JPH0585436U - 粉体定量供給安定装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 粉体の定量供給機から断続的若しくは脈動的に排出供給
される量を平均化、安定化させる装置。 【目的】 ガス流中に粉体を散布分散させるプロセスに
於いて定量供給機の弱点を補い均一な散布を目的とす
る。 【構成】 箱又は筒状の本体ケース６を、織布や粒状物
を板状に成形して作られた通気性の仕切り板４で上下に
仕切り、本体ケース６の一端に粉体の供給口７を、もう
一端に目的ガス又はキャリヤーガスの入口８及びガスと
粉体の混合体の排出口９を設ける。仕切り板４の下側に
は通気ガスの供給口１０を設け、キャリヤーガスの一部
又は空気等を加圧して送り込む構造とする。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

ガス中の特定物質の吸着，触媒作用，塗装等の目的で、その目的ガス流中に連 続して粉体を供給分散させるプロセスは多々あり、例として、焼却廃ガス中のＨ Ｃｌ等有害物質除去のため、石灰粉を焼却廃ガス中に吹き込むプロセスがある。 供給量を均一安定化することは、その作用の効率及び粉体の消費 量の向上に大きく寄与する。

【０００２】

【従来の技術】

この様なプロセスで一般的に使用される定量供給機は、ロータリーバルブ又は 類似の構造を有する升回転形式のもので、定量供給機から排出した粉体は直接又 は、一旦空気等キヤリヤーガスに混入分散し、間接的に目的ガス流れ中に投入さ れている。

【０００３】

【考案が解決しようとする課題】

升回転形式等定容積形の供給機は取り扱う粉体の付着性，流下特性等により升 の最小寸法に限界を生じ、又機械構造上等の制約から低速運転する為供給量の脈 動又は断続は避けられず、これを用いてガス流れ中に粉体を散布する場合、不均 一が生じるのは避けられなかった。 本考案は、これらの欠点を除くためになされたものである。

【０００４】

【問題を解決するための手段】

従来のものは図１に示すように、定量供給機１より排出された粉体はシュート 部２を経て直ちに目的ガス又はキャリヤーガス流れ部３に落下又は吸引投入され る構造になっている。 本考案では図２に示すように、定量供給機１とガス流れ部３の間に図１の２に 替えて、水平又は緩傾斜した通気性仕切り板４上を流動化して流れる間にその流 れを平均化する空間５を設ける。

【０００５】

【作用】

仕切り板４上を流下する粉体は流動化するため、液体同様自らその流れの層厚 みを一定にし、均一な流れを形成しようとするため、流れの末端ではほぼ均一流 が得られる。

【０００６】

【実施例】

以下本案の実施例について図２〜図５により説明する。 （イ） 箱又は筒状の本体ケース６を、織布や粒状物を板状に成形して作られ た通気性の仕切り板４で上下に仕切る。 （ロ） 本体ケース６は、図４のように上下別個に分割することも出来る。 （ハ） 仕切り板４の上側の本体ケース６の一端には粉体の供給口７を設ける 。 （ニ） 同様に仕切り板４の上側の本体ケース６のもう一端に、目的ガス又は キャリヤーガスの入口８及びガスと粉体の混合体の排出口９を設ける。 （ホ） 仕切り板４の下側の本体ケース６には通気ガスの供給口１０を設け、 仕切り板４の上で粉体が流動化するよう適当量のキャリヤーガスの一部又は空気 等を加圧して送り込む。

【０００７】

【考案の効果】

ガス流中に連続的に粉体を投入散布するプロセスに於いては、その粉体の供給 量が一定且つ平均していることはプロセスの効率を高める上で基本的な要素であ り、本考案はこの要素を提供する。

【図面の簡単な説明】

【図１】従来の装置例図

【図２】本考案の縦断面図

【図３】図２のＡ部断面図

【図４】本体ケース６の断面図

【図５】本考案の斜視図

【符号の説明】

１．定量供給機 ２．シュート部 ３．ガス
流れ部 ４．仕切り板 ５．空間 ６．本体
ケース ７．粉体の供給口 ８．ガスの入口 ９．ガスと粉体の混合体の排出口 １０．通気ガス
の供給口

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】容積式の粉体供給機と併用し、通気性の仕
   切板で上下に仕切られた部屋の上部一端から投入された
   粉粒体を、仕切板下部から送り込んだ空気等ガス体によ
   り仕切板上で流動流下させ、仕切板上部他端にガス流体
   の通過口を設け、粉粒体を供給すべきガス体流に開放し
   た構造の定量供給安定装置。