JPH0562719B2 - - Google Patents
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- JPH0562719B2 JPH0562719B2 JP60005509A JP550985A JPH0562719B2 JP H0562719 B2 JPH0562719 B2 JP H0562719B2 JP 60005509 A JP60005509 A JP 60005509A JP 550985 A JP550985 A JP 550985A JP H0562719 B2 JPH0562719 B2 JP H0562719B2
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Description
【発明の詳細な説明】
[発明の分野]
本発明は、輝尽性蛍光体を利用する放射線像変
換方法に用いられる放射線像変換パネルに関する
ものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of the Invention] The present invention relates to a radiation image conversion panel used in a radiation image conversion method using a stimulable phosphor.
[発明の技術的背景]
放射線像を画像として得る方法として、従来よ
り銀塩感光材料からなる乳剤層を有する放射線写
真フイルムと増感紙との組合わせを用いる、いわ
ゆる放射線写真法が利用されている。最近、上記
放射線写真法に代る方法の一つとして、たとえば
特開昭55−12145号公報などに記載されているよ
うな、輝尽性蛍光体を用いる放射線像変換方法が
注目されるようになつた。この放射線像変換方法
は、輝尽性蛍光体を有する放射線像変換パネル
(蓄積性蛍光体シート)を利用するもので、被写
体を透過した放射線、あるいは被検体から発せら
れた放射線を該パネルの輝尽性蛍光体に吸収さ
せ、そののちに輝尽性蛍光体を可視光線、赤外線
などの電磁波(励起光)で時系列的に励起するこ
とにより、該輝尽性蛍光体中に蓄積されている放
射線エネルギーを蛍光(輝尽発光)として放出さ
せ、この蛍光を光電的に読み取つて電気信号を
得、得られた電気信号を画像化するものである。[Technical Background of the Invention] As a method of obtaining a radiation image as an image, so-called radiography has conventionally been used, which uses a combination of a radiographic film having an emulsion layer made of a silver salt photosensitive material and an intensifying screen. There is. Recently, a radiation image conversion method using a stimulable phosphor, as described in Japanese Patent Application Laid-open No. 55-12145, has been attracting attention as an alternative to the above-mentioned radiographic method. Summer. This radiation image conversion method uses a radiation image conversion panel (stimulable phosphor sheet) containing a stimulable phosphor. Accumulated in the stimulable phosphor by absorbing it into the stimulable phosphor and then exciting the stimulable phosphor with electromagnetic waves (excitation light) such as visible light or infrared rays in a time-series manner. Radiation energy is emitted as fluorescence (stimulated luminescence), this fluorescence is read photoelectrically to obtain an electrical signal, and the obtained electrical signal is converted into an image.
上述の放射線像変換方法によれば、従来の放射
線写真法による場合に比較して、はるかに少ない
被曝線量で情報量の豊富な放射線画像を得ること
ができるという利点がある。従つて、この放射線
像変換方法は、特に医療診断を目的とするX線撮
影等の直接医療用放射線撮影において利用価値の
非常に高いものである。 The above-mentioned radiation image conversion method has the advantage that a radiation image rich in information can be obtained with a much lower exposure dose than conventional radiography methods. Therefore, this radiation image conversion method has a very high utility value especially in direct medical radiography such as X-ray photography for the purpose of medical diagnosis.
上記の放射線像変換方法に用いる放射線像変換
パネルは、基本構造として、支持体と、その片面
に設けられた蛍光体層とからなるものである。な
お、この蛍光体層の支持体とは反対側の表面(支
持体に面していない側の表面)には一般に、高分
子物質からなる透明な保護膜が設けられていて、
蛍光体層を化学的な変質あるいは物理的な衝撃か
ら保護している。 The radiation image conversion panel used in the above radiation image conversion method has a basic structure consisting of a support and a phosphor layer provided on one side of the support. Note that the surface of this phosphor layer opposite to the support (the surface not facing the support) is generally provided with a transparent protective film made of a polymeric substance.
Protects the phosphor layer from chemical deterioration or physical impact.
蛍光体層は、通常、輝尽性蛍光体と、これを分
散状態で含有支持する結合剤とからなるものであ
り、この輝尽性蛍光体は、X線などの放射線を吸
収したのち、可視光線および赤外線などの電磁上
(励起光)の照射を受けると発光(輝尽発光)を
示す性質を有するものである。従つて、被写体を
透過した、あるいは被検体から発せられた放射線
は、その放射線量に比例して放射線像変換パネル
の蛍光体層に吸収され、放射線像変換パネル上に
は被写体あるいは被検体の放射線像が放射線エネ
ルギーの蓄積像として形成される。この蓄積像
は、上記電磁波で時系列的に励起することにより
輝尽発光として放射させることができ、この輝尽
発光を光電的に読み取つて電気信号に変換するこ
とにより放射線エネルギーの蓄積像を画像化する
ことが可能となる。 The phosphor layer usually consists of a stimulable phosphor and a binder that contains and supports the stimulable phosphor in a dispersed state.The stimulable phosphor absorbs radiation such as X-rays and then becomes visible. It has the property of emitting light (stimulated luminescence) when irradiated with electromagnetic (excitation light) such as light and infrared rays. Therefore, the radiation transmitted through the subject or emitted from the subject is absorbed by the phosphor layer of the radiation image conversion panel in proportion to the amount of radiation, and the radiation of the subject or subject is absorbed on the radiation image conversion panel. An image is formed as a cumulative image of radiation energy. This accumulated image can be emitted as stimulated luminescence by time-series excitation with the electromagnetic waves mentioned above, and by reading this stimulated luminescence photoelectrically and converting it into an electrical signal, the accumulated image of radiation energy can be imaged. It becomes possible to convert into
上記放射線像変換方法は、上述のように非常に
有利な画像形成方法であるが、この方法に用いら
れる放射線像変換パネルも従来の放射線写真法に
用いられる増感紙と同様に、高感度であつて、か
つ画質(鮮鋭度、粒状性など)の優れた画像を与
えるものであることが望まれる。特に、放射線像
変換方法を医療用放射線撮影に適用するに際して
は、人体の被曝線量を軽減させ、かつより多くの
情報を得る必要から、該方法に用いられる放射線
像変換パネルは感度ができるだけ高いものである
のが望ましい。 The radiation image conversion method described above is a very advantageous image forming method as described above, but the radiation image conversion panel used in this method is also highly sensitive, similar to the intensifying screen used in conventional radiography. It is desired that the image quality is high and that it provides an image with excellent image quality (sharpness, graininess, etc.). In particular, when applying a radiation image conversion method to medical radiography, it is necessary to reduce the radiation dose to the human body and obtain more information, so the radiation image conversion panel used in the method must have as high a sensitivity as possible. It is desirable that
放射線像変換パネルの感度は、基本的にはパネ
ルに含有される輝尽性蛍光体の輝尽発光量によつ
て決まり、この発光量は蛍光体自体の発光特性に
依存するのみならず、輝尽発光させるための励起
光が充分な強度を有しない場合においてはその強
度によつても異なるものである。 The sensitivity of a radiation image storage panel is basically determined by the amount of stimulated luminescence of the stimulable phosphor contained in the panel, and this amount of luminescence not only depends on the luminescent properties of the phosphor itself, but also In cases where the excitation light for exhaustion emission does not have sufficient intensity, the intensity also varies depending on the intensity.
放射線像変換方法において放射線像変換パネル
の読出しは、たとえばレーザー光などの励起光で
パネルを走査することにより行なわれているが、
励起光の一部はパネル表面で反射されるために蛍
光体層まで達せず、励起光の利用効率が充分でな
いという問題があつた。特に、励起光の光源とし
て実用化が考えられている半導体レーザー等を用
いる場合には、レーザー光の出力が小さいことか
ら、励起光の利用効率を高めてパネルの感度を向
上させることが望まれる。 In the radiation image conversion method, the radiation image conversion panel is read out by scanning the panel with excitation light such as a laser beam.
A part of the excitation light is reflected by the panel surface and therefore does not reach the phosphor layer, resulting in the problem that the excitation light is not used efficiently. In particular, when using semiconductor lasers, which are considered for practical use as excitation light sources, the output of the laser light is small, so it is desirable to increase the efficiency of excitation light use and improve panel sensitivity. .
また、パネル表面の光反射が大きい場合には、
パネル表面で反射された励起光が読出し系などで
再反射されてパネルに入射するために照射目標以
外の部分をも励起することになる(フレア現象)。
その結果、他の部分の画像情報までも一緒に読み
出されることになるために、得られる画像情報は
不正確なものとなる。この点からも、パネルの表
面反射をできる限り小さくすることが望まれてい
る。 In addition, if the light reflection on the panel surface is large,
The excitation light reflected on the panel surface is re-reflected by a readout system and enters the panel, thereby exciting parts other than the irradiation target (flare phenomenon).
As a result, image information of other parts will also be read out together, resulting in inaccurate image information. From this point of view as well, it is desired to reduce the surface reflection of the panel as much as possible.
[発明の要旨]
本発明は、感度の向上した放射線像変換パネル
を提供することをその目的とするものである。[Summary of the Invention] An object of the present invention is to provide a radiation image conversion panel with improved sensitivity.
また、本発明は、高感度であつて、かつ画質の
優れた画像を与える放射線像変換パネルを提供す
ることもその目的とするものである。 Another object of the present invention is to provide a radiation image conversion panel that is highly sensitive and provides images with excellent image quality.
本発明は、支持体、輝尽性蛍光体を含有する蛍
光体層および保護膜をこの順序で有する放射線像
変換パネルにおいて、該パネル表面に、400〜
900nmの範囲にある励起光の波長の1/4の奇数倍
(nλ/4:n=1、3、5、〜〜〜、λ=励起光
の波長)に相当する光学的膜厚を有する無機物か
らなる励起光反射防止膜が設けられていることを
特徴とする放射線像変換パネルにある。 The present invention provides a radiation image storage panel having a support, a phosphor layer containing a stimulable phosphor, and a protective film in this order, in which 400 to
An inorganic substance having an optical film thickness corresponding to an odd multiple of 1/4 of the wavelength of excitation light in the range of 900 nm (nλ/4: n = 1, 3, 5, ~ ~ ~, λ = wavelength of excitation light) A radiation image conversion panel characterized in that it is provided with an excitation light antireflection film consisting of:
なお、本発明において『パネル表面』とは励起
光の照射を受ける側の表面を意味する。一般に、
放射線像変換パネルを使用する放射線像変換方法
の実施において励起光の照射は保護膜側から行な
われており、パネル表面とは通常は保護膜表面を
指す。 Note that in the present invention, the "panel surface" means the surface on the side that is irradiated with excitation light. in general,
In implementing a radiation image conversion method using a radiation image conversion panel, excitation light is irradiated from the protective film side, and the panel surface usually refers to the surface of the protective film.
本発明は、放射線像変換パネルの励起光照射側
の表面に反射防止膜を設けることにより、励起光
に対する利用効率を高めてパネルの感度の向上を
実現するものである。すなわち、放射線像変換パ
ネルに含有される輝尽性蛍光体を輝尽発光させる
ための励起光に対して反射率の小さな材料からな
る層をパネル表面に好適な厚さで設けることによ
り、パネル表面での励起光の反射を低減して蛍光
体層における励起光の吸収を高めることができ
る。これにより、強度の弱い励起光の照射でも蛍
光体層中の蛍光体の輝尽発光量を高く保つことが
でき、パネルの感度を高めることが可能となる。 The present invention provides an antireflection film on the excitation light irradiation side surface of a radiation image conversion panel, thereby increasing the utilization efficiency of excitation light and improving the sensitivity of the panel. That is, by providing a layer made of a material with a suitable thickness on the panel surface with respect to excitation light for causing the stimulable phosphor contained in the radiation image conversion panel to stimulate luminescence, the panel surface can be improved. The absorption of the excitation light in the phosphor layer can be increased by reducing the reflection of the excitation light at the phosphor layer. This makes it possible to maintain a high amount of stimulated luminescence of the phosphor in the phosphor layer even when irradiated with weak-intensity excitation light, making it possible to increase the sensitivity of the panel.
特に、励起光が半導体レーザー光などの出力の
小さなものである場合、あるいは読出しの設定条
件等から励起光の強度を高めることができない場
合において、放射線像変換パネルの励起光に対す
る利用効率が増大することは大きな利点といえ
る。 In particular, when the excitation light has a low output such as a semiconductor laser beam, or when the intensity of the excitation light cannot be increased due to readout setting conditions, etc., the utilization efficiency of the excitation light of the radiation image conversion panel increases. This can be said to be a big advantage.
また、上述したようなパネル表面で反射された
励起光が別の物体で再反射されることに起因する
フレア現象を防ぐことができ、これにより正確な
画像情報を得ることができる。 Further, it is possible to prevent the flare phenomenon caused by the excitation light reflected on the panel surface being re-reflected by another object as described above, thereby making it possible to obtain accurate image information.
従つて、本発明のパネルを使用することによつ
て励起光源および読出し系についての制約を緩和
することができるから、パネルの読出しに用いら
れる放射線像変換装置について小型化、高速化な
どの改良が容易となり、ひいては放射線像変換方
法の適用範囲を広げることが可能となる。 Therefore, by using the panel of the present invention, restrictions on the excitation light source and the readout system can be relaxed, so improvements such as miniaturization and speeding up of the radiation image conversion device used for panel readout can be made. This makes it easier, and in turn, it becomes possible to widen the range of application of the radiation image conversion method.
さらに、反射防止膜の材料として弗化マグネシ
ウムなどの弗化物を用いた場合には、同時にパネ
ル表面の硬度を高めることができ、その防傷性を
向上させることができる。通常、放射線像変換パ
ネルから放射される蛍光(すなわち、画像情報)
の読出しは励起光の照射と同じ側から行なわれて
おり、従つてパネル表面の防傷性の向上によりパ
ネル表面の傷による画像の劣化を防ぐことが可能
となる。 Furthermore, when a fluoride such as magnesium fluoride is used as a material for the antireflection film, the hardness of the panel surface can be increased at the same time, and its scratch resistance can be improved. Fluorescence (i.e., image information) typically emitted from a radiation image conversion panel
The readout is performed from the same side as the excitation light irradiation, and therefore, the scratch resistance of the panel surface is improved, making it possible to prevent image deterioration due to scratches on the panel surface.
[発明の構成]
以上述べたような好ましい特性を持つた本発明
の放射線像変換パネルは、たとえば、次に述べる
ような方法により製造することができる。[Structure of the Invention] The radiation image conversion panel of the present invention having the preferable characteristics as described above can be manufactured, for example, by the method described below.
本発明において使用する支持体は、従来の放射
線写真法における増感紙の支持体として用いられ
ている各種の材料あるいは放射線像変換パネルの
支持体として公知の各種の材料から任意に選ぶこ
とができる。そのような材料の例としては、セル
ロースアセテート、ポリエステル、ポリエチレン
テレフタレート、ポリアミド、ポリイミド、トリ
アセテート、ポリカーボネートなどのプラスチツ
ク物質のフイルム、アルミニウム箔、アルミニウ
ム合金箔などの金属シート、通常の紙、パライタ
紙、レジンコート紙、二酸化チタンなどの顔料を
含有するピグメント紙、ポリビニルアルコールな
どをサイイジングした紙などを挙げることができ
る。ただし、放射線像変換パネルの情報記録材料
としての特性および取扱いなどを考慮した場合、
本発明において特に好ましい支持体の材料はプラ
スチツクフイルムである。このプラスチツクフイ
ルムにはカーボンブラツクなどの光吸収性物質が
練り込まれていてもよく、あるいは二酸化チタン
などの光反射性物質が練り込まれていてもよい。
前者は高鮮鋭度タイプの放射線像変換パネルに適
した支持体であり、後者は高感度タイプの放射線
像変換パネルに適した支持体である。 The support used in the present invention can be arbitrarily selected from various materials used as supports for intensifying screens in conventional radiography methods or materials known as supports for radiation image conversion panels. . Examples of such materials include films of plastic materials such as cellulose acetate, polyester, polyethylene terephthalate, polyamide, polyimide, triacetate, polycarbonate, metal sheets such as aluminum foil, aluminum alloy foil, regular paper, Paraiter paper, resins, etc. Examples include coated paper, pigment paper containing pigments such as titanium dioxide, and paper sized with polyvinyl alcohol. However, when considering the characteristics and handling of the radiation image conversion panel as an information recording material,
A particularly preferred material for the support in the present invention is plastic film. This plastic film may be kneaded with a light-absorbing substance such as carbon black, or may be kneaded with a light-reflecting substance such as titanium dioxide.
The former is a support suitable for a high sharpness type radiation image conversion panel, and the latter is a support suitable for a high sensitivity type radiation image conversion panel.
公知の放射線像変換パネルにおいては、支持体
と蛍光体層の結合を強化するため、あるいは放射
線像変換パネルとしての感度もしくは画質(鮮鋭
度、粒状性)を向上させるために、蛍光体層が設
けられる側の支持体表面にゼラチンなどの高分子
物質を塗布して接着性付与層としたり、あるいは
二酸化チタンなどの光反射性物質からなる光反射
層、もしくはカーボンブラツクなどの光吸収性物
質からなる光吸収層を設けることも行なわれてい
る。本発明で用いられる支持体についても、これ
らの各種の層を設けることができる。 In known radiation image conversion panels, a phosphor layer is provided in order to strengthen the bond between the support and the phosphor layer, or to improve the sensitivity or image quality (sharpness, granularity) of the radiation image conversion panel. A polymeric substance such as gelatin is coated on the surface of the support on the side to be coated to form an adhesion imparting layer, or a light reflective layer made of a light reflective material such as titanium dioxide, or a light absorbing material such as carbon black. Providing a light absorption layer is also practiced. The support used in the present invention can also be provided with these various layers.
さらに、特開昭58−200200号公報に記載されて
いるように、得られる画像の鮮鋭度を向上させる
目的で、支持体の蛍光体層側の表面(支持体の蛍
光体層側の表面に接着性付与層、光反射層あるい
は光吸収層などが設けられている場合には、その
表面を意味する)には、微細な凹凸が均質に形成
されていてもよい。 Furthermore, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-200200, in order to improve the sharpness of the obtained image, the surface of the support on the phosphor layer side (the surface of the support on the phosphor layer side) When an adhesion-imparting layer, a light-reflecting layer, a light-absorbing layer, etc. are provided, fine irregularities may be uniformly formed on the surface (meaning the surface thereof).
次に、支持体の上には蛍光体層が形成される。
蛍光体層は、基本的には輝尽性蛍光体の粒子を分
散状態で含有支持する結合剤からなる層である。 Next, a phosphor layer is formed on the support.
The phosphor layer is basically a layer consisting of a binder containing and supporting particles of stimulable phosphor in a dispersed state.
輝尽性蛍光体は、先に述べたように放射線を照
射した後、励起光を照射すると輝尽発光を示す蛍
光体であるが、実用的な面からは波形が400〜
900nmの範囲にある励起光によつて300〜500nm
の波長範囲の輝尽発光を示す蛍光体であることが
望ましい。本発明の放射線像変換パネルに用いら
れる輝尽性蛍光体の例としては、
米国特許第3859527号明細書に記載されている
SrS:Ce、Sm、SrS:Eu、Sm、ThO2:Er、お
よびLa2O2S:Eu、Sm、
特開昭55−12142号公報に記載されている
ZnS:Cu、Pb、BaO・xAl2O3:Eu(ただし、0.8
<x≦10)、および、M〓O・xSiO2:A(ただし、
M〓はMg、Ca、Sr、Zn、Cd、またはBaであり、
AはCe、Tb、Eu、Tm、Pb、Tl、Bi、または
Mnであり、xは0.5≦x≦2.5である)、
特開昭55−12143号公報に記載されている
(Ba1-X-y、Mgx、Cay)FX:aEu2+(ただし、X
はClおよびBrのうちの少なくとも一つであり、
xおよびYは、0<x+y≦0.6、かつxy≠0で
あり、aは、10-6≦a≦5×10-2である)、
特開昭55−12144号公報に記載されている
LnOX:xA(ただし、LnはLa、Y、Gd、および
Luのうちの少なくとも一つ、XはClおよびBrの
うちの少なくとも一つ、AはCeおよびTbのうち
の少なくとも一つ、そして、xは、0<x<0.1
である)、
特開昭55−12145号公報に記載されている
(Ba1-x、M2+ x)FX:yA(ただし、M2+はMg、
Ca、Sr、Zn、およびCdのうちの少なくとも一
つ、又はCl、Br、およびIのうちの少なくとも
一つ、AはEu、Tb、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、
Nd、Yb、およびErのうちの少なくとも一つ、そ
してxは、0≦x≦0.6、yは、0≦y≦0.2であ
る)、
特開昭55−160078号公報に記載されているM〓
FX・xA:yLn[ただし、M〓はBa、Ca、Sr、
Mg、Zn、およびCdのうちの少なくとも一種、A
はBeO、MgO、CaO、SrO、BaO、ZnO、
Al2O3、Y2O3、La2O3、In2O3、SiO2、TlO2、
ZrO2、GeO2、SnO2、Nb2O5、Ta2O5、および
ThO2のうちの少なくとも一種、LnはEu、Tb、
Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、Sm、
およびGdのうちの少なくとも一種、XはCl、
Br、およびIのうちの少なくとも一種であり、
xおよびyはそれぞれ5×10-5≦x≦0.5、およ
び0<y≦0.2である]の組成式で表わされる蛍
光体、
特開昭56−116777号公報に記載されている
(Ba1-x、M〓x(F2・aBaX2:yEu、zA[ただし、
M〓はベリリウム、マグネシウム、カルシウム、
ストロンチウム、亜鉛、およびカドミウムのうち
の少なくとも一種、Xは塩素、臭素、および沃素
のうちの少なくとも一種、Aはジルコニウムおよ
びスカンジウムのうちの少なくとも一種であり、
a、x、y、およびzはそれぞれ0.5≦a≦1.25、
0≦x≦1、10-6≦y≦2×10-1、および0<z
≦10-2である]の組成式で表わされる蛍光体、
特開昭57−23673号公報に記載されている
(Ba1-x、M〓x)F2・aBaX2:yEu、zB[ただし、
M〓はベリリウム、マグネシウム、カルシウム、
ストロンチウム、亜鉛、およびカドミウムのうち
の少なくとも一種、Xは塩素、臭素、および沃素
のうちの少なくとも一種であり、a、x、y、お
よびzはそれぞれ0.5≦a≦1.25、0≦x≦1、
10-6≦y≦2×10-1、および0<z≦2×10-1で
ある]の組成式で表わされる蛍光体、
特開昭57−23675号公報に記載されている
(Ba1-x、M〓x)F2・aBaX2:yEu、zA[ただし、
M〓はベリリウム、マグネシウム、カルシウム、
ストロンチウム、亜鉛、およびカドミウムのうち
の少なくとも一種、Xは塩素、臭素、および沃素
のうちの少なくとも一種、Aは砒素および硅素の
うちの少なくとも一種であり、a、x、y、およ
びzはそれぞれ0.5≦a≦1.25、0≦x≦1、10-6
≦y≦2×10-1、および0<y≦5×101である]
の組成式で表わされる蛍光体、
特開昭58−69281号公報に記載されている
MOX:xCe[ただし、M〓はPr、Nd、Pm、Sm、
Eu、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、およびBiか
らなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属
であり、XはClおよびBrのうちのいずれか一方
あるいはその両方であり、xは0<x<0.1であ
る]の組成式で表わされる蛍光体、
特開昭58−206678号公報に記載されている
Ba1-xMx/2Lx/2FX:yEu2+[ただし、MはLi、Na、
K、Rb、およびCsからなる群より選ばれる少な
くとも一種のアルカリ金属を表わし;Lは、Sc、
Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Gd、Tb、
Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Al、Ga、In、お
よびTlからなる群より選ばれる少なくとも一種
の三価金属を表わし;Xは、Cl、Br、およびI
からなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲ
ンを表わし;そして、xは10-2≦x≦0.5、yは
0<y≦0.1である]の組成式で表わされる蛍光
体、
特開昭59−27980号公報に記載されている
BaFX・xA:yEu2+[ただし、Xは、Cl、Br、お
よびIからなる群より選ばれる少なくとも一種の
ハロゲンであり;Aは、テトラフルオロホウ酸化
合物の焼成物であり;そして、xは10-6≦x≦
0.1、yは0<y≦0.1である]の組成式で表わさ
れる性蛍光体、
特開昭59−47289号公報に記載されている
BaFX・xA:yEu2+[ただし、Xは、Cl、Br、お
よびIからなる群より選ばれる少なくとも一種の
ハロゲンであり;Aは、ヘキサフルオロケイ酸、
ヘキサフルオロチタン酸およびヘキサフルオロジ
ルコニウム酸の一価もしくは二価金属の塩からな
るヘキサフルオロ化合物群より選ばれる少なくと
も一種の化合物の焼成物であり;そして、xは
10-6≦x≦0.1、yは0<y≦0.1である]の組成
式で表わされる蛍光体、
特開昭59−56479号公報に記載されている
BaFX・xNaX′:aEu2+[ただし、XおよびX′は、
それぞれCl、Br、およびIのうちの少なくと一
種であり、xおよびaはそれぞれ0<x≦2、お
よび0<a≦0.2である]の組成式で表わされる
蛍光体、
特開昭59−56480号公報に記載されているM〓
FX・xNaX′:yEu2+:zA[ただし、M〓は、Ba、
Sr、およびCaからなる群より選ばれる少なくと
も一種のアルカリ土類金属であり;Xおよび
X′は、それぞれCl、Br、およびIからなる群よ
り選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり;A
は、V、Cr、Mn、Fe、Co、およびNiより選ば
れる少なくとも一種の遷移金属であり;そして、
xは0<x≦2、yは0<y≦0.2、およびzは
0<z≦10-2である]の組成式で表わされる蛍光
体、
特開昭59−75200号公報に記載されているM〓
FX・aM〓X′・bM′〓X″2・cM〓X3・xA:
yEu2+[ただし、M〓はBa、Sr、およびCaからな
る群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類
金属であり;M〓はLi、Na、K、Rb、およびCs
からなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカ
リ金属であり;M′〓はBeおよびMgからなる群よ
り選ばれる少なくとも一種の二価金属であり;
M〓はAl、Ga、In、およびTlからなる群より選
ばれる少なくとも一種の三価金属であり;Aは金
属酸化物であり;XはCl、Br、およびIからな
る群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであ
り;X′、X″、およびX″は、F、Cl、Br、および
Iからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロ
ゲンであり;そして、aは0≦a≦2、bは0≦
b≦10-2、cは0≦c≦10-2、かつa+b+c≧
10-6であり;xは0<x≦0.5、yは0<y≦0.2
である]の組成式で表わされる蛍光体、
本出願人による特願昭58−193161号明細書に記
載されているM〓X2・aM〓X′2:xEu2+[ただし、
M〓はBa、SrおよびCaからなる群より選ばれる
少なくとも一種のアルカリ土類金属であり;Xお
よびX′はCl、BrおよびIからなる群より選ばれ
る少なくとも一種のハロゲンであつて、かつX≠
X′であり;そしてaは0.1≦a≦10.0、xは0<
x<0.2である]の組成式で表わされる蛍光体、
などを挙げることができる。 As mentioned above, a stimulable phosphor is a phosphor that exhibits stimulated luminescence when irradiated with radiation and then with excitation light, but from a practical standpoint, the waveform is
300-500nm with excitation light in the 900nm range
It is desirable that the phosphor exhibits stimulated luminescence in the wavelength range of . Examples of the stimulable phosphor used in the radiation image conversion panel of the present invention include those described in U.S. Pat. No. 3,859,527.
SrS: Ce, Sm, SrS: Eu, Sm, ThO 2 : Er, and La 2 O 2 S: Eu, Sm, described in JP-A-55-12142.
ZnS: Cu, Pb, BaO・xAl 2 O 3 : Eu (however, 0.8
<x≦10), and M〓O・xSiO 2 :A (however,
M〓 is Mg, Ca, Sr, Zn, Cd, or Ba,
A is Ce, Tb, Eu, Tm, Pb, Tl, Bi, or
(Ba 1-Xy , Mg x , Ca y )FX: aEu 2+ (where X
is at least one of Cl and Br,
x and Y are 0<x+y≦0.6 and xy≠0, and a is 10-6 ≦a≦5× 10-2 ), as described in JP-A-55-12144.
LnOX:xA (Ln is La, Y, Gd, and
At least one of Lu, X is at least one of Cl and Br, A is at least one of Ce and Tb, and x is 0<x<0.1
(Ba 1-x , M 2+ x ) FX:yA (where M 2+ is Mg,
At least one of Ca, Sr, Zn, and Cd, or at least one of Cl, Br, and I, A is Eu, Tb, Ce, Tm, Dy, Pr, Ho,
at least one of Nd, Yb, and Er; x is 0≦x≦0.6; y is 0≦y≦0.2);
FX・xA: yLn [However, M〓 is Ba, Ca, Sr,
At least one of Mg, Zn, and Cd, A
are BeO, MgO, CaO, SrO, BaO, ZnO,
Al 2 O 3 , Y 2 O 3 , La 2 O 3 , In 2 O 3 , SiO 2 , TlO 2 ,
ZrO 2 , GeO 2 , SnO 2 , Nb 2 O 5 , Ta 2 O 5 , and
At least one of ThO 2 , Ln is Eu, Tb,
Ce, Tm, Dy, Pr, Ho, Nd, Yb, Er, Sm,
and at least one of Gd, X is Cl,
At least one of Br, and I,
x and y are respectively 5×10 -5 ≦x≦0.5 and 0<y≦0.2] A phosphor is described in JP-A-56-116777 (Ba 1- x , M〓x(F 2・aBaX 2 :yEu, zA [however,
M〓 is beryllium, magnesium, calcium,
at least one of strontium, zinc, and cadmium; X is at least one of chlorine, bromine, and iodine; A is at least one of zirconium and scandium;
a, x, y, and z are each 0.5≦a≦1.25,
0≦x≦1, 10 -6 ≦y≦2×10 -1 , and 0<z
≦10 -2 ], described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-23673, (Ba 1-x , M〓x)F 2・aBaX 2 :yEu, zB [However, ,
M〓 is beryllium, magnesium, calcium,
at least one of strontium, zinc, and cadmium;
10 -6 ≦y≦2×10 -1 and 0<z≦2×10 -1 ] A phosphor is described in JP-A-57-23675 (Ba 1 -x , M〓x)F 2・aBaX 2 :yEu, zA [However,
M〓 is beryllium, magnesium, calcium,
at least one of strontium, zinc, and cadmium; X is at least one of chlorine, bromine, and iodine; A is at least one of arsenic and silicon; a, x, y, and z are each 0.5 ≦a≦1.25, 0≦x≦1, 10 -6
≦y≦2×10 −1 and 0<y≦5×10 1 ]
A phosphor represented by the composition formula is described in JP-A-58-69281.
MOX: xCe [However, M〓 is Pr, Nd, Pm, Sm,
At least one trivalent metal selected from the group consisting of Eu, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, and Bi, X is one or both of Cl and Br, and x is 0<x<0.1] A phosphor is described in JP-A-58-206678.
Ba 1-x M x/2 L x/2 FX:yEu 2+ [However, M is Li, Na,
Represents at least one alkali metal selected from the group consisting of K, Rb, and Cs; L is Sc,
Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Gd, Tb,
represents at least one trivalent metal selected from the group consisting of Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, Al, Ga, In, and Tl;
and x is 10 -2 ≦x≦0.5, and y is 0<y≦0.1]; JP-A-59-27980 stated in the issue
BaFX・xA:yEu 2+ [wherein, 10 -6 ≦x≦
0.1, y is 0<y≦0.1], which is described in JP-A-59-47289.
BaFX・xA:yEu 2+ [However, X is at least one halogen selected from the group consisting of Cl, Br, and I; A is hexafluorosilicic acid,
x is a fired product of at least one compound selected from the hexafluoro compound group consisting of monovalent or divalent metal salts of hexafluorotitanic acid and hexafluorozirconic acid;
10 -6 ≦x≦0.1, y is 0<y≦0.1] A phosphor described in JP-A No. 59-56479
BaFX・xNaX′: aEu 2+ [However, X and X′ are
Phosphor, each of which is at least one of Cl, Br, and I, and x and a are 0<x≦2 and 0<a≦0.2, respectively] JP-A-59- M described in Publication No. 56480〓
FX・xNaX′: yEu 2+ : zA [However, M〓 is Ba,
at least one alkaline earth metal selected from the group consisting of Sr, and Ca;
X′ is at least one kind of halogen selected from the group consisting of Cl, Br, and I;
is at least one transition metal selected from V, Cr, Mn, Fe, Co, and Ni; and
A phosphor represented by the composition formula: There M〓
FX・aM〓X′・bM′〓X″ 2・cM〓X 3・xA:
yEu 2+ [where M〓 is at least one kind of alkaline earth metal selected from the group consisting of Ba, Sr, and Ca; M〓 is Li, Na, K, Rb, and Cs
is at least one kind of alkali metal selected from the group consisting of; M′〓 is at least one divalent metal selected from the group consisting of Be and Mg;
M〓 is at least one kind of trivalent metal selected from the group consisting of Al, Ga, In, and Tl; A is a metal oxide; X is at least one kind selected from the group consisting of Cl, Br, and I. X′, X″, and X″ are at least one kind of halogen selected from the group consisting of F, Cl, Br, and I; and a is 0≦a≦2, and b is 0 ≦
b≦10 -2 , c is 0≦c≦10 -2 , and a+b+c≧
10 -6 ; x is 0<x≦0.5, y is 0<y≦0.2
A phosphor represented by the composition formula M〓X 2・aM〓
M〓 is at least one kind of alkaline earth metal selected from the group consisting of Ba, Sr, and Ca; X and X' are at least one kind of halogen selected from the group consisting of Cl, Br, and I, and ≠
X′; and a is 0.1≦a≦10.0, and x is 0<
x < 0.2], and the like.
また、上記特願昭58−193161号明細書に記載さ
れているM〓X2・aM〓X′2:xEu2 +蛍光体には、以
下に示すような添加物がM〓X2・aM〓X′21モル当
り以下の割合で含まれていてもよい。 In addition, the M〓X 2 ・aM〓X′ 2 :xEu 2 + phosphor described in the above-mentioned Japanese Patent Application No. 58-193161 contains additives as shown below. It may be contained in the following proportions per 1 mole of 〓X′ 2 .
本出願人による特願町59−22169号明細書に記
載されているbM〓X″(ただし、M〓はRbおよびCs
からなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカ
リ金属であり、X″はF、Cl、BrおよびIからな
る群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであ
り、そしてbは0<b≦10.0である);特願昭59
−77225号明細書に記載されているbKX″・cMgX
2・dM〓X′′′′3(ただし、M〓はSc、Y、La、Gd
およびLuからなる群より選ばれる少なくとも一
種の三価金属であり、X″、XおよびX′′′′はい
ずれもF、Cl、BrおよびIからなる群より選ば
れる少なくとも一種のハロゲンであり、そして
b、cおよびdはそれぞれ、0≦b≦2.0、0≦
c≦2.0、0≦d≦2.0であつて、かつ2×10-5≦
b+c+dである);特願昭59−84356号明細書に
記載されているyB(ただし、yは2×10-4≦y≦
2×10-1である);および特願昭59−84358号明細
書に記載されているbA(ただし、AはSiO2および
P2O5からなる群より選ばれる少なくとも一種の
酸化物であり、そしてbは10-4≦b≦2×10-1で
ある)
上記の輝尽性蛍光体のうちで、二価ユーロピウ
ム賦活アルカリ土類金属弗化ハロゲン化物系蛍光
体、二価ユーロピウム賦活アルカリ土類金属ハロ
ゲン化物系蛍光体および希土類元素賦活希土類オ
キシハロゲン化物系蛍光体は高輝度の輝尽発光を
示すので特に好ましい。ただし、本発明に用いら
れる輝尽性蛍光体は上述の蛍光体に限られるもの
ではなく、放射線を照射したのちに励起光を照射
した場合に、輝尽発光を示す蛍光体であればいか
なるものであつてもよい。 bM〓X″ (however, M〓 is Rb and Cs
X″ is at least one halogen selected from the group consisting of F, Cl, Br and I, and b satisfies 0<b≦10.0); Gansho 59
−bKX″/cMgX described in specification No. 77225
2・dM〓X′′′′′ 3 (However, M〓 is Sc, Y, La, Gd
and at least one kind of trivalent metal selected from the group consisting of Lu, and X'', and b, c and d are 0≦b≦2.0, 0≦
c≦2.0, 0≦d≦2.0, and 2×10 -5 ≦
b+c+d); yB described in the specification of Japanese Patent Application No. 59-84356 (however, y is 2×10 -4 ≦y≦
2×10 -1 ); and bA described in Japanese Patent Application No. 59-84358 (where A is SiO 2 and
(at least one kind of oxide selected from the group consisting of P 2 O 5 , and b is 10 -4 ≦b≦2×10 -1 ) Among the above stimulable phosphors, divalent europium activation Alkaline earth metal fluorohalide phosphors, divalent europium-activated alkaline earth metal halide phosphors, and rare earth element-activated rare earth oxyhalide phosphors are particularly preferred because they exhibit high-intensity stimulated luminescence. However, the stimulable phosphor used in the present invention is not limited to the above-mentioned phosphors, but any phosphor that exhibits stimulated luminescence when irradiated with radiation and then irradiated with excitation light. It may be.
蛍光体層の結合剤の例としては、ゼラチン等の
蛋白質、デキストラン等のポリサツカライド、ま
たはアラビアゴムのような天然高分子物質;およ
び、ポリビニルブチラール、ポリ酢酸ビニル、ニ
トロセルロース、エチルセルロース、塩化ビニリ
デン・塩化ビニルコポリマー、ポリアルキル(メ
タ)アクリレート、塩化ビニル・酢酸ビニルコポ
リマー、ポリウレタン、セルロースアセテートブ
チレート、ポリビニルアルコール、線状ポリエス
テルなどような合成高分子物質などにより代表さ
れる結合剤を挙げることができる。このような結
合剤のなかで特に好ましいものは、ニトロセルロ
ース、線状ポリエステル、ポリアルキル(メタ)
アクリレート、ニトロセルロースと線状ポリエス
テルとの混合物およびニトロセルロースとポリア
ルキル(メタ)アクリレートとの混合物である。
なお、これらの結合剤は架橋剤によつて架橋され
たものがあつてもよい。 Examples of binders for the phosphor layer include proteins such as gelatin, polysaccharides such as dextran, or natural polymeric substances such as gum arabic; and polyvinyl butyral, polyvinyl acetate, nitrocellulose, ethylcellulose, and vinylidene chloride. Binders represented by synthetic polymeric substances such as vinyl chloride copolymers, polyalkyl (meth)acrylates, vinyl chloride/vinyl acetate copolymers, polyurethanes, cellulose acetate butyrate, polyvinyl alcohol, linear polyesters, etc. can. Particularly preferred among such binders are nitrocellulose, linear polyesters, polyalkyl(meth)
acrylates, mixtures of nitrocellulose and linear polyesters and mixtures of nitrocellulose and polyalkyl (meth)acrylates.
Note that some of these binders may be crosslinked with a crosslinking agent.
蛍光体層は、たとえば、次のような方法により
支持体上に形成することができる。 The phosphor layer can be formed on the support, for example, by the following method.
まず上記の輝尽性蛍光体と結合剤とを適当な溶
剤に添加し、これを充分に混合して、結合剤溶液
中に蛍光体粒子が均一に分散した塗布液を調製す
る。 First, the above-mentioned stimulable phosphor and binder are added to a suitable solvent and thoroughly mixed to prepare a coating solution in which phosphor particles are uniformly dispersed in the binder solution.
塗布液調製用の溶剤の例としては、メタノー
ル、エタノール、n−プロパノール、n−ブタノ
ールなどの低級アルコール;メチレンクロライ
ド、エチレンクロライドなどの塩素原子含有炭化
水素;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトンなどのケトン;酢酸メチル、酢酸
エチル、酢酸ブチルどの低級脂肪酸と低級アルコ
ールとのエステル;ジオキサン、エチレングリコ
ールモノエチルエーテル、エチレグリコールモノ
メチルエーテルなどのエーテル;そして、それら
の混合物を挙げることができる。 Examples of solvents for preparing coating solutions include lower alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol, and n-butanol; chlorine-containing hydrocarbons such as methylene chloride and ethylene chloride; and ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone. Esters of lower fatty acids and lower alcohols such as methyl acetate, ethyl acetate and butyl acetate; Ethers such as dioxane, ethylene glycol monoethyl ether and ethylene glycol monomethyl ether; and mixtures thereof.
塗布液における結合剤と輝尽性蛍光体との混合
比は、目的とする放射線像変換パネルの特性、蛍
光体の種類などによつて異なるが、一般には結合
剤と蛍光体との混合比は、1:1乃至1:100(重
量比)の範囲から選ばれ、そして特に1:8乃至
1:40(重量比)の範囲から選ぶことが好ましい。 The mixing ratio of the binder and the stimulable phosphor in the coating solution varies depending on the characteristics of the intended radiation image conversion panel, the type of phosphor, etc., but in general, the mixing ratio of the binder and the stimulable phosphor is , 1:1 to 1:100 (weight ratio), and particularly preferably 1:8 to 1:40 (weight ratio).
なお、塗布液には、該塗布液中における蛍光体
の分散性を向上させるための分散剤、また、形成
後の蛍光体層中における結合剤と蛍光体との間の
結合力を向上させるための可塑剤などの種々の添
加剤が混合されていてもよい。そのような目的に
用いられる分散剤の例としては、フタル酸、ステ
アリン酸、カプロン酸、親油性界面活性剤などを
挙げることができる。そして可塑剤の例として
は、燐酸トリフエニル、燐酸トリクレジル、燐酸
ジフエニルなどの燐酸エステル;フタル酸ジエチ
ル、フタル酸ジメトキシエチルなどのフタル酸エ
ステル;グリコール酸エチルフタリルエチル、グ
リコール酸ブチルフタリルブチルなどのグリコー
ル酸エステル;そして、トリエチレングリコール
とアジピン酸とのポリエステル、ジエチレングリ
コールとコハク酸とのポリエステルなどのポリエ
チレングリコールと脂肪族二塩基酸とのポリエス
テルなどを挙げることができる。 The coating liquid also contains a dispersant to improve the dispersibility of the phosphor in the coating liquid, and a dispersant to improve the bonding force between the binder and the phosphor in the phosphor layer after formation. Various additives such as plasticizers may be mixed. Examples of dispersants used for such purposes include phthalic acid, stearic acid, caproic acid, lipophilic surfactants, and the like. Examples of plasticizers include phosphoric acid esters such as triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, and diphenyl phosphate; phthalic acid esters such as diethyl phthalate and dimethoxyethyl phthalate; and ethyl phthalyl ethyl glycolate and butyl phthalyl butyl glycolate. Glycolic acid esters; and polyesters of polyethylene glycol and aliphatic dibasic acids, such as polyesters of triethylene glycol and adipic acid and polyesters of diethylene glycol and succinic acid.
上記のようにして調製された蛍光体と結合剤と
を含有する塗布液を、次に支持体の表面に均一に
塗布することにより塗布液の塗膜を形成する。こ
の塗布操作は、通常の塗布手段、たとえば、ドク
ターブレード、ロールコーター、ナイフコーター
などを用いることにより行なうことができる。 The coating solution containing the phosphor and binder prepared as described above is then uniformly applied to the surface of the support to form a coating film of the coating solution. This coating operation can be carried out using conventional coating means such as a doctor blade, roll coater, knife coater, etc.
ついで、形成された塗膜を徐々に加熱すること
により乾燥して、支持体上への蛍光体層の形成を
完了する。蛍光体層の層厚は、目的とする放射線
像変換パネルの特性、蛍光体の種類、結合剤と蛍
光体との混合比などによつて異なるが、通常は
20μm乃至1mmとする。ただし、この層厚は50乃
至500μmとするのが好ましい。 The formed coating film is then dried by gradually heating to complete the formation of the phosphor layer on the support. The thickness of the phosphor layer varies depending on the characteristics of the intended radiation image conversion panel, the type of phosphor, the mixing ratio of binder and phosphor, etc., but usually
The thickness should be 20 μm to 1 mm. However, the thickness of this layer is preferably 50 to 500 μm.
なお、蛍光体層は必ずしも上記のように支持体
上に塗布液を直接塗布して形成する必要はなく、
たとえば、別にガラス板、金属板、プラスチツク
シートなどのシート上に塗布液を塗布し乾燥する
ことにより蛍光体層を形成した後、これを支持体
上に押圧するか、あるいは接着剤を用いるなどし
て支持体と蛍光体層とを接合してもよい。 Note that the phosphor layer does not necessarily need to be formed by directly applying a coating liquid onto the support as described above.
For example, a phosphor layer is formed by separately applying a coating liquid onto a sheet such as a glass plate, metal plate, or plastic sheet and drying, and then this is pressed onto a support, or by using an adhesive. The support and the phosphor layer may be bonded together.
次に、蛍光体層の支持体に接する側とは反対側
の表面には、蛍光体層を物理的および化学的に保
護する目的で透明な保護膜が設けられる。 Next, a transparent protective film is provided on the surface of the phosphor layer opposite to the side in contact with the support for the purpose of physically and chemically protecting the phosphor layer.
透明保護膜は、たとえば、酢酸セルロース、ニ
トロセルロースなどのセルロース誘導体;あるい
はポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラ
ール、ポリビニルホルマール、ポリカーボネー
ト、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニルコ
ポリマーなどの合成高分子物質のような透明な高
分子物質を適当な溶媒に溶解して調製した溶液を
蛍光体層の表面に塗布する方法により形成するこ
とができる。あるいはポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリア
ミドなどから別に形成した透明な薄膜を蛍光体層
の表面に適当な接着剤を用いて接着するなどの方
法によつても形成することができる。このように
して形成する透明保護膜の膜厚は、約3乃至20μ
mとするのが望ましい。 The transparent protective film may be made of a transparent material such as a cellulose derivative such as cellulose acetate or nitrocellulose; or a synthetic polymer material such as polymethyl methacrylate, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polycarbonate, polyvinyl acetate, or vinyl chloride/vinyl acetate copolymer. It can be formed by coating the surface of the phosphor layer with a solution prepared by dissolving a polymeric substance in an appropriate solvent. Alternatively, it can also be formed by a method such as adhering a transparent thin film separately formed from polyethylene terephthalate, polyethylene, polyvinylidene chloride, polyamide, etc. to the surface of the phosphor layer using a suitable adhesive. The thickness of the transparent protective film formed in this way is approximately 3 to 20 μm.
It is desirable to set it to m.
この透明保護膜上には、本発明の特徴的な要件
である反射防止膜が設けられる。 An antireflection film, which is a characteristic feature of the present invention, is provided on this transparent protective film.
本発明の放射線像変換パネルにおいて反射防止
膜に用いられる材料は、パネルに含有される輝尽
性蛍光体を輝尽発光させるための励起光に対する
反射特性が低いものである。すなわち輝尽性蛍光
体の励起波長領域の電磁波に対する反射率の小さ
なものである。同時に、上記材料は励起光に対す
る吸収特性が低い、換言すれば透過特性の優れた
ものである必要がある。そのような材料の例とし
ては、弗化マグネシウム、弗化カルシウム、氷晶
石などの無機弗化物;および酸化アルミニウム、
二酸化ジルコニウム、二酸化チタン、一酸化ケイ
素、二酸化ケイ素などの無機酸化物挙げることが
できる。これらの弗化物を用いて得られる反射防
止膜は高い表面硬度を有するために、パネル表面
(すなわち蛍光の読出し側表面)の防傷性を高め
ることができ、画質の点からも好ましい。 The material used for the antireflection film in the radiation image storage panel of the present invention has low reflection characteristics with respect to excitation light for causing the stimulable phosphor contained in the panel to stimulate luminescence. That is, it has a small reflectance to electromagnetic waves in the excitation wavelength region of the stimulable phosphor. At the same time, the material needs to have low absorption characteristics for excitation light, in other words, it needs to have excellent transmission characteristics. Examples of such materials include inorganic fluorides such as magnesium fluoride, calcium fluoride, cryolite; and aluminum oxide,
Inorganic oxides such as zirconium dioxide, titanium dioxide, silicon monoxide, and silicon dioxide can be mentioned. Since antireflection films obtained using these fluorides have high surface hardness, they can improve the scratch resistance of the panel surface (ie, the fluorescent readout side surface), which is also preferable from the viewpoint of image quality.
反射防止膜は、たとえば上記材料からなる薄膜
を真空蒸着、スパツタリングなどの方法により保
護膜表面に形成することにより設けることができ
る。反射防止膜の膜厚は反射特性の点から、励起
光の波長オーダーであるのが好ましく、特にその
光学的厚さが励起光の波長の1/4の奇数倍(波長
をλとすると、膜厚=nλ/4、n=1、3、5
…)である場合に、反射率が低くなるので好まし
い。また、反射防止膜を多層膜とすることによ
り、さらに反射率を低減することもできる。一般
に、反射防止膜の膜厚は約0.1乃至10μmとするの
が望ましい。 The antireflection film can be provided, for example, by forming a thin film made of the above-mentioned material on the surface of the protective film by a method such as vacuum deposition or sputtering. From the viewpoint of reflection characteristics, the thickness of the antireflection film is preferably on the order of the wavelength of the excitation light. In particular, the optical thickness is an odd multiple of 1/4 of the wavelength of the excitation light (where the wavelength is λ, the thickness of the film is on the order of the wavelength of the excitation light). Thickness = nλ/4, n = 1, 3, 5
) is preferable because the reflectance becomes low. Further, by forming the antireflection film into a multilayer film, the reflectance can be further reduced. Generally, it is desirable that the thickness of the antireflection film be approximately 0.1 to 10 μm.
本発明は、上述のようにして放射線像変換パネ
ルの保護膜表面に反射防止膜を付設することによ
り、励起光の利用効率を高めることができる。ま
た、励起光の強度が小さい場合であつてもパネル
の感度を高感度に維持することができる。さらに
パネル表面での励起光の反射を低減して、励起光
の再反射による読出し精度の低下を防止すること
ができる。 In the present invention, by attaching an antireflection film to the surface of the protective film of the radiation image conversion panel as described above, it is possible to improve the utilization efficiency of excitation light. Further, even when the intensity of excitation light is low, the sensitivity of the panel can be maintained at high sensitivity. Furthermore, it is possible to reduce the reflection of the excitation light on the panel surface, thereby preventing a reduction in readout accuracy due to re-reflection of the excitation light.
なお、本発明の放射線像変換パネルは、特開昭
55−163500号公報、特開昭57−96300号公報等に
記載に従つて、着色剤によつて着色されていても
よく、この着色によつて、得られる画像の鮮鋭度
を向上させることができる。また本発明の放射線
像変換パネルは、特開昭55−146447号公報に記載
されているように、同様の目的でその蛍光体層中
に白色粉体が分散されていてもよい。 Note that the radiation image conversion panel of the present invention is disclosed in Japanese Patent Application Laid-open No.
55-163500, Japanese Patent Application Laid-open No. 57-96300, etc., it may be colored with a coloring agent, and this coloring can improve the sharpness of the image obtained. can. Further, in the radiation image conversion panel of the present invention, white powder may be dispersed in the phosphor layer for the same purpose as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 146447/1983.
次に本発明の実施例および比較例を記載する。
ただし、これらの各例は本発明を制限するもので
はない。 Next, Examples and Comparative Examples of the present invention will be described.
However, these examples do not limit the invention.
[実施例]
粉末状の二価ユーロピウム賦活弗化臭化バリウ
ム蛍光体(BaFBr:0.001Eu2+)と線状ポリエス
テル樹脂との混合物にメチルエチルケトンを添加
し、さらに硝化度11.5%のニトロセルロースを添
加して蛍光体を分散状態で含有する分散液を調製
した。次に、この分散液に燐酸トリクレジル、n
−ブタノールそしてメチルエルケトンを添加した
のち、プロペラミキサーを用いて充分に撹拌混合
して、蛍光体が均一に分散し、かつ結合剤と蛍光
体との混合比が1:10、粘度が25〜35PS(25℃)
の塗布液を調製した。次に、ガラス板上に水平に
置いた二酸化チタン練り込みポリエチレンテレフ
タレートシート(支持体、厚み:250μm)の上
に塗布液をドクターブレードを用いて均一に塗布
した。そして塗布後に、塗膜が形成された支持体
を乾燥器内に入れ、この乾燥器の内部の温度を25
℃から100℃に徐々に上昇させて、塗膜の乾燥を
行なつた。このようにして、支持体上に層膜が
250μmの蛍光体層を形成した。[Example] Methyl ethyl ketone was added to a mixture of powdered divalent europium-activated barium fluoride bromide phosphor (BaFBr: 0.001Eu 2+ ) and linear polyester resin, and further nitrocellulose with a nitrification degree of 11.5% was added. A dispersion liquid containing the phosphor in a dispersed state was prepared. Next, tricresyl phosphate, n
- After adding butanol and methyl el ketone, thoroughly stir and mix using a propeller mixer to ensure that the phosphor is uniformly dispersed, and the mixing ratio of binder and phosphor is 1:10, and the viscosity is 25~25. 35PS (25℃)
A coating solution was prepared. Next, the coating solution was uniformly applied using a doctor blade onto a titanium dioxide-mixed polyethylene terephthalate sheet (support, thickness: 250 μm) placed horizontally on a glass plate. After coating, the support on which the coating film has been formed is placed in a dryer, and the temperature inside the dryer is adjusted to 25°C.
The coating film was dried by gradually increasing the temperature from °C to 100 °C. In this way, a layer film is formed on the support.
A phosphor layer of 250 μm was formed.
この蛍光体層の上にポリエチレンテレフタレー
トの透明フイルム(厚み:12μm、ポリエステル
系接着剤が付与されているもの)を接着剤層側を
下に向けて置いて接着することにより、透明保護
膜を形成した。 A transparent protective film is formed by placing and adhering a polyethylene terephthalate transparent film (thickness: 12 μm, coated with a polyester adhesive) with the adhesive layer facing down on top of this phosphor layer. did.
次いで、この透明保護膜の上に弗化マグネシウ
ム(MgF2)を真空蒸着法により、約1580Å(He
−Neレーザー光の波長632.8nmの1/4)の厚さに
付着させることにより、反射防止膜を設けた。 Next, magnesium fluoride (MgF 2 ) was deposited on this transparent protective film to a thickness of about 1580 Å (He
An anti-reflection film was provided by depositing the anti-reflection film to a thickness of 1/4 of the wavelength of -Ne laser light, 632.8 nm.
このようにして、支持体、蛍光体層、透明保護
膜および反射防止膜から構成された放射線像変換
パネルを製造した。 In this way, a radiation image storage panel was produced, which consisted of a support, a phosphor layer, a transparent protective film, and an antireflection film.
[比較例]
実施例において、保護膜上に反射防止膜を設け
ないこと以外は実施例の方法と同様の操作を行な
うことにより、支持体、蛍光体層および透明保護
膜から構成された放射線像変換パネルを製造し
た。[Comparative Example] A radiation image composed of a support, a phosphor layer, and a transparent protective film was prepared by performing the same procedure as in the example except that an antireflection film was not provided on the protective film. A conversion panel was manufactured.
次に、各放射線像変換パネルの保護膜側表面に
ついて、He−Neレーザー(632.8nm)を用いて
表面反射率を測定した。その結果、従来の放射線
像変換パネル(比較例)の表面反射率は約4%で
あつたが、本発明の放射線像変換パネル(実施
例)の表面反射率は約1.5%であり、パネル表面
での光反射が顕著に減少した。 Next, the surface reflectance of each radiation image conversion panel on the protective film side surface was measured using a He--Ne laser (632.8 nm). As a result, the surface reflectance of the conventional radiation image conversion panel (comparative example) was about 4%, but the surface reflectance of the radiation image conversion panel of the present invention (example) was about 1.5%, and the panel surface The light reflection was significantly reduced.
Claims (1)
よび保護膜をこの順序で有する放射線像変換パネ
ルにおいて、該パネル表面に、400〜900nmの範
囲にある励起光の波長の1/4の奇数倍(nλ/4:
n=1、3、5、〜〜〜、λ=励起光の波長)に
相当する光学的膜厚を有する無機物からなる励起
光反射防止膜が設けられていることを特徴とする
放射線像変換パネル。 2 励起光反射防止膜が無機弗化物からなる特許
請求の範囲第1項記載の放射線像変換パネル。 3 励起光反射防止膜が弗化マグネシウムからな
る特許請求の範囲第1項記載の放射線像変換パネ
ル。 4 励起光反射防止膜の膜厚が0.1乃至10μmの範
囲にある特許請求の範囲第1項記載の放射線像変
換パネル。[Scope of Claims] 1. A radiation image conversion panel having a support, a phosphor layer containing a stimulable phosphor, and a protective film in this order, in which excitation light in the range of 400 to 900 nm is applied to the surface of the panel. Odd multiple of 1/4 of wavelength (nλ/4:
A radiation image conversion panel characterized by being provided with an excitation light antireflection film made of an inorganic substance and having an optical thickness corresponding to n=1, 3, 5, ~~~, λ = wavelength of excitation light. . 2. The radiation image conversion panel according to claim 1, wherein the excitation light antireflection film is made of an inorganic fluoride. 3. The radiation image conversion panel according to claim 1, wherein the excitation light antireflection film is made of magnesium fluoride. 4. The radiation image conversion panel according to claim 1, wherein the excitation light antireflection film has a thickness in the range of 0.1 to 10 μm.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP550985A JPS61164200A (en) | 1985-01-14 | 1985-01-14 | Radiation image converting panel |
US06/818,239 US4645721A (en) | 1985-01-14 | 1986-01-13 | Radiation image storage panel |
EP86100417A EP0188274A3 (en) | 1985-01-14 | 1986-01-14 | Radiation image storage panel |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP550985A JPS61164200A (en) | 1985-01-14 | 1985-01-14 | Radiation image converting panel |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61164200A JPS61164200A (en) | 1986-07-24 |
JPH0562719B2 true JPH0562719B2 (en) | 1993-09-09 |
Family
ID=11613160
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP550985A Granted JPS61164200A (en) | 1985-01-14 | 1985-01-14 | Radiation image converting panel |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JPS61164200A (en) |
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---|---|---|---|---|
JPH0652320B2 (en) * | 1985-05-17 | 1994-07-06 | 富士写真フイルム株式会社 | Radiation image conversion panel |
Family Cites Families (5)
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---|---|---|---|---|
JPS5920474B2 (en) * | 1975-01-29 | 1984-05-14 | キヤノン株式会社 | Heat mode laser beam recording method |
JPS5928478B2 (en) * | 1975-05-19 | 1984-07-13 | キヤノン株式会社 | Laser beam recording method |
JPS5747330A (en) * | 1980-09-04 | 1982-03-18 | Toray Ind Inc | Production of transparent material with antireflexion properties |
JPS56123502A (en) * | 1981-01-26 | 1981-09-28 | Canon Inc | Multilayer reflection preventing film |
JPS59126531A (en) * | 1983-01-10 | 1984-07-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | Laser light scanning optical system |
-
1985
- 1985-01-14 JP JP550985A patent/JPS61164200A/en active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61164200A (en) | 1986-07-24 |
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