[go: up one dir, main page]

JPH0585813A - コージライト質セラミツクスの製造法 - Google Patents

コージライト質セラミツクスの製造法

Info

Publication number
JPH0585813A
JPH0585813A JP3252110A JP25211091A JPH0585813A JP H0585813 A JPH0585813 A JP H0585813A JP 3252110 A JP3252110 A JP 3252110A JP 25211091 A JP25211091 A JP 25211091A JP H0585813 A JPH0585813 A JP H0585813A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
rate
temperature
firing
water absorption
absorption rate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP3252110A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3130979B2 (ja
Inventor
Junji Oe
純司 大江
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kyocera Corp filed Critical Kyocera Corp
Priority to JP03252110A priority Critical patent/JP3130979B2/ja
Publication of JPH0585813A publication Critical patent/JPH0585813A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3130979B2 publication Critical patent/JP3130979B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【構成】コージライト質セラミックスの焼成条件中、1
160〜1290℃の温度域において昇温速度を300
℃/時間以下とするか、または1160〜1290℃の
温度域で0.5時間以上一定温度で保持し、さらに13
00〜1440℃の温度で0.5〜24時間保持して、
焼成する。 【効果】焼結体の焼成収縮率、吸水率を高くするととも
に、1160〜1290℃の温度域における昇温速度ま
たは保持時間を調節することによって、自由に焼成体の
焼成収縮率と吸水率をコントロールすることが可能とな
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、主にハニカム構造体と
して用いられるコージライト質セラミックスの製造法に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】コージライト(2MgO・2Al2 3
・5SiO2 )質セラミックスは 熱膨張係数が11×
10-7/℃と低いため熱衝撃に強く、また多孔体である
ため、ハニカム構造体に成形して自動車排ガス浄化用触
媒担体等として広く使用されている。このような触媒担
体として用いる場合には、吸水率が高い方が触媒を担持
しやすく、触媒の活性も高いものが得られる。したがっ
て、高吸水率の担体が求められている。
【0003】また、コージライト質セラミックスは焼成
工程において1〜3%収縮するが、この収縮率のばらつ
きは原料組成、粒子径、セラミックス粉末を成形するた
めに添加されるメチルセルロース、ポリビニルアルコー
ルなどの結合剤の種類と量、焼成前密度、焼成温度であ
ると考えられ、焼成収縮率のばらつきを小さくする為こ
れらの要因の変動を小さくする努力が払われてきた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来、コージライト質
セラミックスの吸水率を高めるためには、例えばセラミ
ックス原料に、焼成時に焼失して空隙を生成させる様な
小麦粉や米粉を混合したり(特公昭63−27303号
公報参照)、あるいはセラミックス原料100重量部に
対しグラファイトやカーボン粉末を1〜30重量部加え
ることによって調節してきた。しかし、これらのいわゆ
るポア剤を添加することは、製造コストの高騰につなが
るだけでなく、ポア剤を焼失させるために600℃以上
の温度で長時間保持する必要があった。
【0005】また、コージライト質セラミックスの焼成
収縮率を調整するために、原料組成や粒子径、成形助剤
の種類と添加量及び焼成前密度などの管理を行なってき
たが、これらを充分に管理することは困難であった。例
えばバッチ式焼成炉とトンネル型の連続式焼成炉では得
られたコージライト質セラミックスの吸水率や収縮率が
異なるといった不具合があった。
【0006】そこで、本発明はコージライト質セラミッ
クスの吸水率および焼成収縮を高めるとともに、これら
の値を自由にコントロールすることを可能ならしめるも
のである。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記に鑑みて本発明は、
化学組成がMgO10〜18重量%、SiO2 42〜5
2重量%、Al2 334〜48重量%よりなるセラミ
ック原料を所定形状に成形した後、得られた成形体を1
160〜1290℃の温度域における昇温速度を300
℃/時間以下とするか、または1160〜1290℃の
温度域で30分以上一定温度で保持し、さらに1300
〜1440℃の温度で0.5〜24時間保持して焼成す
る工程によりコージライト質セラミックスを製造するよ
うにしたものである。
【0008】本発明の製造方法では、1160〜129
0℃の温度域で保持するか、または昇温速度を小さくす
ることによって、コージライト質セラミックスの吸水率
と収縮率を高くすることができる。また、上記保持時間
や昇温速度を変化させることによって自由に吸水率と収
縮率の値調整することができる。
【0009】例えば、従来の製造方法では、吸水率2
5.4%、収縮率96.7%であるコージライト質セラ
ミックスに対し、1210℃で1.5時間保持するだけ
で吸水率を28.0%とできる。さらに、上記保持時間
を11時間とすると吸水率29.5%、収縮率97.9
7%まで高くすることができる。
【0010】本発明の方法により焼成収縮率、吸水率を
変化させ得る理由は、完全には解明されていないが、本
発明の現象を説明しうるメカニズムは 以下のように推
定される。
【0011】まず、本発明のようにAl2 3 、Mg
O、SiO2 源をカオリン、タルクに求めるような固相
合成反応において、焼成工程の途中1000℃前後でβ
-Quartz が発生するすることは知られている(T.I.Barr
y,J.M.Cox and R.Morrel:J.Mat.Sci.,13,pp594-610(197
8)参照) 。そして、1200℃以降このβ-Quartz が消
滅し、コージライト結晶が析出してくる。この系ではコ
ージライトは高温ほどよく生成する。
【0012】本発明の1160〜1290℃の温度域で
もコージライト化が起こっており、従来の製造方法では
この反応を進行させずに高温に加熱するため、未反応の
成分が一次的に溶融し、液相焼結することにより緻密化
して吸水率を低くすると考えられる。これに対し、本発
明のように1160〜1290℃の温度域にて保持また
は昇温速度を遅くしてコージライト化を進行させた場合
には、液相焼結を起こさせるような成分の残量が少な
く、また低温にて結晶化したコージライトが核となり一
層コージライト化を促進し、液相成分による焼結が起こ
りにくくなるため、焼成収縮率・吸水率を高くすること
ができると考えられる。
【0013】なお、本発明において焼成条件をコントロ
ールする温度域を1160℃〜1290℃とした理由は
1160℃以下ではコージライト化が効率的に行なわれ
ず、結果的に焼成収縮率、吸水率を高める効果が顕著で
ないからである。また、1290℃以上ではコージライ
ト化反応のスピードより液相生成による収縮のスピード
の方が早く、実質的にその効果が見られないからであ
る。
【0014】また、本発明において出発原料の化学組成
をMgO10〜18重量%、SiO2 42〜52重量
%、Al2 3 34〜48重量%としたのは、この範囲
外であると、求めるコージライト(2MgO・2Al2
3 ・5SiO2 )質セラミックスを得られないためで
ある。
【0015】
【実施例】実験例1 表1に示す原料粉末を、化学組成がMgO13.5重量
%、SiO2 49.1重量%、Al2 3 37.4重量
%となるよう混合し、成形助剤としてメチルセルロー
ス、水を混合、混練してセラミックス可塑性組成物を調
整し、この組成物を公知のハニカム成形用押出しダイス
内を通してハニカム形状に成形し、ついで乾燥し、焼成
した。
【0016】
【表1】
【0017】焼成スケジュールは図1に示すように、成
形助剤を焼失させるために350℃で1時間保持(KE
EP1)し、1150〜1360℃の間で3時間保持
(KEEP2)する以外は300℃/時間の速度で昇温
し、最高焼成温度1425℃で1時間保持(KEEP
3)して焼成した。上記KEEP2の温度を変化させ、
得られた焼成体の収縮率、吸水率を測定した結果を表2
および図2に示す。
【0018】
【表2】
【0019】この結果より明らかに、KEEP2の温度
が本発明の範囲外である比較例1、2、3、4では収縮
率97%以下、吸水率26%以下であるのに対し、本発
明実施例のNo.1−1〜1−4は明らかに収縮率97
%以上、吸水率26%以上とともに高い値を示した。し
たがって、1160〜1290℃の温度域で保持するこ
とによって、収縮率、吸水率を高くできることがわか
る。また、最も効果的であるのは上記保持温度が121
0℃前後であることもわかる。
【0020】実験例2 実験例1と同様にハニカム形状に成形し、ついで乾燥
し、焼成した。焼成スケジュールを図3に示すように、
成形助剤を焼き出すために350℃で1時間保持(KE
EP1)し、1210℃で0〜12時間保持(KEEP
2)する以外は300℃/時間の速度で昇温し、最高焼
成温度1425℃で1時間保持(KEEP3)して焼成
した。上記KEEP2の保持時間を変化させ、得られた
焼成体の収縮率、吸水率を測定した結果を表3および図
4に示す。
【0021】
【表3】
【0022】この結果より明らかに、KEEP2の保持
時間が0時間である比較例では収縮率97%以下、吸水
率26%以下であるのに対し、本発明実施例のNo.2
−1〜2−4は収縮率97%以上、吸水率27%以上と
ともに高い値を示した。また、KEEP2の保持時間が
0.5時間以上になると大幅に収縮率、吸水率の上昇が
見られ、それから徐々に上昇率は下がるものの最大12
時間で収縮率は98%、吸水率は29.5%まで上昇
し、それ以降はほとんど変化ないことがわかる。したが
って、上記KEEP2の保持時間は0.5時間以上とす
ることによって、収縮率、吸水率を高くできることがわ
かる。
【0023】実施例3 実験例1と同様にハニカム形状に成形し、ついで乾燥
し、焼成した。焼成スケジュールを図5に示すように、
1160〜1290℃の昇温時間を変化させて焼成し、
得られた焼成体の収縮率、吸水率を測定した結果を表4
に示す。
【0024】
【表4】
【0025】この結果から1160〜1290℃の温度
域で一定温度で保持するのではなく、昇温時間を300
℃/時間以下とすることによっても、上記実験例1、2
と同様に収縮率、吸水率を高くできることがわかる。
【0026】
【発明の効果】このように本発明によれば、コージライ
ト質セラミックスの焼成条件中、1160〜1290℃
の温度域において昇温速度を300℃/時間以下とする
か、または1160〜1290℃の温度域で0.5時間
以上一定温度で保持し、さらに1300〜1440℃の
温度で0.5〜24時間保持して、焼成することによっ
て、焼結体の焼成収縮率、吸水率を高くする効果を奏す
ることができる。加えるに、1160〜1290℃の温
度域における昇温速度または保持時間を調節することに
よって、自由に焼成体の焼成収縮率と吸水率をコントロ
ールできるという効果を奏することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のコージライト質セラミックスの製造方
法における焼成スケジュールを示すグラフである。
【図2】焼成中の保持温度と、得られた焼成体の収縮
率、吸水率との関係を示すグラフである。
【図3】本発明のコージライト質セラミックスの製造方
法における焼成スケジュールを示すグラフである。
【図4】焼成中の保持時間と、得られた焼成体の収縮
率、吸水率との関係を示すグラフである。
【図5】本発明の他の実施例における焼成スケジュール
を示すグラフである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】MgO10〜18重量%、SiO2 42〜
    52重量%、Al2 3 34〜48重量%の組成よりな
    るセラミック原料を所定形状に成形した後、得られた成
    形体を1160〜1290℃の温度域における昇温速度
    を300℃/時間以下とするか、または同温度域で0.
    5時間以上一定温度で保持し、さらに1300〜144
    0℃の温度で0.5〜24時間保持して焼成する工程か
    らなるコージライト質セラミックスの製造法。
JP03252110A 1991-09-30 1991-09-30 コージライト質セラミックスの製造法 Expired - Fee Related JP3130979B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP03252110A JP3130979B2 (ja) 1991-09-30 1991-09-30 コージライト質セラミックスの製造法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP03252110A JP3130979B2 (ja) 1991-09-30 1991-09-30 コージライト質セラミックスの製造法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0585813A true JPH0585813A (ja) 1993-04-06
JP3130979B2 JP3130979B2 (ja) 2001-01-31

Family

ID=17232630

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP03252110A Expired - Fee Related JP3130979B2 (ja) 1991-09-30 1991-09-30 コージライト質セラミックスの製造法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3130979B2 (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6004501A (en) * 1997-07-28 1999-12-21 Corning Incorporated Method of producing fast-fired cordierite bodies
US6048490A (en) * 1997-07-28 2000-04-11 Corning Incorporated Method of producing cordierite bodies utilizing substantially reduced firing times
WO2001077042A1 (fr) * 2000-04-07 2001-10-18 Ngk Insulators, Ltd. Structure alveolaire ceramique a cordierite presentant une faible dilatation thermique et procede de fabrication de ladite structure
WO2001077043A1 (en) * 2000-04-07 2001-10-18 Ngk Insulators, Ltd. Method for manufacturing cordierite ceramic honeycomb
JP2002080277A (ja) * 2000-06-26 2002-03-19 Kyocera Corp 誘電体磁器及びこれを用いた誘電体共振器
WO2005068396A1 (ja) * 2004-01-13 2005-07-28 Ngk Insulators, Ltd. ハニカム構造体及びその製造方法
JP2010537930A (ja) * 2007-08-31 2010-12-09 コーニング インコーポレイテッド 未焼成体から多孔質セラミック物品に焼成する方法
US7897099B2 (en) 2004-01-13 2011-03-01 Ngk Insulators, Ltd. Method for producing honeycomb structure

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6002813B1 (ja) * 2015-05-29 2016-10-05 株式会社大島造船所 船舶
CN107349968A (zh) * 2017-06-12 2017-11-17 中国汽车技术研究中心 一种scr分子筛催化剂用陶瓷载体的预处理方法及scr分子筛催化剂制备方法

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6004501A (en) * 1997-07-28 1999-12-21 Corning Incorporated Method of producing fast-fired cordierite bodies
US6048490A (en) * 1997-07-28 2000-04-11 Corning Incorporated Method of producing cordierite bodies utilizing substantially reduced firing times
US6210626B1 (en) 1997-07-28 2001-04-03 Corning Incorporated Method of producing cordierite bodies utilizing substantially reduced firing times
WO2001077042A1 (fr) * 2000-04-07 2001-10-18 Ngk Insulators, Ltd. Structure alveolaire ceramique a cordierite presentant une faible dilatation thermique et procede de fabrication de ladite structure
WO2001077043A1 (en) * 2000-04-07 2001-10-18 Ngk Insulators, Ltd. Method for manufacturing cordierite ceramic honeycomb
US6783724B2 (en) 2000-04-07 2004-08-31 Ngk Insulators, Ltd. Method of producing cordierite ceramic honeycomb
JP2002080277A (ja) * 2000-06-26 2002-03-19 Kyocera Corp 誘電体磁器及びこれを用いた誘電体共振器
WO2005068396A1 (ja) * 2004-01-13 2005-07-28 Ngk Insulators, Ltd. ハニカム構造体及びその製造方法
US7897099B2 (en) 2004-01-13 2011-03-01 Ngk Insulators, Ltd. Method for producing honeycomb structure
JP2010537930A (ja) * 2007-08-31 2010-12-09 コーニング インコーポレイテッド 未焼成体から多孔質セラミック物品に焼成する方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP3130979B2 (ja) 2001-01-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2981034B2 (ja) セラミックハニカム構造体の焼成方法
JP4869295B2 (ja) セラミックハニカム体の焼成方法
EP0037868B2 (en) Method of producing low-expansion ceramic materials
US4307198A (en) Low-expansion ceramics and method of producing the same
US8187525B2 (en) Method of firing green bodies into porous ceramic articles
JP2001524451A5 (ja)
JP2001199777A (ja) ハニカム構造体及びその製造方法
WO1999028268A1 (en) Method for firing ceramic honeycomb bodies
EP0036462B2 (en) A honeycomb structure for use as a catalyst support for automobile exhaust
JPH0669534B2 (ja) コージェライトハニカム構造体
JP3130979B2 (ja) コージライト質セラミックスの製造法
JP2543565B2 (ja) セラミックスの焼成に用いるトンネル炉
JP2004059357A (ja) 多孔質セラミックス体の製造方法
JP2553192B2 (ja) セラミックハニカム構造体の焼成法
JPS6041022B2 (ja) コ−ジエライト系セラミツクスの製造法
US4033779A (en) Non-equilibrium cordierite-alumina
JP2002160976A (ja) セラミックハニカム構造体の製造方法
JP2000302540A (ja) コージェライト質セラミックスの製造方法
JPS6049420B2 (ja) セラミツクスハニカムの製造方法
JPH01183463A (ja) チタン酸アルミニウム/β−スポジューメン/ムライト系複合焼結体及びその製造方法
JPH0226863A (ja) コージライト質セラミックスとその製造方法
JPH0149664B2 (ja)
JPS61168563A (ja) コ−ジエライト系セラミツクハニカムの製法
JPH0149665B2 (ja)
JPS58172885A (ja) 燃焼器用ハニカム状セラミツクス素子

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees