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JPH05327004A - Semiconductor photocoupler - Google Patents

Semiconductor photocoupler

Info

Publication number
JPH05327004A
JPH05327004A JP7973692A JP7973692A JPH05327004A JP H05327004 A JPH05327004 A JP H05327004A JP 7973692 A JP7973692 A JP 7973692A JP 7973692 A JP7973692 A JP 7973692A JP H05327004 A JPH05327004 A JP H05327004A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
insulating film
lead frame
secondary side
primary
semiconductor device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP7973692A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshinori Ueno
喜徳 上野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP7973692A priority Critical patent/JPH05327004A/en
Publication of JPH05327004A publication Critical patent/JPH05327004A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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  • Photo Coupler, Interrupter, Optical-To-Optical Conversion Devices (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide a photocoupler of uniform quality, whose assembly is simplified, while improving the isolation between its primary and secondary sides and preventing variations of device characteristics. CONSTITUTION:A photodiode 3 is bonded to an island 9 of the lead frame 11 on the primary side, and electrical connections are applied. After the photodiode is potted in transparent silicon resin 4, an insulating film 6 is mounted on a stopper 13 of the lead frame. Similarly, a photodetector 2 is bonded to the lead frame on the secondary side in such a manner that the photodiode and photodetector are opposed, and then the insulating films on the primary and secondary sides are joined by transparent silicon resin 8. Photocouplers thus produced have uniform quality, while the manufacturing process is simplified. If the insulating films are bent into an L shape, the creepage distance between the primary and secondary sides is increased, thus increasing the isolation withstand voltage between them. The insulating film on the secondary side is coated with conductive material and connected to a positive or negative potential so that device characteristics may be stabilized.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は光結合半導体装置に関
し、特に絶縁フィルムを介して光結合する構造を有する
光結合半導体装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optically coupled semiconductor device, and more particularly to an optically coupled semiconductor device having a structure of optically coupling via an insulating film.

【0002】[0002]

【従来の技術】図4に示すように、従来の光結合半導体
装置の一例である光結合素子は、発光ダイオード3と、
光を受光して光起電力を発生するフォトトランジスタも
しくはフォトダイオード等を素子表面上に備えた受光素
子2と、発光ダイオード3を覆った一次側透明シリコン
樹脂4と、受光素子2を覆った二次側透明シリコン樹脂
5と、一次側透明シリコン樹脂4と二次側透明シリコン
樹脂5との境に挿入された絶縁フィルム19とを有して
いた。
2. Description of the Related Art As shown in FIG. 4, an optical coupling element, which is an example of a conventional optical coupling semiconductor device, includes a light emitting diode 3 and
A light receiving element 2 having a phototransistor or a photodiode which receives light to generate a photoelectromotive force on the element surface, a primary side transparent silicone resin 4 which covers the light emitting diode 3, and It had the secondary transparent silicone resin 5 and the insulating film 19 inserted at the boundary between the primary transparent silicone resin 4 and the secondary transparent silicone resin 5.

【0003】次にこの光結合半導体装置の動作について
説明する。光結合半導体装置の一次側(入力側)に入力
信号を入力すると発光ダイオード3が発光し、この光が
光導通路である一次側透明シリコン樹脂4・絶縁フィル
ム19・二次側透明シリコン樹脂5を通り、受光素子2
に照射され光起電力を発生し、この発生した光起電力を
光結合半導体装置の出力として用い光結合半導体装置の
二次側(出力側)に接続されているトランジスタやMO
SFET等の電子部品を制御していた。
Next, the operation of this optically coupled semiconductor device will be described. When an input signal is input to the primary side (input side) of the optically coupled semiconductor device, the light emitting diode 3 emits light, and this light is transmitted through the primary side transparent silicon resin 4, the insulating film 19, and the secondary side transparent silicon resin 5. Street, light receiving element 2
To generate a photoelectromotive force, and use the generated photoelectromotive force as an output of the optically coupled semiconductor device to connect a transistor or a MO connected to the secondary side (output side) of the optically coupled semiconductor device.
It controlled electronic parts such as SFET.

【0004】ここで、一次側透明シリコン樹脂4と二次
側透明シリコン樹脂5の間に配置されている絶縁フィル
ム19は、透明シリコン樹脂4,5と光結合半導体装置
のモールド樹脂20との熱膨張係数の差異のために透明
シリコン樹脂4,5とモールド樹脂20との界面に生ず
る隙間のため一次二次間の分離耐圧が低下することを防
ぐために、一次二次間の沿面距離を長くし高分離耐圧化
の目的で用いられていた。
Here, the insulating film 19 disposed between the primary side transparent silicone resin 4 and the secondary side transparent silicone resin 5 is heated by the transparent silicone resins 4 and 5 and the mold resin 20 of the optically coupled semiconductor device. In order to prevent the separation withstand voltage between the primary and secondary from decreasing due to the gap generated at the interface between the transparent silicone resin 4, 5 and the molding resin 20 due to the difference in expansion coefficient, the creepage distance between the primary and secondary is increased. It was used for the purpose of increasing the breakdown voltage.

【0005】次に光結合半導体装置の製造方法について
説明する。一次側リードフレーム11のアイランド部9
に発光ダイオード3をマウントしボンディングワイヤ1
5で配線し、二次側リードフレーム12のアイランド部
10に受光素子2をマウントしボンディングワイヤ16
で配線する。次に発光ダイオード3を覆うように一次側
透明シリコン樹脂4をポッティングし、受光素子2を覆
うように二次側透明シリコン樹脂5をポッディングして
いた。ここで、一次側透明シリコン樹脂4及び二次側透
明シリコン樹脂5を硬化処理する前に絶縁フィルム19
を一次側リードフレーム11と二次側リードフレーム1
2にポッティングされた透明シリコン樹脂4,5で挟み
込み、一次側リードフレーム11と二次側リードフレー
ム12間の対向ギャップを調整し固定した状態で透明シ
リコン樹脂4,5を硬化させ、最後にモールド樹脂20
などで全体を封止していた。
Next, a method of manufacturing the optically coupled semiconductor device will be described. Island part 9 of the primary side lead frame 11
Mount the light emitting diode 3 on the bonding wire 1
5, the light receiving element 2 is mounted on the island portion 10 of the secondary side lead frame 12, and the bonding wire 16
Wire with. Next, the primary side transparent silicone resin 4 was potted so as to cover the light emitting diode 3, and the secondary side transparent silicone resin 5 was potted so as to cover the light receiving element 2. Here, before the primary side transparent silicone resin 4 and the secondary side transparent silicone resin 5 are cured, the insulating film 19
The primary side lead frame 11 and the secondary side lead frame 1
It is sandwiched between the transparent silicon resins 4 and 5 potted in 2, and the facing silicone between the primary side lead frame 11 and the secondary side lead frame 12 is adjusted and fixed. Resin 20
The whole was sealed with etc.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】この従来の光結合半導
体装置では、発光ダイオード及び受光素子に透明シリコ
ン樹脂をポッティングし、透明シリコン樹脂で絶縁フィ
ルムを挟み込んだ後に透明シリコン樹脂を硬化している
ことから、透明シリコン樹脂の粘度や量により絶縁フィ
ルムやリードフレームに透明シリコン樹脂が周り込み、
光導通路となる透明シリコン樹脂の形状がばらつき、光
結合半導体装置の光結合効率特性がばらつくという問題
があった。
In this conventional optical coupling semiconductor device, the transparent silicon resin is potted to the light emitting diode and the light receiving element, and the transparent silicon resin is cured after the insulating film is sandwiched by the transparent silicon resin. Therefore, depending on the viscosity and amount of the transparent silicone resin, the transparent silicone resin wraps around the insulation film and lead frame,
There is a problem in that the shape of the transparent silicon resin that serves as the optical path varies, and the optical coupling efficiency characteristics of the optical coupling semiconductor device also vary.

【0007】また、絶縁フィルムを透明シリコンで保持
しながら透明シリコン樹脂を硬化させるために、透明シ
リコン樹脂の表面張力等により絶縁フィルムの位置がず
れ、発光ダイオードや受光素子等の内部素子に配線して
いるボンディングワイヤに接触し、一次二次間の分離耐
圧が低下するという問題もあった。
Further, in order to cure the transparent silicon resin while holding the insulating film with transparent silicon, the position of the insulating film shifts due to the surface tension of the transparent silicon resin, and wiring is made to internal elements such as light emitting diodes and light receiving elements. There is also a problem that the separation withstand voltage between the primary and the secondary is lowered due to the contact with the existing bonding wire.

【0008】また、二次側に接続されている負荷条件な
どにより光結合半導体装置内において高電界が発生した
ときに、この高電界の影響により光結合半導体装置内の
素子特性が変動してしまうという問題もあった。
Further, when a high electric field is generated in the optically coupled semiconductor device due to a load condition connected to the secondary side or the like, the element characteristics in the optically coupled semiconductor device are changed due to the influence of the high electric field. There was also a problem.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の光結合半導体装
置は、一次側リードフレーム及び二次側リードフレーム
に、一次側透明シリコン樹脂及び二次側透明シリコン樹
脂の形状を保持し、且つ一次側絶縁フィルム及び二次側
絶縁フィルムをマウントするリードフレームのストッパ
部を備えている。
According to another aspect of the present invention, there is provided an optically coupled semiconductor device in which a primary side lead frame and a secondary side lead frame retain the shapes of a primary side transparent silicone resin and a secondary side transparent silicone resin, respectively. A lead frame stopper for mounting the side insulating film and the secondary side insulating film is provided.

【0010】また、二次側絶縁フィルムに導電コートを
施し二次側絶縁フィルムを二次側の正電位もしくは負電
位に接続している。
Further, a conductive coating is applied to the secondary side insulating film, and the secondary side insulating film is connected to a positive potential or a negative potential on the secondary side.

【0011】また、一次側ないしは二次側絶縁フィルム
もしくは一次側及び二次側絶縁フィルムの形状をL字形
状にしている。
Further, the shape of the primary side or secondary side insulating film or the primary side and secondary side insulating films is L-shaped.

【0012】[0012]

【作用】一次側及び二次側リードフレームに透明シリコ
ン樹脂の形状を保持するためのストッパ部を設けること
により、光導通路である透明シリコン樹脂の形状が安定
し、光結合半導体装置の光結合効率特性のばらつきが減
少するという作用がある。
By providing the stopper portions for holding the shape of the transparent silicon resin on the primary side and secondary side lead frames, the shape of the transparent silicon resin which is the optical path is stabilized, and the optical coupling efficiency of the optical coupling semiconductor device is improved. This has the effect of reducing variations in characteristics.

【0013】また、一次側及び二次側リードフレームに
ストッパ部を設け、このストッパ部に一次側及び二次側
絶縁フィルムをマウントすることにより、絶縁フィルム
が発光ダイオードや受光素子等に接触し一次二次間の分
離耐圧が低下することが無くなるという作用もある。
Further, the primary side and the secondary side lead frames are provided with stoppers, and the primary side and the secondary side insulating films are mounted on the stoppers so that the insulating film comes into contact with the light emitting diode, the light receiving element and the like. There is also an effect that the separation withstand voltage between the secondary parts will not decrease.

【0014】また、一次側及び二次側絶縁フィルムを一
次側及び二次側リードフレーム各々にマウント・固定
し、その後に一次側及び二次側リードフレームを結合す
ることにより、組立が容易になり量産性が向上するとい
う作用もある。
Further, by mounting and fixing the primary side and secondary side insulating films on the primary side and secondary side lead frames respectively, and then connecting the primary side and secondary side lead frames, the assembly becomes easy. It also has the effect of improving mass productivity.

【0015】また、絶縁フィルムに導電コートを施すこ
とにより、高電界が光結合半導体装置の内部において発
生した際に電界がシールドによって緩和され光結合半導
体装置内において素子の特性変動を防止する作用があ
る。
Further, by providing the insulating film with a conductive coat, when a high electric field is generated inside the optically coupled semiconductor device, the electric field is mitigated by the shield, and the characteristic variation of the element in the optically coupled semiconductor device is prevented. is there.

【0016】また、絶縁フィルムをL字形状にすること
により一次二次間の沿面距離が長くなり、一次二次間の
分離耐圧が向上するという作用もある。
Further, by making the insulating film L-shaped, the creeping distance between the primary and the secondary is increased, and the isolation breakdown voltage between the primary and the secondary is also improved.

【0017】[0017]

【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。図1は本発明の光結合半導体装置の一実施例の縦断
面図である。
The present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a vertical sectional view of an embodiment of the optically coupled semiconductor device of the present invention.

【0018】一次側リードフレーム11のアイランド部
9に発光ダイオード3がダイボンディングされており、
リードフレームのストッパ部13に一次側絶縁フィルム
6がマウントされており、発光ダイオード3を取り囲む
ようにして一次側透明シリコン樹脂4がリードフレーム
のアイランド部9とリードフレームのストッパ部13及
び一次側絶縁フィルム6の間にポッティングされてい
る。
The light emitting diode 3 is die-bonded to the island portion 9 of the primary side lead frame 11,
The primary side insulating film 6 is mounted on the stopper part 13 of the lead frame, and the primary side transparent silicon resin 4 surrounds the light emitting diode 3 and the island part 9 of the lead frame, the stopper part 13 of the lead frame and the primary side insulation It is potted between the films 6.

【0019】また、二次側リードフレーム12のアイラ
ンド部10にフォトトランジスタもしくはフォトダイオ
ード等の光を受光することにより光起電力を発生する受
光素子2がダイボンディングされており、リードフレー
ムのストッパ部14に二次側絶縁フィルム7がマウント
されており、受光素子2を取り囲むようにして二次側透
明シリコン樹脂5がリードフレームのアイランド部10
とリードフレームのストッパ部14及び二次側絶縁フィ
ルム7の間にポッティングされている。
Further, a light receiving element 2 for generating a photoelectromotive force by receiving light from a phototransistor or a photodiode is die-bonded to the island portion 10 of the secondary side leadframe 12, and a stopper portion of the leadframe is formed. The secondary side insulating film 7 is mounted on 14 and the secondary side transparent silicon resin 5 surrounds the light receiving element 2 and the secondary side transparent silicon resin 5 is formed on the island portion 10 of the lead frame.
And between the stopper portion 14 of the lead frame and the secondary side insulating film 7.

【0020】図2は、かかる光結合半導体装置の二次側
リードフレーム12の斜視図であり、リードフレームの
ストッパ部14とリードフレームのアイランド部10
は、二次リードフレーム12の一部分である。また、一
次側リードフレーム11の形状も二次側リードフレーム
12と同様の形状をしている。
FIG. 2 is a perspective view of the secondary side lead frame 12 of such an optical coupling semiconductor device, which shows a stopper portion 14 of the lead frame and an island portion 10 of the lead frame.
Is a part of the secondary lead frame 12. The shape of the primary side lead frame 11 is also the same as that of the secondary side lead frame 12.

【0021】また一次側リードフレーム11と二次側リ
ードフレーム12は発光ダイオード3と受光素子2が対
向するように配置されている。ここで一次側絶縁フィル
ム6と二次側絶縁フィルム7は透明ゲルシリコン樹脂8
によって接合されており、発光ダイオード3と受光素子
2との間の光導通路は発光ダイオード3側から一次側透
明シリコン樹脂4・一次側絶縁フィルム6・透明ゲルシ
リコン樹脂8・二次側絶縁フィルム7・二次側透明シリ
コン樹脂5の順序で構成されている。
The primary side lead frame 11 and the secondary side lead frame 12 are arranged so that the light emitting diode 3 and the light receiving element 2 face each other. Here, the primary side insulating film 6 and the secondary side insulating film 7 are made of transparent gel silicone resin 8
The optical path between the light emitting diode 3 and the light receiving element 2 is joined from the side of the light emitting diode 3 to the primary side transparent silicone resin 4, the primary side insulating film 6, the transparent gel silicone resin 8, and the secondary side insulating film 7. The secondary side transparent silicone resin 5 is formed in this order.

【0022】また、リードフレームのストッパ部13,
14により、透明シリコン樹脂4,5の形状が補正され
ることから、光導通路の断面積がリードフレームのスト
ッパ部13,14でコントロールが可能となっている。
The lead frame stopper 13,
Since the shapes of the transparent silicone resins 4 and 5 are corrected by 14, the cross-sectional area of the optical passage can be controlled by the stopper portions 13 and 14 of the lead frame.

【0023】次に本発明の光結合半導体装置の一実施例
の製造方法について説明する。一次側リードフレーム1
1のアイランド部9に発光ダイオード3をマウントして
ボンディングワイヤ15で配線した後に一次側リードフ
レーム11のストッパ部13に一次側絶縁フィルム6を
マウントし、発光ダイオード3を取り囲むようにして一
次側透明シリコン樹脂4を一次側リードフレームのアイ
ランド部9と一次側リードフレームのストッパ部13の
間にポッティングし、一次側リードフレーム11のスト
ッパ部13に一次側絶縁フィルム6をマウントした後
に、一次側透明シリコン樹脂4を硬化させる。また同様
に、二次側リードフレーム12のアイランド部10に受
光素子2をマウントしボンディングワイヤ16で配線
し、受光素子2を取り囲むようにして二次側透明シリコ
ン樹脂5を二次側リードフレームのアイランド部10と
二次側リードフレームのストッパ部14の間にポッティ
ングし、二次側リードフレームのストッパ部14に二次
側絶縁フィルム7をマウントした後、に、二次側透明シ
リコン樹脂5を硬化させる。
Next, a manufacturing method of an embodiment of the optically coupled semiconductor device of the present invention will be described. Primary side lead frame 1
After mounting the light emitting diode 3 on the island portion 9 of No. 1 and wiring with the bonding wire 15, the primary side insulating film 6 is mounted on the stopper portion 13 of the primary side lead frame 11 so as to surround the light emitting diode 3 and the primary side is transparent. After the silicon resin 4 is potted between the island portion 9 of the primary side lead frame and the stopper portion 13 of the primary side lead frame and the primary side insulating film 6 is mounted on the stopper portion 13 of the primary side lead frame 11, the primary side transparent The silicone resin 4 is hardened. Similarly, the light receiving element 2 is mounted on the island portion 10 of the secondary side lead frame 12 and is wired by the bonding wire 16, and the secondary side transparent silicon resin 5 is attached to the secondary side lead frame so as to surround the light receiving element 2. After potting between the island portion 10 and the stopper portion 14 of the secondary side lead frame and mounting the secondary side insulating film 7 on the stopper portion 14 of the secondary side lead frame, the secondary side transparent silicon resin 5 is attached. Let it harden.

【0024】このとき、各々のリードフレームのストッ
パ部は一次側及び二次側透明シリコン樹脂がリードフレ
ームの端面に沿って周り込んだり硬化途中に形状が変形
するのを防ぐ作用がある。また、各々のリードフレーム
のストッパ部に一次側及び二次側絶縁フィルムをマウン
トすることにより絶縁フィルムの位置がそれぞれのリー
ドフレームの形状から決定される。このことから、各々
のリードフレームの形状をコントロールすることによ
り、各々のリードフレームのアイランド部にマウントし
ている素子に配線しているボンディングワイヤ等に絶縁
フィルムが接触することを防止することが可能となって
いる。
At this time, the stopper portion of each lead frame has an action of preventing the primary and secondary side transparent silicone resin from getting around along the end face of the lead frame and deforming the shape during curing. Further, by mounting the primary side and secondary side insulating films on the stopper portions of each lead frame, the position of the insulating film is determined from the shape of each lead frame. From this, by controlling the shape of each lead frame, it is possible to prevent the insulating film from contacting the bonding wires that are wired to the elements mounted on the islands of each lead frame. Has become.

【0025】次に、各々の透明シリコン樹脂4,5を充
分硬化した後に発光ダイオード3と受光素子2が対向す
るように一次側リードフレームのストッパ部13にマウ
ントしている一次側絶縁フィルム6と二次側リードフレ
ームのストッパ部14にマウントしている二次側絶縁フ
ィルム7とを透明ゲルシリコン樹脂8で密着接合した後
に透明ゲルシリコン樹脂8を硬化させ、最後にモールド
樹脂20などで全体を封止する。
Next, after the respective transparent silicone resins 4 and 5 are sufficiently cured, the primary side insulating film 6 mounted on the stopper portion 13 of the primary side lead frame so that the light emitting diode 3 and the light receiving element 2 face each other. The transparent gel silicon resin 8 is adhered and bonded to the secondary insulating film 7 mounted on the stopper portion 14 of the secondary lead frame, and then the transparent gel silicon resin 8 is cured. Seal.

【0026】ここで、発光ダイオードと受光素子の対向
ギャップは、一次側及び二次側リードフレームが一次側
及び二次側絶縁フィルムを用い透明ゲルシリコン樹脂に
よって接合されていることから各々のリードフレームの
形状と絶縁フィルムの膜厚及び透明ゲルシリコン樹脂の
厚さによって決定される。
Here, the opposing gaps between the light emitting diode and the light receiving element are the respective lead frames because the primary and secondary side lead frames are joined by the transparent gel silicon resin using the primary and secondary side insulating films. Shape, the thickness of the insulating film, and the thickness of the transparent gel silicone resin.

【0027】図3は本発明の光結合半導体装置の第二の
実施例の縦断面図である。
FIG. 3 is a vertical sectional view of a second embodiment of the optically coupled semiconductor device of the present invention.

【0028】実施例1で説明した光結合半導体装置にお
いて、一次絶縁フィルムをL字形状一次側絶縁フィルム
17にし二次側絶縁フィルムをL字形状二次側導電コー
ト付き絶縁フィルム18にしている。またL字形状二次
側導電コート付き絶縁フィルムにおいて受光素子側のみ
導電コート処理を施しており、この導電コート面は二次
側(負荷側)の正電位もしくは負電位に接地されてい
る。この外の部分は実施例1と同じである。
In the optically coupled semiconductor device described in Example 1, the primary insulating film is the L-shaped primary side insulating film 17 and the secondary side insulating film is the L-shaped secondary side insulating film with a conductive coat 18. Further, in the L-shaped insulating film with a secondary side conductive coat, only the light receiving element side is subjected to a conductive coat treatment, and the conductive coat surface is grounded to a positive potential or a negative potential on the secondary side (load side). The other parts are the same as in the first embodiment.

【0029】本実施例は絶縁フィルムをL字状にしてい
るので一次二次間の沿面距離が長くなり、一次二次間の
分離耐圧が向上する。また、光結合素子に接続されてい
る負荷条件による高電界が光結合素子内において発生し
ても、二次側絶縁フィルムの受光素子側に導電コートを
施し、これを正電位もしくは負電位に設置しているの
で、受光素子表面上で発生する高電界を導電コート表面
で遮断でき、受光素子表面上への高電界の発生を緩和し
ている。
In this embodiment, since the insulating film is L-shaped, the creepage distance between the primary and the secondary becomes long, and the isolation breakdown voltage between the primary and the secondary is improved. Even if a high electric field due to the load condition connected to the optical coupling element occurs in the optical coupling element, a conductive coating is applied to the light receiving element side of the secondary side insulating film, and this is set to a positive potential or a negative potential. Therefore, the high electric field generated on the surface of the light receiving element can be blocked by the surface of the conductive coat, and the generation of the high electric field on the surface of the light receiving element is mitigated.

【0030】[0030]

【発明の効果】以上説明したように本発明は、光結合半
導体装置における一次側及び二次側リードフレームにス
トッパ部を設けることにより光導通路となる透明シリコ
ン樹脂の形状が保持され光導通路の断面積がストッパ部
の形状により決定され、光結合半導体装置における光結
合効率が均一化されるという効果を有する。
As described above, according to the present invention, by providing the stopper portions on the primary side and secondary side lead frames in the optically coupled semiconductor device, the shape of the transparent silicon resin serving as the optical path is maintained and the optical path is disconnected. The area is determined by the shape of the stopper portion, which has the effect of making the optical coupling efficiency in the optical coupling semiconductor device uniform.

【0031】また、リードフレームのストッパ部に絶縁
フィルムをマウントすることにより、絶縁フィルムとリ
ードフレームのアイランド部にマウントする素子及び素
子に配線されるボンディングワイヤ等との距離が固定さ
れ、絶縁フィルムと素子及び素子に配線されるボンディ
ングワイヤ等が接触するおそれがなくなるという効果も
有する。
Further, by mounting the insulating film on the stopper portion of the lead frame, the distance between the insulating film and the element mounted on the island portion of the lead frame and the bonding wire or the like wired to the element is fixed, and There is also an effect that there is no possibility that the element and the bonding wire or the like wired to the element will come into contact with each other.

【0032】また、一次側リードフレーム及び二次側リ
ードフレーム各々において透明シリコン樹脂の硬化工程
まで完了した後に一次側リードフレームと二次側リード
フレームとを組み立てることにより、光結合半導体装置
の組立工程が簡単化されるという効果も有する。
Further, by assembling the primary side lead frame and the secondary side lead frame after completing the steps of curing the transparent silicon resin in each of the primary side lead frame and the secondary side lead frame, an assembling process of the optical coupling semiconductor device is performed. It also has the effect of being simplified.

【0033】また、絶縁フィルムをL字形状にすること
により、一次二次間の沿面距離が長くなり、一次二次間
の分離耐圧が向上するという効果も有する。
Further, by making the insulating film L-shaped, the creeping distance between the primary and the secondary is increased, and the isolation breakdown voltage between the primary and the secondary is improved.

【0034】また、二次側絶縁フィルムに導電コートを
施し二次側の正電位もしくは負電位に接続することによ
り、二次側(負荷側)に接続されている負荷条件などに
より光結合半導体装置内において高電界が発生した場合
に、高電界を導電コート表面で遮断することにより二次
側リードフレームにマウントしている素子の特性変動を
防止するという効果も有する。
Further, by providing a conductive coating on the secondary side insulating film and connecting it to a positive potential or a negative potential on the secondary side, the optically coupled semiconductor device depending on load conditions connected to the secondary side (load side). When a high electric field is generated in the inside, the high electric field is blocked by the surface of the conductive coat, so that the characteristic variation of the element mounted on the secondary side lead frame can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例の光結合半導体装置の縦断面
図。
FIG. 1 is a vertical cross-sectional view of an optically coupled semiconductor device according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施例の光結合半導体装置のリードフ
レームの斜視図。
FIG. 2 is a perspective view of a lead frame of an optically coupled semiconductor device according to an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第二の実施例の光結合半導体装置の縦
断面図。
FIG. 3 is a vertical sectional view of an optically coupled semiconductor device according to a second embodiment of the present invention.

【図4】従来の光結合半導体装置の縦断面図。FIG. 4 is a vertical cross-sectional view of a conventional optically coupled semiconductor device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 受光素子 3 発光ダイオード 4 一次側透明シリコン樹脂 5 二次側透明シリコン樹脂 6 一次側絶縁フィルム 7 二次側絶縁フィルム 8 透明ゲルシリコン樹脂 9・10 リードフレームアイランド部 11 一次側リードフレーム 12 二次側リードフレーム 13・14 リードフレームストッパ部 15・16 ボンディングワイヤ 17 L字形状一次側絶縁フィルム 18 L字形状二次側導電コート付き絶縁フィルム 19 絶縁フィルム 2 Light receiving element 3 Light emitting diode 4 Primary side transparent silicone resin 5 Secondary side transparent silicone resin 6 Primary side insulating film 7 Secondary side insulating film 8 Transparent gel silicone resin 9/10 Lead frame island 11 Primary side lead frame 12 Secondary Side lead frame 13/14 Lead frame stopper 15/16 Bonding wire 17 L-shaped primary side insulating film 18 L-shaped secondary side Insulating film with conductive coat 19 Insulating film

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 入力信号の入力により発光する発光ダイ
オードと、前記発光ダイオードの光を受光し光起電力を
発生する受光素子とを少なくとも一対有する光結合半導
体装置において、前記発光ダイオードをマウントする一
次側リードフレームと前記受光素子をマウントする二次
側リードフレームにストッパ部を備え、前記一次側のリ
ードフレームのストッパ部に一次側絶縁フィルムを接着
し、前記二次側リードフレームのストッパ部に二次絶縁
フィルムを接着し、前記一次側絶縁フィルムと前記二次
側絶縁フィルムとを透明樹脂もしくは接着剤で接合した
ことを特徴とする光結合半導体装置。
1. An optical coupling semiconductor device having at least one pair of a light emitting diode which emits light in response to an input of an input signal and a light receiving element which receives light from the light emitting diode and generates a photoelectromotive force. A side lead frame and a secondary side lead frame for mounting the light receiving element are provided with stoppers, and a primary side insulating film is adhered to the stoppers of the primary side lead frame, and a secondary side lead frame is provided with a stopper. An optical coupling semiconductor device, characterized in that a secondary insulating film is adhered, and the primary insulating film and the secondary insulating film are joined with a transparent resin or an adhesive.
【請求項2】 請求項1記載の光結合半導体装置におい
て、前記二次側絶縁フィルムに導電コートを施し、前記
二次側絶縁フィルムを二次側の正電位もしくは負電位に
接続したことを特徴とする光結合半導体装置。
2. The optically coupled semiconductor device according to claim 1, wherein the secondary side insulating film is provided with a conductive coating, and the secondary side insulating film is connected to a positive potential or a negative potential on the secondary side. Optically coupled semiconductor device.
【請求項3】 請求項1または請求項2記載の光結合半
導体装置において、前記一次側絶縁フィルムもしくは前
記二次側絶縁フィルム、あるいは前記一次側絶縁フィル
ム及び二次側絶縁フィルムをL次形状にしたことを特徴
とする光結合半導体装置。
3. The optically coupled semiconductor device according to claim 1 or 2, wherein the primary side insulating film or the secondary side insulating film, or the primary side insulating film and the secondary side insulating film have an L-shaped shape. An optically coupled semiconductor device characterized by the above.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07226533A (en) * 1994-02-10 1995-08-22 Nec Corp Photocoupler and its manufacture
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