JPH06135048A - 静電記録ヘッド - Google Patents
静電記録ヘッドInfo
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- JPH06135048A JPH06135048A JP4284493A JP28449392A JPH06135048A JP H06135048 A JPH06135048 A JP H06135048A JP 4284493 A JP4284493 A JP 4284493A JP 28449392 A JP28449392 A JP 28449392A JP H06135048 A JPH06135048 A JP H06135048A
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- recording head
- screen electrode
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- screen
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
- G03G15/22—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern involving the combination of more than one step according to groups G03G13/02 - G03G13/20
- G03G15/32—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern involving the combination of more than one step according to groups G03G13/02 - G03G13/20 in which the charge pattern is formed dotwise, e.g. by a thermal head
- G03G15/321—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern involving the combination of more than one step according to groups G03G13/02 - G03G13/20 in which the charge pattern is formed dotwise, e.g. by a thermal head by charge transfer onto the recording material in accordance with the image
- G03G15/323—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern involving the combination of more than one step according to groups G03G13/02 - G03G13/20 in which the charge pattern is formed dotwise, e.g. by a thermal head by charge transfer onto the recording material in accordance with the image by modulating charged particles through holes or a slit
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/385—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective supply of electric current or selective application of magnetism to a printing or impression-transfer material
- B41J2/41—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective supply of electric current or selective application of magnetism to a printing or impression-transfer material for electrostatic printing
- B41J2/415—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective supply of electric current or selective application of magnetism to a printing or impression-transfer material for electrostatic printing by passing charged particles through a hole or a slit
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 スクリーン電極の耐食性を向上させ、出力経
時変化の少ない安定した静電記録ヘッドを提供するこ
と。 【構成】 所定方向に延びる誘導電極２、第１絶縁層
３、前記誘導電極２に交差するように配置された放電電
極４、この放電電極４の前記誘導電極２との交差部にイ
オン生成空間領域６を有する第２絶縁層５、及び、前記
イオン生成空間領域６に対応してイオン通過用の開口部
８を有するスクリーン電極（７）が絶縁基板１上に積層
状態で設けられた静電記録ヘッドは、前記スクリーン電
極が、融点１５００°Ｃ以上の金属の単体もしくは、貴
金属の単体または、それらを主成分とする合金から構成
されている。なお、前記スクリーン電極７に表面層部材
を設け、その表面層部材に融点１５００°Ｃ以上の金属
の単体もしくは貴金属の単体または、それらを主成分と
する合金を用いた構成でもよい。
時変化の少ない安定した静電記録ヘッドを提供するこ
と。 【構成】 所定方向に延びる誘導電極２、第１絶縁層
３、前記誘導電極２に交差するように配置された放電電
極４、この放電電極４の前記誘導電極２との交差部にイ
オン生成空間領域６を有する第２絶縁層５、及び、前記
イオン生成空間領域６に対応してイオン通過用の開口部
８を有するスクリーン電極（７）が絶縁基板１上に積層
状態で設けられた静電記録ヘッドは、前記スクリーン電
極が、融点１５００°Ｃ以上の金属の単体もしくは、貴
金属の単体または、それらを主成分とする合金から構成
されている。なお、前記スクリーン電極７に表面層部材
を設け、その表面層部材に融点１５００°Ｃ以上の金属
の単体もしくは貴金属の単体または、それらを主成分と
する合金を用いた構成でもよい。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は静電気録ヘッドに関す
るもので、更に詳細には、絶縁層を挟んだ誘導電極と放
電電極とから成るイオン生成部と、スクリーン電極にて
形成されるイオン流制御部とを具備した静電記録ヘッド
に関するものである。このような静電記録ヘッドは、例
えばプリンタやファクシミリ等に使用される。
るもので、更に詳細には、絶縁層を挟んだ誘導電極と放
電電極とから成るイオン生成部と、スクリーン電極にて
形成されるイオン流制御部とを具備した静電記録ヘッド
に関するものである。このような静電記録ヘッドは、例
えばプリンタやファクシミリ等に使用される。
【０００２】
【従来の技術】従来この種の静電記録ヘッドとしては、
イオンを発生させて（イオンを生成して）、このイオン
によって画像の記録を行う静電記録ヘッドが知られてい
る（ＵＳＰ第４，４０８，２１４号公報）。図６，７，
８は従来の静電記録ヘッドの説明図で、図６は静電記録
ヘッドの要部断面図、図７は同静電記録ヘッドの平面形
状の説明図で前記図６の矢印VII−VII線から見た図、図
８は前記図７の矢印VIII−VIII線から見た図、である。
図６，７，８に示すように、静電記録ヘッドＨoは、絶
縁基板０１上に順次形成された誘導電極０２、第１絶縁
層０３、前記誘導電極０２に交差するように配置された
放電電極０４、及び第２絶縁層０５を備えている。第２
絶縁層０５は前記放電電極０４の前記誘導電極０２との
交差部にイオン生成用の空間領域０６を有している。こ
の絶縁基板０１上にはさらに、スクリーン電極０７が設
けられており、このスクリーン電極０７には、前記空間
領域０６に対応してイオン通過用の開口部０８が形成さ
れている。そして、前記交差部、空間領域０６、及び開
口部０８は、図７において（平面図において）マトリク
ス状に配置されている。
イオンを発生させて（イオンを生成して）、このイオン
によって画像の記録を行う静電記録ヘッドが知られてい
る（ＵＳＰ第４，４０８，２１４号公報）。図６，７，
８は従来の静電記録ヘッドの説明図で、図６は静電記録
ヘッドの要部断面図、図７は同静電記録ヘッドの平面形
状の説明図で前記図６の矢印VII−VII線から見た図、図
８は前記図７の矢印VIII−VIII線から見た図、である。
図６，７，８に示すように、静電記録ヘッドＨoは、絶
縁基板０１上に順次形成された誘導電極０２、第１絶縁
層０３、前記誘導電極０２に交差するように配置された
放電電極０４、及び第２絶縁層０５を備えている。第２
絶縁層０５は前記放電電極０４の前記誘導電極０２との
交差部にイオン生成用の空間領域０６を有している。こ
の絶縁基板０１上にはさらに、スクリーン電極０７が設
けられており、このスクリーン電極０７には、前記空間
領域０６に対応してイオン通過用の開口部０８が形成さ
れている。そして、前記交差部、空間領域０６、及び開
口部０８は、図７において（平面図において）マトリク
ス状に配置されている。
【０００３】前記誘導電極０２及び放電電極０４間に高
周波高電圧を印加する交流電源０１０と、前記符号０２
〜０６で示される要素とから、前記空間領域０６にイオ
ンを生成するイオン生成部が構成されている。前記放電
電極０４には、スクリーン電極０７との間にイオン流制
御用の電界を発生させるためのイオン流制御電圧を出力
するイオン流制御電源０１１が接続されている。このイ
オン流制御電源０１１及び前記符号０４〜０７で示され
た要素からイオン流制御部が構成されている。また、前
記各電極０２，０４，０７には、図示しない静電潜像担
持体（誘電体ドラム）に対するバイアス電位を発生させ
る直流バイアス電源０１２が接続されている。前述の構
成を備えた静電記録ヘッドは、前記交流電源０１０の高
周波高電圧により空間領域０６に発生したイオンを、放
電電極４，４…とスクリーン電極７との間に形成される
電界により加速若しくは吸収し、イオン流の放出を制御
して、画像信号に応じた静電潜像の形成を行うようにな
っている。上記のように構成される従来の静電記録ヘッ
ドにおいて、そのスクリーン電極材料としては、ニッケ
ル、ステンレス鋼が採用されていた（特開昭 ５４−７
８１３４、特開昭 ６３−５３０５６、特開平 ２−４
５４１）。
周波高電圧を印加する交流電源０１０と、前記符号０２
〜０６で示される要素とから、前記空間領域０６にイオ
ンを生成するイオン生成部が構成されている。前記放電
電極０４には、スクリーン電極０７との間にイオン流制
御用の電界を発生させるためのイオン流制御電圧を出力
するイオン流制御電源０１１が接続されている。このイ
オン流制御電源０１１及び前記符号０４〜０７で示され
た要素からイオン流制御部が構成されている。また、前
記各電極０２，０４，０７には、図示しない静電潜像担
持体（誘電体ドラム）に対するバイアス電位を発生させ
る直流バイアス電源０１２が接続されている。前述の構
成を備えた静電記録ヘッドは、前記交流電源０１０の高
周波高電圧により空間領域０６に発生したイオンを、放
電電極４，４…とスクリーン電極７との間に形成される
電界により加速若しくは吸収し、イオン流の放出を制御
して、画像信号に応じた静電潜像の形成を行うようにな
っている。上記のように構成される従来の静電記録ヘッ
ドにおいて、そのスクリーン電極材料としては、ニッケ
ル、ステンレス鋼が採用されていた（特開昭 ５４−７
８１３４、特開昭 ６３−５３０５６、特開平 ２−４
５４１）。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この種
の記録ヘッドにおいては、放電によって発生する種々の
の活性種によって電極の腐食が起こる。スクリーン電極
に関しては、活性種にさらされるイオン生成空間領域０
６，０６，…に面した側の面と開口部０８内側の腐食が
著しく、更に腐食が進行すると開口部０８，０８…の閉
塞がおこり、著しいイオン出力の低下が起こる。このよ
うな腐食に対して、従来用いられていたスクリーン電極
材料の耐食性は、充分満足が得られるものではなかっ
た。本発明は上記の事情に鑑みなされたもので、下記
（Ａ11）の記載内容を課題とする。 （Ａ11） スクリーン電極の耐食性を向上させ、出力経
時変化の少ない安定した静電記録ヘッドを提供するこ
と。
の記録ヘッドにおいては、放電によって発生する種々の
の活性種によって電極の腐食が起こる。スクリーン電極
に関しては、活性種にさらされるイオン生成空間領域０
６，０６，…に面した側の面と開口部０８内側の腐食が
著しく、更に腐食が進行すると開口部０８，０８…の閉
塞がおこり、著しいイオン出力の低下が起こる。このよ
うな腐食に対して、従来用いられていたスクリーン電極
材料の耐食性は、充分満足が得られるものではなかっ
た。本発明は上記の事情に鑑みなされたもので、下記
（Ａ11）の記載内容を課題とする。 （Ａ11） スクリーン電極の耐食性を向上させ、出力経
時変化の少ない安定した静電記録ヘッドを提供するこ
と。
【０００５】
【課題を解決するための手段】次に、前記課題を解決す
るために案出した本発明を説明するが、本発明の要素に
は、後述の実施例の要素との対応を容易にするため、実
施例の要素の符号をカッコで囲んだものを付記する。な
お、本発明を後述の実施例の符号と対応させて説明する
理由は、本発明の理解を容易にするためであり、本発明
の範囲を実施例に限定するためではない。前記課題を解
決するために、本出願の第１発明における静電記録ヘッ
ドは、所定方向に延びる誘導電極（２）、第１絶縁層
（３）、前記誘導電極（２）に交差するように配置され
た放電電極（４）、この放電電極（４）の前記誘導電極
（２）との交差部にイオン生成空間領域（６）を有する
第２絶縁層（５）、及び、前記イオン生成空間領域
（６）に対応してイオン通過用の開口部（８）を有する
スクリーン電極（７）が絶縁基板（１）上に積層状態で
設けられた静電記録ヘッドにおいて、下記の要件（Ａ
1）を備えたことを特徴とする、（Ａ1） 前記スクリー
ン電極が、融点１５００°Ｃ以上の金属の単体もしく
は、貴金属の単体または、それらを主成分とする合金か
ら構成されたこと。
るために案出した本発明を説明するが、本発明の要素に
は、後述の実施例の要素との対応を容易にするため、実
施例の要素の符号をカッコで囲んだものを付記する。な
お、本発明を後述の実施例の符号と対応させて説明する
理由は、本発明の理解を容易にするためであり、本発明
の範囲を実施例に限定するためではない。前記課題を解
決するために、本出願の第１発明における静電記録ヘッ
ドは、所定方向に延びる誘導電極（２）、第１絶縁層
（３）、前記誘導電極（２）に交差するように配置され
た放電電極（４）、この放電電極（４）の前記誘導電極
（２）との交差部にイオン生成空間領域（６）を有する
第２絶縁層（５）、及び、前記イオン生成空間領域
（６）に対応してイオン通過用の開口部（８）を有する
スクリーン電極（７）が絶縁基板（１）上に積層状態で
設けられた静電記録ヘッドにおいて、下記の要件（Ａ
1）を備えたことを特徴とする、（Ａ1） 前記スクリー
ン電極が、融点１５００°Ｃ以上の金属の単体もしく
は、貴金属の単体または、それらを主成分とする合金か
ら構成されたこと。
【０００６】上記スクリーン電極（７）の製造法として
は、その電極の材質が前記融点が１５００°Ｃ以上の金
属の単体もしくは貴金属の単体または、それらの合金か
ら成るもので有れば、種々の方法を採用することが可能
である。例えば、前記スクリーン電極（７）は、融点が
１５００°Ｃ以上の金属の単体もしくは貴金属の単体ま
たは、それらを主成分とする合金からなる厚さ２０〜１
００μｍ、好ましくは３０〜５０μｍの金属箔に、ケミ
カルエッチング、放電加工、パンチング、レーザー加工
等により開口部（８，８…）を形成して得るか、また
は、予め平面上に開口部（８，８…）の位置に相当する
部分に突起を有する型を製作し、その上に、電解及び無
電解メッキ法、ＰＶＤ法、ＬＰＤ（液相析出）法等公知
の方法によって前記金属を肉もりした後、型から剥離す
ることによって製造される。尚、上記及び以後説明する
静電記録ヘッドの製造には、本発明のスクリーン電極
（７）を用いる以外は、公知の任意の方法を用いること
ができる。
は、その電極の材質が前記融点が１５００°Ｃ以上の金
属の単体もしくは貴金属の単体または、それらの合金か
ら成るもので有れば、種々の方法を採用することが可能
である。例えば、前記スクリーン電極（７）は、融点が
１５００°Ｃ以上の金属の単体もしくは貴金属の単体ま
たは、それらを主成分とする合金からなる厚さ２０〜１
００μｍ、好ましくは３０〜５０μｍの金属箔に、ケミ
カルエッチング、放電加工、パンチング、レーザー加工
等により開口部（８，８…）を形成して得るか、また
は、予め平面上に開口部（８，８…）の位置に相当する
部分に突起を有する型を製作し、その上に、電解及び無
電解メッキ法、ＰＶＤ法、ＬＰＤ（液相析出）法等公知
の方法によって前記金属を肉もりした後、型から剥離す
ることによって製造される。尚、上記及び以後説明する
静電記録ヘッドの製造には、本発明のスクリーン電極
（７）を用いる以外は、公知の任意の方法を用いること
ができる。
【０００７】また、本出願の第２発明の静電記録ヘッド
は、前記第１発明の静電記録ヘッドにおいて、下記の要
件（Ａ2）を備えたことを特徴とする、（Ａ2） 前記ス
クリーン電極材に用いられる融点１５００°Ｃ以上の金
属が、チタン、ジルコニウム、タンタル、ニオブ、モリ
ブデン、タングステンのうちの１つ、またはそれらを主
成分とする合金であること。
は、前記第１発明の静電記録ヘッドにおいて、下記の要
件（Ａ2）を備えたことを特徴とする、（Ａ2） 前記ス
クリーン電極材に用いられる融点１５００°Ｃ以上の金
属が、チタン、ジルコニウム、タンタル、ニオブ、モリ
ブデン、タングステンのうちの１つ、またはそれらを主
成分とする合金であること。
【０００８】また、本出願の第３発明の静電記録ヘッド
は、前記第１発明の静電記録ヘッドにおいて、下記の要
件（Ａ3）を備えたことを特徴とする、（Ａ3） 前記ス
クリーン電極材に用いられる貴金属が、金、白金、パラ
ジウムのうちの１つ、またはそれらを主成分とする合金
であること。
は、前記第１発明の静電記録ヘッドにおいて、下記の要
件（Ａ3）を備えたことを特徴とする、（Ａ3） 前記ス
クリーン電極材に用いられる貴金属が、金、白金、パラ
ジウムのうちの１つ、またはそれらを主成分とする合金
であること。
【０００９】また、本出願の第４発明の静電記録ヘッド
は、所定方向に延びる誘導電極（２）、第１絶縁層
（３）、前記誘導電極に交差するように配置された放電
電極（４）、この放電電極（４）の前記誘導電極（２）
との交差部にイオン生成空間領域（６）を有する第２絶
縁層（５）、及び、前記イオン生成空間領域（６）に対
応してイオン通過用の開口（８）を有するスクリーン電
極（７）が絶縁基板（１）上に積層状態で設けられた静
電記録ヘッドにおいて、下記の要件（Ａ4）を備えたこ
とを特徴とする、（Ａ4） 前記スクリーン電極（７）
が、導電性もしくは、半導電性の芯材と、その表面全体
もしくは少なくとも放電電極（４）に面した側の面で荷
電粒子が当たる部分と開口部（８）内側とを覆う耐酸化
性に優れた表面層部材とから構成されていること。この
第４発明に示した導電性もしくは半導電性の芯材の材質
としては、電圧が印加可能で且つ所望の形状に加工可能
な材質であれば、種々の材質を採用することが可能であ
り、特に金属に限ったものではない。前記スクリーン電
極７の製法としては、その構成が本発明に記した、導電
性もしくは半導電性の芯材と、その表面全体もしくは少
なくとも放電電極（４）に面した側の面で荷電粒子が当
たる部分と開口部（８）内側とを覆う耐酸化性に優れた
表面層部材とから成るものものを製造できる種々の方法
を採用することが可能であり、例えば、以下の方法を採
用することが可能である。まずスクリーン電極（７）の
芯材を、厚さ２０〜１００μｍ好ましくは３０〜５０μ
ｍのニッケル、ステンレス等の導電性金属箔やシリコン
などの半導電性箔に、ケミカルエッチング、放電加工、
パンチング、レーザー加工等により開口部（８，８…）
を形成して得るか、または、予め平面上に開口部（８，
８…）の位置にに相当する部分に突起を有する型を製作
し、その上に、電解及び無電解メッキ法、ＰＶＤ法、Ｌ
ＰＤ（液相析出）法など公知の任意の方法によって、導
電性もしくは半導電性芯材を肉もりした後、型から剥離
することによって作製する。次に、導電性または、半導
電性の芯材の表面全体もしくは少なくとも放電電極
（４）に面した側の面で荷電粒子が当たる部分と開口部
（８）内側とを耐酸化性に優れた材質でコーティング
し、スクリーン電極（７）とする。芯材に耐酸化性の高
い材質をコーティングする方法としては、所望の部位を
コーティングできる方法であれば、公知の任意の方法を
用いることができる。具体的には、電解及び無電解メッ
キ法、電気泳動法、ＬＰＤ（液相析出）法、ＰＶＤ法、
ＣＶＤ法、熱酸化処理法、スプレー法等があげられる。
は、所定方向に延びる誘導電極（２）、第１絶縁層
（３）、前記誘導電極に交差するように配置された放電
電極（４）、この放電電極（４）の前記誘導電極（２）
との交差部にイオン生成空間領域（６）を有する第２絶
縁層（５）、及び、前記イオン生成空間領域（６）に対
応してイオン通過用の開口（８）を有するスクリーン電
極（７）が絶縁基板（１）上に積層状態で設けられた静
電記録ヘッドにおいて、下記の要件（Ａ4）を備えたこ
とを特徴とする、（Ａ4） 前記スクリーン電極（７）
が、導電性もしくは、半導電性の芯材と、その表面全体
もしくは少なくとも放電電極（４）に面した側の面で荷
電粒子が当たる部分と開口部（８）内側とを覆う耐酸化
性に優れた表面層部材とから構成されていること。この
第４発明に示した導電性もしくは半導電性の芯材の材質
としては、電圧が印加可能で且つ所望の形状に加工可能
な材質であれば、種々の材質を採用することが可能であ
り、特に金属に限ったものではない。前記スクリーン電
極７の製法としては、その構成が本発明に記した、導電
性もしくは半導電性の芯材と、その表面全体もしくは少
なくとも放電電極（４）に面した側の面で荷電粒子が当
たる部分と開口部（８）内側とを覆う耐酸化性に優れた
表面層部材とから成るものものを製造できる種々の方法
を採用することが可能であり、例えば、以下の方法を採
用することが可能である。まずスクリーン電極（７）の
芯材を、厚さ２０〜１００μｍ好ましくは３０〜５０μ
ｍのニッケル、ステンレス等の導電性金属箔やシリコン
などの半導電性箔に、ケミカルエッチング、放電加工、
パンチング、レーザー加工等により開口部（８，８…）
を形成して得るか、または、予め平面上に開口部（８，
８…）の位置にに相当する部分に突起を有する型を製作
し、その上に、電解及び無電解メッキ法、ＰＶＤ法、Ｌ
ＰＤ（液相析出）法など公知の任意の方法によって、導
電性もしくは半導電性芯材を肉もりした後、型から剥離
することによって作製する。次に、導電性または、半導
電性の芯材の表面全体もしくは少なくとも放電電極
（４）に面した側の面で荷電粒子が当たる部分と開口部
（８）内側とを耐酸化性に優れた材質でコーティング
し、スクリーン電極（７）とする。芯材に耐酸化性の高
い材質をコーティングする方法としては、所望の部位を
コーティングできる方法であれば、公知の任意の方法を
用いることができる。具体的には、電解及び無電解メッ
キ法、電気泳動法、ＬＰＤ（液相析出）法、ＰＶＤ法、
ＣＶＤ法、熱酸化処理法、スプレー法等があげられる。
【００１０】また、本出願の第５発明の静電記録ヘッド
は、前記第４発明の静電記録ヘッドにおいて、下記の要
件（Ａ5）を備えたことを特徴とする、（Ａ5） 前記ス
クリーン電極（７）の表面層部材が融点１５００°Ｃ以
上の金属の単体もしくは貴金属の単体または、それらを
主成分とする合金であること。なお、前記スクリーン電
極（７）の表面層部材に用いられる融点１５００°Ｃ以
上の金属としては、例えば、チタン、ジルコニウム、タ
ンタル、ニオブ、モリブデン、タングステン等を採用す
ることができる。また、前記スクリーン電極（７）の表
面層部材に用いられる貴金属としては、例えば、金、白
金、パラジウム等を採用することができる。
は、前記第４発明の静電記録ヘッドにおいて、下記の要
件（Ａ5）を備えたことを特徴とする、（Ａ5） 前記ス
クリーン電極（７）の表面層部材が融点１５００°Ｃ以
上の金属の単体もしくは貴金属の単体または、それらを
主成分とする合金であること。なお、前記スクリーン電
極（７）の表面層部材に用いられる融点１５００°Ｃ以
上の金属としては、例えば、チタン、ジルコニウム、タ
ンタル、ニオブ、モリブデン、タングステン等を採用す
ることができる。また、前記スクリーン電極（７）の表
面層部材に用いられる貴金属としては、例えば、金、白
金、パラジウム等を採用することができる。
【００１１】また、本出願の第６発明の静電記録ヘッド
は、前記第４発明の静電記録ヘッドにおいて、下記の要
件（Ａ6）を備えたことを特徴とする、（Ａ6） 前記ス
クリーン電極（７）の表面層部材が無機化合物もしく
は、有機高分子化合物であること。本発明の無機化合物
とは、種々の金属もしくは、半導体金属等の酸化物、窒
化物、炭化物あるいはこれらの混合物を指す。したがっ
て、前記スクリーン電極（７）の表面層部材の無機化合
物としては、例えば、珪素、アルミニウム、ホウ素、ジ
ルコニウム、チタン、タンタル、マグネシウム、亜鉛、
鉛のうち１つの酸化物または、窒化物または、炭化物の
いずれか、あるいはそれらを主成分とする混合物等を採
用することができる。また本発明の有機高分子化合物と
は、有機モノマーが多数重合して成る化合物で、ポリエ
チレンの水素元素の一部または、全てが他の元素または
元素団によって置換した構造を持つポリオレフィン樹
脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹
脂、ポリウレタン樹脂、ポリエーテル樹脂などがあげら
れ、通常これらの樹脂は、更に難燃剤、可塑剤などの添
加剤が加えられて使用される。また、これらの樹脂は１
種類単独で用いてもよいが、複数の樹脂を混練分散させ
るもしくは、化学的に結合させるなどして複合化した状
態、いわゆるポリマーアロイの形で用いても良い。
は、前記第４発明の静電記録ヘッドにおいて、下記の要
件（Ａ6）を備えたことを特徴とする、（Ａ6） 前記ス
クリーン電極（７）の表面層部材が無機化合物もしく
は、有機高分子化合物であること。本発明の無機化合物
とは、種々の金属もしくは、半導体金属等の酸化物、窒
化物、炭化物あるいはこれらの混合物を指す。したがっ
て、前記スクリーン電極（７）の表面層部材の無機化合
物としては、例えば、珪素、アルミニウム、ホウ素、ジ
ルコニウム、チタン、タンタル、マグネシウム、亜鉛、
鉛のうち１つの酸化物または、窒化物または、炭化物の
いずれか、あるいはそれらを主成分とする混合物等を採
用することができる。また本発明の有機高分子化合物と
は、有機モノマーが多数重合して成る化合物で、ポリエ
チレンの水素元素の一部または、全てが他の元素または
元素団によって置換した構造を持つポリオレフィン樹
脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹
脂、ポリウレタン樹脂、ポリエーテル樹脂などがあげら
れ、通常これらの樹脂は、更に難燃剤、可塑剤などの添
加剤が加えられて使用される。また、これらの樹脂は１
種類単独で用いてもよいが、複数の樹脂を混練分散させ
るもしくは、化学的に結合させるなどして複合化した状
態、いわゆるポリマーアロイの形で用いても良い。
【００１２】また、本出願の第７発明の静電記録ヘッド
は、前記第４発明の静電記録ヘッドにおいて、下記の要
件（Ａ7）を備えたことを特徴とする、（Ａ7） 前記ス
クリーン電極（７）の表面層部材が主に金属アルコキシ
ドの重合物から成る有機無機複合材料であること。前記
スクリーン電極（７）の表面層部材に用いられる金属ア
ルコキシドの金属元素としては、例えば、珪素、アルミ
ニウム、ジルコニウム、チタン、ホウ素等を用いること
ができる。また、本発明に明記した有機無機複合材料と
は、金属または、半導体金属と炭素化合物とが結合した
単位が複数重合して構成される、いわゆる無機高分子と
呼ばれる材料を指す。これらの具体例としては、金属ア
ルコキシドを均質な溶液とし、その溶液中での金属アル
コキシドの加水分解、重合反応を利用して得た化合物
で、金属アルコキシドがテトラエトキシシラン（ＴＥＯ
Ｓ）の場合は、シロキサン系ポリマーが生成する。これ
らをコーティングするに当たっては、加水分解、重合に
よって生成したゾルを被コーティング材に適当なの方法
で塗布した後さらに反応を進めて、ゲル化する。場合に
よってはさらに加熱処理を施しても良い。
は、前記第４発明の静電記録ヘッドにおいて、下記の要
件（Ａ7）を備えたことを特徴とする、（Ａ7） 前記ス
クリーン電極（７）の表面層部材が主に金属アルコキシ
ドの重合物から成る有機無機複合材料であること。前記
スクリーン電極（７）の表面層部材に用いられる金属ア
ルコキシドの金属元素としては、例えば、珪素、アルミ
ニウム、ジルコニウム、チタン、ホウ素等を用いること
ができる。また、本発明に明記した有機無機複合材料と
は、金属または、半導体金属と炭素化合物とが結合した
単位が複数重合して構成される、いわゆる無機高分子と
呼ばれる材料を指す。これらの具体例としては、金属ア
ルコキシドを均質な溶液とし、その溶液中での金属アル
コキシドの加水分解、重合反応を利用して得た化合物
で、金属アルコキシドがテトラエトキシシラン（ＴＥＯ
Ｓ）の場合は、シロキサン系ポリマーが生成する。これ
らをコーティングするに当たっては、加水分解、重合に
よって生成したゾルを被コーティング材に適当なの方法
で塗布した後さらに反応を進めて、ゲル化する。場合に
よってはさらに加熱処理を施しても良い。
【００１３】
【作用】前述の特徴を備えた本出願の第１〜第７の発明
の静電記録ヘッドは、スクリーン電極（７）の耐腐食性
が優れているので、腐食によるスクリーン電極開口部
（８）の閉塞が防止できる。
の静電記録ヘッドは、スクリーン電極（７）の耐腐食性
が優れているので、腐食によるスクリーン電極開口部
（８）の閉塞が防止できる。
【００１４】
【実施例】次に図面を参照しながら、本発明の実施例を
説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるもので
はない。 （実施例１）図１はこの発明の実施例１の静電記録ヘッ
ドＨの平面図、図２は同実施例１の静電記録ヘッドＨの
要部断面図（図１のII−II線断面図）及びその静電記録
ヘッドＨを駆動するための電源を示す図である。図１，
２に示すこの発明の実施例１の静電記録ヘッドＨの基本
的構成は、前記図６〜８に示した従来の静電記録ヘッド
Ｈoとほぼ同様であるため、対応する構成要素には前記
従来例を示す図６〜８で使用した符号の最初の０を除い
た符号を付して、詳細な説明は省略する。尚、このこと
は、これ以後の実施例の説明においても、同様である。
図１，２に示す本実施例１の静電記録ヘッドＨは、第２
絶縁層５の上にスペーサＳを介してスクリーン電極７が
設けられている点が、前記図６〜８の分厚く形成された
第２絶縁層０５上に直接スクリーン電極０７が設けられ
た従来例と相違している。したがって、誘導電極２と放
電電極４との交差する位置に形成されるとともにマトリ
クス状に配置されるイオン生成用空間領域６，６，…
は、第２絶縁層５及びスペーサＳによって形成されるこ
とになる（図１参照）。なお、本発明の実施例の構成と
しては、前記図６〜８に示す従来例と同様の構成（スペ
ーサを用いない構成）を採用することも可能である。
説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるもので
はない。 （実施例１）図１はこの発明の実施例１の静電記録ヘッ
ドＨの平面図、図２は同実施例１の静電記録ヘッドＨの
要部断面図（図１のII−II線断面図）及びその静電記録
ヘッドＨを駆動するための電源を示す図である。図１，
２に示すこの発明の実施例１の静電記録ヘッドＨの基本
的構成は、前記図６〜８に示した従来の静電記録ヘッド
Ｈoとほぼ同様であるため、対応する構成要素には前記
従来例を示す図６〜８で使用した符号の最初の０を除い
た符号を付して、詳細な説明は省略する。尚、このこと
は、これ以後の実施例の説明においても、同様である。
図１，２に示す本実施例１の静電記録ヘッドＨは、第２
絶縁層５の上にスペーサＳを介してスクリーン電極７が
設けられている点が、前記図６〜８の分厚く形成された
第２絶縁層０５上に直接スクリーン電極０７が設けられ
た従来例と相違している。したがって、誘導電極２と放
電電極４との交差する位置に形成されるとともにマトリ
クス状に配置されるイオン生成用空間領域６，６，…
は、第２絶縁層５及びスペーサＳによって形成されるこ
とになる（図１参照）。なお、本発明の実施例の構成と
しては、前記図６〜８に示す従来例と同様の構成（スペ
ーサを用いない構成）を採用することも可能である。
【００１５】図１，２において、アルミナ製の絶縁基板
１上に、第１の白金２％含有銀製の誘導電極２，２…が
厚膜印刷法を用いて互いに平行に設けられている。これ
らの誘導電極２，２…上には、ホウ珪酸系ガラスの絶縁
層３を介して交差するように、二股に分かれた第２のニ
ッケル製放電電極４，４…が設けられている。前記放電
電極４，４…の上には、イオン生成空間領域を形成する
ための開口５ａを有する酸化鉛系ガラス製の第２絶縁層
５が、前記二股に割れた放電電極４，４…それぞれの内
側どうしが露出するように設けられている。第２絶縁層
５上には、放電電極４，４…とスクリーン電極７との間
に所定の空間を設けるスペーサーＳが設けられている。
スペーサＳは前記第２絶縁層５上に張り付けられたテフ
ロン（商品名）製粘着テープにより構成されている。な
お、前記第２絶縁層５を厚く形成して、スペーサＳを省
略することも可能である。スペーサー６の上には、厚さ
４０μｍの金箔に放電加工によって直径１００μｍの開
口部８を形成して作製したスクリーン電極７が、開口部
８，８…の中心部とイオン生成空間領域６，６，…の中
心部とが正確に一致するように、マニュピュレーター装
置とマイクロメーターを有する微動装置を用いて位置合
わせした後、粘着テープ９を用いて固定されている。
１上に、第１の白金２％含有銀製の誘導電極２，２…が
厚膜印刷法を用いて互いに平行に設けられている。これ
らの誘導電極２，２…上には、ホウ珪酸系ガラスの絶縁
層３を介して交差するように、二股に分かれた第２のニ
ッケル製放電電極４，４…が設けられている。前記放電
電極４，４…の上には、イオン生成空間領域を形成する
ための開口５ａを有する酸化鉛系ガラス製の第２絶縁層
５が、前記二股に割れた放電電極４，４…それぞれの内
側どうしが露出するように設けられている。第２絶縁層
５上には、放電電極４，４…とスクリーン電極７との間
に所定の空間を設けるスペーサーＳが設けられている。
スペーサＳは前記第２絶縁層５上に張り付けられたテフ
ロン（商品名）製粘着テープにより構成されている。な
お、前記第２絶縁層５を厚く形成して、スペーサＳを省
略することも可能である。スペーサー６の上には、厚さ
４０μｍの金箔に放電加工によって直径１００μｍの開
口部８を形成して作製したスクリーン電極７が、開口部
８，８…の中心部とイオン生成空間領域６，６，…の中
心部とが正確に一致するように、マニュピュレーター装
置とマイクロメーターを有する微動装置を用いて位置合
わせした後、粘着テープ９を用いて固定されている。
【００１６】（実施例１の作用）次に前述の実施例１の
静電記録ヘッドの作用を説明する。上記静電記録ヘッド
Ｈは、第１絶縁層３を挟んで設けられる誘導電極２，２
…と放電電極４，４…との間に交流電源１０により高周
波高電圧を選択的に印加するとともに、放電電極４，４
…にはイオン流制御電源１１によりパルス状のイオン流
制御電圧を、またスクリーン電極７には直流バイアス電
源１２により直流電圧をそれぞれ印加する。こうするこ
とによってマトリクス状に配置された空間領域６，６，
…において沿面コロナ放電を生起させ、この沿面コロナ
放電によって生成したイオンを放電電極４，４…とスク
リーン電極７とにそれぞれ印加される電圧によって両電
極４，７間に形成される電界により加速若しくは吸収
し、イオン流の放出を制御して、画像信号に応じた静電
潜像の形成を行うようになっている。
静電記録ヘッドの作用を説明する。上記静電記録ヘッド
Ｈは、第１絶縁層３を挟んで設けられる誘導電極２，２
…と放電電極４，４…との間に交流電源１０により高周
波高電圧を選択的に印加するとともに、放電電極４，４
…にはイオン流制御電源１１によりパルス状のイオン流
制御電圧を、またスクリーン電極７には直流バイアス電
源１２により直流電圧をそれぞれ印加する。こうするこ
とによってマトリクス状に配置された空間領域６，６，
…において沿面コロナ放電を生起させ、この沿面コロナ
放電によって生成したイオンを放電電極４，４…とスク
リーン電極７とにそれぞれ印加される電圧によって両電
極４，７間に形成される電界により加速若しくは吸収
し、イオン流の放出を制御して、画像信号に応じた静電
潜像の形成を行うようになっている。
【００１７】前述の本実施例１の効果を確認するために
次の試験を行った。すなわち、上記静電記録ヘッドＨの
誘導電極２，２…と放電電極４，４…との間に、１ＭＨ
ｚ、１ｋＶｐ−ｐの正弦波をパルス的に印加して放電を
起こし、発生した正負イオンのうち、負イオンがスクリ
ーン電極７に向かって飛翔するように、放電電極４，４
…とスクリーン電極７とにそれぞれ直流電圧を印加し
た。高周波高電圧の印加時間は、正味の高周波高電圧印
加時間がトータルで４時間となるようにした。上記条件
で駆動した静電記録ヘッドのスクリーン電極７を取り外
し、その開口部８の面積をＣＣＤカメラとその信号を処
理する画像解析装置を備えた顕微鏡を用いて測定した。
その値から、各スクリーン電極材料における、負荷印加
前の開口部面積に対する負荷印加後の開口面積を表す相
対開口率（負荷印加後の開口面積／負荷印加前の開口面
積×１００ ％）を計算した。その結果、本実施例のス
クリーン電極においては、イオン生成空間領域１３，１
３…に面した側に、少量の放電電極４，４…の材料であ
るニッケルの酸化物の付着がみられたがスクリーン電極
の酸化は見られず、駆動後の相対開口率もほぼ１００％
と、開口部８の閉塞も起こらなかった。なお、この試験
における元素分析に当たっては、電界放射型走査顕微
鏡、エネルギー分散型Ｘ線分析器、オージェ電子分光器
を併用して行った。
次の試験を行った。すなわち、上記静電記録ヘッドＨの
誘導電極２，２…と放電電極４，４…との間に、１ＭＨ
ｚ、１ｋＶｐ−ｐの正弦波をパルス的に印加して放電を
起こし、発生した正負イオンのうち、負イオンがスクリ
ーン電極７に向かって飛翔するように、放電電極４，４
…とスクリーン電極７とにそれぞれ直流電圧を印加し
た。高周波高電圧の印加時間は、正味の高周波高電圧印
加時間がトータルで４時間となるようにした。上記条件
で駆動した静電記録ヘッドのスクリーン電極７を取り外
し、その開口部８の面積をＣＣＤカメラとその信号を処
理する画像解析装置を備えた顕微鏡を用いて測定した。
その値から、各スクリーン電極材料における、負荷印加
前の開口部面積に対する負荷印加後の開口面積を表す相
対開口率（負荷印加後の開口面積／負荷印加前の開口面
積×１００ ％）を計算した。その結果、本実施例のス
クリーン電極においては、イオン生成空間領域１３，１
３…に面した側に、少量の放電電極４，４…の材料であ
るニッケルの酸化物の付着がみられたがスクリーン電極
の酸化は見られず、駆動後の相対開口率もほぼ１００％
と、開口部８の閉塞も起こらなかった。なお、この試験
における元素分析に当たっては、電界放射型走査顕微
鏡、エネルギー分散型Ｘ線分析器、オージェ電子分光器
を併用して行った。
【００１８】（実施例２）次に、実施例２について説明
する。この実施例２は、スクリーン電極７の材質が白金
であること以外は、前記実施例１と同様に構成されてい
る。この実施例２は、前記実施例１と同様の効果確認の
試験において、前記実施例１と同様、駆動後のスクリー
ン電極７の酸化は見られず、駆動後の相対開口率もほぼ
１００％と、開口部８の閉塞も起こらなかった。
する。この実施例２は、スクリーン電極７の材質が白金
であること以外は、前記実施例１と同様に構成されてい
る。この実施例２は、前記実施例１と同様の効果確認の
試験において、前記実施例１と同様、駆動後のスクリー
ン電極７の酸化は見られず、駆動後の相対開口率もほぼ
１００％と、開口部８の閉塞も起こらなかった。
【００１９】（実施例３）次に、実施例３について説明
する。この実施例３は、スクリーン電極７の材質がパラ
ジウムであること以外は、前記実施例１と同様に同様に
構成されている。この実施例３は、前記実施例１と同様
の効果確認の試験において、前記実施例１と同様、駆動
後のスクリーン電極７の酸化は見られず、駆動後の相対
開口率もほぼ１００％と、開口部８の閉塞も起こらなか
った。
する。この実施例３は、スクリーン電極７の材質がパラ
ジウムであること以外は、前記実施例１と同様に同様に
構成されている。この実施例３は、前記実施例１と同様
の効果確認の試験において、前記実施例１と同様、駆動
後のスクリーン電極７の酸化は見られず、駆動後の相対
開口率もほぼ１００％と、開口部８の閉塞も起こらなか
った。
【００２０】（実施例４）次に、実施例４について説明
する。この実施例４は、スクリーン電極７として厚さ３
０μｍのチタン（融点１７５０℃）箔に放電加工によっ
て直径１００μｍの開口部８を形成したものを用いてい
る。この実施例４は、前記実施例１と同様の効果確認の
試験において、駆動後の相対開口率が９０％以上と、開
口部８の閉塞は、ほとんど起こらなかった。
する。この実施例４は、スクリーン電極７として厚さ３
０μｍのチタン（融点１７５０℃）箔に放電加工によっ
て直径１００μｍの開口部８を形成したものを用いてい
る。この実施例４は、前記実施例１と同様の効果確認の
試験において、駆動後の相対開口率が９０％以上と、開
口部８の閉塞は、ほとんど起こらなかった。
【００２１】（実施例５）次に、実施例５について説明
する。この実施例５は、スクリーン電極７として厚さ３
０μｍのニオブ（融点２４６０℃）箔に放電加工によっ
て直径１００μｍの開口部８を形成したものを用いたこ
と以外は、前記実施例１と同様の構成である。この実施
例５は、前記実施例１と同様の効果確認の試験におい
て、駆動後の相対開口率が９０％以上と、開口部８の閉
塞は、ほとんど起こらなかった。
する。この実施例５は、スクリーン電極７として厚さ３
０μｍのニオブ（融点２４６０℃）箔に放電加工によっ
て直径１００μｍの開口部８を形成したものを用いたこ
と以外は、前記実施例１と同様の構成である。この実施
例５は、前記実施例１と同様の効果確認の試験におい
て、駆動後の相対開口率が９０％以上と、開口部８の閉
塞は、ほとんど起こらなかった。
【００２２】（実施例６）次に、実施例６について説明
する。この実施例６は、スクリーン電極７として厚さ３
０μｍのニオブ（融点２４６０℃）箔に放電加工によっ
て直径１００μｍの開口部８を形成したものを用いたこ
と以外は、前記実施例１と同様の構成である。この実施
例６は、前記実施例１と同様の効果確認の試験におい
て、駆動後の相対開口率が９０％以上と、開口部８の閉
塞は、ほとんど起こらなかった。
する。この実施例６は、スクリーン電極７として厚さ３
０μｍのニオブ（融点２４６０℃）箔に放電加工によっ
て直径１００μｍの開口部８を形成したものを用いたこ
と以外は、前記実施例１と同様の構成である。この実施
例６は、前記実施例１と同様の効果確認の試験におい
て、駆動後の相対開口率が９０％以上と、開口部８の閉
塞は、ほとんど起こらなかった。
【００２３】（実施例７）次に、実施例７について説明
する。この実施例７は、スクリーン電極７として厚さ３
０μｍのタンタル（融点３０００℃）箔に放電加工によ
って直径１００μｍの開口部８を形成したものを用いた
こと以外は、前記実施例１と同様の構成である。この実
施例７は、前記実施例１と同様の効果確認の試験におい
て、駆動後の相対開口率が９０％以上と、開口部８の閉
塞は、ほとんど起こらなかった。
する。この実施例７は、スクリーン電極７として厚さ３
０μｍのタンタル（融点３０００℃）箔に放電加工によ
って直径１００μｍの開口部８を形成したものを用いた
こと以外は、前記実施例１と同様の構成である。この実
施例７は、前記実施例１と同様の効果確認の試験におい
て、駆動後の相対開口率が９０％以上と、開口部８の閉
塞は、ほとんど起こらなかった。
【００２４】（実施例８）次に、実施例８について説明
する。この実施例８は、スクリーン電極として厚さ３０
μｍのタンタル（融点３０００℃）箔に放電加工によっ
て直径１００μｍの開口部を形成したものを用いたこと
以外は、前記実施例１と同様の構成である。この実施例
８は、前記実施例１と同様の効果確認の試験において、
駆動後の相対開口率が９０％以上と、開口部の閉塞は、
ほとんど起こらなかった。
する。この実施例８は、スクリーン電極として厚さ３０
μｍのタンタル（融点３０００℃）箔に放電加工によっ
て直径１００μｍの開口部を形成したものを用いたこと
以外は、前記実施例１と同様の構成である。この実施例
８は、前記実施例１と同様の効果確認の試験において、
駆動後の相対開口率が９０％以上と、開口部の閉塞は、
ほとんど起こらなかった。
【００２５】（実施例９）次に図３，４により、本発明
の実施例９について説明する。この実施例９は、スクリ
ーン電極７として、エッチングによって直径１００μｍ
の開口部を形成した厚さ３０μｍステンレス（１８クロ
ム−８ニッケル）箔に電解メッキにより金７aを３μｍ
全面にわたってメッキしたものを使用している。その他
の点では、前記実施例１と同様に構成されている。図４
は前記実施例９に対する比較例であり、スクリーン電極
７として、エッチングによって直径１００μｍの開口部
を形成した厚さ３０μｍステンレス（１８クロム−８ニ
ッケル）箔に、真空蒸着によって１０００オングストロ
ームの金７aをイオン生成空間領域６，６，…に面した
側の面のみコーティングしたものを使用している。前記
図３に示す実施例９及び図４に示す前記比較例から次の
ことが分かる。図３に示す実施例９のように、スクリー
ン電極７全面を金でコーティングしたスクリーン電極を
用いた場合には、駆動後の相対開口率がほぼ１００％と
なり、開口部８の閉塞は起こらなかった。これに対し
て、開口部８内側が金で覆われていないスクリーン電
極、すなわち図４に示したスクリーン電極７では、開口
部６内側に下地金属であるステンレス鋼の酸化腐食生成
物付着が見られ、駆動後の相対開口率は５０％以下に減
少した。これらの結果から、スクリーン電極７において
は、イオン生成空間領域６，６…に面する側の面はもち
ろんのこと、開口部８内側面にも耐食性が要求されるこ
とが分かる。
の実施例９について説明する。この実施例９は、スクリ
ーン電極７として、エッチングによって直径１００μｍ
の開口部を形成した厚さ３０μｍステンレス（１８クロ
ム−８ニッケル）箔に電解メッキにより金７aを３μｍ
全面にわたってメッキしたものを使用している。その他
の点では、前記実施例１と同様に構成されている。図４
は前記実施例９に対する比較例であり、スクリーン電極
７として、エッチングによって直径１００μｍの開口部
を形成した厚さ３０μｍステンレス（１８クロム−８ニ
ッケル）箔に、真空蒸着によって１０００オングストロ
ームの金７aをイオン生成空間領域６，６，…に面した
側の面のみコーティングしたものを使用している。前記
図３に示す実施例９及び図４に示す前記比較例から次の
ことが分かる。図３に示す実施例９のように、スクリー
ン電極７全面を金でコーティングしたスクリーン電極を
用いた場合には、駆動後の相対開口率がほぼ１００％と
なり、開口部８の閉塞は起こらなかった。これに対し
て、開口部８内側が金で覆われていないスクリーン電
極、すなわち図４に示したスクリーン電極７では、開口
部６内側に下地金属であるステンレス鋼の酸化腐食生成
物付着が見られ、駆動後の相対開口率は５０％以下に減
少した。これらの結果から、スクリーン電極７において
は、イオン生成空間領域６，６…に面する側の面はもち
ろんのこと、開口部８内側面にも耐食性が要求されるこ
とが分かる。
【００２６】次に、本発明の効果を確認するために行っ
た試験例について説明する。 （試験例１）次に、図５に示す構造の試験例１〜５につ
いて説明する。この試験例１０は、スクリーン電極７の
代わりに以下に示す開口部を有しない金属片１６を用い
たこと以外は、前記実施例１と同様の構成である。本試
験例でスクリーン電極の変わりに用いた金属片１６は、
図５のごとくイオン生成空間領域６，６，…に面した側
の面をポリイミド製粘着テープ１７で覆ったものであ
る。本試験例１は、駆動後イオン流にさらされた部分
を、光学顕微鏡によって観察した。その結果、イオン流
にさらされた部分では、変色が観察されたものの、スク
リーン電極開口部閉塞の原因となる腐食生成物による膨
れは観察されなかった。
た試験例について説明する。 （試験例１）次に、図５に示す構造の試験例１〜５につ
いて説明する。この試験例１０は、スクリーン電極７の
代わりに以下に示す開口部を有しない金属片１６を用い
たこと以外は、前記実施例１と同様の構成である。本試
験例でスクリーン電極の変わりに用いた金属片１６は、
図５のごとくイオン生成空間領域６，６，…に面した側
の面をポリイミド製粘着テープ１７で覆ったものであ
る。本試験例１は、駆動後イオン流にさらされた部分
を、光学顕微鏡によって観察した。その結果、イオン流
にさらされた部分では、変色が観察されたものの、スク
リーン電極開口部閉塞の原因となる腐食生成物による膨
れは観察されなかった。
【００２７】（試験例２）次に、試験例２について説明
する。この試験例２は、前記試験例１と以下の点で異な
る以外は同様である。本試験例２は、前記試験例１で用
いた金属片１６のイオン生成空間領域６，６，…に面し
た側の面を覆う部材が、ポリイミド製粘着テープではな
くテフロン（商品名）粘着テープである点で試験例１と
異なる。本試験例２について、前記試験例１と同様、駆
動後イオン流にさらされた部分を、光学顕微鏡によって
観察した。その結果、イオン流にさらされた部分では、
変色が観察されたものの、スクリーン電極開口部閉塞の
原因となる腐食生成物による膨れは観察されなかった。
する。この試験例２は、前記試験例１と以下の点で異な
る以外は同様である。本試験例２は、前記試験例１で用
いた金属片１６のイオン生成空間領域６，６，…に面し
た側の面を覆う部材が、ポリイミド製粘着テープではな
くテフロン（商品名）粘着テープである点で試験例１と
異なる。本試験例２について、前記試験例１と同様、駆
動後イオン流にさらされた部分を、光学顕微鏡によって
観察した。その結果、イオン流にさらされた部分では、
変色が観察されたものの、スクリーン電極開口部閉塞の
原因となる腐食生成物による膨れは観察されなかった。
【００２８】（試験例３）次に、試験例３について説明
する。この試験例３は、前記試験例１と以下の点で異な
る以外は同様である。本試験例３は、前記試験例１で用
いた金属片１６のイオン生成空間領域６，６，…に面し
た側の面を覆う部材が、ポリイミド製粘着テープではな
くポリプロピレン系接着性フィルムである点で試験例１
と異なる。本試験例３について、前記試験例１と同様、
駆動後イオン流にさらされた部分を、光学顕微鏡によっ
て観察した。その結果、イオン流にさらされた部分で
は、変色が観察されたものの、スクリーン電極開口部閉
塞の原因となる腐食生成物による膨れは観察されなかっ
た。
する。この試験例３は、前記試験例１と以下の点で異な
る以外は同様である。本試験例３は、前記試験例１で用
いた金属片１６のイオン生成空間領域６，６，…に面し
た側の面を覆う部材が、ポリイミド製粘着テープではな
くポリプロピレン系接着性フィルムである点で試験例１
と異なる。本試験例３について、前記試験例１と同様、
駆動後イオン流にさらされた部分を、光学顕微鏡によっ
て観察した。その結果、イオン流にさらされた部分で
は、変色が観察されたものの、スクリーン電極開口部閉
塞の原因となる腐食生成物による膨れは観察されなかっ
た。
【００２９】（試験例４）次に、試験例４について説明
する。この試験例４は、前記試験例１と以下の点で異な
る以外は同様の構成である。本試験例４は、前記試験例
１で用いた金属片１６のイオン生成空間領域６，６，…
に面した側の面を覆う部材が、ポリイミド製粘着テープ
ではなく窒化ホウ素のスプレーコーティング剤である点
で試験例１と異なる。本試験例４について、前記試験例
１と同様、駆動後イオン流にさらされた部分を、光学顕
微鏡によって観察した。その結果、イオン流にさらされ
た部分では、変色も、スクリーン電極開口部閉塞の原因
となる腐食生成物による膨れも観察されなかった。
する。この試験例４は、前記試験例１と以下の点で異な
る以外は同様の構成である。本試験例４は、前記試験例
１で用いた金属片１６のイオン生成空間領域６，６，…
に面した側の面を覆う部材が、ポリイミド製粘着テープ
ではなく窒化ホウ素のスプレーコーティング剤である点
で試験例１と異なる。本試験例４について、前記試験例
１と同様、駆動後イオン流にさらされた部分を、光学顕
微鏡によって観察した。その結果、イオン流にさらされ
た部分では、変色も、スクリーン電極開口部閉塞の原因
となる腐食生成物による膨れも観察されなかった。
【００３０】（試験例５）次に、試験例５について説明
する。この試験例５は、前記試験例１と以下の点で異な
る以外は同様である。本試験例５は、前記試験例１で用
いた金属片１６のイオン生成空間領域６，６，…に面し
た側の面を覆う部材が、ポリイミド製粘着テープではな
くシロキサン系ポリマーのディプコーティング剤である
点で試験例１と異なる。本試験例５ついて、試験例１と
同様、駆動後イオン流にさらされた部分を、光学顕微鏡
によって観察した。その結果、イオン流にさらされた部
分では、変色も、スクリーン電極開口部閉塞の原因とな
る腐食生成物による膨れも観察されなかった。
する。この試験例５は、前記試験例１と以下の点で異な
る以外は同様である。本試験例５は、前記試験例１で用
いた金属片１６のイオン生成空間領域６，６，…に面し
た側の面を覆う部材が、ポリイミド製粘着テープではな
くシロキサン系ポリマーのディプコーティング剤である
点で試験例１と異なる。本試験例５ついて、試験例１と
同様、駆動後イオン流にさらされた部分を、光学顕微鏡
によって観察した。その結果、イオン流にさらされた部
分では、変色も、スクリーン電極開口部閉塞の原因とな
る腐食生成物による膨れも観察されなかった。
【００３１】
【発明の効果】前述のこの発明の静電記録ヘッドは、ス
クリーン電極を、融点が１５００℃以上の金属の単体も
しくは貴金属の単体又はそれらを主成分とする合金から
構成することにより、あるいは、前記スクリーン電極
を、導電性又は半導電性の芯材と、その表面全体又は少
なくとも放電電極に面した側の面で荷電粒子が当たる部
分と開口部内側面とを覆う耐酸化性に優れた表面層部材
とから構成することにより、駆動中における酸化腐食に
よるスクリーン電極開口部閉塞が防止でき、出力経時変
化の少ない安定した静電記録ヘッドを提供することがで
きる。
クリーン電極を、融点が１５００℃以上の金属の単体も
しくは貴金属の単体又はそれらを主成分とする合金から
構成することにより、あるいは、前記スクリーン電極
を、導電性又は半導電性の芯材と、その表面全体又は少
なくとも放電電極に面した側の面で荷電粒子が当たる部
分と開口部内側面とを覆う耐酸化性に優れた表面層部材
とから構成することにより、駆動中における酸化腐食に
よるスクリーン電極開口部閉塞が防止でき、出力経時変
化の少ない安定した静電記録ヘッドを提供することがで
きる。
【図１】 本発明の静電記録ヘッドの試験例１〜８の基
本構造を示す平面図である。
本構造を示す平面図である。
【図２】 同試験例１〜８の静電記録ヘッドの基本構造
の要部断面図である。
の要部断面図である。
【図３】 本発明の静電記録ヘッドの試験例９の基本構
造の要部断面図である。
造の要部断面図である。
【図４】 本発明の静電記録ヘッドの試験例９の比較例
の基本構造の要部断面図である。
の基本構造の要部断面図である。
【図５】 本発明の試験例１〜５の静電記録ヘッドの基
本構造の要部断面図である。
本構造の要部断面図である。
【図６】 従来の静電記録ヘッドを示す要部断面図であ
る。
る。
【図７】 前記図６の静電記録ヘッドの平面形状の説明
図で、図６のＶII−ＶII線から見た断面図である。
図で、図６のＶII−ＶII線から見た断面図である。
【図８】 前記図７のＶIII−ＶIII線断面図である。
１…絶縁基板、２…誘導電極、３…第１絶縁層、４…放
電電極、５…第２絶縁層、７…スクリーン電極、８…開
口部
電電極、５…第２絶縁層、７…スクリーン電極、８…開
口部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宇田川 浩二 神奈川県海老名市本郷2274番地 富士ゼロ ックス株式会社内 (72)発明者 小森 由美子 神奈川県海老名市本郷2274番地 富士ゼロ ックス株式会社内
Claims (7)
- 【請求項１】 所定方向に延びる誘導電極、第１絶縁
層、前記誘導電極に交差するように配置された放電電
極、この放電電極の前記誘導電極との交差部にイオン生
成空間領域を有する第２絶縁層、及び、前記イオン生成
空間領域に対応してイオン通過用の開口を有するスクリ
ーン電極が絶縁基板上に積層状態で設けられた静電記録
ヘッドにおいて、下記の要件（Ａ1）を備えたことを特
徴とする静電記録ヘッド、（Ａ1） 前記スクリーン電
極が、融点１５００°Ｃ以上の金属の単体もしくは、貴
金属の単体または、それらを主成分とする合金から構成
されたこと。 - 【請求項２】 下記の要件（Ａ2）を備えたことを特徴
とする請求項１記載の静電記録ヘッド、（Ａ2） 前記
スクリーン電極材に用いられる融点１５００°Ｃ以上の
金属が、チタン、ジルコニウム、タンタル、ニオブ、モ
リブデン、タングステンのうちの１つ、またはそれらを
主成分とする合金であること。 - 【請求項３】 下記の要件（Ａ3）を備えたことを特徴
とする請求項１記載の静電記録ヘッド、（Ａ3） 前記
スクリーン電極材に用いられる貴金属が、金、白金、パ
ラジウムのうちの１つ、またはそれらを主成分とする合
金であること。 - 【請求項４】 所定方向に延びる誘導電極、第１絶縁
層、前記誘導電極に交差するように配置された放電電
極、この放電電極の前記誘導電極との交差部にイオン生
成空間領域を有する第２絶縁層、及び、前記イオン生成
空間領域に対応してイオン通過用の開口を有するスクリ
ーン電極が絶縁基板上に積層状態で設けられた静電記録
ヘッドにおいて、下記の要件（Ａ4）を備えたことを特
徴とする静電記録ヘッド、（Ａ4） 前記スクリーン電
極が、導電性もしくは、半導電性の芯材と、その表面全
体もしくは少なくとも放電電極に面した側の面で荷電粒
子が当たる部分と開口部内側とを覆う耐酸化性に優れた
表面層部材とから構成されていること。 - 【請求項５】 下記の要件（Ａ5）を備えたことを特徴
とする請求項４記載の静電記録ヘッド、（Ａ5） 前記
スクリーン電極の表面層部材が融点１５００°Ｃ以上の
金属の単体もしくは貴金属の単体または、それらを主成
分とする合金であること。 - 【請求項６】 下記の要件（Ａ6）を備えたことを特徴
とする請求項４記載の静電記録ヘッド、（Ａ6） 前記
スクリーン電極の表面層部材が無機化合物もしくは、有
機高分子化合物であること。 - 【請求項７】 下記の要件（Ａ7）を備えたことを特徴
とする請求項４記載の静電記録ヘッド、（Ａ7） 前記
スクリーン電極の表面層部材が主に金属アルコキシドの
重合物から成る有機無機複合材料であること。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4284493A JPH06135048A (ja) | 1992-10-22 | 1992-10-22 | 静電記録ヘッド |
| US08/136,762 US5646669A (en) | 1992-10-22 | 1993-10-15 | Corrosion resistant electrostatic recording head with multiple layers |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4284493A JPH06135048A (ja) | 1992-10-22 | 1992-10-22 | 静電記録ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06135048A true JPH06135048A (ja) | 1994-05-17 |
Family
ID=17679236
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4284493A Pending JPH06135048A (ja) | 1992-10-22 | 1992-10-22 | 静電記録ヘッド |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5646669A (ja) |
| JP (1) | JPH06135048A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11226485B2 (en) | 2018-03-16 | 2022-01-18 | Ricoh Company, Ltd. | Image projection device and moving body |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8830282B2 (en) * | 2007-06-28 | 2014-09-09 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Charge spreading structure for charge-emission apparatus |
| JP4536093B2 (ja) * | 2007-08-06 | 2010-09-01 | シャープ株式会社 | イオン発生素子、イオン発生素子の製造方法、帯電装置、および画像形成装置 |
| WO2011005256A1 (en) * | 2009-07-08 | 2011-01-13 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Printhead fabrication methods and printheads |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4160257A (en) * | 1978-07-17 | 1979-07-03 | Dennison Manufacturing Company | Three electrode system in the generation of electrostatic images |
| FR2422987A1 (fr) * | 1977-10-25 | 1979-11-09 | Dennison Mfg Co | Appareil electrophotographique a double transfert d'image |
| US4628227A (en) * | 1980-10-06 | 1986-12-09 | Dennison Manufacturing Company | Mica-electrode laminations for the generation of ions in air |
| US4408214A (en) * | 1981-08-24 | 1983-10-04 | Dennison Manufacturing Company | Thermally regulated ion generation |
| JPH0637113B2 (ja) * | 1986-08-23 | 1994-05-18 | キヤノン株式会社 | イオン発生装置の製造方法 |
| JP2734528B2 (ja) * | 1988-06-23 | 1998-03-30 | 富士ゼロックス株式会社 | 静電記録ヘッド |
| US5116703A (en) * | 1989-12-15 | 1992-05-26 | Xerox Corporation | Functional hybrid compounds and thin films by sol-gel process |
| US5270741A (en) * | 1991-02-20 | 1993-12-14 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Apparatus for generating ions in solid ion recording head with improved stability |
-
1992
- 1992-10-22 JP JP4284493A patent/JPH06135048A/ja active Pending
-
1993
- 1993-10-15 US US08/136,762 patent/US5646669A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11226485B2 (en) | 2018-03-16 | 2022-01-18 | Ricoh Company, Ltd. | Image projection device and moving body |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5646669A (en) | 1997-07-08 |
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