JPH05314766A - Semiconductor memory - Google Patents
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- JPH05314766A JPH05314766A JP4146601A JP14660192A JPH05314766A JP H05314766 A JPH05314766 A JP H05314766A JP 4146601 A JP4146601 A JP 4146601A JP 14660192 A JP14660192 A JP 14660192A JP H05314766 A JPH05314766 A JP H05314766A
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- row address
- level
- generation circuit
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は半導体記憶装置に関
し、特に、リフレッシュ時の低消費電力化がなされた半
導体記憶装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a semiconductor memory device which consumes less power during refreshing.
【0002】[0002]
【従来の技術】図4は、従来の半導体記憶装置の構成を
示す回路図であり、図において、1は/CASビフォー
/RASリフレッシュ判定回路、2は内部行アドレス発
生回路、3はタイマ、4は内部/RAS発生回路、6は
ビット線選択信号発生回路(以下、BLI信号発生回路
と称す。)、7a〜7fはセンスアンプ、8は行デコー
ダ、9a〜9dはビット線選択信号(以下、BLI信号
と称す。)を伝える信号線、10a〜10dはワード
線、11a〜11pはビット線、12a〜12pはメモ
リセル、13a〜13pはスイッチングトランジスタと
して機能するnchトランジスタである。ここで、上記
センスアンプ7a〜7fには、所定の2組のビット線対
がスイッチングトランジスタ13a〜13pを介して接
続されており、また、上記ビット線11a〜11pとワ
ード線10a〜10dとが交差する位置に、これらに接
続されたメモリセル12a〜12pが形成されている。2. Description of the Related Art FIG. 4 is a circuit diagram showing a structure of a conventional semiconductor memory device. In the figure, 1 is a / CAS before / RAS refresh determination circuit, 2 is an internal row address generation circuit, 3 is a timer, and 4 is a timer. Is an internal / RAS generation circuit, 6 is a bit line selection signal generation circuit (hereinafter referred to as BLI signal generation circuit), 7a to 7f are sense amplifiers, 8 is a row decoder, and 9a to 9d are bit line selection signals (hereinafter, A signal line for transmitting a BLI signal), 10a to 10d are word lines, 11a to 11p are bit lines, 12a to 12p are memory cells, and 13a to 13p are nch transistors functioning as switching transistors. Here, two predetermined pairs of bit line pairs are connected to the sense amplifiers 7a to 7f through switching transistors 13a to 13p, and the bit lines 11a to 11p and the word lines 10a to 10d are connected to each other. Memory cells 12a to 12p connected to these are formed at the intersecting positions.
【0003】図5は、図4の半導体記憶装置における/
CASビフォー/RASリフレッシュモード時の動作を
示すタイミングチャートであり、また、図6は、セルフ
リフレッシュモード時の動作を示すタイミングチャート
である。FIG. 5 is a circuit diagram of the semiconductor memory device of FIG.
7 is a timing chart showing an operation in a CAS before / RAS refresh mode, and FIG. 6 is a timing chart showing an operation in a self refresh mode.
【0004】次に、動作について説明する。先ず、/C
ASビフォー/RASリフレッシュモードの動作につい
て説明する。Next, the operation will be described. First, / C
The operation in the AS before / RAS refresh mode will be described.
【0005】/RAS及び/CASがともにHighで
ある待機状態の後、/RASがLowレベルになる前に
/CASがLowレベルになると、これらを受ける/C
ASビフォー/RASリフレッシュ判定回路1は/CA
Sビフォー/RASリフレッシュモードに入ったことを
検知する。次に、内部行アドレス発生回路2は、上記/
CASビフォー/RASリフレッシュ判定回路1からの
信号を受けて内部アドレスを発生し、この内部行アドレ
スが行デコーダ8とBLI発生回路6に入力される。そ
して、この内部行アドレスを受けた行デコーダ8は所定
のワード線、例えば、ワード線(W0)10aを選択
し、この選択されたワード線(W0)10aをGNDレ
ベルからHighレベルにし、他の選択されないワード
線(W1)10b,(W2)10c,(W3)10eは
GNDレベルのまま保持される。一方、上記内部行アド
レスを受けたBLI発生回路6は、選択されたワード線
(W0)10aにつながっているメモリセル12a〜1
2dがセンスアンプ7a〜7dに接続されるように、B
LI信号BLI0,BLI1をプリチャージレベルから
(Vcc+α)レベルにし、選択されていないワード線
(W1)10b,(W2)10c,(W3)10dにつ
ながっているメモリセル12e〜pがセンスアンプ7c
〜7fに接続されないように、BLI信号BLI2,B
LI3をプリチャージレベルからGNDレベルにし、こ
の結果、ワード線(W0)10aにつながったメモリセ
ル12a〜12dのみがリフレッシュされる。そして、
この後、/RASがLowレベルからHighレベルに
なると、選択されたワード線(W0)10aはGNDレ
ベルに戻り、BLI信号BLI0,BLI01及びBL
I信号BLI2,BLI3はそれぞれプリチャージレベ
ルに戻される。After the standby state in which both / RAS and / CAS are High and before / RAS becomes Low level when / CAS becomes Low level, they are received / C
AS before / RAS refresh determination circuit 1 is / CA
Detects that S-before / RAS refresh mode has been entered. Next, the internal row address generation circuit 2 outputs
An internal address is generated in response to a signal from CAS before / RAS refresh determination circuit 1, and this internal row address is input to row decoder 8 and BLI generation circuit 6. Then, the row decoder 8 receiving the internal row address selects a predetermined word line, for example, the word line (W0) 10a, changes the selected word line (W0) 10a from the GND level to the High level, and The unselected word lines (W1) 10b, (W2) 10c, (W3) 10e are held at the GND level. On the other hand, the BLI generating circuit 6 which has received the internal row address causes the memory cells 12a to 12a connected to the selected word line (W0) 10a.
2d is connected to the sense amplifiers 7a to 7d.
The LI signals BLI0 and BLI1 are changed from the precharge level to the (Vcc + α) level, and the memory cells 12e to p connected to the unselected word lines (W1) 10b, (W2) 10c and (W3) 10d are connected to the sense amplifier 7c.
BLI signals BLI2, B so that they are not connected to ~ 7f
LI3 is changed from the precharge level to the GND level, and as a result, only the memory cells 12a to 12d connected to the word line (W0) 10a are refreshed. And
After that, when / RAS changes from the Low level to the High level, the selected word line (W0) 10a returns to the GND level, and the BLI signals BLI0, BLI01 and BL are generated.
The I signals BLI2 and BLI3 are returned to the precharge level.
【0006】次に、/CASをLowレベルに保持した
まま再度/RASをLowレベルにすると、内部行アド
レス発生回路2が次の内部行アドレスを発生して、行デ
コーダ8がワード線(W1)10bを選択し、上記と同
様に、BLI発生回路6からnchトランジタ13a〜
hに与えられるBLI信号BLI0,BLI1をプリチ
ャージレベルから(Vcc+α)レベルし、BLI発生回
路6からnchトランジタ13i〜13pに与えられる
BLI信号BLI2,BLI3をプリチャージレベルか
らGNDレベルにし、ワード線(W1)10bにつなが
るメモリセル12e〜12hが上記と同様にリフレッシ
ュされる。Next, when / RAS is again set to low level while holding / CAS at low level, internal row address generation circuit 2 generates the next internal row address, and row decoder 8 causes word line (W1). 10b is selected, and from the BLI generation circuit 6, the nch transistors 13a to 13a ...
The BLI signals BLI0 and BLI1 given to h are changed from the precharge level to (Vcc + α) level, the BLI signals BLI2 and BLI3 given to the nch transistors 13i to 13p from the BLI generation circuit 6 are changed from the precharge level to the GND level, and the word line ( The memory cells 12e to 12h connected to W1) 10b are refreshed as described above.
【0007】次に、/RASをLowレベルからHig
hレベルにした後、更に/RASをLowレベルにする
と、上記内部行アドレス発生回路2が更に次の内部行ア
ドレスを発生し、これを受けた行デコーダ8が上記と同
様にしてワード線(W2)10cを選択し、BLI発生
回路6がBLI信号BLI0,BLI1をプリチャージ
レベルからGNDレベルにし、BLI信号BLI2,B
LI3をプリチャージレベルから(Vcc+α)レベルに
することにより、ワード線(W2)10cにつながるメ
モリセル12i〜12lがリフレッシュされる。Next, / RAS is changed from Low level to High level.
When the / RAS is further set to the low level after the signal is set to the h level, the internal row address generation circuit 2 further generates the next internal row address, and the row decoder 8 which receives this generates the word line (W2) in the same manner as described above. ) 10c, the BLI generation circuit 6 changes the BLI signals BLI0 and BLI1 from the precharge level to the GND level, and the BLI signals BLI2 and BLI2.
By setting LI3 from the precharge level to the (Vcc + α) level, the memory cells 12i to 12l connected to the word line (W2) 10c are refreshed.
【0008】このように、/CASビフォー/RASリ
フレッシュモードでは/CASをLowレベルにしたま
ま、/RASをLowレベルにすることにより、/CA
SをHighレベルにするまで、ワード線W0〜W3に
つながるメモリセル12a〜pを各ワード線毎に次々と
リフレッシュすることができる。As described above, in the / CAS before / RAS refresh mode, / RAS is set to the low level while / CAS is kept at the low level.
The memory cells 12a to 12p connected to the word lines W0 to W3 can be sequentially refreshed for each word line until S is set to the high level.
【0009】次に、セルフリフレッシュモードの動作に
ついて説明する。/RAS及び/CASがHighレベ
ルの待機状態の後、/RASがLowレベルになる前
に、/CASがLowレベルになり、その後/RAS,
/CASがLowレベルの状態が、タイマ3で設定して
ある時間続くと、セルフリフレッシュモードになり、内
部/RAS発生回路4が内部/RAS信号を発生し、内
部行アドレス発生回路2が内部アドレスを発生し、この
後、上述した/CASビフォー/RASリフレッシュモ
ードと同様の動作が行われる。Next, the operation of the self refresh mode will be described. After / RAS and / CAS are in the high-level standby state, / CAS becomes the low level before / RAS becomes the low level, and then / RAS,
When / CAS is at the Low level for the time set by the timer 3, the self-refresh mode is entered, the internal / RAS generation circuit 4 generates the internal / RAS signal, and the internal row address generation circuit 2 outputs the internal address. Then, the same operation as the above-mentioned / CAS before / RAS refresh mode is performed.
【0010】[0010]
【発明が解決しようとする課題】従来の半導体記憶装置
は以上のように構成されており、/CASビフォー/R
ASリフレッシュモード(或いはセルフリフレッシュモ
ード)により、/CASをLowレベルにしたまま、/
RASをLowレベルにすることにより、/CASをH
ighレベルにするまで、ワード線(W0〜W3)10
a〜10dにつながるメモリセル12a〜pを各ワード
線毎に次々とリフレッシュされるようになっている。The conventional semiconductor memory device is configured as described above, and is / CAS before / R.
By the AS refresh mode (or self refresh mode), / CAS is kept at the Low level,
By setting RAS to Low level, / CAS becomes H
Word line (W0 to W3) 10 until high level
The memory cells 12a to 12p connected to a to 10d are refreshed one after another for each word line.
【0011】しかしながら、上記のように、ワード線に
つながれたメモリセルを各ワード線毎に次々とリフレッ
シュする間、/RAS(或いは内部/RAS)がHig
hレベルからLowレベルになる時は、BLI発生回路
6から発生するBLI信号はプリチャージレベルから
(Vcc+α)レベル或いはGNDレベルになり、/RA
S(或いは内部/RAS)がLowレベルからHigh
レベルになる時は、BLI発生回路6から発生するBL
I信号は(Vcc+α)レベル或いはGNDレベルからプ
リチャージレベルになるため、この際のBLI信号によ
る充放電電流が多く、消費電流がおのずと多くなってし
まうという問題点があった。However, as described above, while refreshing the memory cells connected to the word line one after another for each word line, / RAS (or internal / RAS) becomes High.
When the h level changes to the low level, the BLI signal generated from the BLI generation circuit 6 changes from the precharge level to the (Vcc + α) level or the GND level, and / RA
S (or internal / RAS) goes from Low level to High
When the level is reached, BL generated from the BLI generation circuit 6
Since the I signal changes from the (Vcc + α) level or the GND level to the precharge level, there is a problem that the charging / discharging current due to the BLI signal at this time is large and the current consumption naturally increases.
【0012】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、/CASビフォー/RASリフ
レッシュモード及びセルフリフレッシュモード時の消費
電流の低減がなされた半導体記憶装置を得ることを目的
とする。The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to obtain a semiconductor memory device in which current consumption is reduced in the / CAS before / RAS refresh mode and the self refresh mode. And
【0013】[0013]
【課題を解決するための手段】この発明にかかる半導体
記憶装置は、センスアンプに接続された2組のビット線
対のうちの一方のビット線対と、複数のワード線との交
差点に配設されたメモリセルを、この複数のワード線間
で各ワード線毎に連続してリフレッシュする間、上記ビ
ット線対のスイッチングトランジスタに与えられるBL
I信号を(Vcc+α)レベル或いはGNDレベルに一定
に保つようにしたものである。A semiconductor memory device according to the present invention is arranged at an intersection of one bit line pair of two bit line pairs connected to a sense amplifier and a plurality of word lines. The BL provided to the switching transistor of the bit line pair while the refreshed memory cell is continuously refreshed for each word line among the plurality of word lines.
The I signal is kept constant at (Vcc + α) level or GND level.
【0014】[0014]
【作用】この発明においては、/CASビフォー/RA
Sリフレッシュモード及びセルフリフレッシュモード
時、一対のビット線と、複数のワード線との交差点に配
設されたメモリセルを複数のワード線間で各ワード線毎
に連続してリフレッシュする間、上記一対のビット線の
スイッチングトランジスタに与えられるBLI信号のレ
ベルが一定に保たれるから、BLI信号による充放電電
流を減少することができ、/CASビフォー/RASリ
フレッシュモード及びセルフリフレッシュモード時の消
費電流を少なくすることができる。In the present invention, / CAS before / RA
In the S refresh mode and the self-refresh mode, while the memory cells arranged at the intersections of the pair of bit lines and the plurality of word lines are continuously refreshed for each word line between the plurality of word lines, the pair of Since the level of the BLI signal applied to the switching transistor of the bit line is kept constant, the charge / discharge current due to the BLI signal can be reduced, and the current consumption in the / CAS before / RAS refresh mode and the self refresh mode can be reduced. Can be reduced.
【0015】[0015]
【実施例】以下、本発明の一実施例を図について説明す
る。図1は、本発明の一実施例による半導体記憶装置の
構成を示す回路図であり、図において、図4と同一符号
は同一または相当する部分を示し、この半導体記憶装置
では、内部行アドレス発生回路2とBLI発生回路6と
の間に、内部行アドレス発生回路2から発生する内部行
アドレス信号を判定し、ビット線対に交差する2つのワ
ード線を連続してアドレスすることを判定した場合に、
BLI発生回路6から発生するBLI信号をプリチャー
ジレベルに戻すことなく、そのままの状態、即ち、(V
cc+α)レベル或いはGNDレベルに保持するようBL
I発生回路6に信号を与える行アドレス判定回路が設け
られている。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention. In the figure, the same reference numerals as those in FIG. 4 denote the same or corresponding parts. In this semiconductor memory device, internal row address generation is performed. When the internal row address signal generated from the internal row address generation circuit 2 is determined between the circuit 2 and the BLI generation circuit 6 and it is determined that two word lines intersecting the bit line pair are continuously addressed. To
The BLI signal generated from the BLI generation circuit 6 is not returned to the precharge level, that is, (V
BL to hold at cc + α) level or GND level
A row address determination circuit for giving a signal to the I generation circuit 6 is provided.
【0016】図2は、図1に示す半導体記憶装置におけ
る/CASビフォー/RASリフレッシュモード時の動
作タイミングを示すタイミングチャートであり、また、
図3はセルフリフレッシュモード時の動作タイミングを
示すタイミングチャートである。FIG. 2 is a timing chart showing the operation timing in the / CAS before / RAS refresh mode in the semiconductor memory device shown in FIG.
FIG. 3 is a timing chart showing the operation timing in the self refresh mode.
【0017】次に動作について説明する。先ず、/CA
Sビフォー/RASリフレッシュモードの動作について
説明する。/RAS及び/CASがともにHighレベ
ルの待機状態の後、/RASがLowレベルになる前に
/CASがLowレベルになると、/CASビフォー/
RASリフレッシュ判定回路1は/CASビフォー/R
ASリフレッシュモードに入ったことを検知する。次
に、内部行アドレス発生回路2が内部行アドレスを発生
し、この内部行アドレスが行デコーダ8と行アドレス判
定回路5に入力される。そして、行デコーダ8は、所定
のワード線、例えば、ワード線(W0)10aを選択
し、この選択されたワード線(W0)10aをGNDレ
ベルからHighレベルにし、他のワード線(W1)1
0b,(W2)10c,(W3)10dをGNDレベル
のままに保持する。一方、内部行アドレスを受けた行ア
ドレス判定回路5は、この内部行アドレスのアドレス状
態を判定した後、BLI発生回路6にアドレス信号を与
え、上記選択されたワード線(W0)10aにつながっ
ているメモリセル12a〜12dをセンスアンプ7a〜
dに接続し、選択されていないワード線(W1)10
b,(W2)10c及び(W3)10dにつながってい
るメモリセル12e〜pがセンスアンプ7c〜7fに接
続されないように、各メモリセル12a〜12daとセ
ンスアンプ7a〜7fとをつなぐビット線11a〜11
pに対して設けられたそれぞれのnchトランジタ13
a〜pに所定の信号レベルのBLI信号を発生する。こ
の時、nchトランジタ13a〜13hに与えられるB
LI信号BLI0,BLI1はプリチャージレベルから
(Vcc+α)レベルに変化し、nchトランジタ13i
〜13pに与えられるBLI信号BLI2,BLI3
は、プリチャージレベルからGNDレベルに変化する。Next, the operation will be described. First, / CA
The operation in the S-before / RAS refresh mode will be described. After / RAS and / CAS are both in the high level standby state and before / RAS is in the low level and / CAS is in the low level, / CAS is before /
RAS refresh determination circuit 1 is / CAS before / R
It detects that the AS refresh mode has been entered. Next, internal row address generation circuit 2 generates an internal row address, and this internal row address is input to row decoder 8 and row address determination circuit 5. Then, the row decoder 8 selects a predetermined word line, for example, the word line (W0) 10a, changes the selected word line (W0) 10a from the GND level to the High level, and the other word line (W1) 1
0b, (W2) 10c, and (W3) 10d are kept at the GND level. On the other hand, the row address judging circuit 5 which has received the internal row address, after judging the address state of this internal row address, supplies an address signal to the BLI generating circuit 6 and connects it to the selected word line (W0) 10a. The memory cells 12a to 12d are connected to the sense amplifier 7a to
unselected word line (W1) 10 connected to d
b, (W2) 10c and (W3) 10d so that the memory cells 12e to p connected to the sense amplifiers 7c to 7f are not connected to the bit lines 11a connecting the memory cells 12a to 12da and the sense amplifiers 7a to 7f. ~ 11
Each nch transistor 13 provided for p
A BLI signal having a predetermined signal level is generated in a to p. At this time, B given to the nch transistors 13a to 13h
The LI signals BLI0 and BLI1 change from the precharge level to the (Vcc + α) level, and the nch transistor 13i
BLI signals BLI2 and BLI3 given to ~ 13p
Changes from the precharge level to the GND level.
【0018】次に、/CASがLowレベルのまま、/
RASがLowレベルからHighレベルになると、次
のワード線につながるメモリセルのリフレッシュ動作に
入り、内部行アドレス発生回路2からの内部行アドレス
信号を受けた行アドレス判定回路5が、次のリフレッシ
ュを行うメモリセルの対応するワード線がワード線(W
1)10bで、上記メモリセルのリフレッシュを行った
ワード線(W0)10aと同じブロックであること(即
ち、メモリセルが同一ビット線対によってセンスアンプ
に接続されていること)を検知すると、行アドレス判定
回路5はBLI信号発生回路6に、BLI信号の信号レ
ベルを現状のままでに保持する信号を送り、その結果、
選択されたワード線(W0)10aはGNDレベルに戻
されるが、BLI信号はそのままの信号レベルを保持さ
れ、即ち、BLI信号BLI0,BLI1は(Vcc+
α)レベルに保持され、BLI信号BLI2,BLI3
はGNDレベルのままになる。そして、この状態で、上
記内部行アドレスにより、ワード線(W0)10aがH
ighレベルからGNDレベルに、ワード線(W1)1
0bがGNDレベルからHighレベルにされ、(W
2)10c,(W3)10dはGNDレベルのままに保
持され、ワード線(W1)10bにつながるメモリセル
12e〜12hがリフレッシュされる。Next, / CAS remains at the low level,
When RAS changes from low level to high level, the memory cell connected to the next word line is refreshed, and the row address determination circuit 5 receiving the internal row address signal from the internal row address generation circuit 2 refreshes the next refresh. The corresponding word line of the memory cell to be executed is the word line (W
1) When 10b detects that the memory cell is in the same block as the refreshed word line (W0) 10a (that is, the memory cell is connected to the sense amplifier by the same bit line pair), the row is detected. The address determination circuit 5 sends a signal for holding the signal level of the BLI signal as it is to the BLI signal generation circuit 6, and as a result,
The selected word line (W0) 10a is returned to the GND level, but the BLI signal is kept at the same signal level, that is, the BLI signals BLI0 and BLI1 are (Vcc +
α) level, and the BLI signals BLI2 and BLI3
Remains at the GND level. Then, in this state, the word line (W0) 10a becomes H level by the internal row address.
From high level to GND level, word line (W1) 1
0b is changed from GND level to High level, and (W
2) 10c and (W3) 10d are kept at the GND level, and the memory cells 12e to 12h connected to the word line (W1) 10b are refreshed.
【0019】次に、/RASをLowレベルからHig
hレベルにするとワード線(W1)10bはGNDレベ
ルになり、内部行アドレス発回路2から発生する内部行
アドレスをアドレス判定回路5が判定し、次にリフレッ
シュを行うメモリセルがつながったワード線がワード線
(W2)10cで、ワード線(W1)10aと異なるブ
ロックであることを検知すると、該アドレス判定回路5
からBLI発生回路6にBLI信号をプリチャージレベ
ルに戻す信号を送り、BLI信号BLI0,BLI1は
(Vcc+α)レベルからプリチャージに、BLI信号B
LI2,BLI3はGNDレベルからプリチャージレベ
ルに戻される。そして、/RASをHighレベルから
Lowレベルにすると、内部行アドレス発生回路2が、
次の行アドレスを発生し、これを受けた行デコーダ8は
ワード線(W2)10cを選択し、BLI発生回路6は
BLI信号BLI0,BLI1をプリチャージレベルか
らGNDレベルにし、BLI信号BLI2,BLI3を
プリチャージレベルから(Vcc+α)レベルにする。こ
れにより、ワード線(W2)10cにつながるメモリセ
ル12i〜12lがリフレッシュされる。Next, / RAS is changed from Low level to High level.
When set to the h level, the word line (W1) 10b becomes the GND level, the address determination circuit 5 determines the internal row address generated from the internal row address generation circuit 2, and the word line to which the memory cell to be refreshed next is connected. When it is detected that the word line (W2) 10c is a different block from the word line (W1) 10a, the address determination circuit 5
Sends a signal for returning the BLI signal to the precharge level to the BLI generation circuit 6 so that the BLI signals BLI0 and BLI1 change from the (Vcc + α) level to the precharge, and the BLI signal B.
LI2 and BLI3 are returned from the GND level to the precharge level. Then, when / RAS is changed from the high level to the low level, the internal row address generation circuit 2
The next row address is generated, and the row decoder 8 receiving this selects the word line (W2) 10c, the BLI generation circuit 6 changes the BLI signals BLI0 and BLI1 from the precharge level to the GND level, and the BLI signals BLI2 and BLI3. From the precharge level to the (Vcc + α) level. As a result, the memory cells 12i to 12l connected to the word line (W2) 10c are refreshed.
【0020】次に、/RASがLowレベルからHig
hレベルになると、ワード線(W2)10cはHigh
レベルからGNDレベルになり、行アドレス検知回路5
が次のリフレッシュを行うメモリセル12n〜12pの
対応するワード線がワード線(W3)10dであり、ワ
ード線(W2)10cと同じブロックであることを検知
すると、該行アドレス検知回路5からBLI発生回路6
にBLI信号の信号レベルをそのままの状態に保持する
信号が送られるため、BLI信号BLI0,BLI1は
GNDレベル、BLI信号BLI2,BLI信号3は
(Vcc+α)レベルのまま保持され、行デコーダ8によ
って選択的にHighレベルになったワード線(W3)
10dにつながるメモリセル12n〜12pがリフレッ
シュされる。Next, / RAS changes from Low level to High level.
At the h level, the word line (W2) 10c becomes High.
From the level to the GND level, and the row address detection circuit 5
Detects that the corresponding word line of the memory cells 12n to 12p to be refreshed next is the word line (W3) 10d and is in the same block as the word line (W2) 10c, the row address detection circuit 5 outputs the BLI. Generation circuit 6
Since a signal for holding the signal level of the BLI signal as it is is sent to BLI signals BLI0 and BLI1, the BLI signals BLI0 and BLI2 are held at the (Vcc + α) level and selected by the row decoder 8. Word line (W3) that has become a high level
The memory cells 12n to 12p connected to 10d are refreshed.
【0021】次に、セルフリフレッシュモードの動作に
ついて説明する。/RAS及び/CASがHighレベ
ルにある待機状態の後、/RASがLowレベルになる
前に/CASがLowレベルになり、その後/RAS,
/CASがLowレベルの状態がタイマ3で設定してあ
る時間続くと、セルフリフレッシュモードになり、内部
/RAS発生回路4が内部/RAS信号を発生し、内部
行アドレス発生回路2が内部行アドレスを発生し、この
後、/CASビフォー/RASリフレッシュモードと同
様の動作が行われる。Next, the operation of the self refresh mode will be described. After / RAS and / CAS are at the high level in the standby state, / CAS becomes the low level before / RAS becomes the low level, and then / RAS,
When / CAS is at the Low level for the time set by the timer 3, the self-refresh mode is entered, the internal / RAS generation circuit 4 generates the internal / RAS signal, and the internal row address generation circuit 2 outputs the internal row address. Then, the operation similar to that in the / CAS before / RAS refresh mode is performed.
【0022】このような本実施例の半導体記憶装置で
は、内部行アドレス発生回路2とBLI発生回路6との
間に行アドレス判定回路5が設けられており、/CAS
ビフォー/RASリフレッシュモード及びセルフリフレ
ッシュモード時、該行アドレス判定回路5が、センスア
ンプに接続された2組のビット線対のうちの一方のビッ
ト線対と交差する複数のワード線との交差点に配設され
たメモリセルを、複数のワード線間で各ワード線毎に連
続してリフレッシュすることを判定した場合、該行アド
レス判定回路5からBLI発生回路6に対して、上記ビ
ット線対のnchトランジスタに与えるBLI信号を
(Vcc+α)レベル或いはGNDレベルに一定に保つよ
うにする信号が送られるため、このリフレッシュの間、
BLI信号による充放電電流を減少させることができ、
その結果、/CASビフォー/RASリフレッシュモー
ド及びセルフリフレッシュモード時の消費電流を少なく
することができる。In such a semiconductor memory device of this embodiment, the row address determination circuit 5 is provided between the internal row address generation circuit 2 and the BLI generation circuit 6, and / CAS is used.
In the before / RAS refresh mode and the self-refresh mode, the row address determination circuit 5 is provided at an intersection with a plurality of word lines intersecting one bit line pair of the two pairs of bit lines connected to the sense amplifier. When it is determined that the arranged memory cells are continuously refreshed for each word line among a plurality of word lines, the row address determination circuit 5 informs the BLI generation circuit 6 of the bit line pair. Since a signal for keeping the BLI signal given to the nch transistor at a constant level (Vcc + α) or GND is sent, during this refresh
The charge / discharge current due to the BLI signal can be reduced,
As a result, it is possible to reduce current consumption in the / CAS before / RAS refresh mode and the self refresh mode.
【0023】[0023]
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、セン
スアンプに接続された2組のビット線対のうちの一方の
ビット線対と、複数のワード線との交差点に配設された
メモリセルを、この複数のワード線間で各ワード線毎に
連続してリフレッシュする間、上記ビット線対のスイッ
チングトランジスタに与えられるBLI信号を(Vcc+
α)レベル或いはGNDレベルに一定に保つようにした
ので、/CASビフォー/RASリフレッシュモード時
及びセルフリフレッシュモード時、BLI信号による充
放電電流が減少し、装置の消費電流を軽減することがで
きる効果がある。As described above, according to the present invention, one of the two bit line pairs connected to the sense amplifier is arranged at the intersection of a plurality of word lines. While the memory cell is continuously refreshed for each word line among the plurality of word lines, the BLI signal applied to the switching transistor of the bit line pair is (Vcc +
Since it is kept constant at the α) level or the GND level, the charging / discharging current due to the BLI signal is reduced in the / CAS before / RAS refresh mode and the self refresh mode, and the current consumption of the device can be reduced. There is.
【図1】本発明の一実施例による半導体記憶装置の構成
を示す回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention.
【図2】図1の半導体記憶装置における/CASビフォ
ー/RASリフレッシュモード時の動作タイミングチャ
ートである。FIG. 2 is an operation timing chart in the / CAS before / RAS refresh mode in the semiconductor memory device of FIG.
【図3】図1の半導体記憶装置におけるセルフリフレッ
シュモード時の動作タイミングチャートである。FIG. 3 is an operation timing chart in the self-refresh mode in the semiconductor memory device of FIG.
【図4】従来の半導体記憶装置の回路構成を示す回路図
である。FIG. 4 is a circuit diagram showing a circuit configuration of a conventional semiconductor memory device.
【図5】図4の半導体記憶装置における/CASビフォ
ー/RASリフレッシュモード時の動作タイミングチャ
ートである。5 is an operation timing chart in the / CAS before / RAS refresh mode in the semiconductor memory device of FIG.
【図6】図4の半導体記憶装置におけるセルフリフレッ
シュモード時の動作タイミングチャートである。6 is an operation timing chart in the self-refresh mode in the semiconductor memory device of FIG.
1 /CASビフォー/RASリフレッシュ判定回路 2 内部行アドレス発生回路 3 タイマ 4 内部/RAS発生回路 5 行アドレス判定回路 6 BLI発生回路 7a〜7f センスアンプ 8 行デコーダ 9a〜9d BLI信号を伝える信号線 10a〜10d ワード線 11a〜11p ビット線 12a〜12p メモリセル 13a〜13p nchトランジスタ BIL0〜BIL4 BIL信号 1 / CAS before / RAS refresh determination circuit 2 internal row address generation circuit 3 timer 4 internal / RAS generation circuit 5 row address determination circuit 6 BLI generation circuit 7a to 7f sense amplifier 8 row decoder 9a to 9d signal line for transmitting BLI signal 10a -10d Word line 11a-11p Bit line 12a-12p Memory cell 13a-13p nch transistor BIL0-BIL4 BIL signal
Claims (3)
で共有し、各ビット線とセンスアンプ間に介在させたス
イッチングトランジスタのスイッチングにより、上記2
組のビット線対のうちの一方のビット線対を上記センス
アンプに接続するシエアド型センスアンプを備えた半導
体記憶装置において、 /CASビフォー/RASリフレッシュモード及びセル
フリフレッシュモードにより、上記一方のビット線対に
交差する2つのワード線上のメモリセルを各ワード線毎
に連続してリフレッシュする間、 上記一方のビット線対に対応するスイッチングトランジ
タのゲートに入力されるビット線選択信号の信号レベル
が一定に維持されることを特徴とする半導体記憶装置。1. A pair of bit line pairs are shared by one sense amplifier, and switching of a switching transistor interposed between each bit line and the sense amplifier causes the above-mentioned 2 to occur.
In a semiconductor memory device having a pair of bit line pairs, a pair of bit line pairs are connected to the sense amplifier, the semiconductor memory device comprising: / CAS before / RAS refresh mode and self refresh mode. While the memory cells on the two word lines intersecting the pair are continuously refreshed for each word line, the signal level of the bit line selection signal input to the gate of the switching transistor corresponding to the one bit line pair is A semiconductor memory device characterized by being maintained constant.
で共有し、各ビット線とセンスアンプ間にスイッチング
トランジスタを介在してなるシエアド型センスアンプ
と、 /CSAビフォー/RASリフレッシュ判定回路の出力
を受けて、内部行アドレスを発生する内部行アドレス発
生回路と、 上記内部行アドレスに基づいて、GNDレベルにある複
数のワード線から所定のワード線を選択的にHighレ
ベルにする行デコーダと、 上記内部行アドレスに基づいて、上記Highレベルの
ワード線に接続されたメモリセルが上記センスアンプに
接続されるように、該メモリセルに接続されている上記
2組のビット線対のうちの1つのビット線対のスイッチ
ングトランジスタに、該スイッチングトランジスタをO
N状態にする信号を与えるビット線選択信号発生回路と
を備えた半導体記憶装置において、 上記内部行アドレス発生回路と上記ビット線選択信号発
生回路との間に、上記内部行アドレスのアドレス状態を
判定する行アドレス判定回路を設け、 /CASビフォー/RASリフレッシュモード時、 該行アドレス判定回路が、上記2組のビット線対のうち
の1つのビット線対に交差する2つのワード線を連続し
てアドレスすることを判定した場合、該行アドレス判定
回路から上記ビット線選択信号発生回路に向けて、該ビ
ット線選択信号発生回路から発生するビット線選択信号
の信号レベルを一定に保持する信号を与えることを特徴
とする半導導体記憶装置。2. A pair of bit line pairs are shared by one sense amplifier, and a sensed sense amplifier having a switching transistor interposed between each bit line and the sense amplifier, and a / CSA before / RAS refresh determination circuit. An internal row address generation circuit that receives an output and generates an internal row address, and a row decoder that selectively sets a predetermined word line to a high level from a plurality of word lines at the GND level based on the internal row address. Of the two bit line pairs connected to the memory cell so that the memory cell connected to the high-level word line is connected to the sense amplifier based on the internal row address. The switching transistor of one bit line pair is
In a semiconductor memory device including a bit line selection signal generation circuit for giving a signal for setting to an N state, an address state of the internal row address is determined between the internal row address generation circuit and the bit line selection signal generation circuit. In the / CAS before / RAS refresh mode, the row address determination circuit continuously connects two word lines intersecting one bit line pair of the two bit line pairs. When it is determined to address, a signal for holding the signal level of the bit line selection signal generated from the bit line selection signal generation circuit constant is given from the row address determination circuit to the bit line selection signal generation circuit. A semiconductor memory device characterized by the above.
いて、 上記/CSAビフォー/RASリフレッシュ判定回路の
出力に基づいて、セルフリフレッシュモードを設定する
タイマ回路と、 該タイマ回路の出力を受けて上記内部行アドレス発生回
路に向けて内部/RAS信号を与える内部/RAS信号
発生回路とが設けられていることを特徴とする半導体記
憶装置。3. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein the timer circuit sets a self refresh mode based on the output of the / CSA before / RAS refresh determination circuit, and the output of the timer circuit. And a internal / RAS signal generation circuit for supplying an internal / RAS signal to the internal row address generation circuit.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4146601A JPH05314766A (en) | 1992-05-11 | 1992-05-11 | Semiconductor memory |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4146601A JPH05314766A (en) | 1992-05-11 | 1992-05-11 | Semiconductor memory |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05314766A true JPH05314766A (en) | 1993-11-26 |
Family
ID=15411419
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4146601A Pending JPH05314766A (en) | 1992-05-11 | 1992-05-11 | Semiconductor memory |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05314766A (en) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06150646A (en) * | 1992-11-13 | 1994-05-31 | Nec Corp | Semiconductor memory |
US6804158B2 (en) | 1995-08-18 | 2004-10-12 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor circuit device with improved special mode |
US6845056B2 (en) | 2002-07-09 | 2005-01-18 | Renesas Technology Corp. | Semiconductor memory device with reduced power consumption |
US7082072B2 (en) | 2003-11-26 | 2006-07-25 | Elpida Memory, Inc. | Semiconductor memory device with refreshment control |
JP2009043373A (en) * | 2007-08-10 | 2009-02-26 | Fujitsu Microelectronics Ltd | Semiconductor memory device and word decoder control method |
GB2479635A (en) * | 2010-04-12 | 2011-10-19 | Intel Corp | Staggered self refresh method |
US8909856B2 (en) | 2010-04-01 | 2014-12-09 | Intel Corporation | Fast exit from self-refresh state of a memory device |
-
1992
- 1992-05-11 JP JP4146601A patent/JPH05314766A/en active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06150646A (en) * | 1992-11-13 | 1994-05-31 | Nec Corp | Semiconductor memory |
US6804158B2 (en) | 1995-08-18 | 2004-10-12 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor circuit device with improved special mode |
US6845056B2 (en) | 2002-07-09 | 2005-01-18 | Renesas Technology Corp. | Semiconductor memory device with reduced power consumption |
US7082072B2 (en) | 2003-11-26 | 2006-07-25 | Elpida Memory, Inc. | Semiconductor memory device with refreshment control |
JP2009043373A (en) * | 2007-08-10 | 2009-02-26 | Fujitsu Microelectronics Ltd | Semiconductor memory device and word decoder control method |
US8909856B2 (en) | 2010-04-01 | 2014-12-09 | Intel Corporation | Fast exit from self-refresh state of a memory device |
GB2479635A (en) * | 2010-04-12 | 2011-10-19 | Intel Corp | Staggered self refresh method |
GB2479635B (en) * | 2010-04-12 | 2012-08-08 | Intel Corp | Method to stagger self refreshes |
US8484410B2 (en) | 2010-04-12 | 2013-07-09 | Intel Corporation | Method to stagger self refreshes |
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