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JPH06112313A - Cleavage device for stripe work - Google Patents

Cleavage device for stripe work

Info

Publication number
JPH06112313A
JPH06112313A JP25678292A JP25678292A JPH06112313A JP H06112313 A JPH06112313 A JP H06112313A JP 25678292 A JP25678292 A JP 25678292A JP 25678292 A JP25678292 A JP 25678292A JP H06112313 A JPH06112313 A JP H06112313A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
work
chip
cutter
cleaving
tray
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP25678292A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tsugio Kishi
次男 岸
Tsutomu Sasaki
力 佐々木
Kihei Murayama
喜平 村山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP25678292A priority Critical patent/JPH06112313A/en
Publication of JPH06112313A publication Critical patent/JPH06112313A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Semiconductor Lasers (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Dicing (AREA)

Abstract

PURPOSE:To perform cleavage and inspection automatically and speedily by providing a means for detecting a defect of a chip by recognizing the image of the chip and a means for taking out good chips and then aligning them on a chip tray. CONSTITUTION:The title device is provided with a transfer unit for taking out the stripe work on a work tray 45 and then carrying it to a specific position and at the same time for aligning the chips which are cleaved from the work onto a chip tray 46. Then, it is also provided with a cutting unit 16 for cleaving the work by applying it to the work while positioning the work and at the same time swinging a cutter and an image recognition unit 17 for reading the images of the chips. Further, it is provided with a tray guide unit 18 for moving the work tray 45 to an exchange position and a transport position and at the same time switching a plurality of chip trays 46, thus automating cleavage operation easily.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、例えば、GaAs単結
晶からなる結晶バ−等のような短冊状ワ−クをへき開し
て半導体レ−ザチップを作成する短冊状ワ−クのへき開
装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a device for cleaving a strip-like work for producing a semiconductor laser chip by cleaving a strip-like work such as a crystal bar made of GaAs single crystal. .

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば、半導体レ−ザチップを製造する
際には、GaAs又はInpなどの結晶基板面に多層エ
ピタキシャル層が形成されたのち、この結晶基板が一定
幅の結晶バ−にへき開される。さらに、図23(a)に
示すように結晶バ−1が帯状の粘着性テ−プ2に貼り付
けられ、同図(b)に示すように粘着性テ−プ2が端か
ら引張られる一方で結晶バ−1が矢印A、Aで示すよう
に上方から押される。そして、結晶バ−1が表面に刻ま
れた線状の傷(へき開線)に沿って割られ、チップ3…
が作成される。上記へき開線は、スクライバ−を用いた
ポイントスクライブにより結晶バ−1の表面に描かれ
る。
2. Description of the Related Art For example, when a semiconductor laser chip is manufactured, a multilayer epitaxial layer is formed on the surface of a crystal substrate such as GaAs or Inp, and then this crystal substrate is cleaved into a crystal bar having a constant width. . Further, as shown in FIG. 23 (a), the crystal bar-1 is attached to a band-shaped adhesive tape 2, and as shown in FIG. 23 (b), the adhesive tape 2 is pulled from one end. Then, the crystal bar-1 is pushed from above as indicated by arrows A and A. Then, the crystal bar-1 is split along the linear scratches (cleavage lines) carved on the surface, and the chips 3 ...
Is created. The above cleavage line is drawn on the surface of the crystal bar-1 by point scribing using a scriber.

【0003】結晶バ−1がチップ化されたのちには、図
23(c)に示すように粘着性テ−プ2が引き伸ばさ
れ、チップ3…が分離する。この際、図23(c)中に
示すように完全にへき開されず分離しないチップ3a…
が存在することがあるが、これらのチップ3a…は再び
図23(b)に示すようなチップ化の工程に戻される。
また、この他に、ナイフやメスを利用して結晶バ−1が
へき開される場合もある。
After the crystal bar-1 is made into chips, the adhesive tape 2 is stretched and the chips 3 are separated as shown in FIG. 23 (c). At this time, as shown in FIG. 23 (c), the chips 3a ...
, But these chips 3a ... Are returned to the step of forming into chips as shown in FIG.
In addition to this, the crystal bar-1 may be cleaved using a knife or a knife.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述のよう
な従来の方法においては、へき開時にチップ3…が過大
な力を受けて損傷することがあった。このため、チップ
3…の割れ・欠け、或いは、チップ表面の欠陥が顕微鏡
を用いて目視検査されたのち、良品のチップのみが選別
されてトレイ上に並べられていた。したがって、へき開
してチップ3…をトレイ上に整列させるまでに、非常に
手間のかかる作業を要していた。また、チップ3…のハ
ンドリングにピンセットが使用されていたためチップ3
…に傷が付き易く、このことが不良発生率を高める要因
になっていた。そして、従来のへき開作業はへき開及び
検査に多大な時間を要しており、非能率的だった。本発
明の目的とするところは、へき開及び検査を自動的に且
つ高速に行うことが可能なへき開装置を提供することに
ある。
By the way, in the conventional method as described above, the chips 3 ... May be damaged by receiving an excessive force during cleavage. For this reason, after the chips 3 ... Are cracked or chipped, or defects on the chip surface are visually inspected using a microscope, only non-defective chips are selected and arranged on the tray. Therefore, very laborious work is required until the chips 3 are cleaved and aligned on the tray. Moreover, since tweezers were used for handling the chips 3, ...
... was easily scratched, which was a factor for increasing the defect occurrence rate. Moreover, the conventional cleaving work is inefficient because it takes a lot of time for cleaving and inspecting. An object of the present invention is to provide a cleaving device that can perform cleaving and inspection automatically and at high speed.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段および作用】上記目的を達
成するために本発明は、ワ−クトレイ上に並べられた短
冊状のワ−クを取出して所定位置に搬送するとともに、
ワ−クからへき開されたチップをチップトレイ上に整列
させるトランスファユニットと、ワ−クを位置決めする
とともにカッタを揺動させながらワ−クに当ててワ−ク
をへき開するカッティングユニットと、チップの像を取
込む画像認識ユニットと、ワ−クトレイを交換位置と搬
送位置とに移動させるとともに、チップトレイを複数備
えてこれらチップトレイを切換えるトレイ案内ユニット
とを具備した。そして、本発明は、短冊状ワ−クのへき
開及び検査を自動的に且つ高速に行えるようにした。
In order to achieve the above object, the present invention takes out strip-shaped works arranged on a work tray and conveys them to a predetermined position.
A transfer unit that aligns the chips cleaved from the work on the chip tray; a cutting unit that positions the work and cleaves the work while swinging the cutter to cleave the work; An image recognition unit for capturing an image, a tray guide unit for moving the work tray between the exchange position and the transport position, and a plurality of chip trays for switching the chip trays are provided. In addition, the present invention enables the cleaving and inspection of the strip work to be performed automatically and at high speed.

【0006】[0006]

【実施例】以下、本発明の各実施例を図面に基づいて説
明する。なお、従来の技術の項で説明したものと重複す
るものについては同一番号を付し、その説明は省略す
る。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. The same parts as those described in the section of the prior art are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.

【0007】図1は本発明の第1実施例を示すもので、
図中の符号11はへき開装置である。このへき開装置1
1は矩形箱状の本体12の正面上部に透明或いは半透明
な扉13を配置しており、扉13の内側に作業室14を
形成している。そして、作業室14には、図2に示すよ
うに、(チップ整列手段としての)トランスファユニッ
ト15、カッティングユニット16、画像認識ユニット
(及び欠陥検出手段)としての顕微鏡ユニット17、及
び、(チップ整列手段としての)トレイ案内ユニット1
8が設けられている。
FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention.
Reference numeral 11 in the figure is a cleaving device. This cleavage device 1
1, a transparent or semi-transparent door 13 is arranged on the upper front surface of a rectangular box-shaped main body 12, and a working chamber 14 is formed inside the door 13. Then, in the working chamber 14, as shown in FIG. 2, a transfer unit 15 (as a chip alignment means), a cutting unit 16, a microscope unit 17 as an image recognition unit (and a defect detection means), and a (chip alignment) Tray guide unit 1 (as a means)
8 are provided.

【0008】これらのうちトランスファユニット15
は、図3に示すようにx軸テ−ブル19に沿って移動す
るy軸テ−ブル20上に設置されている。さらに、トラ
ンスファユニット15にはバ−吸着ヘッド21とチップ
吸着ヘッド22とが下向きに設けられており、各ヘッド
21、22は図示しない負圧源に接続されている。チッ
プ吸着へッド22は下方へ突出したチップ吸着ノズル2
2aを有している。また、各ヘッド21、22はカム2
3、24を介してヘッド駆動モ−タ25、26に独立に
連結されており、カム23、24の回転に伴って上下移
動する。
Of these, the transfer unit 15
Are installed on the y-axis table 20 which moves along the x-axis table 19 as shown in FIG. Further, the transfer unit 15 is provided with a bar suction head 21 and a chip suction head 22 facing downward, and each head 21, 22 is connected to a negative pressure source (not shown). The chip suction head 22 is a chip suction nozzle 2 protruding downward.
2a. In addition, each head 21, 22 is a cam 2
It is independently connected to the head drive motors 25 and 26 via 3 and 24, and moves up and down as the cams 23 and 24 rotate.

【0009】前記カッティングユニット16は、図4〜
図6に示すように、短冊状ワ−クとしての結晶バ−を位
置決めする位置決めスライド27、位置決めスライド2
7の近傍に配置されたプッシャ28、結晶バ−をへき開
するカッタ29、カッタ29を移動させる移動ベ−ス3
0、カッタ29を位置調整する移動ステ−ジ31とを備
えている。
The cutting unit 16 is shown in FIGS.
As shown in FIG. 6, a positioning slide 27 and a positioning slide 2 for positioning the crystal bar as a strip-shaped work.
7, a pusher 28 arranged in the vicinity of 7, a cutter 29 for cleaving the crystal bar, and a moving base 3 for moving the cutter 29.
0, and a moving stage 31 for adjusting the position of the cutter 29.

【0010】位置決めスライド27は、図6中に示すよ
うに例えば2つのプレ−ト32a、32b(後述する)
の傾斜面を結晶バ−1の上側のエッジ部に当接させて結
晶バ−1を側方から挟持する。プッシャ28は結晶バ−
1に後ろから当接し、結晶バ−1を押してへき開位置ま
で押し出したのち後退して結晶バ−1から離れる。つま
り、結晶バ−1は上側のエッジ部のみを長手方向に亘っ
てプレ−ト32a、32bに部分的に接するとともに、
前後方向に非固定的な状態で保持される。
The positioning slide 27 has, for example, two plates 32a and 32b (described later) as shown in FIG.
The slanted surface is brought into contact with the upper edge portion of the crystal bar-1 to sandwich the crystal bar-1 from the side. The pusher 28 is a crystal bar.
1 comes into contact with the rear side from the rear, pushes the crystal bar-1, pushes it out to the cleavage position, and then retreats and separates from the crystal bar-1. That is, the crystal bar-1 partially contacts the plates 32a and 32b only in the upper edge portion in the longitudinal direction, and
It is held in a non-fixed state in the front-rear direction.

【0011】カッタ29は先端を尖鋭に加工された刃3
3を有しており、カッタヘッド34に取付けられて刃3
3を下に向けている。そして、カッタ29はリニアアク
チェ−タ35によって駆動され、結晶バ−1の幅方向に
揺動して結晶バ−1をへき開する。
The cutter 29 is a blade 3 whose tip is sharpened.
3 has a blade 3 attached to the cutter head 34
3 is facing down. The cutter 29 is driven by the linear actuator 35 and swings in the width direction of the crystal bar-1 to cleave the crystal bar-1.

【0012】つまり、図5及び図6に示すように、カッ
タ29はカッタヘッド34に上部を枢支されており、カ
ッタヘッド34はカッタ駆動ベ−ス36に下部を枢支さ
れている。カッタ駆動ベ−ス36にはリニアアクチェ−
タ35がアクチュエ−タホルダ37を介して固定されて
おり、このリニアアクチェ−タ35は突没自在なピスト
ン38をカッタヘッド34に当接させている。さらに、
アクチュエ−タホルダ37とカッタヘッド34との間に
はスプリング38が架設されている。
That is, as shown in FIGS. 5 and 6, the cutter 29 is pivotally supported by the cutter head 34 at its upper portion, and the cutter head 34 is pivotally supported by the cutter driving base 36 at its lower portion. The cutter drive base 36 has a linear actuator.
The actuator 35 is fixed via an actuator holder 37, and the linear actuator 35 has a piston 38, which is capable of projecting and retracting, brought into contact with the cutter head 34. further,
A spring 38 is installed between the actuator holder 37 and the cutter head 34.

【0013】カッタ29の刃33は、図7及び図8に示
すように先端部を断面V字形に加工されている。さら
に、刃33は段付きに加工されており、刃33の側面3
9、39には、刃33の幅方向に沿って直線的に延びる
帯状のストレ−ト部40、40が刃33の軸心について
対称的に形成されている。そして、このストレ−ト部4
0、40は刃33の軸心に対して略平行に形成されてい
る。つまり、刃33はストレ−ト部40、40が位置す
る部分を凹ませている。
As shown in FIGS. 7 and 8, the blade 33 of the cutter 29 has a V-shaped cross section at its tip. Furthermore, the blade 33 is stepped, and the side surface 3 of the blade 33 is
Strip-shaped straight portion 40, 40 extending linearly along the width direction of the blade 33 is formed on each of the blades 9, 39 symmetrically with respect to the axis of the blade 33. And this straight part 4
0 and 40 are formed substantially parallel to the axis of the blade 33. That is, the blade 33 dents the portion where the straight portions 40, 40 are located.

【0014】リニアアクチュエ−タ35がピストン38
を突出方向に変位させると、カッタヘッド34がピスト
ン38により押され、カッタ駆動ベ−ス36との連結部
41を中心に回動変位する。そして、カッタヘッド34
の、水平方向を向いた先端部が下方に下がり、カッタ2
9がカッタヘッド34と一体に回動変位する。
The linear actuator 35 is a piston 38.
Is displaced in the protruding direction, the cutter head 34 is pushed by the piston 38, and is rotationally displaced about the connecting portion 41 with the cutter driving base 36. And the cutter head 34
, The horizontal end of the cutter goes down, and the cutter 2
9 is rotationally displaced together with the cutter head 34.

【0015】ここで、図5中に示すように、カッタヘッ
ド34とカッタ駆動ベ−ス36との連結部41は、結晶
バ−1を載置する台板42の表面と略同じ高さに位置し
ている。また、台板42は透明なガラス等の材質からな
るもので、供給された結晶バ−1を載置する。
Here, as shown in FIG. 5, the connecting portion 41 between the cutter head 34 and the cutter driving base 36 is substantially level with the surface of the base plate 42 on which the crystal bar-1 is placed. positioned. The base plate 42 is made of a material such as transparent glass, on which the supplied crystal bar-1 is placed.

【0016】カッタ29の刃33の移動軌跡は、カッタ
ヘッド34とカッタ駆動ベ−ス36との連結部41を略
中心とし結晶バ−1のエッジ部を通過する円弧を描く。
そして、図6に示すように、刃33は結晶バ−1の幅方
向に移動して結晶バ−1に当たり、結晶バ−1に切込み
を入れる。
The locus of movement of the blade 33 of the cutter 29 draws an arc passing through the edge portion of the crystal bar-1 with the connecting portion 41 between the cutter head 34 and the cutter driving base 36 being substantially at the center.
Then, as shown in FIG. 6, the blade 33 moves in the width direction of the crystal bar-1, hits the crystal bar-1, and cuts the crystal bar-1.

【0017】図7及び図8に示すように、刃33が結晶
バ−1に当って結晶バ−1に入込むと、結晶バ−1に亀
裂が走り、結晶バ−1がへき開されてチップ3が作成さ
れる。そして、結晶バ−1に亀裂が入った後にも刃33
は幾分下方に進み、結晶バ−1とチップ3との間に更に
入込んで結晶バ−1とチップ3とを引き離す。
As shown in FIGS. 7 and 8, when the blade 33 hits the crystal bar-1 and enters the crystal bar-1, a crack runs in the crystal bar-1, and the crystal bar-1 is cleaved to form a chip. 3 is created. And, even after the crystal bar-1 is cracked, the blade 33
Moves somewhat downward, and further enters between the crystal bar-1 and the chip 3 to separate the crystal bar-1 and the chip 3.

【0018】ここで、カッタ29はカッタヘッド34に
枢支されているため、刃33が結晶バ−1に当たる際の
衝撃力は必要十分な程度に押さえられ、結晶バ−1に過
大な力が加わることが阻止される。さらに、刃33の当
接深さ及び当接速度は、結晶バ−1に過度な内部ストレ
スが発生しないよう調節される。
Since the cutter 29 is pivotally supported by the cutter head 34, the impact force when the blade 33 hits the crystal bar-1 is suppressed to a necessary and sufficient level, and an excessive force is applied to the crystal bar-1. It is prevented from joining. Furthermore, the contact depth and contact speed of the blade 33 are adjusted so that excessive internal stress does not occur in the crystal bar-1.

【0019】また、結晶バ−1を挟持するプレ−ト32
a、32bには、後述するようにカッタ29との干渉を
防止するための逃げ溝が設けられており、カッタ29は
プレ−ト32、32に接することなく揺動する。
A plate 32 for holding the crystal bar-1
As will be described later, a and 32b are provided with relief grooves for preventing interference with the cutter 29, and the cutter 29 swings without contacting the plates 32 and 32.

【0020】前記挟持プレ−ト32a、32bは、図9
及び図10に示すように、矩形状に成形されており、台
板42上に並設され互いに離間しながら平行に対向して
いる。さらに、挟持プレ−ト32a、32bの間には摺
動案内路43が形成されており、この摺動案内路43に
結晶バ−1が、挟持プレ−ト32a、32bの長手方向
にその長手方向を沿わせながら供給される。また、挟持
プレ−ト32a、32bは台板42の上面に沿って水平
に移動し、互いの間隔を変化させて摺動案内路43の幅
を調節する。ここで、挟持プレ−ト32a、32bの厚
さは結晶バ−1の厚さよりも大きく設定されている。
The sandwich plates 32a and 32b are shown in FIG.
Further, as shown in FIG. 10, they are formed in a rectangular shape and are arranged in parallel on the base plate 42 and face each other in parallel while being separated from each other. Further, a slide guide path 43 is formed between the sandwiching plates 32a and 32b, and the crystal bar-1 is provided in the slide guide path 43 in the longitudinal direction of the sandwiching plates 32a and 32b. It is supplied while following the direction. Further, the sandwiching plates 32a and 32b move horizontally along the upper surface of the base plate 42 and change the interval between them to adjust the width of the slide guide path 43. Here, the thickness of the sandwich plates 32a and 32b is set to be larger than the thickness of the crystal bar-1.

【0021】さらに、例えば一方の挟持プレ−ト2b
は、図10中に示すようにスプリング44に連結されて
おり、このスプリング44によって他方の挟持プレ−ト
32aに近付くように付勢されている。そして、一方の
挟持プレ−ト32bは図9中に矢印Bで示すように結晶
バ−1に与圧しており、結晶バ−1を他方の挟持プレ−
ト2aに押付けている。
Further, for example, one sandwiching plate 2b
Is connected to a spring 44 as shown in FIG. 10, and is biased by the spring 44 so as to approach the other sandwiching plate 32a. The one sandwiching plate 32b pressurizes the crystal bar-1 as indicated by an arrow B in FIG.
It is pressed against the 2a.

【0022】両挟持プレ−ト32a、32bの互いに向
合った側面には挟持傾斜面45a、45bが形成されて
おり、この挟持傾斜面45a、45bは挟持プレ−ト3
2a、32bの上面46a、46bから下面47a、4
7bへいくにしたがって徐々に離れるよう傾斜してい
る。そして、挟持傾斜面45a、45bは結晶バ−1の
上側のエッジ部48、48に接しており、結晶バ−1を
台板42に押付けている。
Clamping inclined surfaces 45a and 45b are formed on the side surfaces of the two clamping plates 32a and 32b facing each other, and the clamping inclined surfaces 45a and 45b are sandwiched between the clamping plates 3.
2a, 32b upper surfaces 46a, 46b to lower surfaces 47a, 4b
It is inclined to gradually separate as it goes to 7b. The sandwiching inclined surfaces 45 a and 45 b are in contact with the upper edge portions 48 and 48 of the crystal bar-1, and the crystal bar-1 is pressed against the base plate 42.

【0023】つまり、挟持プレ−ト32a、32bと結
晶バ−1とは線接触しており、結晶バ−1はそのエッジ
部48、48を挟持傾斜面45a、45bの中間部に接
触させている。
That is, the sandwiching plates 32a, 32b and the crystal bar-1 are in line contact with each other, and the crystal bar-1 has its edge portions 48, 48 in contact with the intermediate portions of the sandwiching inclined surfaces 45a, 45b. There is.

【0024】また、各挟持プレ−ト32a、32bには
逃げ溝49a、49bが形成されている。この逃げ溝4
9a、49bは、挟持プレ−ト32a、32bの上下面
46a、46b、47a、47b、及び、挟持傾斜面4
5a、45bに開口しており、同一直線上に位置して互
いに向合うとともに挟持プレ−ト32a、32bの幅方
向に延びている。さらに、逃げ溝49a、49bの奥
部、即ち閉端部は半円状に成形されている。
Further, escape grooves 49a and 49b are formed in the sandwiching plates 32a and 32b. This escape groove 4
9a and 49b are upper and lower surfaces 46a, 46b, 47a and 47b of the sandwiching plates 32a and 32b and the sandwiching inclined surface 4.
The openings 5a and 45b are located on the same straight line, face each other, and extend in the width direction of the sandwich plates 32a and 32b. Further, the inner portions of the escape grooves 49a and 49b, that is, the closed ends are formed in a semicircular shape.

【0025】また、挟持プレ−ト32a、32bの先端
部は挟持爪部50a、50bを残して切欠かれており、
挟持プレ−ト32a、32bの先端部には逃げ面51
a、51bと位置規制面52a、52bとが形成されて
いる。逃げ面51a、51bは各挟持体32a、32b
の上面46a、46bに隣接しており、各上面46a、
46bから遠ざかるにしたがって互いに離れるよう傾斜
している。つまり、逃げ面51a、51bは挟持傾斜面
45a、45bに対して逆向きに傾斜している。
The tips of the sandwiching plates 32a, 32b are notched except the sandwiching claws 50a, 50b.
A flank 51 is provided at the tip of the clamping plates 32a and 32b.
a and 51b and position regulation surfaces 52a and 52b are formed. The flanks 51a and 51b are holding bodies 32a and 32b, respectively.
Adjacent to the upper surfaces 46a and 46b of the
They are inclined so as to separate from each other as they move away from 46b. That is, the flanks 51a and 51b are inclined in the opposite direction to the sandwiching inclined surfaces 45a and 45b.

【0026】上記位置規制面52a、52bは台板の上
面に対して略垂直に延びており、逃げ面51a、51b
に隣接している。そして、位置規制面52a、52bは
挟持プレ−ト32a、32bの長手方向に沿って延び、
互いに平行に対向している。ここで、位置規制面52
a、52bの下側には挟持傾斜面45a、45bが残さ
れており、この残された挟持傾斜面45a、45bは位
置規制面52a、52bに隣接している。
The position restricting surfaces 52a and 52b extend substantially perpendicular to the upper surface of the base plate, and the flanks 51a and 51b.
Is adjacent to. The position regulating surfaces 52a and 52b extend along the longitudinal direction of the sandwich plates 32a and 32b.
Opposite parallel to each other. Here, the position regulation surface 52
Clamping inclined surfaces 45a and 45b are left below a and 52b, and the remaining clamped inclined surfaces 45a and 45b are adjacent to the position regulating surfaces 52a and 52b.

【0027】前記挟持爪部50a、50bは前記逃げ溝
49a、49bに隣接しており、逃げ溝49a、49b
よりも挟持プレ−ト32a、32bの先端側に位置して
いる。そして、挟持爪部50a、50bは挟持傾斜面4
5a、45bで結晶バ−1のエッジ部48、48を押圧
するとともに、結晶バ−1の一部を覆いながら互いに近
付くよう突出している。
The sandwiching claw portions 50a and 50b are adjacent to the escape grooves 49a and 49b, and the escape grooves 49a and 49b.
Are located closer to the tip ends of the sandwich plates 32a and 32b. The holding claw portions 50a and 50b are the holding inclined surface 4
Edges 48, 48 of the crystal bar-1 are pressed by 5a, 45b, and they project so as to approach each other while covering a part of the crystal bar-1.

【0028】ここで、挟持プレ−ト32a、32bの挟
持傾斜面45a、45b、逃げ面51a、51b、及
び、位置規制面52a、52bはそれぞれ平滑に鏡面ラ
ップ仕上げされている。
Here, the sandwiching inclined surfaces 45a and 45b of the sandwiching plates 32a and 32b, the flanks 51a and 51b, and the position restricting surfaces 52a and 52b are each smoothly mirror-finished.

【0029】前記顕微鏡ユニット17は、図4及び図6
に示すように、台板42の下側に配置されてレンズ53
を上方に向けた欠陥検出手段としての小型顕微鏡54を
備えている。この小型顕微鏡54は、台板42を通して
結晶バ−1のへき開位置を観察し、へき開の様子及びへ
き開されたチップ3の像を取込んで画像処理部(図示し
ない)へ送る。そして、チップ3の形状欠陥や表面欠陥
の存在の有無が上記画像処理部によって判断される。
The microscope unit 17 is shown in FIGS.
As shown in FIG.
A small microscope 54 is provided as a defect detecting unit with the arrow pointing upward. The small microscope 54 observes the cleavage position of the crystal bar-1 through the base plate 42, captures the state of cleavage and the image of the cleaved chip 3 and sends it to an image processing unit (not shown). Then, the presence or absence of the shape defect or the surface defect of the chip 3 is judged by the image processing unit.

【0030】前記トレイ案内ユニット18は、図12に
示すように、ワ−クトレイとしてのバ−トレイ55と4
つのチップトレイ56…(2つのみ図示)とを載置して
いる。さらに、トレイ案内ユニット18は、エアシリン
ダ57を駆動源として上記バ−トレイ55を移動させ、
バ−トレイ55の位置を交換位置と搬送位置とに切換え
る。また、上記チップトレイ56…は、インデックス5
8によって駆動されるインデックステ−ブル59上に略
等間隔で載置されており、インデックステ−ブル59の
回動変位に伴ってバ−トレイ55の近傍に1つずつ案内
される。
As shown in FIG. 12, the tray guide unit 18 includes bar trays 55 and 4 as work trays.
One chip tray 56 ... (Only two are shown) are mounted. Further, the tray guide unit 18 moves the bar tray 55 by using the air cylinder 57 as a drive source,
The position of the bar tray 55 is switched between the exchange position and the transfer position. Also, the chip trays 56 ...
The index tables 59 are mounted on the index table 59 at substantially equal intervals and are guided to the vicinity of the bar tray 55 one by one as the index table 59 is rotationally displaced.

【0031】また、インデックステ−ブル59の下には
トレイセンサ60…が設けられている。このトレイセン
サ60…は例えばチップトレイ56…に対応するようそ
の数を設定されるとともに略等間隔で設置されており、
それぞれがチップトレイ56…の有無を検出する。ま
た、インデックステ−ブル59の近傍には番地センサ6
1が設けられており、この番地センサ61はインデック
ステ−ブル59の側面に対向し、インデックステ−ブル
59のインデックス番地を検出する。つぎに、上述のへ
き開装置11の作用を説明する。
Further, tray sensors 60 ... Are provided below the index table 59. The number of the tray sensors 60 ... Is set so as to correspond to, for example, the chip trays 56.
Each detects the presence or absence of the chip tray 56 .... Further, the address sensor 6 is provided near the index table 59.
The address sensor 61 faces the side surface of the index table 59 and detects the index address of the index table 59. Next, the operation of the above-mentioned cleavage device 11 will be described.

【0032】まず、図2に示すように、トレイ案内ユニ
ット18のバ−トレイ45上に並べられた結晶バ−1…
のうちの1つが、トランスファユニット15のバ−吸着
ヘッド21により吸着されて取出される。そして、トラ
ンスファユニット15が移動し、結晶バ−1をカッティ
ングユニット16の所定位置へ搬送する。
First, as shown in FIG. 2, crystal bar-1 arranged on the bar tray 45 of the tray guide unit 18 ...
One of them is adsorbed and taken out by the bar adsorption head 21 of the transfer unit 15. Then, the transfer unit 15 moves to convey the crystal bar-1 to a predetermined position of the cutting unit 16.

【0033】結晶バ−1がカッティングユニット16へ
搬送されたのち、位置決めスライド27が結晶バ−1を
非固定的な状態で保持し、カッタ29が駆動されて結晶
バ−1がへき開される。作成されたチップ3の像が小型
顕微鏡54に取込まれ、チップ3の形状欠陥及び表面欠
陥の有無が判断される。
After the crystal bar-1 is conveyed to the cutting unit 16, the positioning slide 27 holds the crystal bar-1 in a non-fixed state, and the cutter 29 is driven to cleave the crystal bar-1. The created image of the chip 3 is taken into the small microscope 54, and the presence or absence of shape defect and surface defect of the chip 3 is judged.

【0034】欠陥が生じたチップは排除され、欠陥の無
い適正なチップ3がチップ吸着ヘッド22より保持され
てトレイ案内ユニット18へ搬送されて戻される。トレ
イ案内ユニット18に搬送されたチップ3はチップトレ
イ56上に載置される。そして、適正なチップ3…が順
次トレイ案内ユニット18へ搬送され、チップトレイ5
6上に整列させられる。
The defective chip is removed, and a proper chip 3 having no defect is held by the chip suction head 22 and conveyed to the tray guide unit 18 and returned. The chips 3 conveyed to the tray guide unit 18 are placed on the chip tray 56. Then, the proper chips 3 ... Are sequentially conveyed to the tray guide unit 18, and the chip tray 5
6 are aligned.

【0035】1つのチップトレイ56に所定数のチップ
が載置されたのちには、インデックステ−ブル59が駆
動され、チップトレイ56が切換えられて、別のチップ
トレイ56が所定位置へ案内される。
After a predetermined number of chips are placed on one chip tray 56, the index table 59 is driven, the chip trays 56 are switched, and another chip tray 56 is guided to a predetermined position. It

【0036】前記カッティングユニット16において、
図9中に示すように結晶バ−1がプッシャ28によって
押出され、台板42に摺動しながら移動して、台板42
上の所定位置に案内される。結晶バ−1には結晶バ−1
を長手方向に複数に区分するへき開線1a…(1つのみ
図示)が刻まれており、このへき開線1a…はへき開位
置の目安となる。
In the cutting unit 16,
As shown in FIG. 9, the crystal bar-1 is extruded by the pusher 28 and moves while sliding on the base plate 42,
You will be guided to a predetermined position above. Crystal Ba-1
Cleaved lines 1a ... (Only one is shown) are divided into a plurality of sections in the longitudinal direction, and the cleaved lines 1a.

【0037】最も先端に位置するへき開線12の像が小
型顕微鏡54に取込まれ、取込まれた画像デ−タを基に
して、へき開線1aの位置がカッタヘッド34の刃先の
位置に一致するよう、結晶バ−1が位置決めされる。こ
こで、へき開線1aの幅は例えば5μm程度に設定され
ている。また、図9中の一点鎖線の矢印Cは小型顕微鏡
54の光軸を示している。
The image of the cleavage line 12 located at the most tip is captured by the small microscope 54, and the position of the cleavage line 1a coincides with the position of the cutting edge of the cutter head 34 based on the captured image data. The crystal bar-1 is positioned so that Here, the width of the cleavage line 1a is set to, for example, about 5 μm. Further, an arrow C indicated by a chain line in FIG. 9 indicates the optical axis of the small microscope 54.

【0038】プッシャ28が後退し、結晶バ−1は挟持
プレ−ト32a、32bのみによって保持される。この
とき、結晶バ−1は、上側のエッジ部48、48のみを
挟持プレ−ト32a、32bの挟持傾斜面45a、45
bに接しており、長手方向に非固定的な状態におかれて
いる。ここで、プッシャ28の後退量は、例えば0.5
mmに設定されている。
The pusher 28 is retracted, and the crystal bar-1 is held only by the sandwiching plates 32a and 32b. At this time, the crystal bar-1 holds only the upper edge portions 48, 48 between the holding inclined surfaces 45a, 45 of the holding plates 32a, 32b.
It is in contact with b and is not fixed in the longitudinal direction. Here, the backward movement amount of the pusher 28 is 0.5, for example.
It is set to mm.

【0039】カッタ29が揺動してカッタヘッド34が
へき開線1aに達し、結晶バ−1が先端部を切離されて
チップ化される。そして、チップ3が結晶バ−1から切
離される。チップ3の作製の際には、カッタヘッド34
の刃先が結晶バ−1に達した際の衝撃を利用して行わ
れ、チップ3の分離は予め刻まれたへき開線1aに沿っ
て進む。そして、カッタヘッド34が台板42に達する
ことなく、チップ3が作製される。
The cutter 29 swings, the cutter head 34 reaches the cleavage line 1a, and the crystal bar-1 is cut off at its tip to be made into chips. Then, the chip 3 is separated from the crystal bar-1. When the chip 3 is manufactured, the cutter head 34
The chip 3 is separated by using the impact when the blade edge reaches the crystal bar-1, and the separation of the chip 3 proceeds along the pre-engraved cleavage line 1a. Then, the chip 3 is manufactured without the cutter head 34 reaching the base plate 42.

【0040】チップ3が切離された際に、チップ3と結
晶バ−1との間に隙間が生じる。チップ3の像が小型顕
微鏡に取込まれ、チップ3の形状の検出が行われる。そ
して、チップ3の欠け、長さ、ピック(欠陥)等が認識
される。
When the chip 3 is separated, a gap is created between the chip 3 and the crystal bar-1. The image of the chip 3 is captured by the small microscope, and the shape of the chip 3 is detected. Then, chipping, length, pick (defect), etc. of the chip 3 are recognized.

【0041】こののち、プッシャ28が結晶バ−1を押
出し、次のへき開線1aが小型顕微鏡54の上方に送ら
れて検出される。このとき、チップ3は結晶バ−1の先
端面に密着しながら結晶バ−1とともに押出され、へき
開線1aの検出と同時にチップ3の取出し座標が求めら
れる。そして、キャピラリ(図示しない)が下降してチ
ップ3の中央部に到達し、チップ3を吸着して上昇す
る。チップ3はキャピラリによりピックアップされ、挟
持プレ−ト32a、32bに形成された逃げ面51a、
51bの間の空間を通過して運ばれる。
After this, the pusher 28 pushes out the crystal bar-1, and the next cleavage line 1a is sent above the small microscope 54 and detected. At this time, the chip 3 is extruded together with the crystal bar-1 while being in close contact with the tip surface of the crystal bar-1, and the take-out coordinates of the chip 3 are obtained at the same time when the cleavage line 1a is detected. Then, the capillary (not shown) descends to reach the central portion of the chip 3 and adsorbs the chip 3 to rise. The tip 3 is picked up by a capillary and flanks 51a formed on the sandwich plates 32a and 32b.
It is carried through the space between 51b.

【0042】チップ3が取出された後、図11に矢印D
…で示すように、エア−ガン62がイオン化されたエア
−を下向きに吹出す。そして、静電除去ブロ−が行なわ
れ、台板42の上面、及び、挟持プレ−ト32a、32
bの側面等の静電気が除去される。さらに、エア−ガン
62によって、チップ3のへき開面(発光面)へのごみ
付着が防止されるとともに、台板42上のへき開粉の清
掃が行われる。そして、これらの作業が繰返され、結晶
バ−9からチップ19…が順次切出される。
After the chip 3 is taken out, an arrow D is shown in FIG.
As shown by, the air gun 62 blows out the ionized air downward. Then, an electrostatic removal blow is performed, and the upper surface of the base plate 42 and the sandwiching plates 32a, 32.
Static electricity on the side surface of b is removed. Further, the air-gun 62 prevents dust from adhering to the cleavage surface (light emitting surface) of the chip 3 and cleans the cleavage powder on the base plate 42. Then, these operations are repeated, and the chips 19 ... Are sequentially cut out from the crystal bar 9.

【0043】すなわち、上述のようなへき開装置11に
おいては、一台の装置上にトランスファユニット15、
カッティングユニット16、顕微鏡ユニット17、及
び、トレイ案内ユニット18とが備えられている。そし
て、へき開装置11においては、平行移動型のトランス
ファ構造が採用されている。したがって、結晶バ−1の
搬送からチップ3…の整列までの作業を全て自動的且つ
高速に行うことが可能である。
That is, in the cleavage device 11 as described above, the transfer unit 15 and the transfer unit 15 are provided on one device.
A cutting unit 16, a microscope unit 17, and a tray guide unit 18 are provided. Then, the cleaving device 11 employs a parallel transfer type transfer structure. Therefore, it is possible to perform all the operations from the transportation of the crystal bar-1 to the alignment of the chips 3 ... Automatically and at high speed.

【0044】さらに、チップ3の像を取込む小型顕微鏡
54とチップをチップトレイ56に整列させるトランス
ファユニット15とが設けられているので、良品なチッ
プを選別してチップトレイ56に整列させる作業を容易
に行うことができる。したがって、チップ3…を歩留ま
りよく製造できる。また、チップ3のハンドリングにチ
ップ吸着ヘッド22が用いられているので、チップ3…
が損傷しにくく、不良発生率を低減させることができ
る。
Further, since the small microscope 54 for taking in the image of the chip 3 and the transfer unit 15 for aligning the chips on the chip tray 56 are provided, the work of selecting the good chips and aligning them on the chip tray 56 is performed. It can be done easily. Therefore, the chips 3 ... Can be manufactured with high yield. Further, since the chip suction head 22 is used for handling the chip 3, the chip 3 ...
Are less likely to be damaged, and the incidence of defects can be reduced.

【0045】また、カッタ29の刃33にストレ−ト部
40、40が設けられているので、図8に示すように、
刃33が結晶バ−1に切り込んだ際には、刃33と結晶
バ−1の電極金めっき層63との接触が中断される。こ
のため、刃33が上昇する際に軟質な金が刃33に付着
することを防止でき、常に安定したへき開作業を行うこ
とができる。
Further, since the blades 33 of the cutter 29 are provided with the straight portions 40, 40, as shown in FIG.
When the blade 33 cuts into the crystal bar-1, the contact between the blade 33 and the electrode gold plating layer 63 of the crystal bar-1 is interrupted. Therefore, it is possible to prevent soft gold from adhering to the blade 33 when the blade 33 moves up, and it is possible to always perform stable cleaving work.

【0046】なお、本実施例においては、刃33に平坦
なストレ−ト部40、40が設けられているが、例えば
図13に示すように、刃33に半円状の逃げ溝64、6
4を形成して刃33と電極金めっき層との接触を中断さ
せてもよい。
In this embodiment, the blade 33 is provided with flat straight portions 40, 40. However, as shown in FIG. 13, for example, the blade 33 has semicircular relief grooves 64, 6.
4 may be formed to interrupt the contact between the blade 33 and the electrode gold plating layer.

【0047】さらに、カッティングユニット16におい
て、挟持プレ−ト32a、32bに挟持傾斜面45a、
45bが設けられており、挟持プレ−ト32a、32b
は挟持傾斜面45a、45bを結晶バ−1のエッジ部4
8、48に当てながら挟持している。したがって、挟持
プレ−ト32a、32bを結晶バ−1に部分的にのみ接
触させながら結晶バ−1を保持することができる。
Further, in the cutting unit 16, the holding plates 32a, 32b are provided with a holding inclined surface 45a,
45b is provided, and sandwiching plates 32a and 32b are provided.
Is the edge portion 4 of the crystal bar-1 that holds the sandwiched inclined surfaces 45a and 45b.
It is sandwiched while hitting 8, 48. Therefore, the crystal bar-1 can be held while the sandwiching plates 32a and 32b are only partially brought into contact with the crystal bar-1.

【0048】また、挟持プレ−ト32a、32bに逃げ
溝49a、49bが設けられており、これら逃げ溝49
a、49bはカッタ29の移動経路中に位置しているの
で、結晶バ−1を挟持プレ−ト32a、32bにより保
持したままへき開することができる。
Further, the holding plates 32a, 32b are provided with relief grooves 49a, 49b, respectively.
Since a and 49b are located in the moving path of the cutter 29, the crystal bar-1 can be cleaved while being held by the sandwiching plates 32a and 32b.

【0049】さらに、挟持プレ−ト32a、32bに挟
持爪部50a、50bが設けられており、この挟持爪部
50a、50bが結晶バ−1の切離される部分を覆って
いるので、へき開されたチップ3が飛散することを防止
できる。そして、これらのことにより、結晶バ−の固定
やチップの保持を簡単に行うことができ、さらに、へき
開作業を容易に自動化することが可能になる。
Further, the sandwiching plates 32a, 32b are provided with sandwiching claw portions 50a, 50b, and the sandwiching claw portions 50a, 50b cover the part of the crystal bar-1 to be separated, so that they are cleaved. The scattered chips 3 can be prevented. Then, by these things, the crystal bar can be easily fixed and the chip can be easily held, and further, the cleavage operation can be easily automated.

【0050】なお、本実施例においては、小型顕微鏡5
4が結晶バ−1の下方に配置されているが、本発明はこ
れに限定されず、例えば光学顕微鏡54を結晶バ−1の
上方に配置してもよい。
In this embodiment, the small microscope 5
Although 4 is arranged below the crystal bar-1, the present invention is not limited to this, and the optical microscope 54 may be arranged above the crystal bar-1, for example.

【0051】つぎに、本発明の第2の実施例を図14及
び図15に基づいて説明する。なお、前述の第1の実施
例と同様の部分については同一番号を付し、その説明は
省略する。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 14 and 15. The same parts as those in the first embodiment described above are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.

【0052】両図中に示すように、挟持プレ−ト71
a、71bには挟持爪部50a、50bが形成されてお
り、挟持爪部50a、50bには結晶バ−1に対向する
対向傾斜面72a、72bが形成されている。これら対
向傾斜面72a、72bは挟持傾斜面45a、45bと
同様に傾斜しており、対向傾斜面72a、72bと挟持
傾斜面45a、45bとの間にはずれ量Eが設定されて
ギャップが形成されている。
As shown in both figures, the clamping plate 71
Clamping claws 50a and 50b are formed on a and 71b, and facing inclined surfaces 72a and 72b facing the crystal bar-1 are formed on the clamping claws 50a and 50b. The opposed inclined surfaces 72a and 72b are inclined similarly to the sandwiched inclined surfaces 45a and 45b, and the gap E is set between the opposed inclined surfaces 72a and 72b and the sandwiched inclined surfaces 45a and 45b by setting the deviation amount E. ing.

【0053】つまり、両対向傾斜面72a、72bの間
隔は、両挟持傾斜面50a、50bの間隔に比べて全体
的に広く設定されており、図15に示すように、対向傾
斜面72a、72bは結晶バ−1に対して離間してい
る。結晶バ−1の保持は挟持傾斜面50a、50bによ
って行われており、挟持爪部50a、50bは結晶バ−
1に接触していない。そして、結晶バ−1のへき開線1
aよりも先端側の部分は挟持プレ−ト32a、32bに
対して離間しており、この部分は非固定的な状態で保持
されている。ここで、ずれ量Dの値は例えば10μmに
設定されている。結晶バ−1の先端部は非固定的な状態
のままへき開され、作製されたチップ3はキャピラリ7
3によりピックアップされる。
That is, the distance between the two opposed inclined surfaces 72a and 72b is generally set wider than the distance between the two sandwiched inclined surfaces 50a and 50b, and as shown in FIG. 15, the opposed inclined surfaces 72a and 72b. Is separated from crystal bar-1. The crystal bar-1 is held by the holding inclined surfaces 50a and 50b, and the holding claw portions 50a and 50b are held by the crystal bar.
Not in contact with 1. And, the cleavage line 1 of crystal bar-1
The portion closer to the tip than a is separated from the sandwich plates 32a and 32b, and this portion is held in a non-fixed state. Here, the value of the deviation amount D is set to, for example, 10 μm. The tip portion of the crystal bar-1 is cleaved in a non-fixed state, and the produced chip 3 has a capillary 7
Picked up by 3.

【0054】このような挟持プレ−ト71a、71bに
よれば、所望の位置に亀裂を走らせることができ、常に
結晶境界面に沿った最適なへき開面を得ることが可能で
ある。
With such sandwiching plates 71a and 71b, a crack can be made to run at a desired position, and it is possible to always obtain an optimum cleavage plane along the crystal boundary surface.

【0055】すなわち、挟持爪部50、50bが結晶バ
−1に接触している場合、結晶バ−1の接触箇所に応力
集中が生じると考えられるが、一般に、へき開の際に発
生する亀裂はカッタ29の接触位置から応力集中部へ向
かって走るため、結晶バ−1をへき開線1aに沿ってへ
き開することが困難になる。しかし、上述のように挟持
爪部50a、50bが結晶バ−1aに接触していなけれ
ば、応力集中の発生を防止でき、亀裂を所望の位置に走
らせることが容易になる。
That is, when the holding claws 50, 50b are in contact with the crystal bar-1, stress concentration is considered to occur at the contact point of the crystal bar-1, but generally cracks generated during cleavage are Since it runs from the contact position of the cutter 29 toward the stress concentration portion, it becomes difficult to cleave the crystal bar-1 along the cleavage line 1a. However, as described above, if the sandwiching claw portions 50a and 50b are not in contact with the crystal bar-1a, stress concentration can be prevented from occurring and the crack can be easily run to a desired position.

【0056】つぎに、本発明の第3の実施例を図16及
び図17に基づいて説明する。なお、前述の各実施例と
同様の部分については同一番号を付し、その説明は省略
する。
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The same parts as those in the above-mentioned respective embodiments are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.

【0057】両図中に示すように、ステ−ジ板81が挟
持プレ−ト32a、32b及び台板42を保持してお
り、台板42はステ−ジ板81に形成された凹陥部に嵌
め込まれている。ステ−ジ板81の状面には摺動路82
が突出しており、可動側の挟持プレ−ト32bがこの摺
動路82に嵌合している。そして、挟持プレ−ト32b
はスプリング44により付勢されながら摺動路82に沿
ってスライドし、結晶バ−1に対して接離する。
As shown in both figures, the stage plate 81 holds the sandwiching plates 32a and 32b and the base plate 42, and the base plate 42 is formed in the recess formed in the stage plate 81. It is fitted. A sliding path 82 is formed on the surface of the stage plate 81.
Is protruding, and the holding plate 32b on the movable side is fitted in the sliding path 82. And the clamping plate 32b
Slides along the sliding path 82 while being biased by the spring 44, and comes into contact with and separates from the crystal bar-1.

【0058】ステ−ジ板82には押上げピン83が上向
きに差込まれており、押上げピン83は台板42の下に
配置されたクッション84に先端を到達させている。ま
た、押上げピン83にはスプリング85が外装されてお
り、このスプリング85は押上げピン83を下方に付勢
している。
A push-up pin 83 is inserted upward in the stage plate 82, and the push-up pin 83 makes its tip reach a cushion 84 arranged below the base plate 42. A spring 85 is externally mounted on the push-up pin 83, and the spring 85 biases the push-up pin 83 downward.

【0059】外周に捩子部を有する楔86がステ−ジ板
82に水平に捩じ込まれており、楔86の先端のテ−パ
部87は、押上げピン82の軸方向途中の部位に形成さ
れた貫通孔88に入込んでいる。楔86の締緩に伴い、
押上げピン82はテ−パ部87により案内されて上下す
る。
A wedge 86 having a screw portion on the outer periphery is horizontally screwed into the stage plate 82, and a taper portion 87 at the tip of the wedge 86 is located at an intermediate portion in the axial direction of the push-up pin 82. Into the through hole 88 formed in the. With the tightening and tightening of the wedge 86,
The push-up pin 82 is guided by the taper portion 87 and moves up and down.

【0060】楔86を締めると、押上げピン82がクッ
ションを介して台板42を押上げ、台板42は挟持プレ
−ト32a、32bに密着する。一方、楔86が緩めら
れると、押上げピン82がスプリング85により付勢さ
れながら下がり、台板42が解放される。そして、台板
42の清掃や交換が可能になる。
When the wedge 86 is tightened, the push-up pin 82 pushes up the base plate 42 through the cushion, and the base plate 42 comes into close contact with the sandwiching plates 32a and 32b. On the other hand, when the wedge 86 is loosened, the push-up pin 82 is lowered while being biased by the spring 85, and the base plate 42 is released. Then, the base plate 42 can be cleaned and replaced.

【0061】つぎに、本発明の第4の実施例を図18〜
図22に基づいて説明する。なお、前述の各実施例と同
様の部分については同一番号を付し、その説明は省略す
る。各図において、カッタ91は台板42上に配置され
ており、結晶バ−1の略真上に位置している。また、カ
ッタ91は、図示しないカッタ支持機構によって上下動
可能なように支持されている。さらに、カッタ3は楔形
の刃先を下方に向けており、下降した際には、結晶バ−
1を挟持した挟持プレ−ト32a、32bの逃げ溝49
a、49b内に入込み、結晶バ−1に達する。
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
It will be described with reference to FIG. The same parts as those in the above-mentioned respective embodiments are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted. In each drawing, the cutter 91 is arranged on the base plate 42 and is located almost directly above the crystal bar-1. The cutter 91 is supported by a cutter support mechanism (not shown) so as to be vertically movable. Further, the cutter 3 has a wedge-shaped blade edge directed downward, and when descending, the crystal bar
1. The escape groove 49 of the sandwiching plates 32a and 32b sandwiching 1
It enters into a and 49b and reaches the crystal bar-1.

【0062】すなわち、図18〜図19(b)に示すよ
うに、結晶バ−1がプッシャ28によって押出され、台
板42に摺動しながら移動して、台板42上の所定位置
に案内される。結晶バ−1にはへき開線1a…(1つの
み図示)が刻まれており、このへき開線1a…はへき開
位置の目安となる。
That is, as shown in FIGS. 18 to 19B, the crystal bar-1 is pushed out by the pusher 28, moves while sliding on the base plate 42, and is guided to a predetermined position on the base plate 42. To be done. Cleavage lines 1a ... (Only one is shown) are engraved in the crystal bar-1, and the cleavage lines 1a.

【0063】最も先端に位置するへき開線1aの像が小
型顕微鏡54によって取込まれ、取込まれた画像デ−タ
を基にして、へき開線1aの位置がカッタ91の刃先の
位置に一致するよう、結晶バ−1が位置決めされる。
The image of the cleavage line 1a located at the most tip is captured by the small microscope 54, and the position of the cleavage line 1a coincides with the position of the cutting edge of the cutter 91 based on the captured image data. So that the crystal bar-1 is positioned.

【0064】カッタ91が下降してカッタ91の刃先が
へき開線1aに達し、図20(c)に示すように、結晶
バ−1が先端部を切離されてチップ化される。そして、
チップ3が結晶バ−1から切離される。チップ3の作製
の際には、カッタ91の刃先が結晶バ−1に達した際の
衝撃を利用して行われ、チップ3の分離は予め刻まれた
へき開線1aに沿って進む。そして、カッタ91が台板
42達することなく、チップ3が作成される。
The cutter 91 descends and the cutting edge of the cutter 91 reaches the cleavage line 1a, and as shown in FIG. 20 (c), the crystal bar-1 is cut at its tip to be made into chips. And
The chip 3 is separated from the crystal bar-1. When the chip 3 is manufactured, the impact of the blade edge of the cutter 91 reaching the crystal bar-1 is used, and the chip 3 is separated along the pre-engraved cleavage line 1a. Then, the chip 3 is produced without the cutter 91 reaching the base plate 42.

【0065】チップ3が切離された際に、図20(d)
に示すように、チップ3と結晶バ−1との間に隙間が生
じる。チップ3の像が小型顕微鏡54に取込まれ、チッ
プ3の形状の検出が行われる。そして、チップ3の欠
け、長さ、ピック(欠陥)等が認識される。
When the chip 3 is separated, FIG.
As shown in, a gap is created between the chip 3 and the crystal bar-1. The image of the chip 3 is captured by the small microscope 54, and the shape of the chip 3 is detected. Then, chipping, length, pick (defect), etc. of the chip 3 are recognized.

【0066】こののち、図21(e)に一点鎖線の矢印
Eで示すようにプッシャ28が結晶バ−1を押出し、次
のへき開線1aが小型顕微鏡54の上方に送られて検出
される。このとき、チップ3は結晶バ−1の先端面に密
着しながら結晶バ−1とともに押出され、へき開線1a
の検出と同時にチップ3の取出し座標が求められる。そ
して、図21(f)に示すように、キャピラリ73が下
降してチップ3の中央部に到達し、チップ3を吸着して
上昇する。チップ3はキャピラリ73によりピックアッ
プされ、挟持プレ−ト32a、32bに形成された逃げ
面51a、51bの間の空間を通過して運ばれる。
After that, the pusher 28 pushes out the crystal bar-1 as shown by the arrow E of the alternate long and short dash line in FIG. 21 (e), and the next cleavage line 1a is sent above the small microscope 54 and detected. At this time, the chip 3 is extruded together with the crystal bar-1 while closely adhering to the tip surface of the crystal bar-1, and the cleavage line 1a
At the same time as the detection of, the take-out coordinates of the chip 3 are obtained. Then, as shown in FIG. 21F, the capillary 73 descends and reaches the central portion of the chip 3, and the chip 3 is adsorbed and raised. The chip 3 is picked up by the capillary 73 and carried through the space between the flanks 51a and 51b formed on the sandwiching plates 32a and 32b.

【0067】チップ3が取出された後、図21(f)中
に矢印Fで示すように静電除去ブロ−が行なわれる。そ
して、これらの作業が繰返され、結晶バ−1からチップ
3…が順次切出される。
After the chip 3 is taken out, an electrostatic elimination blow is performed as shown by an arrow F in FIG. Then, these operations are repeated, and the chips 3 ... Are sequentially cut out from the crystal bar-1.

【0068】なお、図22に示すように、先端に段差部
を有する角棒状の飛散防止カバ−92を設け、この飛散
防止カバ−92を摺動案内路43に挿入し、飛散防止カ
バ−92の先端部で結晶バ−1の先端部を覆ってチップ
3の飛散を防止することも可能である。また、本発明
は、要旨を逸脱しない範囲で種々に変形することが可能
である。
As shown in FIG. 22, a scattering prevention cover 92 in the shape of a square bar having a step portion at the tip is provided, and the scattering prevention cover 92 is inserted into the slide guide path 43 to prevent the scattering prevention cover 92. It is also possible to prevent the scattering of the chips 3 by covering the tip of the crystal bar-1 with the tip. Further, the present invention can be variously modified without departing from the gist thereof.

【0069】[0069]

【発明の効果】以上説明したように本発明は、ワ−クト
レイ上に並べられた短冊状のワ−クを取出して所定位置
に搬送するとともに、ワ−クからへき開されたチップを
チップトレイ上に整列させるトランスファユニットと、
ワ−クを位置決めするとともにカッタを揺動させながら
ワ−クに当ててワ−クをへき開するカッティングユニッ
トと、チップの像を取込む画像認識ユニットと、ワ−ク
トレイを交換位置と搬送位置とに移動させるとともに、
チップトレイを複数備えてこれらチップトレイを切換え
るトレイ案内ユニットとを具備した。そして、本発明
は、短冊状ワ−クのへき開及び検査を自動的に且つ高速
に行えるようにした。
As described above, according to the present invention, the strip-shaped works arranged on the work tray are taken out and conveyed to a predetermined position, and the chips cleaved from the work are placed on the chip tray. Transfer unit to align
A cutting unit that positions the work and cleaves the work while swinging the cutter to open the work, an image recognition unit that captures the image of the chip, a work tray replacement position and a transport position. And move it to
A plurality of chip trays are provided and a tray guide unit for switching these chip trays is provided. In addition, the present invention enables the cleaving and inspection of the strip work to be performed automatically and at high speed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施例を示す斜視図。FIG. 1 is a perspective view showing a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1の実施例の要部を示す斜視図。FIG. 2 is a perspective view showing a main part of the first embodiment of the present invention.

【図3】トランスファユニットを一部破断して示す斜視
図。
FIG. 3 is a perspective view showing a transfer unit partially broken away.

【図4】カッティングユニットを一部破断して示す斜視
図。
FIG. 4 is a perspective view showing a cutting unit partially broken away.

【図5】カッタの駆動機構を概略的に示す側面図。FIG. 5 is a side view schematically showing a drive mechanism of the cutter.

【図6】カッタの作用を示す説明図。FIG. 6 is an explanatory view showing the action of the cutter.

【図7】カッタの作用を拡大して示す説明図。FIG. 7 is an explanatory view showing an enlarged operation of the cutter.

【図8】カッタの作用を拡大して示す説明図。FIG. 8 is an explanatory view showing an enlarged operation of the cutter.

【図9】挟持プレ−ト及びその周辺部を拡大して示す斜
視図。
FIG. 9 is an enlarged perspective view showing a sandwiching plate and its peripheral portion.

【図10】挟持プレ−ト及びその周辺部を示す斜視図。FIG. 10 is a perspective view showing a sandwiching plate and its peripheral portion.

【図11】静電除去の様子を示す説明図。FIG. 11 is an explanatory diagram showing how static electricity is removed.

【図12】トレイ案内ユニットを一部破断して示す斜視
図。
FIG. 12 is a perspective view showing a tray guide unit partially broken away.

【図13】カッタの刃の変形例を示す説明図。FIG. 13 is an explanatory diagram showing a modified example of the cutter blade.

【図14】本発明の第2の実施例の要部を示す斜視図。FIG. 14 is a perspective view showing a main part of a second embodiment of the present invention.

【図15】図14中のIV−IV線に沿った断面図。15 is a sectional view taken along line IV-IV in FIG.

【図16】本発明の第3の実施例の要部を示す斜視図。FIG. 16 is a perspective view showing a main part of a third embodiment of the present invention.

【図17】図16中のV−V線に沿った断面図。FIG. 17 is a cross-sectional view taken along the line VV in FIG.

【図18】本発明の第4の実施例の要部を示す斜視図。FIG. 18 is a perspective view showing a main part of a fourth embodiment of the present invention.

【図19】本発明の第4の実施例の作用を示す説明図。FIG. 19 is an explanatory view showing the operation of the fourth embodiment of the present invention.

【図20】本発明の第4の実施例の作用を示す説明図。FIG. 20 is an explanatory view showing the operation of the fourth embodiment of the present invention.

【図21】本発明の第4の実施例の作用を示す説明図。FIG. 21 is an explanatory view showing the operation of the fourth embodiment of the present invention.

【図22】変形例を示す斜視図。FIG. 22 is a perspective view showing a modified example.

【図23】(a)〜(c)は従来のへき開作業を順に示
す説明図。
23 (a) to 23 (c) are explanatory views sequentially showing a conventional cleaving operation.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…結晶バ−(短冊状ワ−ク)、3…チップ、11…へ
き開装置、15…トランスファユニット(チップ整列手
段)、16…カッティングユニット、17…顕微鏡ユニ
ット(画像認識ユニット、欠陥検出手段)、18…トレ
イ案内ユニット(チップ整列手段)、29…カッタ、3
2a、32b…挟持プレ−ト、33…カッタ、45a、
45b…挟持傾斜面(傾斜面)、49a、49b…逃げ
溝、50a、50b…挟持爪部(爪部)45…バ−トレ
イ(ワ−クトレイ)、46…チップトレイ。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Crystal bar (rectangular work), 3 ... Chip, 11 ... Cleaving device, 15 ... Transfer unit (chip alignment means), 16 ... Cutting unit, 17 ... Microscope unit (image recognition unit, defect detection means) , 18 ... Tray guide unit (chip aligning means), 29 ... Cutter, 3
2a, 32b ... sandwiching plate, 33 ... cutter, 45a,
45b ... sandwiching inclined surface (inclined surface), 49a, 49b ... escape groove, 50a, 50b ... sandwiching claw portion (claw portion) 45 ... bar tray (work tray), 46 ... chip tray.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 短冊状のワ−クをへき開してチップを作
成する短冊状ワ−クのへき開装置において、上記チップ
を画像認識して上記チップの欠陥を検出する欠陥検出手
段と、適正なチップを取出してチップトレイ上に整列す
るチップ整列手段とを具備した短冊状ワ−クのへき開装
置。
1. A device for cleaving a strip-shaped work for cleaving a strip-shaped work to form a chip, and defect detecting means for recognizing an image of the chip to detect a defect in the chip, and an appropriate device. An apparatus for cleaving a strip-like work, comprising: chip arranging means for taking out chips and arranging them on a chip tray.
【請求項2】 上記ワ−クの角部に対して斜め上方向か
ら当たって上記ワ−クをへき開するカッタを設けたこと
を特徴とする前記[請求項1]記載の短冊状ワ−クのへ
き開装置。
2. The strip-like work according to claim 1, further comprising a cutter for cleaving the work by hitting a corner of the work from an obliquely upper direction. Cleaving device.
【請求項3】 上記ワ−クの上面に向って下降して上記
ワ−クをへき開するカッタを設けたことを特徴とする前
記[請求項1]記載の短冊状ワ−クのへき開装置。
3. The cleaving device for a strip-like work according to claim 1, further comprising a cutter which descends toward an upper surface of the work and cleaves the work.
【請求項4】 ワ−クトレイ上に並べられた短冊状のワ
−クを取出して所定位置に搬送するとともに、上記ワ−
クからへき開されたチップをチップトレイ上に整列させ
るトランスファユニットと、上記ワ−クを位置決めする
とともにカッタを揺動させながら上記ワ−クに当てて上
記ワ−クをへき開するカッティングユニットと、上記チ
ップトレイ上に整列される上記チップの像を取込む画像
認識ユニットと、上記ワ−クトレイを交換位置と搬送位
置とに移動させるとともに、上記チップトレイを複数備
えてこれらチップトレイを切換えるトレイ案内ユニット
とを具備した短冊状ワ−クのへき開装置。
4. A strip-shaped work lined up on a work tray is taken out and conveyed to a predetermined position, and at the same time, the work is formed.
A transfer unit for aligning the chips cleaved from the work on a chip tray; a cutting unit for positioning the work and cleaving the work to cleave the work while swinging the cutter; and An image recognition unit for taking in the images of the chips aligned on the chip tray, a tray guide unit for moving the work tray between the exchange position and the transport position, and having a plurality of the chip trays for switching the chip trays. A device for cleaving a strip-shaped work, which comprises:
【請求項5】 上記カッティングユニットが、短冊状の
ワ−クを挟み付けて固定する複数の挟持プレ−トと、上
記ワ−クに当って上記ワ−クをへき開するカッタとを備
え、上記挟持プレ−トが、上記ワ−クに部分的に接する
傾斜面と、上記カッタの移動経路中に位置し上記カッタ
を通過させる逃げ溝と、上記ワ−クの側に向って突出し
上記ワ−クの切離される部分を覆う爪部とを有すること
を特徴とする前記[請求項4]記載の短冊状ワ−クのへ
き開装置。
5. The cutting unit includes a plurality of holding plates for holding and fixing strip-shaped works, and a cutter for cleaving the works by hitting the works. The sandwich plate has an inclined surface that partially contacts the work, an escape groove that is located in the movement path of the cutter and that allows the cutter to pass through, and a projecting plate that projects toward the work. The device for cleaving a strip-like work according to claim 4, further comprising: a claw portion that covers a portion of the work to be separated.
【請求項6】 上記爪部を上記ワ−クに対して離間さ
せ、上記ワ−クの切離される部分を上記挟持プレ−トか
ら解放したことを特徴とする[請求項5]記載の短冊状
ワ−クのへき開装置。
6. The strip according to claim 5, wherein the claw portion is separated from the work and the cut-off portion of the work is released from the holding plate. Device for claw-shaped work.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2003068678A (en) * 2001-08-29 2003-03-07 Mitsubishi Electric Corp Apparatus and method for separating semiconductor device
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