JPH05509030A - Novel method and apparatus for uniformly coating structures - Google Patents
Novel method and apparatus for uniformly coating structuresInfo
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。 (57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】 構造物を一様にコートするための新規な方法及び装置[技術分野] 本発明は全般的に、構造物を一様にコートするための新しい方法及びそのための 装置に関する。一様にコートしたい構造物をコーティング流体に完全に浸漬し、 コーティング流体を制御された形で排出させる。構造物に所望の一様なコーティ ング構成を与えるため、コーティング流体の排出が制御されるように独自の形で 傾斜または湾曲した、少なくとも1つの側壁を有する装置も提供される。[Detailed description of the invention] Novel method and apparatus for uniformly coating structures [Technical field] The present invention generally relates to a new method for uniformly coating a structure and a new method for uniformly coating a structure. Regarding equipment. Completely immerse the structure you want to uniformly coat in the coating fluid, Controlled evacuation of coating fluid. The desired uniform coating on the structure Uniquely designed to provide controlled coating fluid discharge to provide coating configurations A device having at least one sidewall that is sloped or curved is also provided.
[背景技術] 当業界では、半導体構成要素など様々な構造物をコーティング層でコートしなけ ればならないことが時にある。各構造物ごとに異なるコーティング方法またはコ ーティング工程の組合せを使用しなければならないことがある。[Background technology] In the industry, various structures such as semiconductor components must be coated with coating layers. There are times when you have to. Different coating methods or coatings for each structure. It may be necessary to use a combination of mapping processes.
大面積の平坦な基板の表面を有機ポリマーなどのコーティング材料でコートする には、通常数のような技法が使用されている。、1)ディップ・コーティング、 2)ローラ・コーティング、3)スピン・コーティング、4)スプレィ・コーテ ィング。ディップ・コーティング法とスプレィ・コーティング法によって得られ るコーティングは、厚さのばらつきが極端に大きく、100%にも達することも ある。ローラ・コーティング法は、非常に一様なコーティングを生成するが、装 置が複雑かつ高価で、薄くて柔軟な無支持基板をコートし操作する能力が限られ ている。スピン・コーティング法にも類似の制限がある。Coating the surface of a large flat substrate with a coating material such as an organic polymer techniques such as regular numbers are used. , 1) dip coating, 2) Roller coating, 3) Spin coating, 4) Spray coating ing. Obtained by dip coating method and spray coating method. The thickness of these coatings has extremely large variations, sometimes reaching 100%. be. Roller coating methods produce very uniform coatings, but They are complex and expensive to install and have limited ability to coat and manipulate thin, flexible, unsupported substrates. ing. Spin coating methods have similar limitations.
溶媒をベースとする系から被膜をコートするには、通常数の方法の1つを使用す る、1)ディップ・コーティング、2)ローラ・コーティング、3)スピン・コ ーティング、4)スプレィ・コーティング、薄い金Jl!箔など大型で平坦な基 板を、例えばレジストで両面にコートしなければならない場合、スピン・コーテ ィング、スプレィ・コーティング、ローラ・コーティングなどのコーティング方 法は、以下の理由から実用的でない。Coating films from solvent-based systems typically uses one of a number of methods. 1) dip coating, 2) roller coating, 3) spin coating 4) Spray coating, thin gold Jl! Large, flat substrates such as foil If the board has to be coated on both sides, for example with resist, spin coat Coating methods such as coating, spray coating, and roller coating The law is impractical for the following reasons.
ローラ・コーティング装置は薄い繊細な基板を扱うようには設計されていず、両 面をコートしなければならない時は特にそうである。また、通常は基板の両面を 同時にコートできない。Roller coating equipment is not designed to handle thin, delicate substrates and This is especially true when surfaces must be coated. Also, usually both sides of the board are Cannot coat at the same time.
スピン・コーティングは、例えば一時に1面しかコートできない。反対側をコー トするために基板を裏返しにする時、コート済みの側をチャックにもたせかけて 保持するので、その側が損傷を受ける可能性がある。With spin coating, for example, only one surface can be coated at a time. Coat the other side. When flipping the board over for coating, lean the coated side against the chuck. Because it is held, there is a possibility of damage to that side.
スプレィ・コーティングは、一様な厚さの被膜を形成しない。この工程は、環境 及び産業衛生上の要件を満たさなければならないため、高価な装置が必要であり 、また通常は各面を別々にコートする。Spray coating does not form a coating of uniform thickness. This process is environmentally friendly. and industrial hygiene requirements, requiring expensive equipment. , and usually each side is coated separately.
従来のディップ・コーティングは、製造環境で両面を同時にコートする最も実用 的な方法である。しかし、現況技術の装置は、均一な厚さの被膜を生成できない 。通常、基板の下部が他の領域よりも被膜が厚くなる。この現象は、湿った被膜 を引き上げて部分硬化または乾燥させる時に被膜が流れるために生じるもので、 いわゆるウェッジを形成し、コートされた基板の下縁部に付着したコーティング 材料がビードを形成する。Traditional dip coating is the most practical way to coat both sides simultaneously in a manufacturing environment. This is a typical method. However, current state of the art equipment cannot produce coatings of uniform thickness. . Typically, the bottom portion of the substrate has a thicker coating than other areas. This phenomenon occurs when a wet film This occurs because the film flows when it is pulled up and partially cured or dried. Coating adhered to the lower edge of the coated substrate, forming a so-called wedge The material forms a bead.
ディップ・コーティング法の枠内で、異なる3種の方法があり、現在コーティン グ業界で使用されている。1つは、コーテイング槽を固定し、コートしようとす る基板または構造物をコーティング流体に浸たしそこから引き出す方法である。Within the framework of the dip coating method, there are currently three different methods for coating. used in the gaming industry. One is to fix the coating tank and try to coat it. In this method, a substrate or structure to be coated is immersed in a coating fluid and then withdrawn from the coating fluid.
もう1つは、基板を固定し、コーテイング槽を基板から離れさせる方法である。The other method is to fix the substrate and move the coating bath away from the substrate.
第3の方法は、コーテイング槽もコートしようとする基板も固定したままにし、 コーティング流体に力を加えて基板を通過させるものである。ディップ・コーテ ィングの第4の方法は、これまでは評価されていず今回本発明者等が発見したも ので、コーテイング槽も構造物も固定しておき、コーティング流体を排出させて 構造物をコートする方法である。The third method is to keep both the coating tank and the substrate to be coated fixed; A force is applied to the coating fluid to force it to pass through the substrate. dip coate The fourth method, which has not been evaluated so far, was discovered by the present inventors. Therefore, fix the coating tank and structure and drain the coating fluid. This is a method of coating structures.
ボルシコ(Bo ru 5hko)の米国特許第2515489号明細書は、基 板を浸漬し、容器から引き出す例である。US Pat. No. 2,515,489 to Boru 5hko is based on This is an example of dipping a board and pulling it out from a container.
ポリマーの熱溶液を使って基板を加熱する。加熱されたコート済み基板を、コー ティング・チャンバ中で槽の上方に吊るし、この槽で溶媒蒸気を凝縮させて溶液 に戻す。得られた基板上の被膜は一様でな(、そのため、微細な幾何形状を必要 とし、したがって被膜コーティングのより最適な制御及び一様性が必要とされて いる電子工業の分野では特に、用途が限られている。A hot solution of the polymer is used to heat the substrate. The heated coated substrate is The solution is Return to The resulting coating on the substrate is not uniform (therefore, fine geometries are required). and therefore more optimal control and uniformity of film coating is needed. It has limited applications, especially in the electronic industry.
ステルター(Stelter)の米国特許第4004045号明細書は、基板を 移動させ、コーテイング槽は固定しておく、片面コーティング・システムの例で ある。Stelter, US Pat. No. 4,004,045, discloses that the substrate An example of a single-sided coating system where the coating is moved and the coating bath is fixed. be.
グンジ他の米国特許第4275098号明細書は、基板を移動させ、コーテイン グ槽は固定しておく、もう1つの例である。その設計が従来型であり、コーティ ングの手段として浸漬を使用しているため、得られる被膜は一様でなく、極めて 平坦で許容差の厳しい構造物では特にそうである。U.S. Pat. No. 4,275,098 to Gunzi et al. This is another example of keeping the tank fixed. Its design is conventional and coati Because immersion is used as a method of coating, the resulting coating is uneven and extremely This is especially true for flat, tight-tolerance structures.
トジx (To z i e r)他の米国特許第4341817号明細書は、 コーテイング槽を固定位置に保ちながら、構造物をコートする典型的な例である 。上記特許では、バルブがコートされる速度を変えることにより、コーティング 付着速度が変わる。これによって様々な厚さの被膜が生成され、最も必要なとこ ろがより厚い保護コーティングになる。U.S. Patent No. 4,341,817 by Toz i e r et al. This is a typical example of coating a structure while keeping the coating bath in a fixed position. . In the above patent, coating is achieved by varying the speed at which the valve is coated. Adhesion speed changes. This produces coatings of varying thickness, allowing you to apply the coating where you need it most. This creates a thicker protective coating.
ウェーバ−(We b e r)の米国特許第4438159号明細書は、コー トしようとする品物をコーティング媒体中に挿入し、そこから取り出し、液とコ ーテイング槽は固定したままにしてお(、もう1つの例である。多焦点レンズを ニーティング溶液に浸漬し、溶液の温度に達するまで放置する。Weber U.S. Pat. No. 4,438,159 Insert the item to be coated into the coating medium, remove it, and remove the liquid from the coating medium. The holding tank remains fixed (another example is when using a multifocal lens). Immerse in the neating solution and leave until it reaches the temperature of the solution.
レンズを引き上げて、余分の材料が対象表面から流れ落ちるまでコーティング溶 媒で飽和した雰囲気中に保持する、ディップ・コーティングの物理的特性のため に、「ウェッジ型」コーティングが生じる。Pull up on the lens and let the coating melt until excess material runs off the target surface. Due to the physical properties of the dip coating, it is kept in an atmosphere saturated with media. , a "wedge-shaped" coating results.
複数チャンバ装置を使って、液をあるチャンバから別のチャンバに移動させ、基 板を静止した槽中で浸漬しそこから取り出す方法が、アルブレヒト(Albre cht)他の米国特許第4783348号明細書に教示されている。基板を単層 メンプランを通すことにより、連続した単層が形成され、部品分がコートされる 。液面レベルを一定に保ちながら、連続して同時に槽内の液体の排出と補充を行 うことも論じられている。Multi-chamber equipment is used to move liquid from one chamber to another and A method of immersing a plate in a stationary tank and removing it from there was developed by Albrecht. cht) et al. U.S. Pat. No. 4,783,348. Single layer substrate By passing it through the membrane plan, a continuous single layer is formed and the parts are coated. . Continuously drains and refills the liquid in the tank while keeping the liquid level constant. It is also discussed.
ワタナベ他の米国特許第4597931号明細書は、基板を固定し、槽を機械的 に移動させる、ディップ・コーティング法の良い例である。油圧ピストンでコー テイング槽を一定速度で移動させ、底部が最も厚い、厚さの変化するコーティン グが得られる。また、油圧ピストンの移動速度を維持する制御システムも記述さ れている。上記特許の基本原理は本発明と逆である。上記特許の概念は被膜の厚 さのばらつきを助長することであるが、本発明の目標は一様なコーティングを得 ることである。U.S. Pat. No. 4,597,931 to Watanabe et al. fixes the substrate and mechanically closes the tank. This is a good example of the dip coating method. Corrected by hydraulic piston The coating bath is moved at a constant speed to produce a coating of varying thickness, with the coating being thickest at the bottom. can be obtained. The control system that maintains the speed of movement of the hydraulic piston is also described. It is. The basic principle of the above patent is opposite to the present invention. The concept of the above patent is based on the thickness of the coating. The goal of the present invention is to obtain a uniform coating. Is Rukoto.
ミャザキ他の米国特許第4840821号明細書は、基本ち、コーティング流体 の表面を持ち上げて、基板の平坦表面と直接接触させ、槽は静止させてお(とい う、もう1つのディップ・コーティングの方法を示している。U.S. Pat. No. 4,840,821 to Miyazaki et al. basically describes the coating fluid. Lift the surface of the substrate so that it is in direct contact with the flat surface of the substrate, and keep the bath stationary. This shows another dip coating method.
イシモリ他の米国特許第4085010号明細書は、粉末状材料をめっき溶液中 に均一に分散させた電気めっき用装置中で、めっきしようとする対象物を直立位 置に保持するとし)う、現在ディップ・コーティング業界で使用されている第3 の方法を記載している。めっき溶液を異なる3つの貯蔵槽のうちの1つからポン プでめっき槽の底部に導入する。溶液公家上方に流れて、円筒形めっき槽を取り 囲む再循環槽にあふれ入る。U.S. Pat. No. 4,085,010 to Ishimori et al. The object to be plated is placed in an upright position in an electroplating apparatus with a uniform distribution of The third type currently used in the dip coating industry is It describes the method. Pump the plating solution from one of three different reservoirs. into the bottom of the plating tank. The solution flows upwards and takes up a cylindrical plating tank. It overflows into the surrounding recirculation tank.
先に述べたように、従来のディップ・コーティングなどi二よって溶液から引き 上げることにより基板にポリマーを塗布したとき、乾燥した被膜は厚さが一様で はない。乾式コーティングの厚さプロフィルは、基板の上端が最も薄く下端が最 も厚い、テーパ付きウェッジの形をとる。この変動は2倍(二もなることもある 。As mentioned earlier, conventional methods such as dip coating can remove When the polymer is applied to the substrate by heating, the dried film has a uniform thickness. There isn't. The dry coating thickness profile is thinnest at the top of the substrate and thinnest at the bottom. It also takes the form of a thick, tapered wedge. This fluctuation is twice (sometimes even twice) .
このウェッジ状態が生じるのは、溶媒が蒸発する際に湿ったポリマーが流れ、し たがって厚さの変動に応じて蒸発率力檻変化する時である。溶媒が失われるにつ れて表面張力と粘性が増大し、流れが遅くなり、それによって基板の下部(二よ り大量のポリマーが残ることになる。This wedge condition occurs because the wet polymer flows as the solvent evaporates. Therefore, this is when the evaporation rate changes as the thickness changes. As solvent is lost surface tension and viscosity increase, slowing the flow and thereby lowering the A large amount of polymer will remain.
こうした変化を補償する、あるいはそれに反応するためζ二は、表面全体にわた って部品の引き上げ速度を変える必要力也ある。この問題を解決する1つの方法 は、高価で複雑な制御システムをディップ・コーティング装置に組み込むことで ある。To compensate for or react to these changes, ζ2 is There is also a need to change the pulling speed of parts. One way to solve this problem By incorporating expensive and complex control systems into dip coating equipment, be.
液体力学(ポリマーの供給速度と回収速度を制御する)と独自の外被設計を組み 合わせることにより、制御が容易で非常に再現性のよい、構造物上でのレジスト の一様なコーティングが実現できることを今回発見した。Combines hydrodynamics (controlling polymer feed and withdrawal rates) with a unique jacket design By combining resists on structures that are easy to control and highly reproducible We have now discovered that it is possible to achieve a uniform coating.
本発明は、大面積にわたって極めて一様で完全なコート済み被膜を生成する、実 用的な手法を実証するものである。さらに、溶液を入れた槽のプロフィルまたは 液体の排出速度あるいはその両方によって、コーティング速度を変えることがで きる。The present invention provides practical solutions that produce extremely uniform and complete coated films over large areas. It demonstrates a practical method. In addition, the profile of the tank containing the solution or Coating speed can be varied by liquid drainage rate or both. Wear.
本明細書では、「構造物」という用語は、形状、寸法あるいは形がどうであれ、 コートされることのできる任意の物品を意味する。As used herein, the term "structure" refers to means any article that can be coated.
コートしようとする構造物は固定位置に保持することが好ましく、槽設計の動力 学的特性と流体特性を使用して、所定の速度で流体を供給しかつ回収して、構造 物をコートする。The structure to be coated is preferably held in a fixed position, and the power of the bath design The chemical and fluid properties are used to supply and withdraw fluid at a predetermined rate to coat things.
本発明の教示を使用することの1つの利点は、複雑な電気機械式制御システムを 使用せずに、構造物の一様なコーティングが行えることである。可燃性液体、フ ォトレジストなどのコーティング流体の存在下で爆発や火災を起こす恐れのある 電子回路が使用されていないことも重要である。One advantage of using the teachings of the present invention is that complex electromechanical control systems It is possible to uniformly coat the structure without using it. Flammable liquids, May cause explosion or fire in the presence of coating fluids such as photoresist. It is also important that no electronic circuits are used.
さらに、本発明で開示する原理及び装置は、機械的に移動する部品が非常に僅か であって、クリーン・ルームの汚染が避けられるので、クリーン・ルーム環境に 非常に適している。Additionally, the principles and apparatus disclosed herein require very few mechanically moving parts. Therefore, clean room contamination is avoided, making it suitable for clean room environments. very suitable.
本発明のもう1つの利点は、所与の形状の槽の場合、液体回収速度プロフィルが サイクル間で再現可能であり、したがって構造物の一様なコーティングが得られ ることである。Another advantage of the present invention is that for a given vessel shape, the liquid recovery rate profile is is reproducible between cycles and therefore provides a uniform coating of the structure. Is Rukoto.
槽の形状を変えるだけで、コートしようとする構造物を横切るコーティング流体 の所望の線形運動が、一定のものから変動するものまで、何でも実現できる。も ちろん、第2の方法は、コーテイング槽から保持槽または重力槽へのコーティン グ流体の排出を制御するまたは変化させることであろう。Coating fluid can be moved across the structure to be coated by simply changing the shape of the bath. The desired linear motion of can be anything from constant to variable. too Of course, the second method is to transfer the coating from the coating tank to the holding tank or gravity tank. control or change the discharge of the fluid.
これは、例えば、電気式、機械式、空気圧式のポンプ・システムによって行える 。ポンプ・システムは、コーテイング槽から保持槽または重力槽へのコーティン グ流体の流れを制御する濾過システムの一部であってもよい。同様に、重力を利 用してコーティング流体を保持槽に流入させることもできる。This can be done, for example, by electrical, mechanical or pneumatic pump systems. . The pump system pumps the coating from the coating tank to the holding tank or gravity tank. It may be part of a filtration system that controls the flow of fluid. Similarly, using gravity The coating fluid can also flow into the holding tank using the same method.
本発明はまた、フォイル、マスク、PCボード、基板、半導体ウェハなど任意の 構造物または電子部品上に一様で再現可能な形でコーティング被膜を付着する手 段も提供する。The present invention also applies to any material such as foils, masks, PC boards, substrates, semiconductor wafers, etc. Manually depositing coatings in a uniform and reproducible manner onto structures or electronic components Also provides stairs.
コーティング層またはコーティング波腹用のコーティング流体は、溶媒または水 性媒体に溶かしたポリマー材料である。The coating fluid for the coating layer or coating antinodes can be a solvent or water. A polymeric material dissolved in a neutral medium.
特定の用途向けに、本発明を利用して特定の材料を使用することができる。たと えば、フォトレジストなどの流体のコーティングを金属マスクまたは金属フォイ ル上に塗布することができる。Specific materials may be used with the present invention for specific applications. and For example, coating a fluid such as photoresist on a metal mask or metal foil. can be applied on the surface of the surface.
コートしようとする構造物はは゛とんどどんな形状や寸法に作ることもでき、様 々な業界で使用できるが、その主な用途は、非常に一様なコーティングを必要と する構造物中であると予想される。こうした用途の一例は、基板などの構造物が 一様なコーティングをもつことが場合によっては最重要となる、電子工業である 。The structure to be coated can be made in almost any shape or size, and can be coated in a variety of ways. It can be used in a variety of industries, but its primary use is in applications that require highly uniform coatings. It is expected that it will be in a structure where An example of such an application is when structures such as substrates are In the electronic industry, where having a uniform coating is sometimes of paramount importance. .
コートしようとする構造物の形状は、円形、長方形、三角形、多角形などから選 択できる。さらに、本発明の方法及び装置は、大面積の平坦基板の全面にわたっ て極めて一様な厚さの被膜をコートすることができる。The shape of the structure to be coated can be selected from circular, rectangular, triangular, polygonal, etc. You can choose. Furthermore, the method and apparatus of the present invention can be applied over the entire surface of a large area flat substrate. It is possible to coat a film of extremely uniform thickness.
さらに、この方法を使うと、ディップ型コーティング法でよ(起こるビードの形 成がほとんどまたは全(ない。この方法は、構造物の底部に形成されるポリマー のビードなど、コーティング流体のビードを生じないので、余分な操作も不要と なる。現在は、コート済み構造物の底部に付着したこのコーティング流体のビー ドは、切断またはのこ引きまたはせん断で除去しているが、本発明を用いるとこ の問題がな(なる。Furthermore, using this method, the bead shape that occurs This method reduces the amount of polymer formed at the bottom of the structure. No extra operations are required as there are no beads of coating fluid, such as beads of Become. Currently, a bead of this coating fluid is deposited on the bottom of the coated structure. Although the cord is removed by cutting, sawing, or shearing, the present invention There is no problem.
ビードがなくなる基本的な理由は、被膜が乾燥し凝固する際の垂下または流れに よって、基板底部に形成されるより厚い被膜がたえず溶解することである。The basic reason for bead loss is due to sagging or flow as the coating dries and solidifies. Thus, the thicker coating formed on the bottom of the substrate is constantly dissolving.
[発明の目的及び要約コ 本発明の一目的は、平坦基板の両面にニーティング材料の一様な被膜を塗布する 技法を提供することにある。具体的には、この方法は、薄い金属箔など繊細な大 面積の平坦基板でもよく働(。[Object of the invention and summary code] One object of the present invention is to apply a uniform coating of neating material to both sides of a flat substrate. The goal is to provide techniques. Specifically, this method works with delicate large pieces such as thin metal foil. Works well even on flat substrates (.
本発明のもう1つの目的は、上記の被膜を極めて一様に生成する装置を記載する ことにある。本発明で記載する装置は、複雑な所がなく、簡単なために再現可能 性をもたらす。Another object of the invention is to describe an apparatus for producing the above-mentioned coatings in a highly uniform manner. There is a particular thing. The device described in this invention is simple and easy to reproduce. bring sex.
本発明の一態様は、下記の諸ステップを含む、構造物をコートする工程を開示す る。One aspect of the invention discloses a process for coating a structure, comprising the steps of: Ru.
a)構造物の少なくとも一部分を、容器に入れたコーティング流体中に浸す。a) Immersing at least a portion of the structure in a coating fluid contained in a container.
b)容器からコーティング流体を排出し、それによって構造物の少なくとも一部 分にコーティングを形成する。b) draining the coating fluid from the container, thereby discharging at least a portion of the structure; Form a coating in minutes.
本発明のもう一つの態様は、底壁とカバーと少なくとも3つの側壁を有する、コ ーティング流体を入れるコーテイング槽を備え、少な(とも1つの側壁が底壁面 に対して直角でなく、また構造物のコーティング中にコーティング流体を除去す る手段を備えている、構造物をコートするための装置を開示する。Another aspect of the invention is a co-op having a bottom wall, a cover and at least three side walls. It is equipped with a coating bath containing a coating fluid, with a small or at right angles to the structure and to remove coating fluid while coating the structure. An apparatus for coating a structure is disclosed, comprising means for coating a structure.
本発明はまた、底部とカバーと少なくとも3つの側壁を有する、コーティング流 体を入れるコーテイング槽を備え、少なくとも1つの側壁が底壁面に対して直角 であり、また構造物のコーティング中にコーティング流体を除去する手段を備え ている、構造物をコートするための装置をも包含する。The invention also provides a coating stream having a bottom, a cover and at least three side walls. A coating bath is provided in which the body is placed, and at least one side wall is perpendicular to the bottom wall surface. and also includes means for removing the coating fluid during coating of the structure. It also includes apparatus for coating structures, including:
本発明はまた、底部とカバーと少なくとも1つの側壁を有する、コーティング流 体を入れるコーテイング槽を備え、構遺物のコーティング中にコーティング流体 を除去する手段を備えている、構造物をコートするための装置をも包含する。The invention also provides a coating stream having a bottom, a cover and at least one sidewall. It is equipped with a coating bath in which the body is placed, and the coating fluid is applied during coating of the structure. It also includes an apparatus for coating a structure, comprising means for removing.
本発明の装置はまた、コーテイング槽にコーティング流体を貯蔵しまたはそこか ら除去するための、保持槽または重力層を備えることができる。この除去は、重 力またはポンプ型システムによって行える。もちろん、この装置は、コーティン グ流体の加熱または冷却を制御するための温度制御手段を備えることができる。The apparatus of the present invention also includes storing a coating fluid in the coating bath or distributing the coating fluid therein. A holding tank or gravity layer may be provided for removal of the material. This removal is This can be done by force or by a pump type system. Of course, this device is coated. Temperature control means may be provided for controlling heating or cooling of the cooling fluid.
構造物の少なくとも一部分をコーティング流体中に浸すことにより、構造物の少 なくとも一部分をコーティング流体でコートすることができる。A small portion of the structure is coated by immersing at least a portion of the structure in the coating fluid. At least a portion can be coated with a coating fluid.
もちろん、本発明で開示し教示するいずれの方法を用いても製品を得ることがで きる。Of course, the product can be obtained using any of the methods disclosed and taught in this invention. Wear.
図面の簡単な説明 本発明の新規であると思われる諸特徴及び本発明の特徴となる諸要素は、添付の 特許請求の範囲に具体的に記載されている。しかし、本発明自体は、その編成に ついても動作方法についても、添付の図面に関連して以下で行う詳細な説明を参 照すれば、最もよく理解できよう。Brief description of the drawing The features believed to be novel and the distinguishing elements of the invention are set forth in the appendix. It is specifically described in the claims. However, the present invention itself is Please refer to the detailed description given below in conjunction with the accompanying drawings for both the You can best understand it by looking at it.
図IAは、本発明の教示に従って作成した装置の側面図である。FIG. IA is a side view of a device constructed in accordance with the teachings of the present invention.
図IBは、本発明の教示による方法またはそれに従って作成した装置を用いてコ ートした構造物の側面図である。FIG. FIG.
図2は、本発明の教示に従って作成した装置の別の実施例の側面図である。FIG. 2 is a side view of another embodiment of an apparatus constructed in accordance with the teachings of the present invention.
図3は、本発明の教示に従って作成した装置の別の実施例の側面図である。FIG. 3 is a side view of another embodiment of an apparatus constructed in accordance with the teachings of the present invention.
図4は、本発明の教示に従って作成した装置の別の実施例の側面図である。FIG. 4 is a side view of another embodiment of an apparatus constructed in accordance with the teachings of the present invention.
図5は、本発明の教示に従って作成した装置の別の実施例の側面図である。FIG. 5 is a side view of another embodiment of an apparatus constructed in accordance with the teachings of the present invention.
図6は、図5の直壁型製置から得られたコーティングを、本発明の教示を使用し た、図IAの装置と類似の、15℃の角度をなす1つの側壁を有する装置と比較 したグラフである。FIG. 6 shows the coating obtained from the straight wall fabrication of FIG. 5 using the teachings of the present invention. In addition, compared to a device similar to the device in Figure IA with one sidewall angled at 15 degrees. This is a graph.
[発明の詳細な説明] 本発明は、構造物の一様なコーティングを得るための新規な方法及び装置を記述 するものである。[Detailed description of the invention] The present invention describes a novel method and apparatus for obtaining uniform coating of structures. It is something to do.
現在、金属マスクの製造においては、チェーン駆動式コンベアで、部品をフォト レジストなどの流体の槽に、部品のプリベーク(ソフト・ベータ)速度と同じ速 度で浸し、そこから引き上げている。本発明は、大きな表面積にわたって一様な 被膜のコーティングを生成する、レジスト・コーティングなどコーティングの実 用的な手法を開示する。Currently, in the production of metal masks, parts are photographed using a chain-driven conveyor. A bath of fluid, such as a resist, is heated at the same rate as the prebake (soft beta) rate of the part. It is immersed in water at a temperature of 100°C and then pulled out from there. The present invention provides a uniform surface area over a large surface area. Coating practices such as resist coatings that produce film coatings. Disclose practical methods.
前に述べた、基板上のフォトレジスト・コーティングなどコーティング流体のウ ェッジ効果が起こるのは、溶媒が蒸発するにつれて湿ったポリマーが流動し、そ れによって厚さの変動に伴って蒸発速度が変化するときである。こうした変化を 補償しまたはそれに反応するためには、表面全体にわたって部品の引上げ速度を 変化させることが必要である。これを実施するための1つの技法は、ディップ・ コーティング装置を改良して、高価で複雑な制御システムを組み込むものであろ うが、この制御システムの信頼性及び性能は保証できない。Coating fluids such as photoresist coatings on substrates as previously mentioned The edge effect occurs because the wet polymer flows as the solvent evaporates. This is when the evaporation rate changes as the thickness changes. These changes To compensate for or react to, increase the rate of part pull across the entire surface. It is necessary to change. One technique to do this is to dip This may involve modifying the coating equipment to incorporate an expensive and complex control system. However, the reliability and performance of this control system cannot be guaranteed.
しかし、槽の液面レベル及びオリフィスを通って槽から出る液体の回収速度のも つ効果を認識することにより、槽中の液面レベルの下降速度は全く容易に制御で きる。タンクのプロフィルを横切る断面積を変化させ、オリフィス(ドレン)寸 法を一定に保つことにより、溶液が重力排出される際に、コーティングすべき構 造の表面における液体の線形移動がそれに対応して変化する。したがってまた、 タンクの幾何形状が回収速度を規定し、したがって被膜コーティングの一様性を 規定する。この手法は、被膜コーティング中に非一様性を発生させる上記の機構 を補償する働きをする。However, the level of liquid in the tank and the rate of withdrawal of liquid leaving the tank through the orifice are By recognizing these effects, the rate of fall of the liquid level in the bath can be controlled quite easily. Wear. By varying the cross-sectional area across the tank profile, the orifice (drain) size can be adjusted. By keeping the method constant, the structures to be coated are The linear movement of the liquid on the surface of the structure changes correspondingly. Therefore, also The tank geometry dictates the recovery rate and therefore the uniformity of the film coating. stipulate. This technique addresses the mechanisms described above that cause nonuniformity during film coating. It works to compensate for.
[ベルヌーイの方程式」と呼ばれる流体力学の基本的関係式を使うと、流体回収 速度を傾斜した槽中の液面高さの関数として算呂することができる。定常的非圧 縮流に対するベルヌーイの方程式は、次の通りである。Using the basic relational expression of fluid mechanics called [Bernoulli's equation], fluid recovery is possible. The velocity can be calculated as a function of the liquid level in the inclined tank. steady non-pressure Bernoulli's equation for contractile flow is:
P2−P1= 9g (Y2− yt)上式でP2及びPlは、それぞれ槽の下 端及び上端における槽に閉じ込められた溶液の静圧を表し、ρは槽内の流体の密 度、gは重力、Y2及びYlは、それぞれ槽の上端及び下端における溶液の高さ の差を表す。P2-P1=9g (Y2-yt) In the above formula, P2 and Pl are respectively below the tank. It represents the static pressure of the solution confined in the tank at the end and top, and ρ is the fluid tightness in the tank. degree, g is gravity, Y2 and Yl are the height of the solution at the top and bottom of the tank, respectively. represents the difference between
上記の関係式は、圧力差が、溶液の高さの差に比例することを示している。した がって、ベルヌーイの関係式を適用し、コーティング溶液の特定の物理的特性に 合うように槽の形状を設計することにより、平坦な基板を一様にコートすること が可能になる。The above relationship shows that the pressure difference is proportional to the solution height difference. did Therefore, we apply Bernoulli's relation to specific physical properties of the coating solution. Uniform coating of flat substrates by designing the bath shape to match becomes possible.
図IAは、本発明を実施するための好ましい装置を示す。Figure IA shows a preferred apparatus for practicing the invention.
コーティング装置5は、底壁12と傾斜した側壁14と垂直な側壁16とを有す るコーテイング槽10からなる。端壁(図示せず)は、垂直でも傾斜していても 湾曲していてもよい。カバー18は、コーティング装置1oを汚染から保護する もので、ディップ・コーティングする構造物を出し入れできる1つまたは複数の 開口を有することができる。保持槽または重力槽3oは、液位26を有し、底壁 12またはいずれかの側壁を経てコーテイング槽1oに接続されている。図IA に示すように、通常の制御弁32をもつ管31が、コーテイング槽1oを保持槽 30に接続している。保持槽または重力槽30は、必要なコーティング流体をコ ーテイング槽10に供給する、コーティング流体22の貯蔵場所として働くだけ でなく、構造物のコーティング中に流体がコーテイング槽10から排出された後 は保持槽、または重力槽としても働(。The coating device 5 has a bottom wall 12, an inclined side wall 14, and a vertical side wall 16. It consists of a coating tank 10. End walls (not shown) can be vertical or sloped. It may be curved. Cover 18 protects coating apparatus 1o from contamination one or more pipes that allow access to and from the structure being dip coated. It can have an opening. The holding tank or gravity tank 3o has a liquid level 26 and has a bottom wall. It is connected to the coating tank 1o via 12 or one of the side walls. Figure IA As shown, a pipe 31 with a normal control valve 32 connects the coating tank 1o to the holding tank. Connected to 30. A holding tank or gravity tank 30 collects the necessary coating fluid. It only serves as a storage place for the coating fluid 22 that is supplied to the coating tank 10. but not after the fluid is drained from the coating bath 10 during coating of the structure. also acts as a holding tank or gravity tank (.
流体または液体を浄化するため、濾過システムを設けることもできる。濾過シス テムは、コーテイング槽10から流体または液体を引き出すポンプ・システムも 含むことができる。A filtration system may also be provided to purify the fluid or liquid. filtration system The system also includes a pump system for drawing fluid or liquid from the coating bath 10. can be included.
図IAでは、コーテイング槽10と保持槽30の間にそれぞれ管33と37を介 し、制御弁34と36を備えた濾過システム35が配置されている。コーテイン グ槽10に流体22を補給するため、ポンプ40と制御弁38を儒えた管39が 設けられている。コーテイング槽1oは、コーティング流体22で所望の高さま で充たされ、コートすべき構造物すなわち基板2oが基板ホルダ21を用いてコ ーティング流体22中に浸される。基板20のコートすべき部分が、液位24よ り下になければならない。したがって、構造物20全体をコートする場合は、基 板20全体を流体22中に液位24より下まで完全に浸さなければならない。コ ーティング・システムがセットアツプされると、コーティング槽lo中のコーテ ィング流体22が重力によって保持槽3o中に排出され、あるいはポンプと濾過 システム35を介して制御された形で一定速度でポンプ排出される。どちらの場 合も、コーテイング槽10と基板2oは固定したままである。もちろん、コーテ ィング流体22の保持槽30への流入も、制御弁32.34または36によって 制御できる。コーティング流体22が基板2oを1回通過した後、被膜材料特性 に応じて追加のコーティング層を形成できる。基板20を持ち上げ、再度コーテ イング槽10をコーティング流体22で充たし、基板20をコーティング流体2 2中に浸すことにより、連続するコーティングの蓄積によってより厚いコートを 形成することが実現可能である。このステップは、希望する回数だけ繰り返すこ とができる。前のコートが乾燥してから次のコーティング層が形成されるように 、各コーティング層間で十分な時間が経ったことを確認することは明白であろう 。この手法が可能なのは、コーティング材料が、後続の浸漬で部分的または完全 に再溶解する性質を持たない場合だけである。In Figure IA, pipes 33 and 37 are inserted between the coating tank 10 and the holding tank 30, respectively. A filtration system 35 with control valves 34 and 36 is arranged. Cortein In order to supply the fluid 22 to the pumping tank 10, a pipe 39 equipped with a pump 40 and a control valve 38 is installed. It is provided. The coating tank 1o is heated to a desired height with coating fluid 22. The structure to be coated, ie, the substrate 2o, is coated using the substrate holder 21. bathing fluid 22. The part of the substrate 20 to be coated is lower than the liquid level 24. must be below the ground. Therefore, when coating the entire structure 20, The entire plate 20 must be completely immersed in the fluid 22 below the liquid level 24. Ko Once the coating system is set up, the coating in the coating bath The filtration fluid 22 is discharged by gravity into the holding tank 3o or pumped and filtered. It is pumped through system 35 at a constant rate in a controlled manner. which place In this case, the coating bath 10 and the substrate 2o remain fixed. Of course, coate The flow of the cooling fluid 22 into the holding tank 30 is also controlled by control valves 32, 34 or 36. Can be controlled. After the coating fluid 22 passes through the substrate 2o once, the coating material properties Additional coating layers can be applied as required. Lift up the substrate 20 and coat it again. The coating tank 10 is filled with the coating fluid 22, and the substrate 20 is filled with the coating fluid 2. By soaking in It is feasible to form. This step can be repeated as many times as desired. I can do it. so that the next coating layer is formed only after the previous coat has dried , it would be obvious to make sure that enough time has passed between each coating layer. . This technique allows the coating material to be partially or completely removed by subsequent immersions. This is only the case when it does not have the property of being redissolved.
単一のコーティング層26から得られるコート済み基板20を図IBに示す。前 に述べたように、基板20は、同一材料または異なる材料の多数のコーティング 層26をもつこともできる。片面だけコートした基板が望まれる場合、コーティ ングが不要な領域をマスクで覆うなどして、不要領域からコーティングを除去す ることは、当業者にとって極めて容易であろう。A coated substrate 20 resulting from a single coating layer 26 is shown in Figure IB. Before As described in , the substrate 20 may include multiple coatings of the same or different materials. It is also possible to have a layer 26. If a substrate coated on only one side is desired, the coating Remove the coating from unnecessary areas, such as by covering the areas with a mask. It will be very easy for a person skilled in the art to do so.
図2は、コーテイング槽の構造の別の実施例を示す。コーテイング槽50は、底 壁12とカバー18を有し、コーテイング槽50の側壁54.56が傾斜してい る点以外はコーデドすべき構造物51を流体22中に液位24より下まで完全に 浸す。コーティング操作の開始時に、流体22は、管52を経て、槽30と同様 の保持槽またはシステム35に類似のポンプ及び濾過システムに排出される。加 熱または冷却手段58が、コーテイング槽5oあるいは本発明を利用する他のコ ーテイング槽を備えることもできる。FIG. 2 shows another embodiment of the structure of the coating bath. The coating tank 50 has a bottom The coating tank 50 has a wall 12 and a cover 18, and the side walls 54, 56 of the coating bath 50 are sloped. The structure 51 to be coded is completely immersed in the fluid 22 below the liquid level 24, except that Soak. At the beginning of the coating operation, fluid 22 passes through tube 52 to tank 30 as well. is discharged to a pump and filtration system similar to a holding tank or system 35. Canada A heating or cooling means 58 is provided in the coating bath 5o or other container utilizing the present invention. It can also be equipped with a heating tank.
コーテイング槽設計のもう1つの可能な変形を図3に示す。Another possible variation of the coating bath design is shown in FIG.
コーテイング槽6oは2つの側壁64.66を有し、これらの側壁は傾斜してい て、カバー18の表面積の方が底壁12の表面積よりも広くなっている。管62 を使って、流体22を直接にまたはポンプ及び濾過システム35を介して重力槽 または保持槽30に排出する。コートするためにコーティング流体22に完全に 浸した、変わった形の基板61が示されている。The coating tank 6o has two side walls 64,66, which are inclined. Therefore, the surface area of the cover 18 is larger than the surface area of the bottom wall 12. tube 62 The fluid 22 can be pumped directly or via a pump and filtration system 35 to a gravity tank. Alternatively, it is discharged into the holding tank 30. completely in coating fluid 22 to coat A submerged, unusually shaped substrate 61 is shown.
図4は、コーテイング槽70の形が違っていても、基板20の一様なコーティン グが得られることを示している。コーテイング槽7oの側壁74.76は湾曲し ている。端壁(図示せず)は湾曲していてもそうでな(でもよい。コーテイング 槽7oには、コーティング流体22の粘稠性を維持するために攪拌手段78を取 り付けることもできる。このコーティング流体の攪拌によって、コーティング流 体の均質性も維持される。液体または流体の運動がコートされる構造物に悪く影 響を与えないように、攪拌手段78からの攪拌作用は、図4に示すように、最小 限の攪拌に留めるべきである。湾曲し・た側壁74.76は、断面を円形、楕円 形などとすることができる。図のように、基板20は層26で部分的にコートさ れており、コーティング流体22はコーテイング槽7oからコンジット72を経 て排出中である。FIG. 4 shows that even if the coating bath 70 has a different shape, the substrate 20 can be coated uniformly. This shows that you can obtain The side walls 74, 76 of the coating tank 7o are curved. ing. End walls (not shown) may or may not be curved. A stirring means 78 is provided in the tank 7o to maintain the viscosity of the coating fluid 22. It can also be attached. By stirring this coating fluid, the coating flow Body homogeneity is also maintained. Movement of the liquid or fluid may adversely affect the structure being coated. As shown in FIG. Mixing should be kept to a minimum. The curved side walls 74 and 76 have a circular or elliptical cross section. It can be a shape, etc. As shown, substrate 20 is partially coated with layer 26. The coating fluid 22 is passed from the coating tank 7o through the conduit 72. It is being discharged.
コーテイング槽のもう1つの実施例を図5に示す。コーテイング槽80は、真直 ぐな側壁84.86と底壁12及びカバー18を有する。基板20は、図のよう に全側面がコーティング層26でコートされている。流体22がコーテイング槽 80から管82を経て保持槽30に排出中なので、液位24はコートされた基板 20より下に低下している。前述のように、流体22は、重力によって、あるい はポンプ及び濾過システム35によっ保持槽30に導くことができる。Another embodiment of the coating bath is shown in FIG. The coating tank 80 is straight It has round side walls 84, 86, a bottom wall 12 and a cover 18. The board 20 is as shown in the figure. All sides are coated with a coating layer 26. Fluid 22 is a coating tank Since the liquid is being discharged from 80 to the holding tank 30 through the pipe 82, the liquid level 24 is lower than the coated substrate. It has fallen below 20. As mentioned above, the fluid 22 is moved by gravity or can be directed to holding tank 30 by a pump and filtration system 35.
現在の装置上の制限及び欠点に鑑みて、今や一様な厚さのコーティングの再現可 能な作成が可能となった。In view of current equipment limitations and shortcomings, it is now possible to reproduce coatings of uniform thickness. It has become possible to create
液体高さなどのディップ・コーティングの諸パラメータ、液体の引上げ技術と引 上げ速度、及び槽の設計を最適化することにより、大きな平坦基板のコーティン グを、一様に都合よくかつ精密に制限して行うことが可能である。Dip coating parameters such as liquid height, liquid pulling techniques and Coating large flat substrates by optimizing the raising speed and bath design It is possible to uniformly and conveniently and precisely limit the mapping.
本発明の一様なコーティングを実現する際の重要な要素の1つは、コーテイング 槽のプロフィルによってコーティングの完全性を制御しながら、(ニートすべき 構造物を容器から引き出すのではな()コーティング流体を容器から一定の流速 で排出することである。One of the key factors in achieving the uniform coating of the present invention is the coating (should be neat) while controlling coating integrity by bath profile Rather than pulling the structure out of the container, the coating fluid is forced out of the container at a constant flow rate. It is to discharge it.
本発明のコーティング方法を使って作成した層または被膜で、構造物上に材料の 複合層を形成することもできる。それには、まず第1の一様な層を形成し、この 第1層を完全に乾燥させ、次いでこの工程を繰り返して、一様にコートした所望 の数の追加の層を得る。ただし、この方法が被膜材料の緒特性と整合性をもつ必 要がある。A layer or coating created using the coating method of the present invention that coats a structure with a material. Composite layers can also be formed. To do this, first a first uniform layer is formed, and this Allow the first layer to dry completely and then repeat the process to achieve the desired evenly coated layer. Get a number of additional layers. However, there is a need for this method to be consistent with the original properties of the coating material. There is a point.
例: 下記の例は、本発明をさらに詳しく例示するためのものであり、いかなる形であ れ本発明の範囲を限定するものではない。example: The following examples are intended to illustrate the invention in more detail and may be used in any form. This is not intended to limit the scope of the present invention.
薄いモリブデン・マスクである25.4cm、(10インチ)の構造物2個を選 び、寸法や厚さなどその物理的特性を記録した。一方のマスクを図5に示したも のと同様の直壁型コーテイング槽に入れ、第2のマスクを図IAに示したものと 同様の、1つの側壁が15度傾斜したコーテイング槽に入れた。Select two 25.4 cm (10 inch) structures that are thin molybdenum masks. and its physical properties such as dimensions and thickness were recorded. One mask is shown in Figure 5. A second mask is placed in a straight-walled coating bath similar to that shown in Figure IA. A similar coating bath was placed with one side wall sloped at 15 degrees.
両方のコーテイング槽を同じコーティング流体、すなわちフォトレジストで充た し、両方のマスクをコーティング流体中に完全に浸した。弁を開いて、両方のコ ーテイング槽からコーティング流体を重力で重力槽または保持槽内へと流下させ た。両方のコーテイング槽からの流出速度は、毎分16.4mlに制御した。図 6または表1かられかるように、25゜4cmのマスクまたは構造物では、直壁 型コーテイング槽は、25.4cmのマスクの頂部のコーティング厚さが3.0 ミクロンで、マスクの底部のコーティング厚さが4.0ミクロンの「ウェッジ」 形プロフィルを与えたが、斜壁型コーテイング槽は、構造物の頂部から底部まで ほとんど厚さに差のない、はぼ一様なプロフィルを与える。直壁型コーテイング 槽では、コーティング厚さに1ミクロンの変動があったが、斜壁型コーテイング 槽では、同じ諸条件の下で25.4cmのマスクの頂部と底部のコーティング厚 さの変動が0.1ミクロンにすぎなかった。Fill both coating baths with the same coating fluid, i.e. photoresist. and completely immersed both masks in the coating fluid. Open the valves and The coating fluid is allowed to flow down by gravity from the coating tank into the gravity tank or holding tank. Ta. The flow rate from both coating baths was controlled at 16.4 ml per minute. figure 6 or Table 1, for a 25°4cm mask or structure, a straight wall The mold coating bath has a coating thickness of 3.0 cm on the top of a 25.4 cm mask. ``wedge'' with a coating thickness of 4.0 microns at the bottom of the mask shape profile, but the sloped wall coating bath is Gives a fairly uniform profile with almost no difference in thickness. Straight wall coating In the bath, there was a 1 micron variation in coating thickness, but the sloped wall coating In the bath, the coating thickness on the top and bottom of the mask of 25.4 cm under the same conditions The variation in size was only 0.1 micron.
表1 直壁型 15度斜壁型 頂部 3.0ミクロン 3.5ミクロン底部 4゜0ミクロン 3.6ミクロン このことからはっきりわかるように、傾斜した壁面による本発明の方法を使用し て、はぼ一様なコーティングを得ることができる。同様に、本発明の方法を使用 して、コーテイング槽のプロフィルを変えることにより、あるいは1つまたは複 数の側壁の角度を変えることにより、構造物上のコーティングを「カストマイズ 」することもできる。Table 1 Straight wall type, 15 degree inclined wall type Top 3.0 micron 3.5 micron Bottom 4゜0 micron 3.6 micron This clearly shows that using the method of the present invention with inclined walls, As a result, a very uniform coating can be obtained. Similarly, using the method of the invention by changing the profile of the coating bath, or by changing one or more coating bath profiles. “Customize” the coating on the structure by changing the angle of the sidewalls. ” can also be done.
図5に示したものと同様の直壁型コーテイング槽は「ウェッジ」を形成したが、 従来技術の方法を使用すると、はとんどの場合には厚さが2倍のウェッジが得ら れるだけでなく、マスクの底縁部にビードも形成される。一方、本発明の方法を 使用すると、直壁型コーテイング槽を使用したとき、僅かな「ウェッジ」が形成 されるが、ビードの形成は見られなかった。これは、排出する流体が、25.4 cmのマスクの底縁部を通過するときに境界層またはメニスカスを引っ張り、ビ ードの形成を妨げたからである。A straight-walled coating bath similar to that shown in Figure 5 formed a "wedge"; Using prior art methods, wedges that are twice as thick are obtained in most cases. In addition to forming a bead on the bottom edge of the mask. On the other hand, the method of the present invention When used, a slight "wedge" may form when using a straight-walled coating bath. However, no bead formation was observed. This means that the fluid to be discharged is 25.4 cm, pulling the boundary layer or meniscus as it passes through the bottom edge of the mask, This is because it prevented the formation of a code.
このことから、ディップ式コーティングの応用例及び他の引上げ技術では明白な 、平坦基板上のウェッジ厚さプロフィルがな(なったことがわかる。This makes it obvious in dip coating applications and other pulling techniques. , it can be seen that the wedge thickness profile on the flat substrate is now .
以上、本発明をその特定の好ましい実施例に関して詳しく説明したが、以上の説 明に照らせば、当業者には多数の代替例、修正及び変形が明かであろうことは明 白である。したがって、添付の特許請求の範囲は、そのような代替例、修正及び 変形を、本発明の真の範囲及び趣旨に含まれるものとして包含するものとする。Although the invention has been described in detail with respect to certain preferred embodiments thereof, Obviously, in light of the present invention, numerous alternatives, modifications and variations will be apparent to those skilled in the art. It is white. Accordingly, the appended claims cover such alternatives, modifications and It is intended that variations be included within the true scope and spirit of the invention.
+ 2 3 4 5 6 7 8 9 10手続補正書(自発) 1、特許出願の表示 国際出願P CT/U S 901068522、発明の名称 構造物を一様にコートするための新規な方法及び装置3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 アメリカ会衆1!110504、ニューヨーク州アーモンク(番地なし J 名 称 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・住 所 郵便番号106 東京都港区六本木三丁目2番12号 日本アイ・ビー・エム株式会社 Te1(大代表) 3586−1111連絡先: 5563−3749.556 3−37545゜底壁とカバーと少なくとも3つの611!とを有し、少な(と も1つの側壁が紬記底、部に対して直角をなす、コーティング流体を入れたコー テイング槽を備え、構造物をコートする間に篩記コーティング流体を除去する手 段が設けられている、構造物をコートするための装置。+ 2 3 4 5 6 7 8 9 10 Procedural amendment (voluntary) 1. Display of patent application International application P CT/U S 901068522, title of the invention Novel method and apparatus for uniformly coating structures 3, corrector Relationship to the incident: Patent applicant Address: American Congregation 1!110504, Armonk, New York (no street address) J Name: International Business Machines Address: Postal code 106 3-2-12 Roppongi, Minato-ku, Tokyo IBM Japan Co., Ltd. Te1 (main representative) 3586-1111 Contact information: 5563-3749.556 3-37545° bottom wall and cover and at least three 611! and has less (and A coat containing coating fluid, with one side wall at right angles to the bottom, A coating bath is provided to remove the coating fluid while coating the structure. Device for coating structures, in which steps are provided.
6、底壁とカバーと少なくとも1つの湾曲した側壁とを有する、コーティング流 体を入れたコーテイング槽を備え、構造物をコートする間に前記コーティング流 体を除去する手段が設けられている、構造物をコートするための装置。6. Coating stream having a bottom wall, a cover and at least one curved side wall A coating bath containing a body is provided, and the coating flow is applied while coating the structure. A device for coating structures, provided with means for removing bodies.
国際調査報告 1m1−一−A峠ka+1IIl−PCT/US 90106852国際調査報 告 US 9006852 S^ 43634international search report 1m1-1-A Pass ka+1IIl-PCT/US 90106852 International Survey Report notice US9006852 S^ 43634
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