JPH06112553A - Light emitting element - Google Patents
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- JPH06112553A JPH06112553A JP25480592A JP25480592A JPH06112553A JP H06112553 A JPH06112553 A JP H06112553A JP 25480592 A JP25480592 A JP 25480592A JP 25480592 A JP25480592 A JP 25480592A JP H06112553 A JPH06112553 A JP H06112553A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は発光素子に関し、特に
光エレクトロニクス分野に属し、並列光情報処理や光イ
ンターコネクションに利用されるものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light emitting device, and particularly to the field of optoelectronics, which is used for parallel optical information processing and optical interconnection.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、半導体を用いた面発光レーザ装置
としては、例えば図2に示すものが知られている(参考
資料:伊賀健一,小山二三夫;応用物理 60 (1991)
2.)。2. Description of the Related Art Conventionally, as a surface emitting laser device using a semiconductor, for example, one shown in FIG. 2 is known (reference materials: Kenichi Iga, Fumio Koyama; Applied Physics 60 (1991).
2.).
【0003】図中の1は、n型のInP基板を示す。こ
の基板1の裏面側には、n型のInP層2、GaInA
sP活性層3、p型のInP層4及び一部が開口された
SiO2 膜5が形成されている。このSiO2 膜5の裏
面側には、前記開口を介して前記InP層4に電気的に
接続するAu/Znからなる下部電極6が形成されてい
る。この下部電極6は反射鏡を兼ねる。前記InP基板
1上には、Au/Snからなるリング状の上部電極7が
形成されている。この上部電極7を含む前記基板1全面
には、Auからなる反射鏡8が形成されている。Reference numeral 1 in the figure denotes an n-type InP substrate. On the back side of the substrate 1, an n-type InP layer 2 and GaInA are formed.
An sP active layer 3, a p-type InP layer 4 and a partially opened SiO 2 film 5 are formed. A lower electrode 6 made of Au / Zn, which is electrically connected to the InP layer 4 through the opening, is formed on the back surface side of the SiO 2 film 5. The lower electrode 6 also serves as a reflecting mirror. A ring-shaped upper electrode 7 made of Au / Sn is formed on the InP substrate 1. A reflecting mirror 8 made of Au is formed on the entire surface of the substrate 1 including the upper electrode 7.
【0004】こうした構成のレーザ装置において、上部
電極7が負、下部電極6が正になるように電圧を印加す
ると、活性層3にp型のInP層4からホールが、また
n型のInP層2から電子が注入され、活性層3に反転
分布状態ができる。そして、活性層3に注入された電子
とホールが再結合する時に放射される光が、反射鏡8と
下部電極6とで構成された共振器(共振器長L=90μ
m以下)で増幅されレーザ発振に至る。この時、出射さ
れるレーザ光は基板1と垂直方向(面発光)となる。In the laser device having such a structure, when a voltage is applied such that the upper electrode 7 is negative and the lower electrode 6 is positive, holes are formed in the active layer 3 from the p-type InP layer 4 and n-type InP layer. Electrons are injected from 2 and an inverted distribution state is formed in the active layer 3. The light emitted when the electrons and holes injected into the active layer 3 are recombined is a resonator (resonator length L = 90 μm) formed by the reflecting mirror 8 and the lower electrode 6.
m or less) and reaches laser oscillation. At this time, the emitted laser light is in the direction perpendicular to the substrate 1 (surface emission).
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
レーザ装置では、共振器長が通常のレーザ装置(基板と
平行方向に出射するレーザ装置)よりも短い(通常のレ
ーザ装置では300〜500μm程度)ため、レーザ発
振に必要な注入電流(しきい値電流)が大きくなる。そ
のため、一般に半導体を用いた面発光レーザ装置では、
99%以上の高反射率を有する反射鏡が必要となる。However, in the conventional laser device, the cavity length is shorter than that of the ordinary laser device (the laser device emitting in the direction parallel to the substrate) (about 300 to 500 μm in the ordinary laser device). Therefore, the injection current (threshold current) required for laser oscillation becomes large. Therefore, in general, in a surface emitting laser device using a semiconductor,
A reflecting mirror having a high reflectance of 99% or more is required.
【0006】また、光情報処理に利用されるレーザ光の
波長は、短いほど処理容量が増えるため、短波長レーザ
発振が容易な面発光レーザ装置が望まれる。しかし、半
導体を用いたレーザ装置で短波長化するには、バンドギ
ャップの大きな半導体材料(ワイドギャップ半導体)を
使用しなければならない。ところが、ワイドギャップ半
導体では、バンドギャップが大きいため、レーザ発振に
必要なキャリア濃度を得ることが難しい。以上のような
理由により、光情報処理で使用する短波長面発光レーザ
装置を半導体で作製することは困難である。Further, since the processing capacity increases as the wavelength of the laser light used for optical information processing becomes shorter, a surface emitting laser device which can easily oscillate a short wavelength laser is desired. However, in order to shorten the wavelength in a laser device using a semiconductor, it is necessary to use a semiconductor material having a wide band gap (wide gap semiconductor). However, in wide-gap semiconductors, it is difficult to obtain the carrier concentration necessary for laser oscillation because of the large band gap. For the above reasons, it is difficult to fabricate a short wavelength surface emitting laser device used for optical information processing from a semiconductor.
【0007】この発明はこうした事情を考慮してなされ
たもので、電子によって励起されるガスを用いることに
より、極めて小型にできる発光素子を提供することを目
的とする。The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide a light emitting element which can be made extremely small by using a gas excited by electrons.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】この発明は、基板と、こ
の基板上に電界によって電子を放出する電界放出電極と
この電界放出電極から放出される電子を制御する制御電
極あるいは前記電界放出電極に対向する対向電極とが一
体に形成され、前記電界放出電極と対向電極間の領域を
少なくとも気密に封止し、一部より光を取り出す気密室
と、この気密室内に封入され、電子によって励起される
ガスとを具備することを特徴とする発光素子である。こ
の発明において、前記ガスとしては、例えばAr、
N2 、He−Ne、He−Cd、Krのうち少なくとも
一種が挙げられる。The present invention provides a substrate, a field emission electrode for emitting electrons by an electric field on the substrate, and a control electrode for controlling electrons emitted from the field emission electrode or the field emission electrode. An opposing electrode is integrally formed, and an area between the field emission electrode and the opposing electrode is at least airtightly sealed, and an airtight chamber that extracts light from a part is enclosed in this airtight chamber and excited by electrons. A light-emitting element comprising: a gas. In the present invention, the gas is, for example, Ar,
N 2, He-Ne, He -Cd, include at least one of Kr.
【0009】[0009]
【作用】この発明において、電界放出電極の電位、制御
電極の電位、対向電極の電位を夫々VC ,VG ,VA と
し、VC <VG <VA となる様に電圧を印加すると、電
界放出電極と制御電極間に生じた電界のために電界放出
電極から電子が放出され、その電子は電界放出電極と制
御電極間の電界で加速されやがて対向電極に到達する。In the present invention, the electric potential of the field emission electrode, the electric potential of the control electrode, and the electric potential of the counter electrode are set to V C , V G , and V A , respectively, and a voltage is applied so that V C <V G <V A. Electrons are emitted from the field emission electrode due to the electric field generated between the field emission electrode and the control electrode, and the electrons are accelerated by the electric field between the field emission electrode and the control electrode and eventually reach the counter electrode.
【0010】電子が電界放出電極から対向電極に飛来す
る時、電子は封入されたガス分子と衝突し、ガス分子を
励起状態にする。そして、励起されたガス分子が熱平衡
状態にもどる時、光が放射される。この光は、例えば反
射鏡対で構成された共振器で増幅され、やがてレーザ発
振(誘導放出)を生じるようにすることができる。この
時、放射されたレーザ光は、前記基板と垂直方向又は平
行方向になる。なお、封入されたガスの種類を変えるこ
とで容易に短波長化ができる。When the electrons fly from the field emission electrode to the counter electrode, the electrons collide with the encapsulated gas molecules to bring them into an excited state. Light is then emitted when the excited gas molecules return to thermal equilibrium. This light can be amplified by a resonator composed of, for example, a pair of reflecting mirrors, and eventually cause laser oscillation (stimulated emission). At this time, the emitted laser light is in a direction perpendicular to or parallel to the substrate. The wavelength can be easily shortened by changing the type of the enclosed gas.
【0011】[0011]
【実施例】以下、この発明の実施例について図面を参照
して説明する。 (実施例1)図1及び図3はこの発明の実施例1に係る
発光素子としての面発光ガスレーザ装置の説明図であ
り、図1は同装置の断面図、図3は図1の平面図を示
す。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. (Embodiment 1) FIGS. 1 and 3 are explanatory views of a surface emitting gas laser device as a light emitting element according to Embodiment 1 of the present invention. FIG. 1 is a sectional view of the device and FIG. 3 is a plan view of FIG. Indicates.
【0012】図中の11は、上面に櫛型状のカソード12及
びアノード13が対向して形成された石英製の基板であ
る。前記カソード12及びアノード13間の領域及びその周
辺に対応する前記基板11は、エッチングにより凹部11a
が形成されている。この凹部11aには、ゲート(反射
鏡)14が形成されている。ここで、前記カソード12、
アノード13及びゲート14を総称してマイクロ電界放出エ
ミッタと呼ぶ。Reference numeral 11 in the figure is a quartz substrate having a comb-shaped cathode 12 and an anode 13 facing each other on its upper surface. The substrate 11 corresponding to the region between the cathode 12 and the anode 13 and its periphery is etched to form a recess 11a.
Are formed. A gate (reflecting mirror) 14 is formed in the recess 11a. Here, the cathode 12,
The anode 13 and the gate 14 are collectively called a micro field emission emitter.
【0013】前記基板11と、前記カソード12及びアノー
ド13上のガラス製のスペーサ15と、このスペーサ15上の
反射鏡16により気密室17が構成されている。前記マイク
ロ電界放出エミッタは、この気密室17により密閉された
構成になっている。なお、前記反射鏡を兼ねる前記ゲー
ト14と別な反射鏡16により共振器が構成されている。前
記気密室17内には、例えばArガスが封入されている。
こうした構成の面発光ガスレーザ装置は、次のようにし
て製作する。An airtight chamber 17 is formed by the substrate 11, the spacer 15 made of glass on the cathode 12 and the anode 13, and the reflecting mirror 16 on the spacer 15. The micro field emission emitter has a structure hermetically sealed by the airtight chamber 17. A resonator is constituted by a reflecting mirror 16 which is different from the gate 14 which also serves as the reflecting mirror. The airtight chamber 17 is filled with Ar gas, for example.
The surface emitting gas laser device having such a structure is manufactured as follows.
【0014】まず、石英製の基板11上に真空蒸着法によ
りAlを蒸着した後、パターニングし、櫛型状のカソー
ド12及びアノード13を両者が図3に示す如く対向するよ
うに形成する。つづいて、前記カソード12及びアノード
13をマスクとして前記基板11表面の一部を弗酸系エッチ
ング液を用いて等方性エッチングし、凹部11aを形成す
る。これにより、カソード12、アノード13及びゲートか
らなるマイクロ電界放出エミッタが作製される。なお、
カソード12とアノード13間の距離は約100μmであ
る。First, Al is vapor-deposited on a quartz substrate 11 by a vacuum vapor deposition method and then patterned to form a comb-shaped cathode 12 and an anode 13 so that they face each other as shown in FIG. Next, the cathode 12 and the anode
Using the mask 13 as a mask, a part of the surface of the substrate 11 is isotropically etched using a hydrofluoric acid-based etching solution to form a recess 11a. This produces a micro field emission emitter consisting of the cathode 12, the anode 13 and the gate. In addition,
The distance between the cathode 12 and the anode 13 is about 100 μm.
【0015】次に、基板11の表面側にマスク材を形成し
た後、Alを真空蒸着して反射鏡を兼ねるゲート14を形
成する。つづいて、前記マスク材を除去する。ひきつづ
き、前記カソード12、アノード13と反射鏡16とを100
Torr 程度のArガス中でガラス製のスペーサ15を挟ん
で溶接して気密室17を形成し、面発光ガスレーザ装置を
作製する。なお、レーザ装置全体の長さは1mm、厚さは
約0.2mmである。上記構成の面発光ガスレーザ装置の
作用は、次に述べる通りである。Next, after forming a mask material on the surface side of the substrate 11, Al is vacuum-deposited to form the gate 14 which also serves as a reflecting mirror. Subsequently, the mask material is removed. Subsequently, the cathode 12, the anode 13 and the reflecting mirror 16 are set to 100
A hermetically sealed chamber 17 is formed by welding while sandwiching a glass spacer 15 in Ar gas of about Torr, and a surface emitting gas laser device is manufactured. The length of the entire laser device is 1 mm and the thickness is about 0.2 mm. The operation of the surface emitting gas laser device having the above configuration is as described below.
【0016】即ち、カソード12の電位、ゲート14の電
位、アノード13の電位を夫々VC ,VG ,VA とし、V
C <VG <VA となる様に電圧を印加すると、カソード
12とゲート14間に生じた電界のためにカソード12から電
子が放出され、その電子はカソード12とゲート14間の電
界で加速されやがてアノード13に到達する。That is, the potential of the cathode 12, the potential of the gate 14 and the potential of the anode 13 are respectively V C , V G and V A, and V
C <When a voltage is applied so as the V G <V A, cathode
Electrons are emitted from the cathode 12 due to the electric field generated between the gate 12 and the gate 14, and the electrons are accelerated by the electric field between the cathode 12 and the gate 14 and eventually reach the anode 13.
【0017】電子がカソード12からアノード13に飛来す
る時、電子は封入されたガス分子と衝突し、ガス分子を
励起する。そして、励起されたガス分子が熱平衡状態に
もどる時、光が矢印の如く放射される。この光は、下側
の反射鏡を兼ねるゲート14と上側の反射鏡16で構成され
た共振器で増幅され、やがてレーザ発振(誘導放出)を
生じる。この時、放射されたレーザ光は、前記基板11と
垂直方向(面発光)になる。また、封入されたガスの種
類を変えることで容易に短波長化ができる。When the electrons fly from the cathode 12 to the anode 13, the electrons collide with the enclosed gas molecules and excite the gas molecules. Then, when the excited gas molecules return to the thermal equilibrium state, light is emitted as shown by the arrow. This light is amplified by the resonator composed of the gate 14 also serving as the lower reflecting mirror and the upper reflecting mirror 16, and eventually laser oscillation (stimulated emission) occurs. At this time, the emitted laser light is in a direction (surface emission) perpendicular to the substrate 11. Further, it is possible to easily shorten the wavelength by changing the type of the enclosed gas.
【0018】上記実施例に係る面発光ガスレーザ装置に
よれば、石英製の基板11と、この基板11の凹部11aに設
けられた反射鏡を兼ねるゲート14と、前記基板11上に互
いに対向して設けられたカソード12及びアノード13と、
前記カソード12,アノード13及びゲート14を気密に封止
し、前記基板とともに気密室17を構成する反射鏡16及び
スペーサ15と、前記気密室内に封入されたArガスとを
具備した構成になっているため、極めて小型にできる短
波長面発光レーザ装置を実現できる。According to the surface emitting gas laser device of the above embodiment, the substrate 11 made of quartz, the gate 14 also serving as a reflecting mirror provided in the concave portion 11a of the substrate 11 and the substrate 11 facing each other are provided. Provided cathode 12 and anode 13,
The cathode 12, the anode 13 and the gate 14 are hermetically sealed, and a reflecting mirror 16 and a spacer 15 which together with the substrate form an airtight chamber 17, and Ar gas enclosed in the airtight chamber are provided. Therefore, it is possible to realize a short wavelength surface emitting laser device that can be made extremely small.
【0019】事実、図1のレーザ装置のゲート14を接地
し、カソード12に−80V、アノード13に+100Vの
電圧を印加したところ、カソード12とアノード13間に約
1mAの電流が流れ、基板11と垂直方向に514.5m
m、約10mWの円形又は楕円形レーザ光がカソード12
の櫛型部分の数に対応する6本観察された。 (実施例2)In fact, when the gate 14 of the laser device of FIG. 1 is grounded and a voltage of −80 V is applied to the cathode 12 and +100 V to the anode 13, a current of about 1 mA flows between the cathode 12 and the anode 13 and the substrate 11 And 514.5m vertically
A circular or elliptical laser light of m, about 10 mW is emitted by the cathode 12
6 pieces corresponding to the number of comb-shaped portions of were observed. (Example 2)
【0020】図4を参照する。この実施例2に係る面発
光ガスレーザ装置は、上記実施例1のように反射鏡を兼
ねたゲートを基板の凹部に形成した場合と異なり、第1
の反射鏡21及び第2の反射鏡22を基板11の長手方向に平
行に配置して共振器を形成した構成になっている。こう
した構成のレーザ装置によれば、基板11の長手方向と平
行方向に円形又は楕円形レーザ光が出射された。 (実施例3)図5を参照する。この実施例3に係る面発
光ガスレーザ装置は、図1と比べ、櫛型状のカソードに
代えて平板状のカソード23を用いた点が異なる。Referring to FIG. The surface emitting gas laser device according to the second embodiment is different from the first embodiment in that the gate also serving as the reflecting mirror is formed in the concave portion of the substrate as in the first embodiment.
The reflecting mirror 21 and the second reflecting mirror 22 are arranged parallel to the longitudinal direction of the substrate 11 to form a resonator. According to the laser device having such a configuration, circular or elliptical laser light is emitted in the direction parallel to the longitudinal direction of the substrate 11. (Embodiment 3) Referring to FIG. The surface emitting gas laser device according to the third embodiment is different from that of FIG. 1 in that a flat-plate cathode 23 is used instead of the comb-shaped cathode.
【0021】こうした構成のカソード23を有したレーザ
装置によれば、線状レーザ光が基板11と垂直方向に出射
された。また、反射鏡を図4に示す様に設置すると、基
板11と平行方向に円形又は楕円形レーザ光が出射され
た。 (実施例4)図6は、この実施例4に係る円錐型電界放
射エミッタを用いたマイクロガスレーザ装置を示す。な
お、図1と同部材は同符号を付して説明を省略する。According to the laser device having the cathode 23 having such a configuration, the linear laser light is emitted in the direction perpendicular to the substrate 11. Further, when the reflecting mirror was installed as shown in FIG. 4, circular or elliptical laser light was emitted in the direction parallel to the substrate 11. (Embodiment 4) FIG. 6 shows a micro gas laser device using a conical field emission emitter according to Embodiment 4. The same members as those in FIG. 1 are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.
【0022】図中の31は、n型のSi基板である。この
Si基板31上には、開孔部32aを有したSiO2 からな
る絶縁層32が形成されている。前記開孔部32aには円錐
型のカソード33が設けられている。このカソード33は、
例えばKOH液を用いた異方性エッチングにより形成す
る。前記絶縁層32上には、反射鏡を兼ねるW/Alから
なるゲート34が形成されている。これにより、カソード
33とゲート34はSi基板31上に一体に形成される。前記
ゲート34はスパッタ法あるいは真空蒸着法等により形成
する。前記ゲート34上には、ガラス製のスペーサ15を介
して反射鏡を兼ねるアノード35が設けられている。ここ
で、前記スペーサ15、アノード35及び基板31により気密
室17が構成されている。Reference numeral 31 in the figure is an n-type Si substrate. On this Si substrate 31, an insulating layer 32 made of SiO 2 having an opening 32a is formed. A conical cathode 33 is provided in the opening 32a. This cathode 33 is
For example, it is formed by anisotropic etching using a KOH solution. A gate 34 made of W / Al also serving as a reflecting mirror is formed on the insulating layer 32. This allows the cathode
The gate 33 and the gate 34 are integrally formed on the Si substrate 31. The gate 34 is formed by a sputtering method or a vacuum evaporation method. An anode 35 also serving as a reflecting mirror is provided on the gate 34 via a glass spacer 15. Here, the spacer 15, the anode 35 and the substrate 31 constitute an airtight chamber 17.
【0023】こうした構成のマイクロガスレーザ装置に
よれば、前記実施例1のレーザ装置と同様なレーザ特性
が得られる。また、図7のように円錐型カソード33を複
数個並べた場合、複数レーザ光を基板31と垂直方向に出
射させることができる。更に、図8のように、円錐型カ
ソード33を複数個並べるとともに、反射鏡を兼ねるスペ
ース36を用いた場合、複数レーザ光を基板31と平行方向
に出射させることができる。 (実施例5)According to the micro gas laser device having such a structure, laser characteristics similar to those of the laser device of the first embodiment can be obtained. Further, when a plurality of conical cathodes 33 are arranged as shown in FIG. 7, a plurality of laser beams can be emitted in a direction perpendicular to the substrate 31. Further, as shown in FIG. 8, when a plurality of conical cathodes 33 are arranged and a space 36 also serving as a reflecting mirror is used, a plurality of laser beams can be emitted in a direction parallel to the substrate 31. (Example 5)
【0024】図9は、この発明の発光素子としての光変
調装置を示す。この実施例5は、実施例1〜4までに示
した面発光ガスレーザ装置を図9のように接続したもの
である。FIG. 9 shows an optical modulator as a light emitting element of the present invention. In this fifth embodiment, the surface emitting gas laser devices shown in the first to fourth embodiments are connected as shown in FIG.
【0025】この実施例5によれば、図9の状態で電気
信号を加えたところ、ゲートとカソード間の電圧が信号
電圧と連動して変化し、レーザ発振出力も信号と連動し
て連動することが確認できる。よって、面発光ガスレー
ザ装置が光変調装置としても使用できることが判明し
た。According to the fifth embodiment, when an electric signal is applied in the state shown in FIG. 9, the voltage between the gate and the cathode changes in conjunction with the signal voltage, and the laser oscillation output also interlocks with the signal. You can confirm that. Therefore, it was found that the surface emitting gas laser device can also be used as a light modulator.
【0026】なお、上記実施例では、共振器用の反射鏡
対を設けた場合について述べたが、これに限らず、共振
器を有しない発光素子として用いる場合も含まれる。こ
の際、光取出し側はガラス等の光透過性を有する板を設
け、光を外部に取り出す。In the above embodiments, the case where the reflecting mirror pair for the resonator is provided has been described, but the present invention is not limited to this, and the case where it is used as a light emitting element having no resonator is also included. At this time, a light-transmissive plate such as glass is provided on the light extraction side to extract light to the outside.
【0027】[0027]
【発明の効果】以上詳述したようにこの発明によれば、
電子によって励起されるガスを用いることにより、極め
て小型で、かつガスの種類を変えることで容易に短波長
化ができ、更に光変調装置として使用可能な発光素子を
提供できる。As described above in detail, according to the present invention,
By using a gas excited by electrons, it is possible to provide a light emitting element which is extremely small in size, can be easily shortened in wavelength by changing the type of gas, and can be used as an optical modulator.
【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]
【図1】この発明の実施例1に係る面発光ガスレーザ装
置の説明図。FIG. 1 is an explanatory diagram of a surface emitting gas laser device according to a first embodiment of the present invention.
【図2】従来の面発光ガスレーザ装置の説明図。FIG. 2 is an explanatory view of a conventional surface emitting gas laser device.
【図3】図1の装置において上側の反射鏡を除いた装置
の平面図。FIG. 3 is a plan view of the apparatus of FIG. 1 with the upper reflecting mirror removed.
【図4】この発明の実施例2に係る面発光ガスレーザ装
置の説明図で、2つの反射鏡を基板と平行に配置して共
振器を構成させたもの。FIG. 4 is an explanatory diagram of a surface emitting gas laser device according to a second embodiment of the present invention, in which two resonators are arranged in parallel with a substrate to form a resonator.
【図5】この発明の実施例3に係る面発光ガスレーザ装
置の要部の平面図で、平板状のカソードを用いたもの。FIG. 5 is a plan view of a main part of a surface emitting gas laser device according to a third embodiment of the present invention, which uses a flat cathode.
【図6】この発明の実施例4に係る面発光ガスレーザ装
置の説明図で、円錐型のカソードを用いたもの。FIG. 6 is an explanatory view of a surface emitting gas laser device according to a fourth embodiment of the present invention, which uses a conical cathode.
【図7】この発明の実施例5に係る面発光ガスレーザ装
置の説明図で、複数個の円錐型カソードを用いたもの。FIG. 7 is an explanatory diagram of a surface emitting gas laser device according to a fifth embodiment of the present invention, in which a plurality of conical cathodes are used.
【図8】この発明の実施例6に係る面発光ガスレーザ装
置の説明図で、複数個の円錐型カソードを用いるととも
に、反射鏡を兼ねるスペーサを用いたもの。FIG. 8 is an explanatory view of a surface emitting gas laser device according to embodiment 6 of the present invention, in which a plurality of conical cathodes are used and a spacer which also serves as a reflecting mirror is used.
【図9】この発明に係る光変調装置の説明図。FIG. 9 is an explanatory diagram of an optical modulator according to the present invention.
11…基板、 11a…凹部、 12,2
3,33…カソード、13,35…アノード、 14,34…
ゲート、 15,36…スペーサ、16,21,22…反射鏡、
17…気密室、 31…Si基板、32a…開孔
部。11 ... Substrate, 11a ... Recess, 12, 2
3, 33 ... Cathode, 13, 35 ... Anode, 14, 34 ...
Gate, 15, 36 ... Spacer, 16, 21, 22 ... Reflector,
17 ... Airtight chamber, 31 ... Si substrate, 32a ... Opening part.
Claims (1)
を放出する電界放出電極とこの電界放出電極から放出さ
れる電子を制御する制御電極あるいは前記電界放出電極
に対向する対向電極とが一体に形成され、前記電界放出
電極と対向電極間の領域を少なくとも気密に封止し、一
部より光を取り出す気密室と、この気密室内に封入さ
れ、電子によって励起されるガスとを具備することを特
徴とする発光素子。1. A substrate, a field emission electrode that emits electrons by an electric field on the substrate, and a control electrode that controls electrons emitted from the field emission electrode or a counter electrode that faces the field emission electrode are integrally formed. An airtight chamber which is formed and at least hermetically seals a region between the field emission electrode and the counter electrode and takes out light from a part; and a gas which is sealed in the airtight chamber and excited by electrons. Characteristic light emitting element.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25480592A JPH06112553A (en) | 1992-09-24 | 1992-09-24 | Light emitting element |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25480592A JPH06112553A (en) | 1992-09-24 | 1992-09-24 | Light emitting element |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06112553A true JPH06112553A (en) | 1994-04-22 |
Family
ID=17270137
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25480592A Withdrawn JPH06112553A (en) | 1992-09-24 | 1992-09-24 | Light emitting element |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06112553A (en) |
-
1992
- 1992-09-24 JP JP25480592A patent/JPH06112553A/en not_active Withdrawn
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Legal Events
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