と、その比
較例に係るテクスチャー最大クロス角が８°の磁気記録
ディスクのＣＳＳ結果とを比較して示すグラフ図であ
る。
【図６】本発明の実施例１に係る磁気記録ディスクにお
いて、保磁力のテクスチャー最大クロス角依存性を示す
グラフ図である。
いて、保磁力のテクスチャー最大クロス角依存性を示す
グラフ図である。
【図７】本発明の実施例１に係る磁気記録ディスクにお
いて、角形比のテクスチャー最大クロス角依存性を示す
グラフ図である。
いて、角形比のテクスチャー最大クロス角依存性を示す
グラフ図である。
【図８】本発明の実施例２に係る磁気記録ディスクにお
いて、保磁力および角形比のスラリー研磨工程における
研磨時間依存性を示すグラフ図である。
いて、保磁力および角形比のスラリー研磨工程における
研磨時間依存性を示すグラフ図である。
【図９】（ａ）は、テクスチャー加工を施していない磁
気記録ディスク用基板に対して多結晶ダイヤモンド砥粒
でスラリー研磨を施した場合の磁気記録ディスク用基板
表面をＳＴＭ観察したときの観察結果を模式的に示す説
明図、（ｂ）はそれをアルミナ砥粒で行った場合の説明
図である。
気記録ディスク用基板に対して多結晶ダイヤモンド砥粒
でスラリー研磨を施した場合の磁気記録ディスク用基板
表面をＳＴＭ観察したときの観察結果を模式的に示す説
明図、（ｂ）はそれをアルミナ砥粒で行った場合の説明
図である。
１・・・磁気記録ディスク（磁気記録媒体） １ａ・・・磁気記録ディスク用基板（磁気記録媒体用基
板） ２・・・アルミニウム合金基板 ３・・・Ｎｉ−Ｐめっき層 ４・・・非磁性金属下地層 ５・・・強磁性合金磁性層 ７・・・織布 ８・・・遊離砥粒 ９・・・研磨液
板） ２・・・アルミニウム合金基板 ３・・・Ｎｉ−Ｐめっき層 ４・・・非磁性金属下地層 ５・・・強磁性合金磁性層 ７・・・織布 ８・・・遊離砥粒 ９・・・研磨液
Claims (5)
- 【請求項１】 磁気記録媒体用基板の磁性層が形成され
た面側に円周方向成分をもって互いに交差する状態に形
成されたテクスチャー同士の最大クロス角が３０°から
５０°までの範囲にあることを特徴とする磁気記録媒
体。 - 【請求項２】 磁気記録媒体用基板の磁性層が形成され
るべき面側に固定砥粒を用いて円周方向成分をもって互
いに交差する状態にテクスチャーを形成するテクスチャ
リング工程において、テクチャー同士の最大クロス角を
３０°から５０°までの範囲に設定することを特徴とす
る磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項３】 請求項２において、前記テクスチャリン
グ工程の後に、テクスチャーが形成された前記磁気記録
媒体用基板の表層側を、遊離砥粒を含むスラリー状の研
磨液で研磨するスラリー研磨工程を行うことを特徴とす
る磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項４】 請求項３において、前記スラリー研磨工
程では、前記遊離砥粒として平均粒径が１μｍ以下のア
ルミナ砥粒を用いることを特徴とする磁気記録媒体の製
造方法。 - 【請求項５】 請求項３において、前記スラリー研磨工
程では、前記遊離砥粒として平均粒径が１μｍ以下の多
結晶ダイヤモンド砥粒を用いることを特徴とする磁気記
録媒体の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29420592A JPH06150304A (ja) | 1992-11-02 | 1992-11-02 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
| US08/143,897 US5540973A (en) | 1992-11-02 | 1993-11-02 | Magnetic recording medium and a method for manufacturing such medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29420592A JPH06150304A (ja) | 1992-11-02 | 1992-11-02 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06150304A true JPH06150304A (ja) | 1994-05-31 |
Family
ID=17804685
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29420592A Pending JPH06150304A (ja) | 1992-11-02 | 1992-11-02 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5540973A (ja) |
| JP (1) | JPH06150304A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19524220A1 (de) * | 1994-07-04 | 1996-01-11 | Mitsubishi Chem Corp | Magnetisches Aufzeichnungsmedium, Verfahren zu dessen Herstellung, und Aufnahme- und Wiedergabeverfahren |
| JP2002370158A (ja) * | 2001-06-15 | 2002-12-24 | Nihon Micro Coating Co Ltd | ガラス基板の表面をテクスチャ加工するために用いられる研磨スラリー及び方法 |
| EP2462923A3 (en) | 2003-07-18 | 2012-08-29 | Oakwood Laboratories L.L.C. | Prevention of molecular weight reduction of the polymer, impurity formation and gelling in polymer compositions |
| KR100782298B1 (ko) * | 2006-03-20 | 2007-12-06 | 삼성전자주식회사 | 하드디스크 드라이브용 디스크 및 그를 구비한 하드디스크드라이브 |
| JP2011248966A (ja) * | 2010-05-28 | 2011-12-08 | Wd Media (Singapore) Pte. Ltd | 垂直磁気記録媒体 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01273218A (ja) * | 1988-04-25 | 1989-11-01 | Mitsubishi Electric Corp | 磁気デイスク |
| JP2600004B2 (ja) * | 1990-02-06 | 1997-04-16 | シャープ株式会社 | 光磁気記録媒体及びその表面処理方法 |
-
1992
- 1992-11-02 JP JP29420592A patent/JPH06150304A/ja active Pending
-
1993
- 1993-11-02 US US08/143,897 patent/US5540973A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5540973A (en) | 1996-07-30 |
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