JPH0532532A - 日焼け止め化粧料 - Google Patents
日焼け止め化粧料Info
- Publication number
- JPH0532532A JPH0532532A JP21006891A JP21006891A JPH0532532A JP H0532532 A JPH0532532 A JP H0532532A JP 21006891 A JP21006891 A JP 21006891A JP 21006891 A JP21006891 A JP 21006891A JP H0532532 A JPH0532532 A JP H0532532A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- ammonium
- silicone
- modified
- ultraviolet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Cosmetics (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
るいは紫外線散乱剤の使用で所期の紫外線防止効果が得
られる日焼け止め化粧料を提供する。 【構成】 重合度が3,000〜20,000のアミノ
変性またはアンモニウム変性高分子シリコーンを配合す
る。
Description
る。さらに詳しくは、太陽光線の紫外線による皮膚の紅
斑および黒化防止に有効であり、かつ使用性に優れた皮
膚刺戟の無い改良された日焼け止め化粧料に関する。
けさせることは健康美の表現として、あるいはファッシ
ョンとしての意識がある若年層を中心に、積極的に日焼
けしたいと考えている人が多く、彼等は化粧料を全身に
塗布し、強烈な太陽光線下に肌を晒している。しかし近
年、紫外線から肌を保護する意識が高まり、化粧料中に
も、ひぶくれ・紅斑等の原因となる紫外線(波長290
nm〜320nm)を吸収する紫外線吸収剤が配合され
るようになってきている。しかしながら、紫外線に過敏
な人や、長い間太陽光線に肌を晒したことがない人はも
ちろんのこと、健常人が真夏の強烈な太陽光線で適度な
日焼けを楽しむには、化粧料中に紫外線吸収剤を多量に
配合しなければならない。ところがほとんどの紫外線吸
収剤は皮膚刺激性を有するので、その紫外線吸収効果と
はうらはらに、多量に配合した製品を繰り返し塗布する
と皮膚に炎症を起こしたり色素沈着を起こしてしまうこ
とがある。従って紫外線吸収剤を多量に配合することは
紫外線によるひぶくれや紅斑防止に対しては効果がある
ものの、好ましいことではない。更に従来の日焼け止め
化粧料は、耐水性が十分でなく、海水浴や水泳などで水
中に入った場合や、多量に汗をかいた場合などに流れ落
ちやすく、再塗布を忘れたときなど思わぬ炎症の原因と
なる。またプールにおいて使用すると、基剤である油分
が溶出するため水汚染の一因となる等の欠点があった。
焼け止め化粧料のこれらの欠点を解決すべく鋭意研究を
重ねた結果、特定のアミノ変性またはアンモニウム変性
高分子シリコーンを配合した日焼け止め化粧料は、紫外
線吸収効果が著しく増大し、更に耐水性が向上すること
を見い出した。すなわち、本発明は、一般式1:
し、R2はR3と同一またはメチル基または水酸基を表
す。R3は式R4Z{R4は3から6の炭素原子を有する
2価のアルキレン基を表し、Zは−NR5 2、−N+R5 3
A-、−NR5(CH2)aNR5 2、−NR5(CH2)aN+
R5 3A-および−NR5(CH2)aN(R5)C=O
(R6)(R5は水素または1から4の炭素原子を有する
アルキル基を表し、R6は1から4の炭素原子を有する
アルキル基を表し、AはCl、BrまたはIを表し、a
は2から6の整数である。)からなる群から選ばれる1
価の基を表す。}で表されるアミノ基またはアンモニウ
ム基を有する置換基を表し、mおよびnはそれぞれ正の
整数でm+nは3,000〜20,000の整数を表
し、n/mは1/500〜1/10,000である。]
で表されるアミノ変性またはアンモニウム変性高分子シ
リコ―ンの一種または二種以上と、揮発性シリコーンお
よび/または揮発性炭化水素油と、紫外線吸収剤および
/または紫外線散乱剤を含有することを特徴とする日焼
け止め化粧料である。本発明によれば、少ない紫外線吸
収剤量で目的とする紫外線吸収効果をもたせることがで
きるので、皮膚安全性が高く、耐水性にも優れ、プール
でも使用可能な日焼け止め化粧料を得ることが出来る。
リコーンのm+nは3,000〜20,000であり、
好ましくは、4,000〜10,000である。3,0
00未満だと油状で、耐水性が不十分であり、20,0
00を超えるとシリコーン油等の他の化粧品原料に溶解
せず、化粧料に配合することができない。また、n/m
は1/500〜1/10,000であり、好ましくは、
1/500〜1/2,000である。1/500を超え
ると、シリコーン中のアミノ基またはアンモニウム基の
含有率が高くなり、製造時に架橋反応等が起きたり、ま
た原料臭の点からも好ましくない。1/10,000未
満では皮膚に対する相互作用が弱くなり、耐水性が悪く
なる。本発明のアミノ変性またはアンモニウム変性高分
子シリコーンは、一般のアミノ変性またはアンモニウム
変性シリコーンと同じ製造法で作ることが出来る。例え
ばγ−アミノプロピルメチルジエトキシシランと環状ジ
メチルポリシロキサンとヘキサメチルジシロキサンとを
アルカリ触媒下で重縮合反応させることによって作るこ
とができる。本発明で使用するアミノ変性またはアンモ
ニウム変性高分子シリコーンは、軟質ゴム状であり、多
量に用いてもベタツキ感がなく極めて優秀な日焼け止め
化粧料を得ることができる。本発明におけるアミノ変性
またはアンモニウム変性高分子シリコーンの配合量は化
粧料全量中の1〜50重量%、好ましくは1〜30重量
%である。1重量%未満では十分な効果が得られず、5
0重量%を超えると他の化粧品原料に溶解しにくくな
る。
温において揮発性を有するものであり、例えば粘度0.
65〜5cSt/25℃のジメチルポリシロキサンや、
オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシク
ロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキ
サン等の環状シリコーンが挙げられる。本発明に使用さ
れる揮発性炭化水素油は、常圧における沸点が260℃
以下のもので、例えばアイソパー(登録商標)A、同
C、同D、同E、同G、同H、同K、同L、同M(エク
ソン社)、シェルゾール(登録商標)71(シェル
社)、ソフトロール(登録商標)100、同130、同
220(フィリップ社)等を挙げることが出来る。本発
明における揮発性シリコーンおよび揮発性炭化水素油の
配合量は化粧料全量中の1〜95重量%、好ましくは、
5〜60重量%である。
しては公知の紫外線吸収剤が全て有効に用いうる。代表
的な紫外線吸収剤を以下に列記する。安息香酸系のもの
として、パラアミノ安息香酸(以下、PABAと略
す。),グリセリルPABA,エチルジヒドロキシプロ
ピルPABA,N−エトキシレ―トPABAエチルエス
テル,N−ジメチルPABAエチルエステル,N−ジメ
チルPABAブチルエステル,N−ジメチルPABAア
ミルエステル,オクチルジメチルPABA、アントラニ
リック酸系のものとして、ホモメンチル−N−アセチル
アントラニレ―ト、サリチル酸系のものとして、アミル
サリシレ―ト,メンチルサリシレート,ホモメンチルサ
リシレ―ト,オクチルサリシレ―ト,フェニルサリシレ
―ト,ベンジルサリシレ―ト,p−イソプロパノ―ルフ
ェニルサリシレ―ト、桂皮酸系のものとして、オクチル
シンナメ―ト,エチル−4−イソプロピルシンナメ―
ト,エチル−2,4−ジイソプロピルシンナメ―ト,メ
チル−2,4−ジイソプロピルシンナメ―ト,プロピル
−p−メトキシシンナメ―ト,イソプロピル−p−メト
キシシンナメ―ト,イソアミル−p−メトキシシンナメ
―ト,2−エチルヘキシル−p−メトキシシンナメ―
ト,2―エトキシエチル−p−メトキシシンナメ―ト,
シクロヘキシル−p−メトキシシンナメ―ト,エチル−
α−シアノ−β−フェニルシンナメ―ト,2―エチルヘ
キシル−α−シアノ−β−フェニルシンナメ―ト,グル
セリルモノ−2―エチルヘキサノイルジパラメトキシシ
ンナメ―ト、ベンゾフェノン系のものとして、2,4−
ジヒドロキシベンゾフェノン,2,2´−ジヒドロキシ
−4−メトキシベンゾフェノン,2,2´−ジヒドロキ
シ−4,4´−ジヒドロキシベンゾフェノン,2,2
´,4,4´−テトラヒドロキシベンゾフェノン,2―
ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン,2―ヒドロ
キシ−4−メトキシ−4´−メチルベンゾフェノン,2
−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン,4−フェ
ニルベンゾフェノン,2―エチルヘキシル−4´−フェ
ニルベンゾフェノン−2−カルボキシレ―ト,2―ヒド
ロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェノン,4−ヒド
ロキシ−3−カルボキシベンゾフェノン、その他のもの
として、3−(4´−メチルベンジリデン)−d,l−
カンファ―,3―ベンジリデン−d,l−カンファ―,
ウロカニン酸,ウロカニン酸エチルエステル,2―フェ
ニル−5−メチルベンゾキサゾ―ル,2,2´−ヒドロ
キシ−5−メチルフェニル−ベンゾトリアゾ―ル,2―
(2´−ヒドロキシ−5−t−オクチルフェニル)ベン
ゾトリアゾ―ル,ジベンザラジン,ジアニソイルメタ
ン,4−メトキシ−4´−t−ブチルジベンゾイルメタ
ン,5−(3,3−ジメチル−2−ノルボニリデン)−
3−ペンタン−2−オン等が挙げられる。
チタン,微粒子酸化チタン,酸化亜鉛,微粒子酸化亜
鉛,酸化鉄,微粒子酸化鉄等が挙げられる。紫外線吸収
剤または紫外線散乱剤の配合量および組み合わせは求め
る紫外線吸収効果に応じて決定されるが、紫外線防止効
果を考慮すると0.05重量%以上必要である。上限は
皮膚安全性面から個々に異なるが、例えばホモメンチル
サリシレートでは15重量%、オクチルジメチルPAB
Aは8重量%、2,2−ジヒドロキシ−4−メトキシベ
ンゾフェノンでは3重量%である。本発明の日焼け止め
化粧料には上記の必須構成成分に加えて、水性成分およ
び適切な界面活性剤を配合し、乳化技術を駆使すること
によって耐水性を失わない範囲で油中水型または水中油
型の乳化組成物とすることも可能である。
構成成分の他に、目的に応じて本発明の効果を損なわな
い量的質的範囲内でオリーブ油,ヤシ油,サフラワー
油,ヒマシ油,綿実油などの油脂類、ラノリン,ホホバ
油,カルナバロウなどのロウ類、流動パラフィン,スク
ワラン,ワセリンなどの炭化水素油、脂肪酸類、アルコ
ール類、オクタン酸セチル,ミリスチン酸イソプロピル
などのエステル油、ジメチルポリシロキサン,メチルフ
ェニルポリシロキサンなどのシリコーン油、シリコーン
樹脂、プロピレングリコール,ジプロピレングリコー
ル,1,3−ブチレングリコール,グリセリン,イソプ
レングリコール,ポリエチレングリコール,ヒアルロン
酸,コンドロイチン硫酸,ピロリドンカルボン酸塩等の
保湿剤、トコフェノール,ブチルヒドロキシアニソー
ル,ジブチルヒドロキシトルエン等の酸化防止剤、メチ
ルパラベン,エチルパラベン,プロピルパラベン,ブチ
ルパラベン等の防腐剤、マイカ,ベントナイト,カオリ
ン,タルク,マイカチタン,オキシ塩化ビスマス,無水
ケイ酸等の粉末、グアニン,ラミネート樹脂パール剤,
マイカ−チタン系パール剤等のパール剤、グンジョウ,
酸化クロム,コバルトブルー等の無機顔料、スダンII
I,キニザニングリーンSS,キノリンエローSS等の
染料、スパン系,ツイーン系,POEアルキルエーテル
系,POE−POP系,グリセリン脂肪酸エステル系,
POEグリセリン脂肪酸エステル系等の界面活性剤、カ
ルボキシビニルポリマー等の増粘剤,消炎剤,ビタミ
ン,ホルモンなどの薬剤、香料などの通常化粧品に配合
される他の成分を配合することは可能である。
明は、これらによって限定されるものではない。配合量
は全て重量%である。 実施例1(サンスクリ―ンオイル) (1)ジメチルポリシロキサン (1cSt/25℃) 35.0% (2)ジメチルポリシロキサン (2cSt/25℃) 23.0 (3)アミノ変性高分子シリコ―ン 30.0 (一般式1でR1およびR2はメチル基、 R3は−(CH2)3N(CH3)2、 m=5,000、n=5) (4)グリセリルトリイソステアレ―ト 10.0 (5)オクチルジメチルPABA 2.0 (6)香料 適量 80℃で(5)を(4)に溶解して冷却したものに、
(1)〜(3)、(6)を攪拌溶解した溶液を混合し、
容器に充填してサンスクリ―ンオイルを得た。 比較例1(サンスクリ―ンオイル) 実施例1の(3)をジメチルポリシロキサン(5cSt
/25℃)に置き換えたほかは、実施例1と同様にして
サンスクリ―ンオイルを得た。
解した後、(1)〜(3)を加えて分散する。脱気後
(9)を加えて所定の容器に充填して油性ファンデ―シ
ョンを得た。 比較例2(油性ファンデ―ション) 実施例2の(7)、(8)を流動パラフィンに置き換え
たほかは、実施例2と同様にして油性ファンデ―ション
を得た。
(13)を70℃で攪拌溶解し、これに(8)を分散す
る。これにあらかじめ70℃で溶解した(6)、
(7)、(11)を添加し、乳化分散後冷却して目的の
乳液を得た。比較例3(日焼け止め乳液)実施例3の
(2)を高分子量ジメチルポリシロキサン(重合度n=
7,000)に置き換えたほかは、実施例3と同様にし
て日焼け止め乳液を得た。
を動物を用いたSPF測定法にて日焼け防止効果を評価
した。すなわち背部毛を脱毛クリ―ムにて除去したモル
モットに、試料を2μl/cm2になるように塗布す
る。15分後に東芝FL−SEランプ12灯で紫外線を
照射した。照射後24時間経過した時点で試料塗布部お
よび試料無塗布部の紅斑を観察し、かすかな紅斑を起こ
すのに要した最少の紫外線量を求める。求めた最少紫外
線量から下式に従いSPF(Sun Protection Factor )
を計算する。
散乱剤とともに、アミノ変性またはアンモニウム変性高
分子シリコ―ンと揮発性シリコ―ンまたは/および揮発
性炭化水素油を配合した実施例は比較例と比較して、非
常に紫外線防止効果の増大することがわかる。
評価として、腕に試料を塗布した直後と、一定流水で水
洗した後での紫外線吸収剤量をエタノ―ルによる抽出で
定量し、紫外線吸収剤の残存率(%)=(水洗後の皮膚
上の紫外線吸収剤量)÷(水洗前の皮膚上の紫外線吸収
剤量)×100で表した。結果を表2に示した。
わかる。
70℃で攪拌溶解し、これにあらかじめ70℃で溶解し
た(7)、(8)、(12)を添加し、乳化分散後冷却
して目的の化粧下地を得た。
℃で混合溶解する。別に(7)〜(10)を混合粉砕す
る。両者を攪拌混合し、脱気後(14)を加えて液状頬
紅を得た。
に充填後、バルブをクリンプし、(6)、(7)を充填
した。
に充填、バルブを取り付けクランプ後、噴射剤(7)、
(8)、(9)を充填した。
止効果が高められ、同じ防止効果を得ようとする場合、
少量の紫外線吸収剤または紫外線散乱剤で所期の効果が
得られるので、これらの剤によって引き起こされる皮膚
刺激を低下させることができる。また高分子シリコ―ン
の効果により耐水性が向上することから思わぬ日焼けに
よるひぶくれや紅斑を避けることが可能になった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項1】 一般式: 【化1】 [式中、R1はメチル基または一部がフェニル基を表
し、R2はR3と同一またはメチル基または水酸基を表
す。R3は式R4Z{R4は3から6の炭素原子を有する
2価のアルキレン基を表し、Zは−NR5 2、−N+R5 3
A-、−NR5(CH2)aNR5 2、−NR5(CH2)aN+
R5 3A-および−NR5(CH2)aN(R5)C=O
(R6)(R5は水素または1から4の炭素原子を有する
アルキル基を表し、R6は1から4の炭素原子を有する
アルキル基を表し、AはCl、BrまたはIを表し、a
は2から6の整数である。)からなる群から選ばれる1
価の基を表す。}で表されるアミノ基またはアンモニウ
ム基を有する置換基を表し、mおよびnはそれぞれ正の
整数でm+nは3,000〜20,000の整数を表
し、n/mは1/500〜1/10,000である。]
で表されるアミノ変性またはアンモニウム変性高分子シ
リコーンの一種または二種以上と、揮発性シリコーンお
よび/または揮発性炭化水素油と、紫外線吸収剤および
/または紫外線散乱剤を含有することを特徴とする日焼
け止め化粧料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21006891A JP3370687B2 (ja) | 1991-07-26 | 1991-07-26 | 日焼け止め化粧料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21006891A JP3370687B2 (ja) | 1991-07-26 | 1991-07-26 | 日焼け止め化粧料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0532532A true JPH0532532A (ja) | 1993-02-09 |
JP3370687B2 JP3370687B2 (ja) | 2003-01-27 |
Family
ID=16583292
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21006891A Expired - Lifetime JP3370687B2 (ja) | 1991-07-26 | 1991-07-26 | 日焼け止め化粧料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3370687B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2706766A1 (ja) * | 1993-06-21 | 1994-12-30 | Oreal | |
JP2001131416A (ja) * | 1999-08-20 | 2001-05-15 | Kose Corp | 粉体組成物及び油中粉体分散物並びにそれらを含有する化粧料 |
JP2002080771A (ja) * | 2000-09-07 | 2002-03-19 | Noevir Co Ltd | 顔料分散体および化粧料 |
JP2009035638A (ja) * | 2007-08-01 | 2009-02-19 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 被膜形成性組成物 |
JP2015147752A (ja) * | 2014-02-07 | 2015-08-20 | 株式会社コーセー | エアゾール型化粧料 |
-
1991
- 1991-07-26 JP JP21006891A patent/JP3370687B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2706766A1 (ja) * | 1993-06-21 | 1994-12-30 | Oreal | |
WO1995000111A1 (fr) * | 1993-06-21 | 1995-01-05 | L'oreal | Compositions cosmetiques filtrantes contenant un agent hydrophile comportant au moins un radical acide sulfonique |
JP2001131416A (ja) * | 1999-08-20 | 2001-05-15 | Kose Corp | 粉体組成物及び油中粉体分散物並びにそれらを含有する化粧料 |
JP2002080771A (ja) * | 2000-09-07 | 2002-03-19 | Noevir Co Ltd | 顔料分散体および化粧料 |
JP2009035638A (ja) * | 2007-08-01 | 2009-02-19 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 被膜形成性組成物 |
JP4666660B2 (ja) * | 2007-08-01 | 2011-04-06 | 信越化学工業株式会社 | 被膜形成性組成物 |
JP2015147752A (ja) * | 2014-02-07 | 2015-08-20 | 株式会社コーセー | エアゾール型化粧料 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3370687B2 (ja) | 2003-01-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100844036B1 (ko) | 화장료 | |
EP0686023B1 (en) | Sunscreens containing oat extracts | |
CN107233220B (zh) | 一种醇基防晒油及其制备方法 | |
JP3515873B2 (ja) | 日焼け止め化粧料 | |
AU9606598A (en) | Skin care and sunscreen composition containing dibenzoylmethane derivative | |
JP3428104B2 (ja) | ベンゾフェノン誘導体、紫外線吸収剤及び皮膚外用剤 | |
JPS60190708A (ja) | 長波長紫外線吸収剤 | |
JPH09291019A (ja) | 紫外線吸収性組成物 | |
JP3506349B2 (ja) | サンケア用化粧組成物 | |
AU2006316123A1 (en) | Cosmetic composition | |
JPS62234012A (ja) | 日焼け防止化粧料 | |
WO2013069723A1 (ja) | 水中油型乳化日焼け止め化粧料 | |
JP3370687B2 (ja) | 日焼け止め化粧料 | |
JPH05238924A (ja) | 日焼け防止化粧料 | |
JPH09235216A (ja) | 紫外線吸収性皮膚化粧料 | |
JPH05262634A (ja) | 日焼け止め化粧料 | |
JPH1149655A (ja) | 皮膚外用剤 | |
JP2000080021A (ja) | 化粧料用紫外線吸収性顔料および化粧料 | |
JP2627750B2 (ja) | エアゾール化粧料 | |
JPH08259419A (ja) | 化粧料 | |
JP3558247B2 (ja) | 日焼け止め化粧料 | |
JP2003212711A (ja) | メーキャップ化粧料 | |
JP2002265342A (ja) | 紫外線防御化粧料 | |
JPH06122613A (ja) | 乳化化粧料 | |
JPH09110639A (ja) | 化粧料 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20021105 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081115 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091115 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091115 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101115 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111115 Year of fee payment: 9 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111115 Year of fee payment: 9 |