JPH0578805B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0578805B2 JPH0578805B2 JP59094058A JP9405884A JPH0578805B2 JP H0578805 B2 JPH0578805 B2 JP H0578805B2 JP 59094058 A JP59094058 A JP 59094058A JP 9405884 A JP9405884 A JP 9405884A JP H0578805 B2 JPH0578805 B2 JP H0578805B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- electrode layer
- transparent
- electrochromic
- dispersoid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect
- G02F1/1514—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect characterised by the electrochromic material, e.g. by the electrodeposited material
- G02F1/1523—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect characterised by the electrochromic material, e.g. by the electrodeposited material comprising inorganic material
- G02F1/1524—Transition metal compounds
- G02F1/15245—Transition metal compounds based on iridium oxide or hydroxide
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は、新規なエレクトロクロミツク(以
下、「エレクトロクロミツク」をECと略す)表示
装置に関する。
〔従来の技術〕
乾電池程度の電圧を印加することによつて発色
し、逆電圧を印加することによつて元の無色透明
に消色するEC表示装置(以下、ECDと略す)は、
日の字型のセブンセグメントを用いた数字その他
の表示手段、反射率可能なミラー、透過光量可変
な窓、透過光量制御装置などに利用すべく実用化
にむけて盛んに研究されている。その1つとして
WO3,MoO3等の還元発色性EC物質を用いた
ECDがある(特公昭52−46098号参照)。
これらのEC物質が発色するには、電子(e-)
とカチオン(X+)の同時注入が必要とされ、発
色・消色に伴う反応式は次のように信じられてい
る。
消色時:WO3+ne-+nX+
↓↑ ↓↑
発色時:XnWO3
そして、カチオン(X+)としては、イオン半
径の小さく移動の容易なH+が主として使用され
ている。これらのカチオンは常時カチオンである
必要はなく、電圧が印加され電場が形成されたと
きカチオンが生ずればよいので、特にH+の場合
に水がカチオン供給源として利用される。水は電
場の中で
H2O→H++OH-
に従つて分解する。水は極く微量で十分であるら
しく、大気中から自然にWO3層に取り込まれる
量の水分でしばしば間に合う。
従つて、カチオンがH+の場合には、
(1) 発色時に、
(陰極側)WO3+ne-+nH+→HnWO3
nH2O→nH++nOH-
(陽極側)n(OH-)→n/2H2O+(n/4)
O2↑+ne-
という反応が推定され、
(2) 消色時に、
(陽極側)HnWO3→WO3+ne-+nH+
(陰極側)ne-+nH+→n/2H2↑
という反応が生じるものと推定される。
これらの式からも明らかであるが、現実にも特
公昭52−46098号は駆動により水が消費されるの
で大気中から速やかに水が供給されないと発色し
なくなり、また、駆動に伴つてO2ガスやH2ガス
が放出されるので層間剥離を生じるという欠点が
あつた。
そのため、WO3層の隣に「イオン良導体であ
る電子絶縁層と水酸化イリジウムとの2層」を設
けた全固体型ECDが提案された(特開昭56−
4679号参照)。このECDは、第3図に示すよう
に、5層構造のものである。このECDでは、水
酸化イリジウム層を電解酸化還元層として使用
し、WO3の発色時に、陽極側で
[Industrial Application Field] The present invention relates to a novel electrochromic (hereinafter, "electrochromic" is abbreviated as EC) display device. [Prior Art] An EC display device (hereinafter abbreviated as ECD) that develops color by applying a voltage similar to that of a dry cell battery and fades to its original colorless transparency by applying a reverse voltage.
Active research is being carried out to put this technology to practical use in numeric and other display means using day-shaped seven segments, reflective mirrors, windows that can change the amount of transmitted light, and devices that control the amount of transmitted light. As one of them
Using reduction chromogenic EC substances such as WO 3 and MoO 3
There is an ECD (see Special Publication No. 52-46098). For these EC substances to develop color, electrons (e - ) are required
Simultaneous injection of cation and cation (X + ) is required, and the reaction formula for color development and decolorization is believed to be as follows. When decoloring: WO 3 +ne - +nX + ↓↑ ↓↑ When developing color: XnWO 3 And as the cation (X + ), H + , which has a small ionic radius and is easily mobile, is mainly used. These cations do not need to be cations all the time, but only need to be generated when a voltage is applied and an electric field is formed, so water is used as a cation source, especially in the case of H + . Water decomposes in an electric field as H 2 O→H + +OH - . Very small amounts of water appear to be sufficient, and the amount of water that is naturally drawn into the WO 3 layer from the atmosphere is often sufficient. Therefore, when the cation is H + , (1) During color development, (cathode side) WO 3 +ne - +nH + →HnWO 3 nH 2 O→nH + +nOH - (anode side) n(OH - ) → n /2H 2 O+ (n/4)
The reaction O 2 ↑ + ne - is estimated, and (2) during decolorization, the reaction (anode side) HnWO 3 →WO 3 +ne - +nH + (cathode side) ne - +nH + →n/2H 2 ↑ occurs. It is estimated to be. As is clear from these equations, in reality, water is consumed by the drive of Tokuko No. 52-46098, so unless water is quickly supplied from the atmosphere, the color will not develop, and O 2 The disadvantage was that delamination occurred due to the release of gas and H 2 gas. Therefore, an all-solid-state ECD was proposed in which ``two layers of an electronic insulating layer, which is a good ion conductor, and iridium hydroxide'' were provided next to the three WO layers (Japanese Patent Application Laid-Open No. 1983-1999).
(See No. 4679). This ECD has a five-layer structure, as shown in FIG. In this ECD, an iridium hydroxide layer is used as an electrolytic redox layer, and during color development of WO 3 , the iridium hydroxide layer is used on the anode side.
しかしながら、従来(第3図)のECDは、長
時間の高温耐久性試験に供した場合、消色時にも
色が残り、元の無色透明にならず、そのため発消
色のコントラストが低下することが判明した。
従つて、本発明の目的は、従来のECDの欠点、
つまり長時間の高温耐久性試験に供したときのコ
ントラストの低下を改善することにある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明者らは、鋭意研究の結果、水酸化又は酸
化イリジウム層とそれに隣接する第2電極層の2
層に代えて、「イリジウム金属それ自体又はその
酸化物もしくは水酸化物からなる分散質と導電性
無機酸化物又は無機弗化物からなる透明固体分散
媒とで形成される透明分散層であつて、前記分散
質が前記透明固体分散媒中に極微粒状態で分散し
ている透明分散層であつて、かつ、真空薄膜形成
技術又は厚膜法により形成したもの」1層を第2
電極層として使用することによつて、目的が達成
されることを見い出し、本発明を成すに至つた。
よつて、本発明は、第一に、
「第1電極層、該電極層に隣接する還元発色性
エレクトロクロミツク層、及び、該エレクトロク
ロミツク層に直接に又は透明イオン導電層を介し
て隣接する第2電極層を積層してなり、かつ、前
記第1、第2電極層のうち少なくとも一方が透明
なエレクトロクロミツク表示装置において、
前記第2電極層が、イリジウム金属それ自体又
はその酸化物もしくは水酸化物からなる分散質と
導電性無機酸化物からなる透明固体分散媒とで形
成される透明分散層であり、
前記分散質が、前記透明固体分散媒中に極微粒
状態で分散しており、かつ
前記透明分散層が、真空薄膜形成技術又は厚膜
法により形成したものであることを特徴とするエ
レクトロクロミツク表示装置」を提供する。
また、第二に、本発明は、
「透明な又は反射性の第1電極層、該電極層と
同一又は略同一平面上に、第1電極層とは絶縁さ
れた形で存在する第2電極層、前記第1電極層上
に形成された還元発色性エレクトロクロミツク
層、及び、前記エレクトロクロミツク層と前記第
2電極層の両者を覆う透明イオン導電層を積層し
てなるエレクトロクロミツク表示装置において、
前記第2電極層が、イリジウム金属それ自体又
はその酸化物もしくは水酸化物からなる分散質と
導電性無機酸化物からなる透明固体分散媒とで形
成される透明分散層であり、
前記分散質が、前記透明固体分散媒中に極微粒
状態で分散しており、かつ
前記透明分散層が、真空薄膜形成技術又は厚膜
法により形成したものであることを特徴とするエ
レクトロクロミツク表示装置」
を提供する。
更にまた、本発明は、第三に、
「第1電極層、該電極層と同一又は略同一平面
上に、第1電極層とは絶縁された形で存在する第
2電極層、前記第1電極層上に形成された還元発
色性エレクトロクロミツク層、前記エレクトロク
ロミツク層と前記第2電極層の両者を覆う透明イ
オン導電層、及び、前記イオン導電層の上に形成
された第3電極層を積層してなり、かつ、前記第
1又は第3電極層の少なくとも一方が透明である
エレクトロクロミツク表示装置において、
前記第2電極層が、イリジウム金属それ自体又
はその酸化物もしくは水酸化物からなる分散質と
導電性無機酸化物からなる透明固体分散媒とで形
成される透明分散層であり、
前記分散質が、前記透明固体分散媒中に極微粒
状態で分散しており、かつ
前記透明分散層が、真空薄膜形成技術又は厚膜
法により形成したものであることを特徴とするエ
レクトロクロミツク表示装置」
を提供する。
また、本発明は、第四に、
「第1電極層、該電極層に隣接する還元発色性
エレクトロクロミツク層、及び、該エレクトロク
ロミツク層に直接に又は透明イオン導電層を介し
て隣接する第2電極層を積層してなり、かつ、前
記第1、第2電極層のうち少なくとも一方が透明
なエレクトロクロミツク表示装置において、
前記第2電極層が、イリジウム金属それ自体又
はその酸化物もしくは水酸化物からなる分散質と
無機弗化物からなる透明固体分散媒とで形成され
る透明分散層であり、
前記分散質が、前記透明固体分散媒中に極微粒
状態で分散しており、かつ
前記透明分散層が、真空薄膜形成技術又は厚膜
法により形成したものである
ことを特徴とするエレクトロクロミツク表示装
置」を提供する。
また、本発明は、第五に、
「透明な又は反射性の第1電極層、該電極層と
同一又は略同一平面上に、第1電極層とは絶縁さ
れた形で存在する第2電極層、前記第1電極層上
に形成された還元発色性エレクトロクロミツク
層、及び、前記エレクトロクロミツク層と前記第
2電極層の両者を覆う透明イオン導電層を積層し
てなるエレクトロクロミツク表示装置において、
前記第2電極層が、イリジウム金属それ自体又
はその酸化物もしくは水酸化物からなる分散質と
無機弗化物からなる透明固体分散媒とで形成され
る透明分散層であり、
前記分散質が、前記透明固体分散媒中に極微粒
状態で分散しており、かつ
前記透明分散層が、真空薄膜形成技術又は厚膜
法により形成したものである
ことを特徴とするエレクトロクロミツク表示装
置」を提供する。
また、本発明は、第六に、
「第1電極層、該電極層と同一又は略同一平面
上に、第1電極層とは絶縁された形で存在する第
2電極層、前記第1電極層上に形成された還元発
色性エレクトロクロミツク層、前記エレクトロク
ロミツク層と前記第2電極層の両者を覆う透明イ
オン導電層、及び、前記イオン導電層の上に形成
された第3電極層を積層してなり、かつ、前記第
1又は第3電極層の少なくとも一方が透明である
エレクトロクロミツク表示装置において、
前記第2電極層が、イリジウム金属それ自体又
はその酸化物もしくは水酸化物からなる分散質と
無機弗化物からなる透明固体分散媒とで形成され
る透明分散層であり、
前記分散質が、前記透明固体分散媒中に極微粒
状態で分散しており、かつ
前記透明分散層が、真空薄膜形成技術又は厚膜
法により形成したものである
ことを特徴とするエレクトロクロミツク表示装
置」を提供する。
〔作用〕
第1電極層A又は第3電極層Eのうち表示側に
使用されるものは透明でなければならないが、透
明電極材料としては、例えばSnO2,In2O3,ITO
(In2O3に5%程度のSnO2を混入させたもの)等
が使用される。
電極層A又はEの厚さとしては、透明度及び抵
抗にもよるが、一般には0.01〜0.5μmである。
従つて、電極層A又はEは、一般には、真空蒸
着、反応性蒸着、イオンプレーテイング、反応性
イオンプレーテイング、スパツタリング等の真空
薄膜形成技術で作られるが、場合によつては有機
金属化合物例えば金属アルコラートまたはそのオ
リゴマーの溶液を塗布し、焼成して被膜を形成す
る、いわゆる厚膜法で作つてもよい。
還元発色性EC層Bには既に知られているよう
に非晶質WO3又はMoO3が使用される。これらの
EC層は真空薄膜形成技術により、一般に0.01〜
数μmの厚さに形成される。
透明イオン導電層Cは、本発明のECDにメモ
リ性即ち発色させた後、電圧印加を止めても、発
色状態が保持される性質をもたせるために必要に
応じて設けられるもので、その具体的材料として
は次のものが例示される。
少量の水分を含む酸化タンタル(Ta2O5)、
酸化ニオブ(Nb2O5)、酸化ジルコニウム
(ZrO2)酸化チタン(TiO2)、酸化ハフニウム
(HfO2)、酸化イツトリウム(Y2O3)、酸化ラ
ンタン(La2O3)、酸化珪素(SiO2)フツ化マ
グネシウム、リン酸ジルコニウムあるいはこれ
らの混合物質;
塩化ナトリウム、塩化カリウム、臭化ナトリ
ウム、臭化カリウム、Na3Zr2Si2PO12,Na1+X
ZrSiXP3-XO12,Na5YSi4O12,RbAg4I5等の固
体電解質;
水又はプロトン供給源含有合成樹脂、例えば
メタクリル酸β−ヒドロキシエチルと2−アク
リルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸と
の共重合体、含水メタクリル酸メチル共重合体
のような含水ビニル重合体、含水ポリエステル
など;
電解液、例えば硫酸、塩酸、リン酸、酢酸、
酪酸、しゆう酸のような酸またはその水溶液、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなア
ルカリの水溶液、塩化ナトリウム、塩化リチウ
ム、塩化カリウム、硫酸リチウムのような固体
強電解質の水溶液;
半固体ゲル電解質、例えば電解質水溶液をゲ
ル化剤例えばポリビニルアルコール、CMC、
寒天、ゼラチン等でゲル化させたもの;
などが挙げられる。
透明イオン導電層Cは、電子の移動は阻止する
が、イオンの移動は自由であり、結局、絶縁体で
はなく良導体である。
透明イオン導電層Cは、真空薄膜形成技術、厚
膜法、封入、注入、塗布、その他の手段で形成さ
れる。C層の厚さは材料によつて0.001μm〜1mm
位まで様々となる。
本発明の第2電極層D1は、透明分散層D1か
らなり、これは、イリジウム金属それ自体又はそ
の酸化物もしくは水酸化物からなる分散質D11
と透明固体分散媒D12とからなる。分散質D1
1としては、なかでも酸化物もしくは水酸化物が
好ましい。
分散媒D12としては、SnO2,In2O3,
ITO,ZnO等の透明導電性無機酸化物、
MgF2,CaF2等の透明無機弗化物等が使用され
る。これらの中でも、SnO2,In2O3,ITO,ZnO
は、好ましいものである。
このような透明分散層D1の製造法は、真空薄
膜形成技術又は厚膜法に限られる。具体的な方法
を例示すれば次の通りである。以下の説明では、
M1は分散質D11を構成する金属単体を、M1O
はその酸化物を意味し、M2は分散媒D12を構
成する金属単体を、M2Oはその酸化物を、M2F
は弗化物を意味する。
() 抵抗加熱、電子ビーム加熱、高周波加熱
又はレーザービーム加熱による真空蒸着:
(−a) 非反応性の場合
蒸発源材料として
M1,M1O
M2O,M2F
を使用する。
尚、M1であるIrは、蒸着直後は活性状態にあ
るので大気中に曝しただけでM1Oに変わること
がある。
(−b) 反応性の場合
O2ガスの存在下に活性化手段(例えば高周波
印加又は加熱)と共に、
蒸発源材料として
M1,M1O
M2,M2O,M2F
を使用する。
() 高周波スパツタリング:
(−a) 非反応性の場合
不活性ガスの存在下に、多元又は複合ターゲツ
トとして、
M1,M1O
M2O
を使用する。
(−b) 反応性の場合
O2ガス(不活性ガスを加えてもよい)の存在
下に、多元又は複合ターゲツトとして、
M1,M1O
M2,M2O
を使用する。
() 直流スパツタリング:
O2ガス(不活性ガスを加えてもよい)の存在
下に、多元又は複合ターゲツトとして、
M1
M2
を使用する。
() その他
前記(),(),()のいずれかの方法で、
M1とM2との混合金属薄膜を形成した後、加熱例
えば250〜300℃に加熱することにより酸化して、
M1とM2Oとの分散層D1又はM1O,M2Oとの
分散層D1に変える。この方法が可能なM2とし
ては、Sn,In、などが挙げられる。
なお、先にM1Oは酸化物を意味すると述べた
が、水がM1Oの近くに存在する場合には、M1
O・H2OはM1(OH)とも書けることから理解さ
れるように、酸化物ではなく水酸化物とも受け取
れる。従つて、分散質D11を構成する金属の酸
化物と水酸化物とは厳密に区別されるものではな
い。
ともかく分散質D11は透明分散媒D12中に
極微粒状態で分散していることが必要で、そのた
めに分散層D1の製造には、上述の真空薄膜形成
技術を利用することが必要である。さもなけれ
ば、厚膜法で分散層D1を形成する。この方法
は、有機金属化合物例えば金属アルコラート又は
そのオリゴマーの混合液を塗布し、焼成して被膜
を形成するものである。これにより、透明な分散
層D1が形成される。
透明分散層D1の膜厚としては、一般に0.005μ
m〜1mm位あれば十分である。
先に述べたように還元発色性EC層Bの発色に
はカチオンが必要であり、層B、層C及び層D1
の少なくとも1層にはカチオンまたは電圧印加に
よりカチオンを放出するカチオン供給源を含ませ
ることが必要であるが、層Bおよび層D1に含ま
せる場合にはカチオンは実用上プロトン(H+)
に限られ、カチオン供給源は実用上、水(H2O)
に限られる。水の場合には、ECDの製造時に格
別含有させることをしなくとも、しばしば大気中
から自然に層中に侵入する。
反射型のECDを所望の場合には、本発明では、
第1電極層A又は第3電極層Eのいずれかを反射
性の導電性材料例えば、Al,Ag,Auなどで構成
することもできる。さもなければ、透明電極材料
を用いて、その背後に反射層を付加すればよい。
ECDは薄い板状に形成されるので、しばしば
基板上に形成されるが、基板は、どの電極側に配
置してもよい。
こうして本発明のECDが構成される。本発明
のECDは、一般には電極層A、還元発色性EC層
B、場合によりイオン導電層C及び第2電極層D
1を順次積層してなる3層又は4層構造からなる
が、第2A図及び第2B図に示すような構造であ
つてもよい。図中、Eは第3電極層(補助電極)
である。
このECDに1.0〜1.8ボルト程度の直流電圧を印
加すると0.01〜数秒で青色に発色し、この発色状
態はC層が存在する場合には電圧印加を止めても
比較的長時間保持され、同程度の逆電圧を印加す
ると、発色に要した時間よりやや短時間で元の無
色透明に戻る。時間は多少かかるが、第1、第2
電極間を短絡しても消色する。
以下、実施例により、本発明を具体的に説明す
る。
(実施例 1)
ガラス基板Sを用意し、その上に下記条件:
蒸発源:金属Sn、金属Irの2元系
真空度:5×10-6Torr
O2分圧:3×10-4Torr
基板温度:20℃
の下に高周波イオンプレーテイングにより、酸化
イリジウムを分散質D11とし酸化スズを分散媒
D12とする膜厚700Åの透明分散層D1からな
る第2電極層D1を形成させた。この電極層D1
は、20重量%の分散質D11を含み、シート抵抗
は500Ω/□であつた。
次にその上に下記条件:
蒸発源:Ta2O5
真空度:5×10-6Torr
O2分圧:4×10-4Torr
基板温度:150℃
の下に真空蒸着により、膜厚5000Åの透明イオン
導電層Cを形成させた。
その上に更に下記条件:
蒸発源:WO3
真空度:5×10-6Torr
Ar分圧:4×10-4Torr
基板温度:150℃
の下に真空蒸着により、膜厚5000Åの透明な非晶
質WO3層Bを形成させた。
最後にWO3(B)の上に下記条件:
蒸発源:In2O3とSnO2との混合物
真空度:5×10-6Torr
Ar分圧:3×10-4Torr
基板温度:150℃
の下に高周波イオンプレーテイングにより、膜厚
2500Åの透明な電極層Aを形成させた。
こうして、第1図に示す構造を有するECDが
得られた。このECDをエポキシ樹脂で封止した
後、第1電極層Aと第2電極層D1間に1.4ボル
トの発色電圧を印加すると、400msecで青色に発
色し、発色時の透過率(Tc)は波長λ=600nm
で20%であり、この発色状態は電圧印加を止めて
も保持された。次に−1.4ボルトの消色電圧を印
加すると、350msecで元の無色透明に戻り、消色
時の透過率(Tb)は85%であつた。
(実施例 2)
実施例1で用いたガラス基板Sを用意し、その
上に下記条件:
蒸発源:In2O3とSnO2との混合焼結体(ITO)
と金属Irとの複合ターゲツト
真空度:5×10-6Torr
Ar分圧:5×10-3Torr
基板温度:室温
の下に高周波スパツタリングにより、金属イリジ
ウムを分散質D11とし、In2O3とSnO2との混合
物を分散媒D12とする膜厚約500Åの透明分散
層D1からなる第2電極層D1を形成させた。こ
の電極層D1は、30重量%の分散質D11を含
み、シート抵抗は150Ω/□であつた。
以下、実施例1と同様に透明イオン導電層C、
WO3層B及び透明な第1電極層Aを順次積層し
て透過型ECDを作成した。
エポキシ樹脂で封止後、発消色テストを行う
と、+1.4Vで250msec、Tc=25%であり、−1.4V
で250msec、Tb=75%(λ=600nm)であつた。
(比較例 1)
膜厚0.15μmのITOからなる透明な第2電極層
Dの形成されたガラス基板Sを用意し、その電極
層Dの上に下記条件:
蒸発源:金属Ir
真空度:5×10-6Torr
Ar分圧:3×10-4Torr
基板温度:20℃
の下に高周波イオンプレーテイングにより、膜厚
700Åの透明な酸化イリジウム層(D0:分散媒を
含まない)を形成させた。
その後、実施例1と同様に層C、層B、層Aを
順次積層することにより第3図に示すような
ECDを作成し同様に封止した。得られたECDは
発色電圧印加前から、やや褐色に着色しており、
大気中で±1.5ボルトの0.5Hz交流電圧を500分印
加しても、完全には無色透明にならなかつた。消
色した後、発消色テストを行つたところ、
150msecでTc=15%、100msecでTb=50%であ
つた。
(高温耐久性試験)
実施例1,2及び比較例1で作成した封止
ECDを、コントラスト比を求めた上で80℃、200
時間の高温耐久性試験に供し、その後コントラス
ト比を求めた。この結果を下記第1表に示す。
尚、コントラスト比は次のように求めた。
コントラスト比=log(T1/T2)
T1=消色時の飽和透過率(%)
T2=発色時の飽和透過率(%)
測定波長λ=600nm
However, when conventional ECDs (Fig. 3) are subjected to long-term high-temperature durability tests, the color remains even when the color is erased, and the color does not become the original colorless and transparent, resulting in a decrease in the contrast between color development and fading. There was found. Therefore, it is an object of the present invention to overcome the drawbacks of conventional ECDs,
In other words, the purpose is to improve the decrease in contrast when subjected to long-term high-temperature durability tests. [Means for Solving the Problems] As a result of intensive research, the present inventors discovered that two layers of an iridium hydroxide or oxide layer and a second electrode layer adjacent thereto.
Instead of a layer, "a transparent dispersion layer formed of a dispersoid made of iridium metal itself or its oxide or hydroxide and a transparent solid dispersion medium made of a conductive inorganic oxide or inorganic fluoride," A transparent dispersion layer in which the dispersoid is dispersed in the transparent solid dispersion medium in the form of extremely fine particles, the layer being formed by a vacuum thin film formation technique or a thick film method.
It was discovered that the object can be achieved by using it as an electrode layer, and the present invention was completed. Therefore, the present invention provides, firstly, a first electrode layer, a reduction color-forming electrochromic layer adjacent to the electrode layer, and a first electrode layer adjacent to the electrochromic layer either directly or via a transparent ion conductive layer. An electrochromic display device comprising a laminated second electrode layer in which at least one of the first and second electrode layers is transparent, wherein the second electrode layer is made of iridium metal itself or an oxide thereof. Alternatively, it is a transparent dispersion layer formed of a dispersoid made of a hydroxide and a transparent solid dispersion medium made of a conductive inorganic oxide, and the dispersoid is dispersed in the transparent solid dispersion medium in the form of extremely fine particles. and the transparent dispersion layer is formed by a vacuum thin film formation technique or a thick film method.'' Second, the present invention provides a first electrode layer that is transparent or reflective; an electrochromic display comprising a layer, a reduction color forming electrochromic layer formed on the first electrode layer, and a transparent ion conductive layer covering both the electrochromic layer and the second electrode layer. In the device, the second electrode layer is a transparent dispersion layer formed of a dispersoid made of iridium metal itself or its oxide or hydroxide and a transparent solid dispersion medium made of a conductive inorganic oxide, An electrochromic display characterized in that the dispersoid is dispersed in the transparent solid dispersion medium in the form of extremely fine particles, and the transparent dispersion layer is formed by a vacuum thin film forming technique or a thick film method. equipment”. Furthermore, the present invention provides, thirdly, "a first electrode layer, a second electrode layer existing on the same or substantially the same plane as the electrode layer and insulated from the first electrode layer; A reduction color-forming electrochromic layer formed on the electrode layer, a transparent ion conductive layer covering both the electrochromic layer and the second electrode layer, and a third electrode formed on the ion conductive layer. In an electrochromic display device formed by stacking layers and in which at least one of the first or third electrode layer is transparent, the second electrode layer is made of iridium metal itself or its oxide or hydroxide. A transparent dispersion layer is formed of a dispersoid consisting of a conductive inorganic oxide and a transparent solid dispersion medium consisting of a conductive inorganic oxide, the dispersoid being dispersed in the transparent solid dispersion medium in an ultrafine state, and An electrochromic display device characterized in that the transparent dispersion layer is formed by a vacuum thin film formation technique or a thick film method. The present invention also provides, fourthly, a first electrode layer, a reduction color-forming electrochromic layer adjacent to the electrode layer, and an electrochromic layer adjacent to the electrochromic layer directly or via a transparent ion conductive layer. In an electrochromic display device in which a second electrode layer is laminated and at least one of the first and second electrode layers is transparent, the second electrode layer is made of iridium metal itself or its oxide or A transparent dispersion layer formed of a dispersoid made of a hydroxide and a transparent solid dispersion medium made of an inorganic fluoride, the dispersoid being dispersed in the transparent solid dispersion medium in the form of extremely fine particles, and The present invention provides an "electrochromic display device" characterized in that the transparent dispersion layer is formed by a vacuum thin film forming technique or a thick film method. The present invention also provides, fifthly, a "transparent or reflective first electrode layer; a second electrode that is present on the same or substantially the same plane as the electrode layer and insulated from the first electrode layer; an electrochromic display comprising a layer, a reduction color forming electrochromic layer formed on the first electrode layer, and a transparent ion conductive layer covering both the electrochromic layer and the second electrode layer. In the device, the second electrode layer is a transparent dispersion layer formed of a dispersoid made of iridium metal itself or its oxide or hydroxide, and a transparent solid dispersion medium made of an inorganic fluoride, and the dispersoid are dispersed in the transparent solid dispersion medium in the form of extremely fine particles, and the transparent dispersion layer is formed by a vacuum thin film formation technique or a thick film method. I will provide a. In addition, sixthly, the present invention provides: a first electrode layer, a second electrode layer existing on the same or substantially the same plane as the electrode layer and insulated from the first electrode layer; a reduction color forming electrochromic layer formed on the layer, a transparent ion conductive layer covering both the electrochromic layer and the second electrode layer, and a third electrode layer formed on the ion conductive layer. In an electrochromic display device in which at least one of the first or third electrode layer is transparent, the second electrode layer is made of iridium metal itself or its oxide or hydroxide. and a transparent solid dispersion medium made of an inorganic fluoride, the dispersoid is dispersed in the transparent solid dispersion medium in the form of extremely fine particles, and the transparent dispersion layer The present invention provides an electrochromic display device characterized in that the device is formed by a vacuum thin film formation technique or a thick film method. [Function] The first electrode layer A or the third electrode layer E used on the display side must be transparent, and transparent electrode materials include, for example, SnO 2 , In 2 O 3 , ITO
(In 2 O 3 mixed with about 5% SnO 2 ) etc. are used. The thickness of the electrode layer A or E is generally 0.01 to 0.5 μm, although it depends on the transparency and resistance. Therefore, the electrode layer A or E is generally made by a vacuum thin film forming technique such as vacuum evaporation, reactive evaporation, ion plating, reactive ion plating, or sputtering, but in some cases, an organometallic compound may be used. For example, it may be produced by a so-called thick film method in which a solution of a metal alcoholate or its oligomer is applied and baked to form a film. As already known, amorphous WO 3 or MoO 3 is used for the reduction color forming EC layer B. these
The EC layer is generally 0.01~
It is formed to a thickness of several μm. The transparent ion conductive layer C is provided as necessary in order to give the ECD of the present invention a memory property, that is, the property that the coloring state is maintained even after the voltage application is stopped after coloring. Examples of materials include: Tantalum oxide (Ta 2 O 5 ) containing a small amount of water,
Niobium oxide (Nb 2 O 5 ), zirconium oxide (ZrO 2 ), titanium oxide (TiO 2 ), hafnium oxide (HfO 2 ), yttrium oxide (Y 2 O 3 ), lanthanum oxide (La 2 O 3 ), silicon oxide ( SiO 2 ) Magnesium fluoride, zirconium phosphate, or a mixture thereof; Sodium chloride, potassium chloride, sodium bromide, potassium bromide, Na 3 Zr 2 Si 2 PO 12 , Na 1+X
Solid electrolyte such as ZrSi _ _ _ Copolymers with sulfonic acid, hydrated vinyl polymers such as hydrated methyl methacrylate copolymers, hydrated polyesters, etc.; Electrolytes such as sulfuric acid, hydrochloric acid, phosphoric acid, acetic acid,
acids such as butyric acid, oxalic acid or their aqueous solutions;
Aqueous solutions of alkalis such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, aqueous solutions of solid strong electrolytes such as sodium chloride, lithium chloride, potassium chloride, lithium sulfate; semi-solid gel electrolytes, such as electrolyte aqueous solutions with gelling agents such as polyvinyl alcohol, CMC,
Examples include gelatinized with agar, gelatin, etc. The transparent ion conductive layer C blocks the movement of electrons, but allows the movement of ions, and is, after all, a good conductor rather than an insulator. The transparent ion conductive layer C is formed by vacuum thin film forming technology, thick film method, encapsulation, injection, coating, or other means. The thickness of the C layer is 0.001μm to 1mm depending on the material.
The rank varies. The second electrode layer D1 of the present invention consists of a transparent dispersion layer D1, which consists of a dispersoid D11 consisting of iridium metal itself or its oxide or hydroxide.
and a transparent solid dispersion medium D12. Dispersoid D1
Among these, oxides or hydroxides are preferable as 1. As the dispersion medium D12, SnO 2 , In 2 O 3 ,
Transparent conductive inorganic oxides such as ITO and ZnO,
Transparent inorganic fluorides such as MgF 2 and CaF 2 are used. Among these, SnO 2 , In 2 O 3 , ITO, ZnO
is preferred. The method for manufacturing such a transparent dispersion layer D1 is limited to a vacuum thin film formation technique or a thick film method. A specific example of the method is as follows. In the following explanation,
M 1 is a metal element constituting the dispersoid D11, M 1 O
stands for its oxide, M 2 stands for the metal element constituting the dispersion medium D12, M 2 O stands for its oxide, M 2 F
means fluoride. () Vacuum deposition by resistance heating, electron beam heating, radio frequency heating or laser beam heating: (-a) Non-reactive case M 1 , M 1 O M 2 O, M 2 F are used as evaporation source materials. Note that Ir, which is M 1 , is in an active state immediately after vapor deposition, so it may change to M 1 O simply by being exposed to the atmosphere. (-b) In the case of reactivity, M 1 , M 1 O M 2 , M 2 O, M 2 F are used as evaporation source materials in the presence of O 2 gas and with activation means (e.g. high frequency application or heating). . () High frequency sputtering: (-a) Non-reactive case M 1 , M 1 O M 2 O is used as a multi-element or composite target in the presence of an inert gas. (-b) In the case of reactivity, M 1 , M 1 O M 2 , M 2 O are used as multiple or composite targets in the presence of O 2 gas (an inert gas may be added). () Direct current sputtering: M 1 M 2 is used as a multi-element or composite target in the presence of O 2 gas (inert gas may be added). () Others In any of the above methods (), (), (),
After forming a mixed metal thin film of M1 and M2 , it is oxidized by heating to, for example, 250 to 300°C.
The dispersion layer D1 is changed to a dispersion layer D1 of M 1 and M 2 O or a dispersion layer D1 of M 1 O and M 2 O. Examples of M 2 that can be used in this method include Sn, In, and the like. In addition, although it was mentioned earlier that M 1 O means an oxide, when water exists near M 1 O, M 1 O
As understood from the fact that O.H 2 O can also be written as M 1 (OH), it can also be interpreted as a hydroxide rather than an oxide. Therefore, the metal oxide and hydroxide constituting the dispersoid D11 are not strictly distinguished. In any case, it is necessary that the dispersoid D11 be dispersed in the transparent dispersion medium D12 in the form of extremely fine particles, and for this reason, it is necessary to use the above-mentioned vacuum thin film forming technique to manufacture the dispersion layer D1. Otherwise, the dispersed layer D1 is formed by a thick film method. In this method, a mixture of an organic metal compound such as a metal alcoholate or an oligomer thereof is applied and fired to form a film. Thereby, a transparent dispersion layer D1 is formed. The thickness of the transparent dispersion layer D1 is generally 0.005μ.
m to 1 mm is sufficient. As mentioned above, cations are necessary for coloring of the reduction color-forming EC layer B, and the layers B, C, and D1
It is necessary to include cations or a cation source that releases cations upon application of a voltage in at least one layer of the layer B and D1, but in practice, when the cations are included in layer B and layer D1, the cations are protons (H + ).
In practice, the cation source is water (H 2 O).
limited to. In the case of water, it often enters the layer naturally from the atmosphere even if it is not specifically included during the production of ECD. If a reflective ECD is desired, in the present invention,
Either the first electrode layer A or the third electrode layer E can be made of a reflective conductive material, such as Al, Ag, or Au. Otherwise, a transparent electrode material can be used and a reflective layer added behind it. Since the ECD is formed in the form of a thin plate, it is often formed on a substrate, but the substrate may be placed on any side of the electrode. In this way, the ECD of the present invention is constructed. The ECD of the present invention generally includes an electrode layer A, a reduction coloring EC layer B, optionally an ion conductive layer C, and a second electrode layer D.
It has a three-layer or four-layer structure formed by sequentially laminating layers 1 and 2, but it may also have a structure as shown in FIGS. 2A and 2B. In the figure, E is the third electrode layer (auxiliary electrode)
It is. When a DC voltage of about 1.0 to 1.8 volts is applied to this ECD, it develops a blue color in 0.01 to several seconds, and if the C layer is present, this coloring state is maintained for a relatively long time even if the voltage application is stopped, and the same level When a reverse voltage of 2 is applied, it returns to its original colorless and transparent state in a slightly shorter time than the time required for color development. It will take some time, but the first and second
The color disappears even if the electrodes are short-circuited. Hereinafter, the present invention will be specifically explained with reference to Examples. (Example 1) A glass substrate S is prepared, and the following conditions are applied on it: Evaporation source: Binary system of metal Sn and metal Ir Degree of vacuum: 5×10 -6 Torr O 2 Partial pressure: 3×10 -4 Torr A second electrode layer D1 consisting of a transparent dispersion layer D1 having a thickness of 700 Å was formed by high-frequency ion plating at a substrate temperature of 20° C., using iridium oxide as a dispersoid D11 and tin oxide as a dispersion medium D12. This electrode layer D1
contained 20% by weight of dispersoid D11 and had a sheet resistance of 500Ω/□. Next, a film with a thickness of 5000Å is deposited on top of it under the following conditions: Evaporation source: Ta 2 O 5 Degree of vacuum: 5 × 10 -6 Torr O 2 Partial pressure: 4 × 10 -4 Torr Substrate temperature: 150°C A transparent ion conductive layer C was formed. Furthermore, under the following conditions: Evaporation source: WO 3 Vacuum degree: 5 × 10 -6 Torr Ar partial pressure: 4 × 10 -4 Torr Substrate temperature: 150°C A transparent non-woven film with a thickness of 5000 Å was deposited under the following conditions: A crystalline WO 3 -layer B was formed. Finally, apply the following conditions on top of WO 3 (B): Evaporation source: mixture of In 2 O 3 and SnO 2 Degree of vacuum: 5 × 10 -6 Torr Ar partial pressure: 3 × 10 -4 Torr Substrate temperature: 150°C The film thickness is increased by high-frequency ion plating under the
A transparent electrode layer A of 2500 Å was formed. In this way, an ECD having the structure shown in FIG. 1 was obtained. After sealing this ECD with epoxy resin, when a coloring voltage of 1.4 volts is applied between the first electrode layer A and the second electrode layer D1, a blue color develops in 400 msec, and the transmittance (Tc) at the time of coloring is λ=600nm
20%, and this coloring state was maintained even after the voltage application was stopped. Next, when a decoloring voltage of -1.4 volts was applied, the original colorless and transparent state was restored in 350 msec, and the transmittance (Tb) at the time of decolorization was 85%. (Example 2) The glass substrate S used in Example 1 was prepared, and the following conditions were applied on it: Evaporation source: Mixed sintered body of In 2 O 3 and SnO 2 (ITO)
Composite target of Iridium and metal Ir Vacuum degree: 5 × 10 -6 Torr Ar partial pressure: 5 × 10 -3 Torr Substrate temperature: By high-frequency sputtering at room temperature, metallic iridium was made into a dispersoid D11, and In 2 O 3 and A second electrode layer D1 consisting of a transparent dispersion layer D1 having a thickness of about 500 Å was formed using a mixture with SnO 2 as a dispersion medium D12. This electrode layer D1 contained 30% by weight of dispersoids D11 and had a sheet resistance of 150Ω/□. Hereinafter, as in Example 1, transparent ion conductive layer C,
A transmission type ECD was prepared by sequentially laminating three WO layers B and a transparent first electrode layer A. After sealing with epoxy resin, a color development and fading test was performed, and it was +1.4V for 250msec, Tc = 25%, and -1.4V.
The time was 250 msec, and Tb = 75% (λ = 600 nm). (Comparative Example 1) A glass substrate S on which a transparent second electrode layer D made of ITO with a film thickness of 0.15 μm was formed was prepared, and the following conditions were applied on the electrode layer D: Evaporation source: metal Ir Vacuum degree: 5 ×10 -6 Torr Ar partial pressure: 3 × 10 -4 Torr The film thickness was
A transparent iridium oxide layer (D 0 :containing no dispersion medium) of 700 Å was formed. After that, as in Example 1, layer C, layer B, and layer A are sequentially laminated to form a structure as shown in FIG.
An ECD was prepared and sealed in the same manner. The obtained ECD was colored slightly brown even before the coloring voltage was applied.
Even after applying a 0.5Hz alternating current voltage of ±1.5 volts for 500 minutes in the atmosphere, it did not become completely colorless and transparent. After decoloring, I performed a decolorization test and found that
At 150 msec, Tc was 15%, and at 100 msec, Tb was 50%. (High temperature durability test) Sealing created in Examples 1 and 2 and Comparative Example 1
ECD at 80℃, 200℃ after determining the contrast ratio.
The sample was subjected to a high-temperature durability test for several hours, and then the contrast ratio was determined. The results are shown in Table 1 below.
Note that the contrast ratio was determined as follows. Contrast ratio = log (T1/T2) T1 = Saturation transmittance when decolorizing (%) T2 = Saturation transmittance when coloring (%) Measurement wavelength λ = 600nm
【表】
(発明の効果)
以上の通り、本発明によれば、製造後に着色の
ない無色透明なECDが得られ、しかも高温耐久
性試験後にコントラストの低下の極めて少ない
ECDが得られる。また、従来の水酸化イリジウ
ム層が不要であるので、ECD全体の構造が簡単
になる。高価なイリジウムの使用量も減るので安
価になる利点もある。[Table] (Effects of the Invention) As described above, according to the present invention, a colorless and transparent ECD with no coloration after production can be obtained, and there is extremely little decrease in contrast after the high temperature durability test.
ECD is obtained. Additionally, since the conventional iridium hydroxide layer is not required, the overall structure of the ECD is simplified. It also has the advantage of being cheaper because the amount of expensive iridium used is reduced.
第1図は、本発明の実施例1にかかるECDの
概略断面図である。第2A図及び第2B図は、本
発明の他の実施例にかかるECDの概略断面図で
ある。第3図は、従来のECDの概略断面図であ
る。
主要部分の符号の説明、A……第1電極層、B
……還元発色性EC層、C……透明イオン導電層、
D1……透明分散層=本発明の第2電極層、D…
…従来の第2電極層、D0……水酸化(酸化)イ
リジウム層、E……第3電極層。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an ECD according to Example 1 of the present invention. 2A and 2B are schematic cross-sectional views of an ECD according to another embodiment of the present invention. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a conventional ECD. Explanation of symbols of main parts, A...first electrode layer, B
...Reduced color forming EC layer, C...Transparent ion conductive layer,
D1...Transparent dispersion layer = second electrode layer of the present invention, D...
... Conventional second electrode layer, D 0 ... Iridium hydroxide (oxide) layer, E... Third electrode layer.
Claims (1)
エレクトロクロミツク層、及び、該エレクトロク
ロミツク層に直接に又は透明イオン導電層を介し
て隣接する第2電極層を積層してなり、かつ、前
記第1、第2電極層のうち少なくとも一方が透明
なエレクトロクロミツク表示装置において、 前記第2電極層が、イリジウム金属それ自体又
はその酸化物もしくは水酸化物からなる分散質と
導電性無機酸化物からなる透明固体分散媒とで形
成される透明分散層であり、 前記分散質が、前記透明固体分散媒中に極微粒
状態で分散しており、かつ 前記透明分散層が、真空薄膜形成技術又は厚膜
法により形成したものである ことを特徴とするエレクトロクロミツク表示装
置。 2 透明な又は反射性の第1電極層、該電極層と
同一又は略同一平面上に、第1電極層とは絶縁さ
れた形で存在する第2電極層、前記第1電極層上
に形成された還元発色性エレクトロクロミツク
層、及び、前記エレクトロクロミツク層と前記第
2電極層の両者を覆う透明イオン導電層を積層し
てなるエレクトロクロミツク表示装置において、 前記第2電極層が、イリジウム金属それ自体又
はその酸化物もしくは水酸化物からなる分散質と
導電性無機酸化物からなる透明固体分散媒とで形
成される透明分散層であり、 前記分散質が、前記透明固体分散媒中に極微粒
状態で分散しており、かつ 前記透明分散層が、真空薄膜形成技術又は厚膜
法により形成したものである ことを特徴とするエレクトロクロミツク表示装
置。 3 第1電極層、該電極層と同一又は略同一平面
上に、第1電極層とは絶縁された形で存在する第
2電極層、前記第1電極層上に形成された還元発
色性エレクトロクロミツク層、前記エレクトロク
ロミツク層と前記第2電極層の両者を覆う透明イ
オン導電層、及び、前記イオン導電層の上に形成
された第3電極層を積層してなり、かつ、前記第
1又は第3電極層の少なくとも一方が透明である
エレクトロクロミツク表示装置において、 前記第2電極層が、イリジウム金属それ自体又
はその酸化物もしくは水酸化物からなる分散質と
導電性無機酸化物からなる透明固体分散媒とで形
成される透明分散層であり、 前記分散質が、前記透明固体分散媒中に極微粒
状態で分散しており、かつ 前記透明分散層が、真空薄膜形成技術又は厚膜
法により形成したものである ことを特徴とするエレクトロクロミツク表示装
置。 4 第1電極層、該電極層に隣接する還元発色性
エレクトロクロミツク層、及び、該エレクトロク
ロミツク層に直接に又は透明イオン導電層を介し
て隣接する第2電極層を積層してなり、かつ、前
記第1、第2電極層のうち少なくとも一方が透明
なエレクトロクロミツク表示装置において、 前記第2電極層が、イリジウム金属それ自体又
はその酸化物もしくは水酸化物からなる分散質と
無機弗化物からなる透明固体分散媒とで形成され
る透明分散層であり、 前記分散質が、前記透明固体分散媒中に極微粒
状態で分散しており、かつ 前記透明分散層が、真空薄膜形成技術又は厚膜
法により形成したものである ことを特徴とするエレクトロクロミツク表示装
置。 5 透明な又は反射性の第1電極層、該電極層と
同一又は略同一平面上に、第1電極層とは絶縁さ
れた形で存在する第2電極層、前記第1電極層上
に形成された還元発色性エレクトロクロミツク
層、及び、前記エレクトロクロミツク層と前記第
2電極層の両者を覆う透明イオン導電層を積層し
てなるエレクトロクロミツク表示装置において、 前記第2電極層が、イリジウム金属それ自体又
はその酸化物もしくは水酸化物からなる分散質と
無機弗化物からなる透明固体分散媒とで形成され
る透明分散層であり、 前記分散質が、前記透明固体分散媒中に極微粒
状態で分散しており、かつ 前記透明分散層が、真空薄膜形成技術又は厚膜
法により形成したものである ことを特徴とするエレクトロクロミツク表示装
置。 6 第1電極層、該電極層と同一又は略同一平面
上に、第1電極層とは絶縁された形で存在する第
2電極層、前記第1電極層上に形成された還元発
色性エレクトロクロミツク層、前記エレクトロク
ロミツク層と前記第2電極層の両者を覆う透明イ
オン導電層、及び、前記イオン導電層の上に形成
された第3電極層を積層してなり、かつ、前記第
1又は第3電極層の少なくとも一方が透明である
エレクトロクロミツク表示装置において、 前記第2電極層が、イリジウム金属それ自体又
はその酸化物もしくは水酸化物からなる分散質と
無機弗化物からなる透明固体分散媒とで形成され
る透明分散層であり、 前記分散質が、前記透明固体分散媒中に極微粒
状態で分散しており、かつ 前記透明分散層が、真空薄膜形成技術又は厚膜
法により形成したものである ことを特徴とするエレクトロクロミツク表示装
置。[Claims] 1. A first electrode layer, a reduction color-forming electrochromic layer adjacent to the electrode layer, and a second electrode layer adjacent to the electrochromic layer either directly or via a transparent ion conductive layer. In an electrochromic display device in which at least one of the first and second electrode layers is transparent, the second electrode layer is made of iridium metal itself or its oxide or hydroxide. a transparent dispersion layer formed of a dispersoid made of a conductive inorganic oxide and a transparent solid dispersion medium made of a conductive inorganic oxide, the dispersoid being dispersed in the transparent solid dispersion medium in an ultrafine state, and the transparent An electrochromic display device characterized in that the dispersion layer is formed by a vacuum thin film formation technique or a thick film method. 2. A transparent or reflective first electrode layer, a second electrode layer existing on the same or substantially the same plane as the electrode layer and insulated from the first electrode layer, formed on the first electrode layer. In an electrochromic display device formed by laminating a reduction color forming electrochromic layer and a transparent ion conductive layer covering both the electrochromic layer and the second electrode layer, the second electrode layer comprises: A transparent dispersion layer formed of a dispersoid made of iridium metal itself or its oxide or hydroxide and a transparent solid dispersion medium made of a conductive inorganic oxide, wherein the dispersoid is in the transparent solid dispersion medium. An electrochromic display device, characterized in that the transparent dispersion layer is dispersed in an extremely fine particle state, and the transparent dispersion layer is formed by a vacuum thin film formation technique or a thick film method. 3. A first electrode layer, a second electrode layer existing on the same or substantially the same plane as the electrode layer and insulated from the first electrode layer, and a reduction color forming electrolyte formed on the first electrode layer. a chromic layer, a transparent ion conductive layer covering both the electrochromic layer and the second electrode layer, and a third electrode layer formed on the ion conductive layer; In an electrochromic display device in which at least one of the first or third electrode layer is transparent, the second electrode layer is made of a conductive inorganic oxide and a dispersoid of iridium metal itself or its oxide or hydroxide. a transparent dispersion layer formed of a transparent solid dispersion medium, the dispersoid is dispersed in the transparent solid dispersion medium in the form of extremely fine particles, and the transparent dispersion layer is formed using a vacuum thin film forming technique or a thick An electrochromic display device characterized in that it is formed by a film method. 4 Laminated with a first electrode layer, a reduction color forming electrochromic layer adjacent to the electrode layer, and a second electrode layer adjacent to the electrochromic layer directly or via a transparent ion conductive layer, Further, in the electrochromic display device in which at least one of the first and second electrode layers is transparent, the second electrode layer comprises a dispersoid made of iridium metal itself or its oxide or hydroxide, and an inorganic fluoride. a transparent dispersion layer formed of a transparent solid dispersion medium made of a chemical compound, the dispersoid is dispersed in the transparent solid dispersion medium in the form of extremely fine particles, and the transparent dispersion layer is formed using a vacuum thin film forming technique. Or an electrochromic display device characterized in that it is formed by a thick film method. 5. A transparent or reflective first electrode layer, a second electrode layer existing on the same or substantially the same plane as the electrode layer and insulated from the first electrode layer, formed on the first electrode layer. In an electrochromic display device formed by laminating a reduction color forming electrochromic layer and a transparent ion conductive layer covering both the electrochromic layer and the second electrode layer, the second electrode layer comprises: A transparent dispersion layer formed of a dispersoid made of iridium metal itself or its oxide or hydroxide and a transparent solid dispersion medium made of an inorganic fluoride, the dispersoid being polarized in the transparent solid dispersion medium. An electrochromic display device characterized in that the transparent dispersion layer is dispersed in a fine particle state and is formed by a vacuum thin film formation technique or a thick film method. 6 a first electrode layer, a second electrode layer existing on the same or substantially the same plane as the electrode layer and insulated from the first electrode layer, a reduction color forming electrolyte formed on the first electrode layer; a chromic layer, a transparent ion conductive layer covering both the electrochromic layer and the second electrode layer, and a third electrode layer formed on the ion conductive layer; In an electrochromic display device in which at least one of the first or third electrode layer is transparent, the second electrode layer is transparent and made of a dispersoid made of iridium metal itself or its oxide or hydroxide and an inorganic fluoride. a transparent dispersion layer formed with a solid dispersion medium, the dispersoid is dispersed in the transparent solid dispersion medium in the form of extremely fine particles, and the transparent dispersion layer is formed using a vacuum thin film forming technique or a thick film method. An electrochromic display device characterized in that it is formed by.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59094058A JPS60238818A (en) | 1984-05-11 | 1984-05-11 | Transmission type electrochromic display device |
US06/722,390 US4652090A (en) | 1984-04-20 | 1985-04-12 | Dispersed iridium based complementary electrochromic device |
DE3514281A DE3514281C2 (en) | 1984-04-20 | 1985-04-19 | Electrochromic device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59094058A JPS60238818A (en) | 1984-05-11 | 1984-05-11 | Transmission type electrochromic display device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60238818A JPS60238818A (en) | 1985-11-27 |
JPH0578805B2 true JPH0578805B2 (en) | 1993-10-29 |
Family
ID=14099937
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59094058A Granted JPS60238818A (en) | 1984-04-20 | 1984-05-11 | Transmission type electrochromic display device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60238818A (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6744549B2 (en) * | 2002-03-19 | 2004-06-01 | Dow Global Technologies Inc. | Electrochromic display device |
JP5783044B2 (en) * | 2009-08-31 | 2015-09-24 | コニカミノルタ株式会社 | Display element |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59180526A (en) * | 1983-03-30 | 1984-10-13 | Fujitsu Ltd | electrochromic display element |
-
1984
- 1984-05-11 JP JP59094058A patent/JPS60238818A/en active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS60238818A (en) | 1985-11-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4652090A (en) | Dispersed iridium based complementary electrochromic device | |
US5352504A (en) | Electrochromic glazing | |
US4824221A (en) | Electrochromic device | |
JPH10206902A (en) | Electrochemical device and its production | |
US4416517A (en) | Electrochromic devices including a mica layer electrolyte | |
JPS5879221A (en) | Electronic color developing display | |
JPS5940625A (en) | Electrochromic element | |
US5684619A (en) | Ruthenium oxide counterelectrode for electrochromic devices | |
JPH0578805B2 (en) | ||
JPS61103982A (en) | Electrochromic element | |
JPS59119331A (en) | Electrochromic element | |
JPH071624Y2 (en) | EC device having an electrode extraction portion on the long side | |
JP2621735B2 (en) | Method for producing transparent iridium oxide thin film by vacuum deposition | |
JPS6186733A (en) | Electrochromic element | |
JPH0522918Y2 (en) | ||
JPH0522916Y2 (en) | ||
JPH0558171B2 (en) | ||
JPS5953816A (en) | Fully solid state type electrochromic element | |
JPS6186734A (en) | Electrochromic element | |
CA1265603A (en) | Dispersed iridium based complementary electrochromic device | |
JPH055535Y2 (en) | ||
JP2707113B2 (en) | Method for manufacturing electrochromic device | |
JP2650258B2 (en) | Electrochromic device having sealing structure | |
JPS60222827A (en) | Electrochromic display device | |
JPS61103981A (en) | Electrochromic element |