JPH0613140U - Semiconductor device - Google Patents
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- JPH0613140U JPH0613140U JP4678492U JP4678492U JPH0613140U JP H0613140 U JPH0613140 U JP H0613140U JP 4678492 U JP4678492 U JP 4678492U JP 4678492 U JP4678492 U JP 4678492U JP H0613140 U JPH0613140 U JP H0613140U
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 シリコンウェハー1上に配置されたICチッ
プ2にもうける検査用回路4から出ている信号線5を、
スクライブライン3上に配置した検査用電極6、7と接
続する。
【効果】 スクライブライン上に検査用電極を設けるこ
とにより、ICチップの面積を小さくすることが可能と
なり、シリコンウェハー1枚から得られるICチップの
個数が増加する。
(57) [Summary] [Structure] The signal line 5 from the inspection circuit 4 in the IC chip 2 arranged on the silicon wafer 1 is
It is connected to the inspection electrodes 6 and 7 arranged on the scribe line 3. [Effect] By providing the inspection electrode on the scribe line, the area of the IC chip can be reduced, and the number of IC chips obtained from one silicon wafer increases.
Description
【0001】[0001]
本考案は、半導体集積回路(以下ICと記載する)の検査用電極の配置に関す る。 The present invention relates to the arrangement of inspection electrodes of a semiconductor integrated circuit (hereinafter referred to as IC).
【0002】[0002]
一般的にICの検査は、プローバ装置を用いて行っている。このプローバ装置 を用いてシリコンウェハー上のICを検査する場合、検査装置との信号の入出力 はプローバ装置からICの電極を、先端が微細なプローブにて触針することで行 われる。 Generally, IC inspection is performed using a prober device. When an IC on a silicon wafer is inspected using this prober device, signals are input to and output from the inspection device by touching the IC electrodes from the prober device with a probe having a fine tip.
【0003】 ICには本来目的とする機能に加えて、検査用の検査用回路が付加してある。 これは、シリコンウェハーに形成されたICが目的とする機能動作を行うかどう かを簡単に検査できるようにするための回路で、この検査用回路を検査するため に数個の検査用電極が必要とされる。In addition to the originally intended function, the IC has an inspection circuit for inspection added thereto. This is a circuit that makes it possible to easily inspect whether or not the IC formed on the silicon wafer performs the intended functional operation. Several inspection electrodes are used to inspect this inspection circuit. Needed.
【0004】 しかしこの検査用電極は、シリコンウェハー上での検査でのみ必要とされ、良 否判定後にICをチップにした後では不必要となる。However, this inspection electrode is required only for the inspection on the silicon wafer, and is unnecessary after the IC is made into a chip after the pass / fail judgment.
【0005】 図2は、従来の検査用電極の配置を示す平面図である。図2に示すように、シ リコンウェハー1上に規則正しく配置されているICチップ2の検査用回路4か ら出ている入出力信号は、アルミニウムもしくはポリシリコンを用いた信号線5 によって検査用電極6と検査用電極7とに接続している。FIG. 2 is a plan view showing the arrangement of conventional inspection electrodes. As shown in FIG. 2, the input / output signals output from the inspection circuit 4 of the IC chip 2 regularly arranged on the silicon wafer 1 are transmitted to the inspection electrode by the signal line 5 using aluminum or polysilicon. 6 and the inspection electrode 7 are connected.
【0006】 スクライブライン3は、シリコンウェハー1上に形成したICをチップ状に切 り分ける際の切断部分であり、ICに接続される部品は配置されない。The scribe line 3 is a cut portion when the IC formed on the silicon wafer 1 is cut into chips, and no components connected to the IC are arranged.
【0007】[0007]
【考案が解決しようとする課題】 ICをチップ状にした後では検査用電極6、7は不必要となるため、検査用電 極6、7がICチップ内で占有している領域だけ、ICのチップサイズを大きく している。Since the inspection electrodes 6 and 7 are unnecessary after the IC is formed into a chip, only the area occupied by the inspection electrodes 6 and 7 in the IC chip is The chip size of is increasing.
【0008】 本考案の目的は、上記課題を解決して、ICチップの面積を小さくすることが 可能な半導体装置の検査用電極の配置を提供することにある。An object of the present invention is to solve the above problems and provide an arrangement of inspection electrodes of a semiconductor device that can reduce the area of an IC chip.
【0009】[0009]
上記の目的を達成するために、本考案の半導体装置は、検査用電極をスクライ ブライン上に配置する。 In the semiconductor device of the present invention, the inspection electrode is arranged on a scribe line.
【0010】[0010]
このようにスクライブライン上に検査用電極を配置することにより、ICをチ ップ状に切り分けるときに検査用電極がIC内部の検査用回路と切断されるが、 この後では検査用電極は必要とされない。検査用電極をスクライブライン上に配 置することによりこの部分の占有領域だけICのチップサイズを縮小することが 可能となる。 By disposing the inspection electrodes on the scribe line in this way, the inspection electrodes are cut from the inspection circuit inside the IC when the IC is cut into chips, but after that, the inspection electrodes are necessary. Not taken By disposing the inspection electrodes on the scribe line, the chip size of the IC can be reduced by the area occupied by this portion.
【0011】[0011]
以下本考案の実施例を図1、図3、および図4を用いて説明する。 An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1, 3, and 4.
【0012】 たとえば、ICに多段数を有する分周回路がありこれを検査する際に、途中の 分周段から検査信号を入力して、分周回路の正誤を判定できるような検査回路を 付加し、この検査回路に検査用電極を接続することにより検査を簡略化する。こ のような際の検査用電極は、検査後にICを使用する時には不要となるので、ス クライブライン上に配置することが可能である。For example, an IC has a frequency dividing circuit having multiple stages, and when inspecting this, a test circuit is added to input a test signal from a frequency dividing stage in the middle to judge whether the frequency dividing circuit is correct or incorrect. Then, the inspection is simplified by connecting the inspection electrodes to the inspection circuit. The inspection electrode in such a case is not necessary when the IC is used after the inspection, and thus can be arranged on the scribe line.
【0013】 図1に示すように、シリコンウェハー1に形成するICチップ2に設ける検査 用回路4からの入出力信号は、アルミニウム、もしくはポリシリコンによって形 成された信号線5によってスクライブライン3上に配置された検査用電極6、7 に接続する。As shown in FIG. 1, an input / output signal from an inspection circuit 4 provided on an IC chip 2 formed on a silicon wafer 1 is transferred onto a scribe line 3 by a signal line 5 formed of aluminum or polysilicon. It is connected to the inspection electrodes 6 and 7 arranged at.
【0014】 スクライブライン3はICチップ2を切り分けるための切断領域であるので、 あらかじめ決まった幅をもって作られている。Since the scribe line 3 is a cutting area for cutting the IC chip 2, it has a predetermined width.
【0015】 したがって検査用電極6、7を配置するための領域を、新たに設ける必要はな い。Therefore, it is not necessary to newly provide a region for disposing the inspection electrodes 6 and 7.
【0016】 このためICチップ2領域から検査用電極6、7をスクライブライン上に移し て配置した面積分だけ、ICチップ2の占有面積は小さくなる。Therefore, the area occupied by the IC chip 2 is reduced by the area where the inspection electrodes 6 and 7 are moved and arranged on the scribe line from the IC chip 2 region.
【0017】 図3を用いて本考案における他の実施例を説明する。図3に示すように、IC チップ2の検査用回路4に接続する検査用電極6、7は、ICチップ2と隣接す るICチップ8の検査用回路9に接続する検査用電極11、12と互い違いにな るように、スクライブライン3上に配置する。Another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 3, the inspection electrodes 6 and 7 connected to the inspection circuit 4 of the IC chip 2 are the inspection electrodes 11 and 12 connected to the inspection circuit 9 of the IC chip 8 adjacent to the IC chip 2. Place it on the scribe line 3 so that it alternates with.
【0018】 このように配置することにより、互いのICに干渉されることなく検査が可能 となり、スクライブライン3領域を効率良く使用することできる。By arranging in this way, it becomes possible to perform inspection without being interfered with each other's ICs, and the scribe line 3 region can be used efficiently.
【0019】 図4を用いて本考案における他の実施例を説明する。図4に示すように、複数 のICチップ2と、ICチップ8とにおける各々の検査用回路4と、検査用回路 9からでている信号線5と、信号線10によって接続する検査用電極6、7を、 ICチップ2とICチップ8とで共通に使用する。Another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 4, a plurality of IC chips 2 and respective inspection circuits 4 in the IC chip 8, a signal line 5 extending from the inspection circuit 9, and an inspection electrode 6 connected by a signal line 10. , 7 are commonly used by the IC chip 2 and the IC chip 8.
【0020】 このことによりさらに検査用電極の数を減らすことができる。このとき、検査 用回路からの信号が入力信号、もしくは電源ならば、共通に検査用電極を使用す ることによって検査に支障をきたすことは無い。また、同じ検査内容ならば、複 数チップを同時に検査する際に検査用電極を共通に使用することが可能である。As a result, the number of inspection electrodes can be further reduced. At this time, if the signal from the inspection circuit is the input signal or the power supply, the inspection electrode is not commonly used and the inspection is not hindered. Further, if the inspection contents are the same, it is possible to commonly use the inspection electrodes when simultaneously inspecting a plurality of chips.
【0021】[0021]
以上の説明で明らかなように、本考案の半導体装置においては、スクライブラ イン上に検査用電極を設けている。したがってICチップの面積が小さくなるの で、シリコンウェハー1枚から得られるICチップの個数が増加する。なお以上 の説明に於いては検査用回路と接続する信号線の数は2本の場合で説明したが、 信号線の数は何本でも良い。 As is clear from the above description, in the semiconductor device of the present invention, the inspection electrode is provided on the scribe line. Therefore, since the area of the IC chip is reduced, the number of IC chips obtained from one silicon wafer is increased. Although the number of signal lines connected to the inspection circuit is two in the above description, the number of signal lines may be any number.
【図1】本考案における半導体装置の構成を示す平面図
である。FIG. 1 is a plan view showing a configuration of a semiconductor device according to the present invention.
【図2】従来例における半導体装置の構成を示す平面図
である。FIG. 2 is a plan view showing a configuration of a semiconductor device in a conventional example.
【図3】本考案の他の実施例における半導体装置の構成
を示す平面図である。FIG. 3 is a plan view showing the configuration of a semiconductor device according to another embodiment of the present invention.
【図4】本考案の他の実施例における半導体装置の構成
を示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing the structure of a semiconductor device according to another embodiment of the present invention.
1 シリコンウェハー 2 ICチップ 3 スクライブライン 4 検査用回路 5 信号線 6、7 検査用電極 1 Silicon Wafer 2 IC Chip 3 Scribe Line 4 Test Circuit 5 Signal Line 6, 7 Test Electrode
Claims (1)
をスクライブライン上に配置することを特徴とする半導
体装置。1. A semiconductor device in which an inspection electrode for inspecting an inspection circuit is arranged on a scribe line.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4678492U JPH0613140U (en) | 1992-06-12 | 1992-06-12 | Semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4678492U JPH0613140U (en) | 1992-06-12 | 1992-06-12 | Semiconductor device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0613140U true JPH0613140U (en) | 1994-02-18 |
Family
ID=12756963
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4678492U Pending JPH0613140U (en) | 1992-06-12 | 1992-06-12 | Semiconductor device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0613140U (en) |
-
1992
- 1992-06-12 JP JP4678492U patent/JPH0613140U/en active Pending
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