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JPH05333201A - Production of color substrate - Google Patents

Production of color substrate

Info

Publication number
JPH05333201A
JPH05333201A JP4163583A JP16358392A JPH05333201A JP H05333201 A JPH05333201 A JP H05333201A JP 4163583 A JP4163583 A JP 4163583A JP 16358392 A JP16358392 A JP 16358392A JP H05333201 A JPH05333201 A JP H05333201A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
color
layer
color filter
sheet
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP4163583A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Rinjiro Ichikawa
林次郎 市川
Kenji Hashimoto
堅治 橋本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Zacros Corp
Original Assignee
Fujimori Kogyo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujimori Kogyo Co Ltd filed Critical Fujimori Kogyo Co Ltd
Priority to JP4163583A priority Critical patent/JPH05333201A/en
Publication of JPH05333201A publication Critical patent/JPH05333201A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 印刷法を採用した場合であっても、平坦性が
良く、しかも精度の良い薄膜のカラーフィルターを製造
すると共に、その薄膜のカラーフィルターから工業的に
有利にカラー基板を得る方法を提供することを目的とす
る。 【構成】 収縮性シートからなる基材シート(1a)上に、
目標サイズよりも大きいサイズを有する拡大カラー画素
(2a)を設けた後、上記基材シート(1a)を収縮させて、収
縮された基材シート(1b)上に目標サイズを有する微細カ
ラー画素(2b)が形成されたカラーフィルターを得る。つ
いで、形成されたカラーフィルターの微細カラー画素(2
b)と平滑化鋳型材(3) との間に熱硬化型または活性エネ
ルギー線硬化型の樹脂液を供給して該樹脂液が両者間に
層状に担持されるようにし、ついでその担持層を硬化さ
せて硬化層(c) となす工程と、形成されたカラーフィル
ターの基材シート(1a)側に流延法により基板層(6) を設
ける工程とを任意の順序で実施する。
(57) [Summary] [Purpose] Even when a printing method is adopted, a thin-film color filter having good flatness and high precision is manufactured, and the thin-film color filter is industrially advantageous in color. It is an object to provide a method for obtaining a substrate. [Constitution] On the base material sheet (1a) made of a shrinkable sheet,
Enlarged color pixel with size larger than target size
After providing (2a), the base sheet (1a) is contracted to obtain a color filter in which fine color pixels (2b) having a target size are formed on the contracted base sheet (1b). Then, the fine color pixels (2
A thermosetting or active energy ray-curing resin liquid is supplied between b) and the smoothing template material (3) so that the resin liquid is supported in a layered manner between the two, and then the supporting layer is formed. The step of curing to form a cured layer (c) and the step of providing the substrate layer (6) on the base sheet (1a) side of the formed color filter by a casting method are carried out in any order.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、カラー液晶表示ディス
プレイなどの目的に使用されるカラーフィルター付きの
基板に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate with a color filter used for the purpose of a color liquid crystal display or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示ディスプレイ(LCD)に使用
されるカラーフィルターは、ガラス基板上にブラックマ
トリックス層、赤(R)、緑(G)、青(B)の着色
層、オーバーコート層、透明電極を設けた構成を有す
る。
2. Description of the Related Art A color filter used in a liquid crystal display (LCD) includes a black matrix layer, a red (R), a green (G) and a blue (B) colored layer, an overcoat layer and a transparent layer on a glass substrate. It has a structure provided with electrodes.

【0003】ブラックマトリックス層は、LCDの光漏
れによるコントラストの低下防止、TFT素子の光リー
ク電流を抑える遮光層としての役割を果たす。
The black matrix layer plays a role as a light-shielding layer for preventing a decrease in contrast due to LCD light leakage and for suppressing a light leakage current of the TFT element.

【0004】着色層は、カラーフィルターの最も重要な
光学特性を決定する。R、G,Bのパターン配置は、モ
ザイク型、トライアングル型、ストライプ型、4画素配
置型などがある。
The colored layer determines the most important optical properties of the color filter. The pattern arrangement of R, G, and B includes mosaic type, triangle type, stripe type, and 4-pixel arrangement type.

【0005】オーバーコート層は、着色層を保護し、汚
染から防ぎ、平坦性を付与するための層である。平坦性
の付与は、オーバーコート層形成後にその表面を研磨す
ることによりなされる。
The overcoat layer is a layer for protecting the colored layer, preventing contamination, and imparting flatness. The flatness is imparted by polishing the surface after forming the overcoat layer.

【0006】着色層の形成方法としては、印刷の原理を
応用した印刷法、フォトリソグラフィーを使用する染色
法や顔料分散法、電気化学的に色素を付着する電着法な
どがあるが、いずれも一長一短がある。
As a method for forming the colored layer, there are a printing method applying a printing principle, a dyeing method using photolithography, a pigment dispersion method, an electrodeposition method in which a dye is electrochemically attached, and the like. There are advantages and disadvantages.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】3原色が肉眼で混合さ
れるようにするためには、同一カラーの繰り返しピッチ
が300μm 以下となるようにフィルターを微細化する
必要がある。色のパターン精度や平坦性は直接画面の色
に影響を与えるため、パターンの寸法精度は数μm オー
ダー以下に抑えなければならず、平坦性も望ましくは±
0.1μm とか± 0.2μm 以下(特にSTNの場合は±0.
05μm 以下)が要求される。
In order to mix the three primary colors with the naked eye, it is necessary to miniaturize the filter so that the repeating pitch of the same color is 300 μm or less. Since the pattern accuracy and flatness of the color directly affect the color of the screen, the dimensional accuracy of the pattern must be suppressed to the order of several μm or less, and the flatness is preferably ±
0.1μm or ± 0.2μm or less (especially for STN ± 0.
05 μm or less) is required.

【0008】カラーLCDは現在では極めて高価である
が、その理由はカラーフィルターが極めて高価であるか
らである。
Color LCDs are currently very expensive because color filters are very expensive.

【0009】着色層の形成方法のうち印刷法は、短工程
で本来大量複製技術であること、装置・ランニングコス
トが安いこと、大面積の加工ができることなどの点で、
大量生産、低コスト化が可能な方法であると期待されて
いるが、平坦性、パターン精度などの点で他の方法に比
し本質的に劣るという問題点がある。
Among the methods for forming the colored layer, the printing method is originally a mass-reproduction technique in a short process, the apparatus / running cost is low, and it is possible to process a large area.
Although it is expected to be a method capable of mass production and cost reduction, there is a problem that it is essentially inferior to other methods in terms of flatness and pattern accuracy.

【0010】すなわち、印刷法にあっては粘性のあるイ
ンクに圧力をかけて圧着するため、パターン端部の精度
が出にくく、ずれや凹凸を生じやすい。印刷法による精
度は、量産レベルで、パターン解像度が70〜100μ
m 、寸法精度が300mm当りで±15μm 、平坦性が±
0.5μm といった程度である。
That is, in the printing method, since the viscous ink is pressure-bonded to the ink, it is difficult to obtain the accuracy of the pattern end portion, and the deviation or the unevenness is likely to occur. The accuracy of the printing method is a mass production level and the pattern resolution is 70 to 100μ.
m, dimensional accuracy of ± 15 μm per 300 mm, flatness of ±
It is about 0.5 μm.

【0011】このような事情から、印刷法は現状では歩
留まりがかなり悪く、他の方法、たとえばフォトリソグ
ラフィー方法と比較して、それほど低コストにはなって
いないのが現状である。もし印刷法によっても平坦性が
良く、かつ精度の良い着色層を形成させることができれ
ば、その有用性ははかり知れないものとなる。
Under these circumstances, the printing method has a considerably low yield at present and is not so low in cost as compared with other methods such as the photolithography method. If it is possible to form a colored layer having good flatness and high accuracy even by a printing method, its usefulness becomes immeasurable.

【0012】本発明は、このような背景下において、印
刷法を採用した場合であっても、平坦性が良く、しかも
精度の良い薄膜のカラーフィルターを製造すると共に、
その薄膜のカラーフィルターから工業的に有利にカラー
基板を得る方法を提供することを目的とするものであ
る。
Against this background, the present invention manufactures a thin film color filter having good flatness and high accuracy even when the printing method is adopted.
It is an object of the present invention to provide a method for industrially advantageously obtaining a color substrate from the thin film color filter.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明のカラー基板の製
造法は、収縮性シートからなる基材シート(1a)上に、目
標サイズよりも大きいサイズを有する拡大カラー画素(2
a)を設けた後、上記基材シート(1a)を収縮させて、収縮
された基材シート(1b)上に目標サイズを有する微細カラ
ー画素(2b)が形成されたカラーフィルターを得るカラー
フィルター製造工程A、形成されたカラーフィルターの
微細カラー画素(2b)と平滑化鋳型材(3) との間に熱硬化
型または活性エネルギー線硬化型の樹脂液を供給して該
樹脂液が両者間に層状に担持されるようにし、ついでそ
の担持層を硬化させて硬化層(c) となす平坦化処理工程
B、および形成されたカラーフィルターの基材シート(1
a)側に、流延法により基板層(6)を設ける基板層設置工
程C、からなり、かつ工程Aの実施後に工程Bと工程C
を同時にまたは任意の順序で実施することを特徴とする
ものである。
The method for manufacturing a color substrate of the present invention comprises: a base sheet (1a) made of a shrinkable sheet; and an enlarged color pixel (2) having a size larger than a target size.
After providing a), by shrinking the substrate sheet (1a), to obtain a color filter in which fine color pixels (2b) having a target size are formed on the shrinked substrate sheet (1b) In the manufacturing process A, a thermosetting or active energy ray-curable resin liquid is supplied between the fine color pixels (2b) of the formed color filter and the smoothing template material (3) so that the resin liquid can be applied between them. Of the color filter and the flattening step B in which the carrier layer is cured to form a cured layer (c), and the formed base sheet of the color filter (1).
a substrate layer installation step C in which the substrate layer (6) is provided on the a) side by a casting method, and after the step A is performed, the step B and the step C
Are carried out simultaneously or in any order.

【0014】以下本発明を詳細に説明する。なお、本発
明において「シート」とは薄膜を意味し、厚さを限定す
るものではない。
The present invention will be described in detail below. In the present invention, the “sheet” means a thin film and does not limit the thickness.

【0015】カラーフィルター製造工程A 収縮性シートからなる基材シート(1a)としては、加熱、
湿気、活性エネルギー線照射、機械的伸張状態の解除等
の手段により一軸または二軸方向に収縮する性質を有す
る透明シートが用いられる。基材シート(1a)は、これを
収縮させたときにレターデーション値が60nm以下とな
ることが好ましい。
Color filter manufacturing process A As the base sheet (1a) made of a shrinkable sheet, heating,
A transparent sheet having a property of uniaxially or biaxially contracting by means of moisture, irradiation of active energy rays, release of a mechanically stretched state, or the like is used. The substrate sheet (1a) preferably has a retardation value of 60 nm or less when contracted.

【0016】特に、熱可塑性プラスチックスシートを一
軸または二軸方向に延伸し、熱固定を省略するか、収縮
性を失わない程度に制限した条件で熱固定して得られる
熱収縮性シートが重要である。ここで熱可塑性プラスチ
ックスとしては、ポリエチレン、架橋ポリエチレン、ポ
リプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリ塩
化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリカ
ーボネート、ポリスルホン、ポリエステル、ポリアミ
ド、塩酸ゴム、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニ
ルアルコール共重合体、ポリビニルピロリドン、セルロ
ース誘導体などが例示される。
Particularly, a heat-shrinkable sheet obtained by stretching a thermoplastic sheet in a uniaxial or biaxial direction and omitting the heat setting, or heat setting it under the condition that the shrinkability is not lost is important. Is. Here, the thermoplastics include polyethylene, crosslinked polyethylene, polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polystyrene, polycarbonate, polysulfone, polyester, polyamide, hydrochloric acid rubber, polyvinyl alcohol, ethylene-. Examples include vinyl alcohol copolymers, polyvinylpyrrolidone, and cellulose derivatives.

【0017】上記基材シート(1a)へのR、G,Bの拡大
カラー画素(2a)の形成は、好ましくは印刷法によりなさ
れる。拡大カラー画素(2a)の印刷は目標サイズよりも大
きいサイズに設定するので、印刷法の採用が可能とな
る。印刷方式としては、オフセット印刷、平版オフセッ
ト印刷、凹版オフセット印刷、スクリーン印刷、フレキ
ソ印刷、グラビア印刷などがあげられる。インクとして
は、染料と溶媒とからなるインクあるいはそれにさらに
バインダーを配合したインク、顔料( 0.1μm 以下に粉
砕したものであることが望ましい)、溶媒およびバイン
ダーからなるインクなどが用いられる。なお拡大カラー
画素(2a)の形成の前にあるいは形成後に、通常はブラッ
クマトリックス層(4) の形成を行う。
The R, G, B enlarged color pixels (2a) are preferably formed on the substrate sheet (1a) by a printing method. Printing of the enlarged color pixel (2a) is set to a size larger than the target size, so that the printing method can be adopted. Examples of the printing method include offset printing, planographic offset printing, intaglio offset printing, screen printing, flexographic printing, and gravure printing. As the ink, there may be used an ink containing a dye and a solvent, an ink containing a binder further added thereto, a pigment (preferably pulverized to 0.1 μm or less), an ink containing a solvent and a binder. The black matrix layer (4) is usually formed before or after the enlarged color pixel (2a) is formed.

【0018】R、G,Bの拡大カラー画素(2a)のパター
ン配置は、モザイク型、トライアングル型、ストライプ
型、4画素配置型などとすることができる。
The pattern arrangement of the R, G, B enlarged color pixels (2a) can be a mosaic type, a triangle type, a stripe type, a four-pixel arrangement type, or the like.

【0019】上記のようにしてカラーフィルター用材料
を得た後は、基材シート(1a)の収縮挙動に応じて該基材
シート(1a)を収縮させる。たとえば、基材シート(1a)が
熱収縮性を有するときは、加熱して収縮させる。
After the color filter material is obtained as described above, the base material sheet (1a) is contracted according to the contraction behavior of the base material sheet (1a). For example, when the base material sheet (1a) has heat shrinkability, it is heated to shrink.

【0020】これにより、収縮された基材シート(1b)上
に目標サイズを有する微細カラー画素(2b)が形成された
カラーフィルターが容易に得られる。
As a result, a color filter in which fine color pixels (2b) having a target size are formed on the contracted base sheet (1b) can be easily obtained.

【0021】平坦化処理工程B そして本発明においては、形成された微細カラー画素(2
b)と平滑化鋳型材(3)との間に熱硬化型または活性エネ
ルギー線硬化型の樹脂液を供給して該樹脂液が両者間に
層状に担持されるようにし、ついでその担持層を硬化さ
せて硬化層(c)となす。
In the flattening process B and the present invention, the formed fine color pixel (2
A thermosetting or active energy ray-curable resin liquid is supplied between b) and the smoothing template material (3) so that the resin liquid is supported in layers between the two, and then the supporting layer is formed. It is cured to form a cured layer (c).

【0022】ここで熱硬化型の樹脂液としては、フェノ
キシエーテル型架橋性樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹
脂、アクリルエポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール
樹脂、ウレタン樹脂などがあげられ、特に好ましい樹脂
は下記の化1で示されるフェノキシエーテル型重合体で
ある。
Examples of the thermosetting resin liquid include phenoxy ether type crosslinkable resin, epoxy resin, acrylic resin, acrylic epoxy resin, melamine resin, phenol resin and urethane resin. Particularly preferred resins are as follows. It is a phenoxy ether type polymer represented by Chemical formula 1.

【0023】[0023]

【化1】 [Chemical 1]

【0024】(式中、R1 〜R6 は、それぞれ水素、炭
素数1〜3の低級アルキル基またはBr、R7 は炭素数
2〜4の低級アルキレン基、mは0〜3の整数、nは2
0〜300の整数をそれぞれ意味する。)
(Wherein R 1 to R 6 are each hydrogen, a lower alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or Br, R 7 is a lower alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, m is an integer of 0 to 3, n is 2
It means an integer of 0 to 300, respectively. )

【0025】活性エネルギー線硬化型の樹脂液として
は、光重合性を有するプレポリマーまたは/およびモノ
マーに、必要に他の単官能または多官能モノマー、各種
ポリマー、光重合開始剤、増感剤を配合した樹脂組成物
が用いられる。
As the active energy ray-curable resin liquid, a prepolymer or / and a monomer having photopolymerizability, and optionally other monofunctional or polyfunctional monomer, various polymers, a photopolymerization initiator, and a sensitizer are added. The compounded resin composition is used.

【0026】ここで光重合性プレポリマーとしては、ポ
リエステルアクリレート、ポリエステルウレタンアクリ
レート、エポキシアクリレート、ポリオールアクリレー
トなどが例示され、光重合性モノマーとしては、単官能
アクリレート、2官能アクリレート、3官能以上のアク
リレートなどが例示される。これらの中では、硬化後の
物性が良好なエポキシアクリレートが特に有用であるの
で、これを少なくとも一部用いることが望ましい。
Examples of the photopolymerizable prepolymer include polyester acrylate, polyester urethane acrylate, epoxy acrylate and polyol acrylate, and examples of the photopolymerizable monomer include monofunctional acrylate, bifunctional acrylate and trifunctional or higher functional acrylate. Are exemplified. Of these, epoxy acrylates, which have good physical properties after curing, are particularly useful, so it is desirable to use at least part of them.

【0027】光重合性を有するプレポリマーまたはモノ
マーとしては、上記のほか、ホスファゼン系樹脂も好適
に用いられる。
As the photopolymerizable prepolymer or monomer, in addition to the above, phosphazene resins are also preferably used.

【0028】活性エネルギー線硬化型樹脂が紫外線硬化
型樹脂であるときは、通常光開始剤や増感剤を少量併用
するが、樹脂の種類によってはこれらを配合しないで紫
外線照射しても硬化する場合がある。光開始剤としては
アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーケト
ン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインエーテル、ベン
ジルケタール類、チオキサントン類をはじめとする種々
の光硬化剤が用いられ、増感剤としてはアミン類、ジエ
チルアミノエチルメタクリレートをはじめとする種々の
増感剤が用いられる。
When the active energy ray curable resin is an ultraviolet curable resin, a small amount of a photoinitiator or a sensitizer is usually used together, but depending on the kind of the resin, it is cured even if it is irradiated with ultraviolet rays without blending them. There are cases. As the photoinitiator, various photocuring agents such as acetophenones, benzophenones, Michler's ketone, benzyl, benzoin, benzoin ether, benzyl ketals and thioxanthones are used, and as sensitizers, amines and diethylaminoethyl methacrylate are used. Various sensitizers are used.

【0029】活性エネルギー線硬化型樹脂には、そのほ
か、ポリイソシアネート化合物を配合して改質を図った
り、少量の溶剤などを配合することもできる。ここでポ
リイソシアネート化合物としては、トリレンジイソシア
ネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニル
メタンジイソシアネートまたはその変性物、イソホロン
ジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、リジン
ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフ
タレンジイソシアネート、テトラメチルキシレンジイソ
シアネート、p−フェニレンジイソシアネートをはじめ
とする各種のポリイソシアネートあるいはこれらのポリ
イソシアネートのアダクトやプレポリマーがあげられ、
殊に、ヘキサメチレンジイソシアネートをはじめとする
比較的長鎖の脂肪族ポリイソシアネートの誘導体が好ま
しい。ポリイソシアネート化合物を配合するときの配合
量は、活性エネルギー線硬化型の樹脂液に対し2〜30
重量%程度を占めるようにすることが望ましい。
In addition to the active energy ray-curable resin, a polyisocyanate compound may be blended for modification, or a small amount of a solvent or the like may be blended. Here, as the polyisocyanate compound, tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate or a modified product thereof, isophorone diisocyanate, tolidine diisocyanate, lysine diisocyanate, xylylene diisocyanate, naphthalene diisocyanate, tetramethyl xylene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, etc. Examples include various polyisocyanates and adducts or prepolymers of these polyisocyanates,
In particular, derivatives of relatively long-chain aliphatic polyisocyanates such as hexamethylene diisocyanate are preferred. The compounding amount of the polyisocyanate compound is 2 to 30 with respect to the active energy ray-curable resin liquid.
It is desirable to occupy about wt%.

【0030】平坦性の良い硬化層(c) を得る具体的な方
法の一つは、微細カラー画素(2b)と平滑フィルムからな
る平滑化鋳型材(3) との間隙に熱硬化型または活性エネ
ルギー線硬化型の樹脂液を供給して該樹脂液が両者間に
層状に挟持されるようにし、ついで加熱または活性エネ
ルギー線(紫外線や電子線)の照射により上記の挟持層
を硬化させて硬化層(c) となす方法である。加熱条件や
照射条件(積算光量や線量)は、硬化層(c) の厚さなど
を考慮して最適範囲に設定し、平滑化鋳型材(3) の円滑
剥離性や硬化層(c) の耐溶剤性を確保するようにする。
平滑化鋳型材(3) は、爾後の任意の段階で剥離除去す
る。
One of the specific methods for obtaining the cured layer (c) having good flatness is to use a thermosetting type or an active type in the gap between the fine color pixels (2b) and the smoothing template material (3) made of a smooth film. An energy ray-curable resin solution is supplied so that the resin solution is sandwiched between the two, and then the sandwiching layer is cured by heating or irradiation with active energy rays (ultraviolet rays or electron beams). This is the method of forming with layer (c). The heating conditions and irradiation conditions (integrated light intensity and dose) are set in the optimum range in consideration of the thickness of the hardened layer (c), etc., and the smooth release property of the smoothing mold material (3) and the hardened layer (c) Try to ensure solvent resistance.
The smoothing template material (3) is peeled off at an arbitrary stage after the removal.

【0031】上記における平滑化鋳型材(3) としては、
二軸延伸ポリエチレンテレフタレートシート、二軸延伸
ポリブチレンテレフタレートシート、二軸延伸ポリエチ
レンナフタレートシート等の二軸延伸ポリエステルフィ
ルムや、二軸延伸ポリプロピレンフィルムなどが用いら
れ、コストおよび平滑性を加味すると二軸延伸ポリエチ
レンテレフタレートフィルムが特に重要である。この場
合、その表面がコロナ放電や火炎処理されていると、爾
後の工程での平滑化鋳型材(3) の剥離が困難となるの
で、そのような処理を施さないものを用いるように留意
する。
As the smoothing template material (3) above,
Biaxially oriented polyester film such as biaxially oriented polyethylene terephthalate sheet, biaxially oriented polybutylene terephthalate sheet, biaxially oriented polyethylene naphthalate sheet, or biaxially oriented polypropylene film is used. Stretched polyethylene terephthalate film is of particular importance. In this case, if the surface is subjected to corona discharge or flame treatment, it will be difficult to peel the smoothing template material (3) in the subsequent steps, so be careful to use one that is not subjected to such treatment. ..

【0032】これらの平滑フィルムは、その表面粗度が
0.15μm 以下、好ましくは 0.1μm以下、さらには0.05
μm 以下であることが要求され、表面粗度が0.15μm よ
りも大きくなると所期の平坦性が得られなくなる。上記
の二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムのうち
填料を配合しないものは、二軸延伸により表面平滑性が
顕著に向上するので、平坦性を極限にまで上げることが
できる。
The surface roughness of these smooth films is
0.15 μm or less, preferably 0.1 μm or less, further 0.05
It is required to be less than μm, and if the surface roughness exceeds 0.15 μm, desired flatness cannot be obtained. Among the above-mentioned biaxially stretched polyethylene terephthalate films, those not containing a filler, the surface smoothness is remarkably improved by the biaxial stretching, so that the flatness can be maximized.

【0033】平坦性の良い硬化層(c) を得る第2の方法
は、微細カラー画素(2b)上または平滑フィルムからなる
平滑化鋳型材(3) の一方に樹脂液を流延しておき、該流
延層に平滑化鋳型材(3) またはカラーフィルターの微細
カラー画素(2b)側を被覆させながらロールの間隙により
挟持層の厚さを制御しつつ、挟持層を硬化させて硬化層
(c) となす方法である。
The second method for obtaining a cured layer (c) having good flatness is to cast a resin solution on the fine color pixels (2b) or one of the smoothing template materials (3) made of a smooth film. While the casting layer is covered with the smoothing template material (3) or the fine color pixel (2b) side of the color filter, the sandwich layer is cured by controlling the sandwich layer thickness by the roll gap.
This is the method (c).

【0034】平坦性の良い硬化層(c) を得る第3の方法
は、微細カラー画素(2b)上に樹脂液を流延しておき、該
流延層に平滑化鋳型材(3) としての平滑加工したガラス
を押し当てながら挟持層の厚さを制御しつつ、挟持層を
硬化させて硬化層(c) となす方法である。この方法にお
いては、使用したガラスを反復使用する。
A third method for obtaining a cured layer (c) having good flatness is to cast a resin solution on the fine color pixels (2b), and to form a smoothing template material (3) on the cast layer. This is a method of curing the sandwiching layer to form a cured layer (c) while controlling the thickness of the sandwiching layer while pressing the smoothed glass. In this method, the glass used is used repeatedly.

【0035】上記の各方法により形成される硬化層(c)
の自由面の表面粗度は、平滑化鋳型材(3) の表面平滑性
の程度などに応じ、 0.3μm 以下、好ましくは 0.2μm
以下、さらに好ましくは 0.1μm 以下となる。一般に、
溶融押出フィルムの表面粗度は100μm 厚のフィルム
で2〜3μm あるいはそれ以上、流延製膜フィルムの表
面粗度は100μm 厚のフィルムで 0.5〜1μm である
から、硬化層(c) の自由面の表面粗度は極めて小さいも
のである。また硬化層(c) の耐熱性、耐溶剤性、透明電
極形成性もすぐれたものとなる。
Hardened layer (c) formed by each of the above methods
The surface roughness of the free surface is less than 0.3 μm, preferably 0.2 μm, depending on the degree of surface smoothness of the smoothing template material (3).
Hereafter, it is more preferably 0.1 μm or less. In general,
The surface roughness of the melt-extruded film is 2-3 μm or more for 100 μm thick film, and the surface roughness of the cast film is 0.5-1 μm for 100 μm thick film. Has a very low surface roughness. Further, the cured layer (c) also has excellent heat resistance, solvent resistance, and transparent electrode forming property.

【0036】硬化層(c) の厚さは適宜に設定できるが、
余りに厚くなると色相ずれを生じたり視角が狭くなった
りするので、1〜20μm 、殊に2〜10μm とするこ
とが多い。
The thickness of the cured layer (c) can be set appropriately,
If it is too thick, hue shift or narrowing of the viewing angle may occur, so the thickness is often set to 1 to 20 μm, particularly 2 to 10 μm.

【0037】基板層設置工程C 本発明においては、上記の工程Aで得たカラーフィルタ
ーの基材シート(1a)側に、流延法により基板層(6) を設
ける。
Substrate Layer Setting Step C In the present invention, the substrate layer (6) is provided on the base sheet (1a) side of the color filter obtained in the above step A by a casting method.

【0038】基板層(6) としては、一般基材層(ポリカ
ーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリエーテル
スルホン、ポリスルホン、ポリアリレート、アモルファ
スポリオレフィン、ポリアミドなど)、耐透気性樹脂層
(エチレン−ビニルアルコール共重合体層など)、架橋
性樹脂硬化物層(フェノキシエーテル型架橋性樹脂な
ど)があげられ、これらの層を適宜組み合わせて積層し
た層(耐透気性樹脂層/基材層、耐透気性樹脂層/基材
層/耐透気性樹脂層/架橋性樹脂硬化物層、架橋性樹脂
硬化物層/耐透気性樹脂層/基材層/耐透気性樹脂層/
架橋性樹脂硬化物層など)とすることもできる。
As the substrate layer (6), a general base material layer (polycarbonate, polymethylmethacrylate, polyethersulfone, polysulfone, polyarylate, amorphous polyolefin, polyamide, etc.), a gas proof resin layer (ethylene-vinyl alcohol copolymer) is used. And a crosslinked resin cured product layer (phenoxyether type crosslinkable resin, etc.). Layers obtained by appropriately combining these layers (air-permeable resin layer / base material layer, air-permeable resin layer). / Substrate layer / Air-permeable resin layer / Crosslinkable resin cured product layer, Crosslinkable resin cured product layer / Air-permeable resin layer / Substrate layer / Air-permeable resin layer /
Crosslinked resin cured product layer).

【0039】基板層(6) は光等方性が要求されるので、
流延法により設けることが必要となる。
Since the substrate layer (6) is required to have optical isotropy,
It is necessary to use the casting method.

【0040】カラー基板 上記の工程A実施後、工程Bと工程Cを同時にまたは任
意の順序で実施することにより、本発明のカラー基板が
得られる。
Color Substrate After performing the above step A, the color substrate of the present invention can be obtained by performing step B and step C simultaneously or in any order.

【0041】カラー液晶表示ディスプレイに用いるとき
は、工程B終了後あるいはカラー基板製造後に、硬化層
(c) の上からITOなどの透明電極(5) を形成させる。
When used in a color liquid crystal display, the cured layer is formed after the step B is completed or after the color substrate is manufactured.
A transparent electrode (5) such as ITO is formed on (c).

【0042】基板層(6) を含めたカラー基板全体の厚さ
は50〜1000μm 程度とするのが適当である。
The total thickness of the color substrate including the substrate layer (6) is preferably about 50 to 1000 μm.

【0043】このカラー基板と対向基板との間に液晶を
封入して液晶セルとなし、さらにその液晶セルに偏光板
や必要に応じ位相差板を積層することにより、液晶表示
ディスプレイが作製される。対向基板は、ガラス基板で
あってもプラスチクッス基板であってもよい。
A liquid crystal display is produced by enclosing a liquid crystal between the color substrate and the counter substrate to form a liquid crystal cell, and laminating a polarizing plate and, if necessary, a retardation plate on the liquid crystal cell. .. The counter substrate may be a glass substrate or a plastic substrate.

【0044】[0044]

【作用】上述のように、収縮性シートからなる基材シー
ト(1a)上に、目標サイズよりも大きいサイズ(たとえば
面積で2倍以上、望ましくは3倍以上)を有する拡大カ
ラー画素(2a)を設けた後、これを収縮させると、収縮さ
れた基材シート(1b)上に目標サイズを有する微細カラー
画素(2b)が形成されたカラーフィルターが得られる。た
とえば、収縮性シートからなる基材シート(1a)として一
軸方向につき1/nに収縮するものを用いて拡大カラー
画素(2a)を目標値のn倍に設定して印刷を行い、ついで
これを収縮させて1/nに戻せばよい。収縮後の微細カ
ラー画素(2b)は、大きさが小さくなるだけでなく、その
収縮率に応じて色濃度も濃くなる。
As described above, the enlarged color pixel (2a) having a size larger than the target size (for example, 2 times or more, preferably 3 times or more in area) is formed on the base sheet (1a) made of a shrinkable sheet. After providing, the color filter is obtained by shrinking the base sheet (1b) on which fine color pixels (2b) having a target size are formed. For example, a base sheet (1a) made of a shrinkable sheet that shrinks to 1 / n in one axial direction is used, the enlarged color pixel (2a) is set to n times the target value, and printing is performed. It may be contracted and returned to 1 / n. The fine color pixel (2b) after contraction not only has a smaller size, but also has a higher color density according to the contraction rate.

【0045】このようにして得られたカラーフィルター
にあっては、微細カラー画素(2b)上に平坦性の極めてす
ぐれた硬化層(c) が形成されているので、カラーフィル
ターとしての性能が極めてすぐれたものとなっている。
In the color filter thus obtained, since the hardened layer (c) having excellent flatness is formed on the fine color pixel (2b), the performance as a color filter is extremely high. It is excellent.

【0046】そしてこのカラーフィルターの基材シート
(1a)側には流延法による基板層(6)が設けられているの
で、カラーフィルターそのものが液晶セルの片方の基板
を兼ねていることになる。
A base sheet for this color filter
Since the substrate layer (6) by the casting method is provided on the (1a) side, the color filter itself also serves as one substrate of the liquid crystal cell.

【0047】[0047]

【実施例】次に実施例をあげて本発明をさらに説明す
る。以下「部」とあるのは重量部である。
EXAMPLES The present invention will be further described with reference to examples. Hereinafter, “parts” means parts by weight.

【0048】実施例1 図1は本発明のカラー基板の製造工程の一例を示した説
明図である。
Example 1 FIG. 1 is an explanatory view showing an example of a manufacturing process of a color substrate of the present invention.

【0049】厚さ30μm のエチレン−ビニルアルコー
ル共重合体フィルムを加熱下に縦横方向に各4倍延伸し
た後、収縮性を損なわない程度に熱固定し、熱収縮性フ
ィルム(1a)を得た。
An ethylene-vinyl alcohol copolymer film having a thickness of 30 μm was stretched under heating by 4 times in each of the longitudinal and transverse directions, and then heat-set so as not to impair the shrinkability to obtain a heat-shrinkable film (1a). ..

【0050】この熱収縮性フィルム(1a)に、ブラックマ
トリックス層(4) の印刷を行ってから、染料系のインク
を用いてR、G、Bの拡大カラー画素(2a)を順次印刷し
た。各拡大カラー画素(2a)の大きさは、いずれも280
μm 角に設定した。
After the black matrix layer (4) was printed on the heat-shrinkable film (1a), magnified color pixels (2a) of R, G, and B were sequentially printed using a dye-based ink. The size of each enlarged color pixel (2a) is 280
It was set to μm square.

【0051】このようにして得られたカラーフィルター
材料を加熱雰囲気下に保ち、縦横方向に各1/4に熱収
縮させて延伸前の大きさとなした。
The color filter material thus obtained was kept in a heated atmosphere and heat-shrinked in the lengthwise and crosswise directions to 1/4 each to obtain the size before stretching.

【0052】これにより、収縮された基材シート(1b)上
に、目標サイズ(それぞれ70μm角) を有する微細カ
ラー画素(2b)が形成された。該微細カラー画素(2b)の色
濃度は、拡大カラー画素(2a)の色濃度よりも濃いもので
あった。
As a result, fine color pixels (2b) having a target size (each 70 μm square) were formed on the contracted base sheet (1b). The color density of the fine color pixel (2b) was higher than that of the enlarged color pixel (2a).

【0053】別途、平滑化鋳型材(3) として、厚さ50
μm 、表面粗度0.01μm 以下のコロナ放電処理していな
い二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(帝人
株式会社製Oタイプ)を準備した。
Separately, as a smoothing template material (3), a thickness of 50
A biaxially stretched polyethylene terephthalate film (O type manufactured by Teijin Ltd.) having a surface roughness of 0.01 μm or less and not subjected to corona discharge treatment was prepared.

【0054】新日鉄化学株式会社製のエポキシアクリル
樹脂「V−2550P」100部に、ポリイソシアネー
ト化合物の一例である下記の化2で示される日本ポリウ
レタン工業株式会社製の「コロネート2094」(粘度
10000cp/25℃)3部を加え、さらにベンゾフェノン2部
を加えて混合することにより、活性エネルギー線硬化型
樹脂組成物の樹脂液を調製した。
100 parts of epoxy acrylic resin "V-2550P" manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd., "Coronate 2094" manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.
10000 cp / 25 ° C.) 3 parts, and further 2 parts of benzophenone were added and mixed to prepare a resin solution of the active energy ray-curable resin composition.

【0055】[0055]

【化2】 [Chemical 2]

【0056】この樹脂液を上記の平滑化鋳型材(3) の表
面に流延した後、その流延面に上記のカラーフィルター
の微細カラー画素(2b)側を重ね合わせ、紫外線照射装置
にて下記の条件で紫外線照射を行った。
After casting this resin solution on the surface of the smoothing template material (3), the fine color pixel (2b) side of the color filter is overlaid on the casting surface, and the UV irradiation device is used. Ultraviolet irradiation was performed under the following conditions.

【0057】紫外線照射条件 紫外線照射装置 ウシオ電機株式会社製UVC−253
/1MNLC3−AA08 ランプ 高圧水銀ランプ 120W/cm 照射距離 200mm コンベア速度 3m/min
Ultraviolet Irradiation Conditions Ultraviolet Irradiation Device Ushio Electric Co., Ltd. UVC-253
/ 1MNLC3-AA08 lamp High pressure mercury lamp 120W / cm Irradiation distance 200mm Conveyor speed 3m / min

【0058】紫外線照射により挟持層は硬化して、活性
エネルギー線硬化型樹脂硬化層(c)となった。これによ
り、平滑化鋳型材(3) /活性エネルギー線硬化型樹脂硬
化層(c) /微細カラー画素(2b)/基材シート(1b)の層構
成を有する積層体が得られた。ついで平滑化鋳型材(3)
を剥離除去したが、剥離除去性は円滑であった。
The sandwiching layer was cured by irradiation with ultraviolet rays to become an active energy ray-curable resin cured layer (c). As a result, a laminate having a layered structure of the smoothed template material (3) / active energy ray curable resin cured layer (c) / fine color pixel (2b) / base material sheet (1b) was obtained. Then smoothing mold material (3)
Was removed by peeling, but the peeling removability was smooth.

【0059】このようにして得られた硬化層(c) 付きカ
ラーフィルターの硬化層(c) の厚さは5μm 、表面の鉛
筆硬度は4H、自由面の表面平滑度は光の干渉を利用し
た非接触式表面粗さ計による測定で0.05μm (つまり±
0.025μm )以下、表面の耐溶剤性(ジメチルアセトア
ミド、44±1℃、5分間)は良好、硬化層(c) と微細
カラー画素(2b)との間の密着性も良好であった。
The thickness of the cured layer (c) of the color filter having the cured layer (c) thus obtained was 5 μm, the pencil hardness of the surface was 4H, and the surface smoothness of the free surface was based on light interference. 0.05 μm (that is ± ±
0.025 μm) or less, the solvent resistance of the surface (dimethylacetamide, 44 ± 1 ° C., 5 minutes) was good, and the adhesion between the cured layer (c) and the fine color pixel (2b) was also good.

【0060】次に、上記の硬化層(c) 付きカラーフィル
ターの基材シート(1b)側に、フェノキシエーテル樹脂
(東都化成株式会社製)40部、メチルエチルケトン4
0部、セロソルブアセテート20部、トリレンジイソシ
アネートとトリメチロールプロパンとのアダクト体の7
5%溶液(日本ポリウレタン株式会社製「コロネート
L」)40部よりなる組成の熱硬化型の樹脂液を流延し
た後、80℃で4分間乾燥し、さらに110℃で40分
間加熱して、フェノキシエーテル樹脂系の架橋性樹脂硬
化層からなる厚さ70μm の基板層(6) を形成させた。
これにより、目的とするカラー基板が得られた。
Next, 40 parts of a phenoxyether resin (manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.) and 4 parts of methyl ethyl ketone were placed on the base sheet (1b) side of the color filter having the above-mentioned cured layer (c).
0 part, 20 parts of cellosolve acetate, 7 of an adduct of tolylene diisocyanate and trimethylolpropane
A thermosetting resin solution having a composition of 40 parts of a 5% solution (“Coronate L” manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.) was cast, dried at 80 ° C. for 4 minutes, and further heated at 110 ° C. for 40 minutes. A 70 μm-thick substrate layer (6) consisting of a phenoxyether resin-based crosslinkable resin cured layer was formed.
As a result, the intended color substrate was obtained.

【0061】このカラー基板の硬化層(c) 面にスパッタ
リング法により厚さ700オングストロームのITO層
からなる透明電極(5) を直接形成させた。
A transparent electrode (5) made of an ITO layer having a thickness of 700 Å was directly formed on the surface of the cured layer (c) of this color substrate by a sputtering method.

【0062】このカラー基板とITO付きの対向基板
(ガラス基板またはプラスチックス基板)との間に液晶
を封入して液晶セルとなし、さらに液晶セルの両側から
偏光板を積層して、カラーLCDを組み立てた。このカ
ラーLCDの性能は、従来の印刷法によるカラーフィル
ターを用いたカラーLCDに比し格段にすぐれていた。
Liquid crystal is sealed between this color substrate and a counter substrate (glass substrate or plastics substrate) with ITO to form a liquid crystal cell, and polarizing plates are laminated from both sides of the liquid crystal cell to form a color LCD. Assembled The performance of this color LCD is far superior to that of a color LCD using a color filter by a conventional printing method.

【0063】実施例2 実施例1と同様にして、収縮された基材シート(1b)上に
目標サイズを有する微細カラー画素(2b)が形成されたカ
ラーフィルターを製造した。
Example 2 In the same manner as in Example 1, a color filter was manufactured in which fine color pixels (2b) having a target size were formed on the contracted base sheet (1b).

【0064】フェノキシエーテル樹脂(東都化成株式会
社製)40部、メチルエチルケトン40部、セロソルブ
アセテート20部、トリレンジイソシアネートとトリメ
チロールプロパンとのアダクト体の75%溶液(日本ポ
リウレタン株式会社製「コロネートL」)40部よりな
る組成の熱硬化型の樹脂液を準備し、この樹脂液を、上
記の微細カラー画素(2b)と実施例1と同じ平滑化鋳型材
(3) との間隙に吐出しつつ、該樹脂液が両者間に層状に
挟持されるようにしてから、80℃で4分間乾燥し、さ
らに120℃で20分間加熱して、フェノキシエーテル
樹脂系の架橋性樹脂硬化層(c) を形成させ、ついで平滑
化鋳型材(3) を剥離除去した。
Phenoxyether resin (manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.) 40 parts, methyl ethyl ketone 40 parts, cellosolve acetate 20 parts, 75% solution of an adduct of tolylene diisocyanate and trimethylolpropane (“Coronate L” manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.) ) A thermosetting resin solution having a composition of 40 parts was prepared, and the resin solution was used as the smoothing template material as in Example 1 and the fine color pixel (2b).
While discharging the resin liquid in a gap between (3) and the resin liquid so as to be sandwiched between them, the resin liquid is dried at 80 ° C. for 4 minutes and further heated at 120 ° C. for 20 minutes to obtain a phenoxy ether resin system. The cured crosslinkable resin layer (c) was formed, and then the smoothing template material (3) was peeled off.

【0065】このようにして得られたカラーフィルター
の硬化層(c) の厚さは3μm 、表面の鉛筆硬度は3H、
自由面の表面平滑度は光の干渉を利用した非接触式表面
粗さ計による測定で0.05μm (つまり± 0.025μm )μ
m 以下、表面の耐溶剤性(ジメチルアセトアミド、44
±1℃、5分間)は良好、硬化層(c) と微細カラー画素
(2b)との間の密着性も良好であった。
The cured layer (c) of the color filter thus obtained had a thickness of 3 μm and a surface pencil hardness of 3H.
The surface smoothness of the free surface is 0.05 μm (that is ± 0.025 μm) μ as measured by a non-contact surface roughness meter that uses light interference.
m or less, surface solvent resistance (dimethylacetamide, 44
± 1 ℃, 5 minutes) is good, cured layer (c) and fine color pixels
The adhesion with (2b) was also good.

【0066】以下実施例1と同様にしてフェノキシエー
テル樹脂系の架橋性樹脂硬化層からなる厚さ80μm の
基板層(6) を形成させ、カラー基板を得た。
Then, in the same manner as in Example 1, a substrate layer (6) having a thickness of 80 μm and composed of a phenoxyether resin-based crosslinkable resin cured layer was formed to obtain a color substrate.

【0067】このカラー基板の硬化層(c) 面にスパッタ
リング法により厚さ700オングストロームのITO層
からなる透明電極(5) を直接形成させた。
On the surface of the cured layer (c) of this color substrate, a transparent electrode (5) made of an ITO layer having a thickness of 700 angstrom was directly formed by a sputtering method.

【0068】このカラー基板とITO付きの対向基板
(ガラス基板またはプラスチックス基板)との間に液晶
を封入して液晶セルとなし、さらに液晶セルの両側から
偏光板を積層して、カラーLCDを組み立てた。このカ
ラーLCDの性能は、従来の印刷法によるカラーフィル
ターを用いたカラーLCDに比し格段にすぐれていた。
Liquid crystal is enclosed between this color substrate and a counter substrate (glass substrate or plastic substrate) with ITO to form a liquid crystal cell, and polarizing plates are laminated from both sides of the liquid crystal cell to form a color LCD. Assembled The performance of this color LCD is far superior to that of a color LCD using a color filter by a conventional printing method.

【0069】[0069]

【発明の効果】本発明においては、収縮性シートからな
る基材シート(1a)上に、目標サイズよりも大きいサイズ
を有する拡大カラー画素(2a)を設けるようにしてあるの
で、通常程度の精密技術で失敗なく正確にパターンを形
成することができる。
According to the present invention, since the enlarged color pixel (2a) having a size larger than the target size is provided on the base material sheet (1a) made of a shrinkable sheet, it is possible to achieve a precision of a normal level. The technique can accurately form the pattern without failure.

【0070】そして、その後にこれを収縮させるように
しているので、目標サイズを有する微細カラー画素(2b)
が形成されたカラーフィルターが得られる。
Then, since this is contracted, the fine color pixel (2b) having the target size is obtained.
A color filter in which is formed is obtained.

【0071】加えて、基材シート(1a)上に形成させる拡
大カラー画素(2a)の膜厚を薄くしても(従って色濃度が
それほど濃くなくても)、収縮により色濃度が濃くなる
という利点もある。
In addition, even if the film thickness of the enlarged color pixel (2a) formed on the base material sheet (1a) is made thin (thus the color density is not so dark), the color density becomes dark due to contraction. There are also advantages.

【0072】さらに本発明により得られるカラーフィル
ターにあっては、微細カラー画素(2b)の表面が硬化層
(c) により極限にまで平坦化されている。
Furthermore, in the color filter obtained by the present invention, the surface of the fine color pixel (2b) is a cured layer.
It is flattened to the limit by (c).

【0073】従って、従来においては精度、平坦性およ
び歩留まりの点で難があるため他の方法に比し必ずしも
有利とは言えなかった印刷法の欠点を完全に解消してい
る。よって、短工程で、装置・ランニングコストが安
く、大面積の加工ができるという印刷法の利点がそのま
ま生かされ、カラーフィルターの大量生産および低コス
ト化が図られる。
Therefore, the drawbacks of the printing method, which has been difficult in the prior art in terms of accuracy, flatness, and yield, and which is not necessarily advantageous over other methods, are completely eliminated. Therefore, the advantage of the printing method that the device / running cost is low in a short process and the processing of a large area can be utilized as it is, and the mass production of the color filter and the cost reduction can be achieved.

【0074】そしてこのカラーフィルターの基材シート
(1a)側には流延法による基板層(6)が設けられているの
で、カラーフィルターそのものが液晶セルの片方の基板
を兼ねており、従来のカラー基板とは全く異なる構成と
なっている。
A base sheet for this color filter
Since the substrate layer (6) by the casting method is provided on the (1a) side, the color filter itself also serves as one substrate of the liquid crystal cell, which is a completely different structure from the conventional color substrate. ..

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明のカラー基板の製造工程の一例を示した
説明図である。
FIG. 1 is an explanatory view showing an example of a manufacturing process of a color substrate of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

(1a)…基材シート、熱収縮性フィルム、 (1b)…収縮された基材シート、 (2a)…拡大カラー画素、 (2b)…微細カラー画素、 (R) …赤の画素、(G) …緑の画素、(B) …青の画素、 (4) …ブラックマトリックス層、 (5) …ITO、透明電極、 (6) …基板層、 (c) …硬化層 (1a) ... Substrate sheet, heat-shrinkable film, (1b) ... Shrinked substrate sheet, (2a) ... Enlarged color pixel, (2b) ... Fine color pixel, (R) ... Red pixel, (G ) Green pixel, (B) Blue pixel, (4) Black matrix layer, (5) ITO, transparent electrode, (6) Substrate layer, (c) Hardened layer

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】収縮性シートからなる基材シート(1a)上
に、目標サイズよりも大きいサイズを有する拡大カラー
画素(2a)を設けた後、上記基材シート(1a)を収縮させ
て、収縮された基材シート(1b)上に目標サイズを有する
微細カラー画素(2b)が形成されたカラーフィルターを得
るカラーフィルター製造工程A、 形成されたカラーフィルターの微細カラー画素(2b)と平
滑化鋳型材(3) との間に熱硬化型または活性エネルギー
線硬化型の樹脂液を供給して該樹脂液が両者間に層状に
担持されるようにし、ついでその担持層を硬化させて硬
化層(c) となす平坦化処理工程B、および形成されたカ
ラーフィルターの基材シート(1a)側に、流延法により基
板層(6)を設ける基板層設置工程C、からなり、かつ工
程Aの実施後に工程Bと工程Cを同時にまたは任意の順
序で実施することを特徴とするカラーフィルターの製造
法。
1. A magnifying color pixel (2a) having a size larger than a target size is provided on a base material sheet (1a) made of a shrinkable sheet, and then the base material sheet (1a) is shrunk, Color filter manufacturing process A for obtaining a color filter in which fine color pixels (2b) having a target size are formed on a contracted base sheet (1b), smoothing with fine color pixels (2b) of the formed color filter A thermosetting or active energy ray-curable resin liquid is supplied between the mold material (3) and the resin liquid so that the resin liquid is supported in layers between the two, and then the supporting layer is cured to form a cured layer. (c) a flattening treatment step B, and a substrate layer setting step C in which a substrate layer (6) is provided on the substrate sheet (1a) side of the formed color filter by a casting method. After performing step B and step C simultaneously or in any order A method for producing a color filter, which is characterized by being carried out.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6839123B2 (en) 1995-01-11 2005-01-04 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method and system for fabricating liquid crystal cells

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