JPH05301478A - 平版印刷版支持体及びその製造方法 - Google Patents
平版印刷版支持体及びその製造方法Info
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- JPH05301478A JPH05301478A JP13138992A JP13138992A JPH05301478A JP H05301478 A JPH05301478 A JP H05301478A JP 13138992 A JP13138992 A JP 13138992A JP 13138992 A JP13138992 A JP 13138992A JP H05301478 A JPH05301478 A JP H05301478A
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- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 アルミニウム支持体の材質のバラツキを少く
し、電解粗面化処理の得率を向上させ、品質の優れた得
率のよい平版印刷版支持体及びその製造方法を提供する 【構成】 0.15%<Fe<0.5%,0.25%<
Si<0.35%,0.01%<Ti<0.1%,その
他の合金成分合計<0.3%を含むアルミニウム溶湯を
調製し、連続鋳造により薄板を作成し、焼鈍,冷間圧
延,矯正の工程を経て得られたアルミニウム表面層のF
e合金成分の濃度分布が,平均濃度±0.05%以内に
なるように工程条件を制御することを特徴とする平版印
刷版支持体及びその製造方法。
し、電解粗面化処理の得率を向上させ、品質の優れた得
率のよい平版印刷版支持体及びその製造方法を提供する 【構成】 0.15%<Fe<0.5%,0.25%<
Si<0.35%,0.01%<Ti<0.1%,その
他の合金成分合計<0.3%を含むアルミニウム溶湯を
調製し、連続鋳造により薄板を作成し、焼鈍,冷間圧
延,矯正の工程を経て得られたアルミニウム表面層のF
e合金成分の濃度分布が,平均濃度±0.05%以内に
なるように工程条件を制御することを特徴とする平版印
刷版支持体及びその製造方法。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は平版印刷版用支持体の製
造方法に関する、特に電解粗面化性の良いアルミニウム
支持体の製造方法に関するものである。
造方法に関する、特に電解粗面化性の良いアルミニウム
支持体の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】印刷版用アルミニウム支持体、とくにオ
フセット印刷版用支持体としてはアルミニウム板(アル
ミニウム合金板を含む)が用いられている。一般にアル
ミニウム板をオフセット印刷版用支持体として用いる場
合、印刷版用アルミニウム支持体の粗面化法としては交
流電解エッチング法が一般的に採用されており、電流と
しては、普通の正弦波交流電流、矩形波などの特殊交番
波形電流が用いられている。そして、黒鉛等の適当な電
極を対極として交流電流により、アルミニウム板の粗面
化処理を行うもので、通常一回の処理で行われている
が、そこで得られるピット深さは全体的に浅く、耐刷性
能に劣るものであった。このため、その直径に比べて深
さの深いピットが均一かつ緻密に存在する砂目を有する
印刷版用支持体として好適なアルミニウム板が得られる
ように、数々の方法が提案されている。その方法として
は、特殊電解電源波形を使った粗面化方法(特開昭53
−67507号公報)交流を使った電解粗面化時の陽極
時と陰極時の電気量の比率(特開昭54−65607号
公報)、電源波形(特開昭55−25381号公報)、
単位面積あたりの通電量の組み合わせ(特開昭56−2
9699号公報)などが知られている。また、機械的な
粗面化と組み合わせた(特開昭55−142695公
報)なども知られている。また、電解粗面化処理は、A
l合金成分の影響を受けやすく、均一に電解粗面化可能
である合金成分を見出すことは重要な課題である。
フセット印刷版用支持体としてはアルミニウム板(アル
ミニウム合金板を含む)が用いられている。一般にアル
ミニウム板をオフセット印刷版用支持体として用いる場
合、印刷版用アルミニウム支持体の粗面化法としては交
流電解エッチング法が一般的に採用されており、電流と
しては、普通の正弦波交流電流、矩形波などの特殊交番
波形電流が用いられている。そして、黒鉛等の適当な電
極を対極として交流電流により、アルミニウム板の粗面
化処理を行うもので、通常一回の処理で行われている
が、そこで得られるピット深さは全体的に浅く、耐刷性
能に劣るものであった。このため、その直径に比べて深
さの深いピットが均一かつ緻密に存在する砂目を有する
印刷版用支持体として好適なアルミニウム板が得られる
ように、数々の方法が提案されている。その方法として
は、特殊電解電源波形を使った粗面化方法(特開昭53
−67507号公報)交流を使った電解粗面化時の陽極
時と陰極時の電気量の比率(特開昭54−65607号
公報)、電源波形(特開昭55−25381号公報)、
単位面積あたりの通電量の組み合わせ(特開昭56−2
9699号公報)などが知られている。また、機械的な
粗面化と組み合わせた(特開昭55−142695公
報)なども知られている。また、電解粗面化処理は、A
l合金成分の影響を受けやすく、均一に電解粗面化可能
である合金成分を見出すことは重要な課題である。
【0003】合金成分については、特開昭59−140
356号公報では、連続鋳造において、Al−Mg−S
i,Al−Ni等の共晶化合物の大きさが実質的に5μ
m以下で、その面積率が18%以上であることを特徴と
している。また、特開平2−80542号公報では、連
鋳材のFe固溶量を規定しており、Alマトリクス中の
Fe固溶量が200PPM以下に調整することを特徴と
している。一方、アルミニウム支持体の製造方法として
は、アルミニウムのインゴットを溶解保持してスラブ
(厚さ400〜600mm,幅1000〜2000m
m,長さ2000〜6000mm)を鋳造し、スラブ表
面の不純物組織部分を面削機にかけて3〜10mmづつ
切削する面削工程を経た後、スラブ内部の応力の除去と
組織の均一化の為、均熱炉において480〜540℃,
6〜12時間保持する均熱化処理工程を行い、しかる後
に熱間圧延を480〜540℃で行う。熱間圧延で5〜
40mmの厚みに圧延した後、室温で所定の厚みに冷間
圧延を行う方法が用いられていた。その後、組織の均一
化と平坦度の良い板にするため焼鈍を行い圧延組織等を
均質化した後、規定の厚みに冷間圧延を行い、矯正す
る。この様にして作られたアルミニウム支持体を平版印
刷版用支持体とする方法が用いられていた。(特開平3
−79798号公報)
356号公報では、連続鋳造において、Al−Mg−S
i,Al−Ni等の共晶化合物の大きさが実質的に5μ
m以下で、その面積率が18%以上であることを特徴と
している。また、特開平2−80542号公報では、連
鋳材のFe固溶量を規定しており、Alマトリクス中の
Fe固溶量が200PPM以下に調整することを特徴と
している。一方、アルミニウム支持体の製造方法として
は、アルミニウムのインゴットを溶解保持してスラブ
(厚さ400〜600mm,幅1000〜2000m
m,長さ2000〜6000mm)を鋳造し、スラブ表
面の不純物組織部分を面削機にかけて3〜10mmづつ
切削する面削工程を経た後、スラブ内部の応力の除去と
組織の均一化の為、均熱炉において480〜540℃,
6〜12時間保持する均熱化処理工程を行い、しかる後
に熱間圧延を480〜540℃で行う。熱間圧延で5〜
40mmの厚みに圧延した後、室温で所定の厚みに冷間
圧延を行う方法が用いられていた。その後、組織の均一
化と平坦度の良い板にするため焼鈍を行い圧延組織等を
均質化した後、規定の厚みに冷間圧延を行い、矯正す
る。この様にして作られたアルミニウム支持体を平版印
刷版用支持体とする方法が用いられていた。(特開平3
−79798号公報)
【0004】
【発明が解決しようとする課題】現在、平版印刷版の生
産数量は需要の伸びと共に増大して、大量に一定の品質
の平版印刷版を作成することが求められている。しかし
ながら、電解粗面化処理の場合は特に対象となるアルミ
ニウム支持体の影響を受けやすく、アルミニウム支持体
を溶解保持→鋳造→面削→均熱という工程を通して製造
する場合、加熱、冷却をくり返し、面削という表面層を
削り取る工程があったとしても、表面層に、金属合金成
分などのバラツキが生じて平版印刷版としては得率低下
の原因となっていた。
産数量は需要の伸びと共に増大して、大量に一定の品質
の平版印刷版を作成することが求められている。しかし
ながら、電解粗面化処理の場合は特に対象となるアルミ
ニウム支持体の影響を受けやすく、アルミニウム支持体
を溶解保持→鋳造→面削→均熱という工程を通して製造
する場合、加熱、冷却をくり返し、面削という表面層を
削り取る工程があったとしても、表面層に、金属合金成
分などのバラツキが生じて平版印刷版としては得率低下
の原因となっていた。
【0005】本発明の目的は従来の問題点を解消し、ア
ルミニウム支持体の材質のバラツキを少くし、電解粗面
化処理の得率を向上させ、品質の優れた得率のよい平版
印刷版支持体及びその製造方法を提供することにある。
ルミニウム支持体の材質のバラツキを少くし、電解粗面
化処理の得率を向上させ、品質の優れた得率のよい平版
印刷版支持体及びその製造方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段及び作用】本発明者らは、
アルミニウム支持体と電解粗面化処理の関係を鋭意研究
して来た結果、鉄分を初めとしてシリコン,チタン,そ
の他の合金成分を規制して溶湯を作ること、及び鋳造,
熱間圧延を連続して行い焼鈍,冷間圧延,矯正の工程条
件を制御し、特にアルミニウム支持体の表面層のFe合
金成分の濃度分布を制御することによって目的を達成す
ることに本発明を見出したものである。即ち、本発明の
目的は 0.15%<Fe<0.5%,0.05%<Si<
0.35%,0.01%<Ti<0.1%その他の合金
成分合計<0.3%を含むアルミニウム溶湯を調製し、
連続鋳造により薄板を作成し,焼鈍,冷間圧延,矯正の
工程を経て得られたアルミニウム支持体のFe合金成分
の濃度分布が平均濃度±0.05%以内であることを特
徴とする平版印刷版支持体。 0.15%<Fe<0.5%,0.05%<Si<
0.35%,0.01%<Ti<0.1%,その他の合
金成分合計<0.3%を含むアルミニウム溶湯を調製
し、連続鋳造により薄板を作成し、焼鈍,冷間圧延,矯
正の工程を経て得られたアルミニウム表面層のFe合金
成分の濃度分布が,平均濃度±0.05%以内になるよ
うに工程条件を制御することを特徴とする平版印刷版支
持体の製造方法 によって達成される。
アルミニウム支持体と電解粗面化処理の関係を鋭意研究
して来た結果、鉄分を初めとしてシリコン,チタン,そ
の他の合金成分を規制して溶湯を作ること、及び鋳造,
熱間圧延を連続して行い焼鈍,冷間圧延,矯正の工程条
件を制御し、特にアルミニウム支持体の表面層のFe合
金成分の濃度分布を制御することによって目的を達成す
ることに本発明を見出したものである。即ち、本発明の
目的は 0.15%<Fe<0.5%,0.05%<Si<
0.35%,0.01%<Ti<0.1%その他の合金
成分合計<0.3%を含むアルミニウム溶湯を調製し、
連続鋳造により薄板を作成し,焼鈍,冷間圧延,矯正の
工程を経て得られたアルミニウム支持体のFe合金成分
の濃度分布が平均濃度±0.05%以内であることを特
徴とする平版印刷版支持体。 0.15%<Fe<0.5%,0.05%<Si<
0.35%,0.01%<Ti<0.1%,その他の合
金成分合計<0.3%を含むアルミニウム溶湯を調製
し、連続鋳造により薄板を作成し、焼鈍,冷間圧延,矯
正の工程を経て得られたアルミニウム表面層のFe合金
成分の濃度分布が,平均濃度±0.05%以内になるよ
うに工程条件を制御することを特徴とする平版印刷版支
持体の製造方法 によって達成される。
【0007】本発明において、合金成分としてFe,S
i,Ti、他にCu,Mn等がある。平版印刷版には
0.15%<Fe<0.5%;0.05%<Si<0.
35%;0.01%<Ti<0.1%とし、その他の合
金成分の合計を0.3以内を含むアルミニウム支持体が
適当であるが、特に強度を必要とするものについては、
Mnを含有させる場合がある。
i,Ti、他にCu,Mn等がある。平版印刷版には
0.15%<Fe<0.5%;0.05%<Si<0.
35%;0.01%<Ti<0.1%とし、その他の合
金成分の合計を0.3以内を含むアルミニウム支持体が
適当であるが、特に強度を必要とするものについては、
Mnを含有させる場合がある。
【0008】本発明においてアルミニウム溶湯から鋳
造,熱間圧延を連続して行い薄板の熱間圧延コイルを形
成させる方法としては、ハズレー法,ハンター法,3C
法などの薄板連鋳技術が実用化されている。又特開昭6
0−238001号公報,特開昭60−240360号
公報などには薄板の熱間圧延コイルを作成する方法が開
示されている。各方式においてそれぞれ長所、短所があ
るが、本発明では図1に示すように溶解保持炉1内のア
ルミニウム溶湯から連続鋳造機2を通して直接薄板の熱
間圧延コイルを形成させコイラー3に巻取らせる。薄板
熱間圧延コイルを製造後、冷間圧延,焼鈍,冷間圧延を
行い最終的に矯正を行い平版印刷版のアルミニウム支持
体とする。
造,熱間圧延を連続して行い薄板の熱間圧延コイルを形
成させる方法としては、ハズレー法,ハンター法,3C
法などの薄板連鋳技術が実用化されている。又特開昭6
0−238001号公報,特開昭60−240360号
公報などには薄板の熱間圧延コイルを作成する方法が開
示されている。各方式においてそれぞれ長所、短所があ
るが、本発明では図1に示すように溶解保持炉1内のア
ルミニウム溶湯から連続鋳造機2を通して直接薄板の熱
間圧延コイルを形成させコイラー3に巻取らせる。薄板
熱間圧延コイルを製造後、冷間圧延,焼鈍,冷間圧延を
行い最終的に矯正を行い平版印刷版のアルミニウム支持
体とする。
【0009】Fe合金成分の濃度分布に影響を及ぼす工
程要因としては、溶解保持炉での攪拌条件,温度条件,
双ロール連続鋳法を採用した場合には、ウエブ通搬スピ
ード,冷却ロール,温度条件,焼鈍時間,焼鈍温度,冷
間圧延の圧下率等複雑に絡み合っており、一概に条件,
方式を定めることは出来ないが、特に焼鈍条件は影響力
が大きい。これらの条件を適正にしてAl表面層のFe
濃度分布を平均濃度の±0.05%以内にすることが重
要である。ここでいうAl表面層とは、電解粗面化を行
う部分であり、概略1μm〜5μm程度の深さである。
この様に製造された支持体を次に粗面化,陽極酸化等を
行う。
程要因としては、溶解保持炉での攪拌条件,温度条件,
双ロール連続鋳法を採用した場合には、ウエブ通搬スピ
ード,冷却ロール,温度条件,焼鈍時間,焼鈍温度,冷
間圧延の圧下率等複雑に絡み合っており、一概に条件,
方式を定めることは出来ないが、特に焼鈍条件は影響力
が大きい。これらの条件を適正にしてAl表面層のFe
濃度分布を平均濃度の±0.05%以内にすることが重
要である。ここでいうAl表面層とは、電解粗面化を行
う部分であり、概略1μm〜5μm程度の深さである。
この様に製造された支持体を次に粗面化,陽極酸化等を
行う。
【0010】本発明における平版印刷版支持体の粗面化
の方法としては機械的粗面化,化学的粗面化,電気化学
的粗面化及びそれらの組合わせ等各種を用いることが出
来る。機械的な砂目立て法としては、例えばボールグレ
イン,ワイヤーグレイン,ブラッシグレイン,液体ホー
ニング法などがある。また電気化学的砂目立て方法とし
ては、交流電解エッチング法が一般的に採用さており、
電流としては、普通の正弦波交流電流あるいは矩形波な
と、特殊交番電流が用いられている。またこの電気化学
的砂目立ての前処理として、苛性ソーダなどでエッチン
グ処理をしても良い。また電気化学的粗面化を行う場
合、塩酸または硝酸主体の水溶液で交番電流によって粗
面化されるのが良い。以下詳細に説明する。先ず、アル
ミニウム支持体は、まずアルカリエッチングされる。好
ましいアルカリ剤は、苛性ソーダ,苛性カリ,メタ珪酸
ソーダ,炭酸ソーダ,アルミン酸ソーダ,グルコン酸ソ
ーダ等である。濃度0.01〜20%,温度は20〜9
0℃,時間は5sec〜5min間の範囲から選択され
るのが適当であり、好ましいエッチング量としては0.
1〜5g/m2 である。特に不純物の多い支持体の場
合、0.01〜1g/m2 が適当である(本出願人昭和
62年11月25日出願)。引き続き、アルカリエッチ
ングしたアルミニウム板の表面にアルカリに不溶な物質
(スマット)が残存するので、必要に応じてデスマット
処理を行っても良い。前処理は上記の通りであるが、引
き続き、本発明として塩酸,または硝酸を主体とする電
解液中で交流電解エッチングされる。交流電解電流の周
波数としては、0.1〜100Hz,より好ましくは
0.1〜1.0Hz又は10〜60Hzである。液濃度
としては、3〜150g/l,より好ましくは5〜50
g/l,より好ましくは5〜50g/l,浴内のアルミ
ニウムの溶解量としては50g/l以下が適当であり、
より好ましくは2〜20g/lである。必要によって添
加物を入れても良いが、大量生産をする場合は、液濃度
制御などが難しくなる。また、電流密度は、5〜100
A/dm2 が適当であるが、10〜80A/dm2 がよ
り好ましい。また、電源波形としては、求める品質,使
用されるアルミニウム支持体の成分によって適時選択さ
れるが、特公昭56−19280号,特公昭55−19
191号各公報に記載の特殊交番波形を用いるのがより
好ましい。この様な波形,液条件は、電気量と共に求め
る品質,使用されるアルミニウム支持体の成分などによ
って適時選択される。電解粗面化されたアルミニウム
は、次にスマット処理の一部としてアルカリ溶液に浸漬
しスマットを溶解する。アルカリ剤としては、苛性ソー
ダなど各種あるが、PH10以上,温度25〜60℃浸
漬時間1〜10secの極めて短時間で行うことが好ま
しい。次に硫酸主体の液に浸漬する。硫酸の液条件とし
ては、従来より一段と低い濃度50〜400g/l,温
度25〜65℃が好ましい。硫酸の濃度を400g/l
以上,又は温度を65℃以上にすると処理層などの腐食
が大きくなり、しかも、マンガンが0.3%以上あるア
ルミニウム合金では、電気化学的に粗面化された砂目が
崩れてしまう。また、アルミニウム素地の溶解量が0.
2g/m2 以上エッチングされると、耐刷力が低下して
来るので、0.2g/m2 以下にすることが好ましい。
の方法としては機械的粗面化,化学的粗面化,電気化学
的粗面化及びそれらの組合わせ等各種を用いることが出
来る。機械的な砂目立て法としては、例えばボールグレ
イン,ワイヤーグレイン,ブラッシグレイン,液体ホー
ニング法などがある。また電気化学的砂目立て方法とし
ては、交流電解エッチング法が一般的に採用さており、
電流としては、普通の正弦波交流電流あるいは矩形波な
と、特殊交番電流が用いられている。またこの電気化学
的砂目立ての前処理として、苛性ソーダなどでエッチン
グ処理をしても良い。また電気化学的粗面化を行う場
合、塩酸または硝酸主体の水溶液で交番電流によって粗
面化されるのが良い。以下詳細に説明する。先ず、アル
ミニウム支持体は、まずアルカリエッチングされる。好
ましいアルカリ剤は、苛性ソーダ,苛性カリ,メタ珪酸
ソーダ,炭酸ソーダ,アルミン酸ソーダ,グルコン酸ソ
ーダ等である。濃度0.01〜20%,温度は20〜9
0℃,時間は5sec〜5min間の範囲から選択され
るのが適当であり、好ましいエッチング量としては0.
1〜5g/m2 である。特に不純物の多い支持体の場
合、0.01〜1g/m2 が適当である(本出願人昭和
62年11月25日出願)。引き続き、アルカリエッチ
ングしたアルミニウム板の表面にアルカリに不溶な物質
(スマット)が残存するので、必要に応じてデスマット
処理を行っても良い。前処理は上記の通りであるが、引
き続き、本発明として塩酸,または硝酸を主体とする電
解液中で交流電解エッチングされる。交流電解電流の周
波数としては、0.1〜100Hz,より好ましくは
0.1〜1.0Hz又は10〜60Hzである。液濃度
としては、3〜150g/l,より好ましくは5〜50
g/l,より好ましくは5〜50g/l,浴内のアルミ
ニウムの溶解量としては50g/l以下が適当であり、
より好ましくは2〜20g/lである。必要によって添
加物を入れても良いが、大量生産をする場合は、液濃度
制御などが難しくなる。また、電流密度は、5〜100
A/dm2 が適当であるが、10〜80A/dm2 がよ
り好ましい。また、電源波形としては、求める品質,使
用されるアルミニウム支持体の成分によって適時選択さ
れるが、特公昭56−19280号,特公昭55−19
191号各公報に記載の特殊交番波形を用いるのがより
好ましい。この様な波形,液条件は、電気量と共に求め
る品質,使用されるアルミニウム支持体の成分などによ
って適時選択される。電解粗面化されたアルミニウム
は、次にスマット処理の一部としてアルカリ溶液に浸漬
しスマットを溶解する。アルカリ剤としては、苛性ソー
ダなど各種あるが、PH10以上,温度25〜60℃浸
漬時間1〜10secの極めて短時間で行うことが好ま
しい。次に硫酸主体の液に浸漬する。硫酸の液条件とし
ては、従来より一段と低い濃度50〜400g/l,温
度25〜65℃が好ましい。硫酸の濃度を400g/l
以上,又は温度を65℃以上にすると処理層などの腐食
が大きくなり、しかも、マンガンが0.3%以上あるア
ルミニウム合金では、電気化学的に粗面化された砂目が
崩れてしまう。また、アルミニウム素地の溶解量が0.
2g/m2 以上エッチングされると、耐刷力が低下して
来るので、0.2g/m2 以下にすることが好ましい。
【0011】陽極酸化被膜は、0.1〜10g/m2 、
より好ましくは0.3〜5g/m2を表面に形成するの
が良い。陽極酸化の処理条件は、使用される電解液によ
って種々変化するので一概には決定されないが、一般的
には電解液の濃度が1〜80重量%、液温5〜70℃、
電流密度0.5〜60A/cm2 、電圧1〜100V、
電解時間1秒〜5分の範囲が適当である。この様にして
得られた陽極酸化皮膜を持つ砂目のアルミニウム板はそ
れ自身安定で親水性に優れたものであるから、直ちに感
光性塗膜を上に設ける事も出来るが、必要により更に表
面処理を施す事が出来る。たとえば、先に記載したアル
カリ金属珪酸塩によるシリケート層あるいは、親水性高
分子化合物よりなる下塗層を設けることができる。下塗
層の塗布量は5〜150mg/m2 が好ましい。次ぎ
に、このように処理したアルミニウム支持体上に感光性
塗膜を設け、画像露光、現像して製版した後に、印刷機
にセットし、印刷を開始する。
より好ましくは0.3〜5g/m2を表面に形成するの
が良い。陽極酸化の処理条件は、使用される電解液によ
って種々変化するので一概には決定されないが、一般的
には電解液の濃度が1〜80重量%、液温5〜70℃、
電流密度0.5〜60A/cm2 、電圧1〜100V、
電解時間1秒〜5分の範囲が適当である。この様にして
得られた陽極酸化皮膜を持つ砂目のアルミニウム板はそ
れ自身安定で親水性に優れたものであるから、直ちに感
光性塗膜を上に設ける事も出来るが、必要により更に表
面処理を施す事が出来る。たとえば、先に記載したアル
カリ金属珪酸塩によるシリケート層あるいは、親水性高
分子化合物よりなる下塗層を設けることができる。下塗
層の塗布量は5〜150mg/m2 が好ましい。次ぎ
に、このように処理したアルミニウム支持体上に感光性
塗膜を設け、画像露光、現像して製版した後に、印刷機
にセットし、印刷を開始する。
【0012】
(実施例−1)図1に示すような装置を用いて平均Fe
0.25%,Si 0.1%,Ti0.05%,その
他の合金成分0.1%になる様に溶湯を調製し、その後
10mmの板を製造後、冷間圧延し、450℃で焼鈍後
厚さ0.3mm迄冷間圧延し、その後矯正してAl支持
体を5tonコイルで5コイルA1 〜A5 を作成した。
次に A1 〜A5 コイルを1μmアルカリエッチングす
る。使用する薬液としては苛性ソーダ,濃度は15%,
温度60℃で行い、Al表面層から1μmアルカリエッ
チング後、硝酸1%常温でデスマットする。デスマット
後、Feの濃度分布をEPMA(X線マイクロアナライ
ザー)でFe,Si,Ti濃度分布を測定した。測定面
積は2mm×2mmとし、10μmづつマッピングし
た。測定後15g/l硝酸水溶液中で特公昭55−19
191号公報に記載の交番波形電流を用いて、電気化学
的に粗面化した。電解条件としては、アノード電圧VA
=14V,カソード電圧VC =12Vとし、陽極電気量
が、250クーロン/dm2 となる様にした。この支持
体に20%硫酸中で陽極酸化皮膜2.5g/m2 設け乾
燥し、この様なコイルを20コイル作成し、基板A1 〜
A5 とした。
0.25%,Si 0.1%,Ti0.05%,その
他の合金成分0.1%になる様に溶湯を調製し、その後
10mmの板を製造後、冷間圧延し、450℃で焼鈍後
厚さ0.3mm迄冷間圧延し、その後矯正してAl支持
体を5tonコイルで5コイルA1 〜A5 を作成した。
次に A1 〜A5 コイルを1μmアルカリエッチングす
る。使用する薬液としては苛性ソーダ,濃度は15%,
温度60℃で行い、Al表面層から1μmアルカリエッ
チング後、硝酸1%常温でデスマットする。デスマット
後、Feの濃度分布をEPMA(X線マイクロアナライ
ザー)でFe,Si,Ti濃度分布を測定した。測定面
積は2mm×2mmとし、10μmづつマッピングし
た。測定後15g/l硝酸水溶液中で特公昭55−19
191号公報に記載の交番波形電流を用いて、電気化学
的に粗面化した。電解条件としては、アノード電圧VA
=14V,カソード電圧VC =12Vとし、陽極電気量
が、250クーロン/dm2 となる様にした。この支持
体に20%硫酸中で陽極酸化皮膜2.5g/m2 設け乾
燥し、この様なコイルを20コイル作成し、基板A1 〜
A5 とした。
【0013】〔比較例−1〕図1に示すような装置を用
いて、平均Fe 0.25%,Si 0.1%,Ti
0.05%その他の合金成分0.1%になる様に溶湯を
調製し、その後10mmの板を製造後、冷間圧延し、3
00℃で焼鈍後、厚さ0.3mm迄冷間圧延し、その後
矯正してAl支持体を5tonコイルで5コイルB1 〜
B5 を作成した。次に B1 〜B5 コイルを実施例−1
と同じ様にアルカリエッチング,デスマット処理し,E
PMAでの解析を行い、測定後、実施例−1と同様に電
気化学的に粗面化して基板B1 〜B5 とした。 〔比較例−2〕図1に示すような装置を用いて平均Fe
0.1%,Si 0.4%,Ti0.15%その他の
合金成分0.3%となる様に溶湯を調製し、その後10
mmの板を製造後,冷間圧延し、450℃で焼鈍後、厚
さ0.3mm迄冷間圧延し、その後矯正して、Al支持
体を5tonコイルで5コイルC1 〜C5 を作成した。
C1 〜C5 コイルを前記実施例−1と同じ様にアルカリ
エッチング,デスマット処理し,EPMAでの解析を行
い測定後、実施例−1と同様に電気化学的に粗面化して
基板C1 〜C5 とした。
いて、平均Fe 0.25%,Si 0.1%,Ti
0.05%その他の合金成分0.1%になる様に溶湯を
調製し、その後10mmの板を製造後、冷間圧延し、3
00℃で焼鈍後、厚さ0.3mm迄冷間圧延し、その後
矯正してAl支持体を5tonコイルで5コイルB1 〜
B5 を作成した。次に B1 〜B5 コイルを実施例−1
と同じ様にアルカリエッチング,デスマット処理し,E
PMAでの解析を行い、測定後、実施例−1と同様に電
気化学的に粗面化して基板B1 〜B5 とした。 〔比較例−2〕図1に示すような装置を用いて平均Fe
0.1%,Si 0.4%,Ti0.15%その他の
合金成分0.3%となる様に溶湯を調製し、その後10
mmの板を製造後,冷間圧延し、450℃で焼鈍後、厚
さ0.3mm迄冷間圧延し、その後矯正して、Al支持
体を5tonコイルで5コイルC1 〜C5 を作成した。
C1 〜C5 コイルを前記実施例−1と同じ様にアルカリ
エッチング,デスマット処理し,EPMAでの解析を行
い測定後、実施例−1と同様に電気化学的に粗面化して
基板C1 〜C5 とした。
【0014】以上の如くして作成した基板(A1 〜
A5 ),(B1 〜B5 ),(C1 〜C5)に下記組成物
を、乾燥後の塗布重量が1.8g/m2 になる様に塗布
して感光層を設けた。 感光液: N−(4−ヒドロキシフェニル),メタクリルアミド/2−ヒドロキ シエチルメタクリレート/アクリロニトリル/メチルメタクリレート /メタクリル酸(=15:10:30:38:7モル比)共重合体( 平均分子量60000) ・・・5.0g 4−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドの縮合物の六弗化燐 酸塩 ・・・0.5g 亜燐酸 ・・・0.05g ジクトリアピュアーブル−BOH(保土ヶ谷化学(株)社製) ・・・0.1g 2−メトキシエタノール ・・・100.0g このようにして作製した感光性平版印刷版に、真空焼枠
中で透明ネガティブフィルムを通して、1mの距離から
3kwのメタルハライドランプにより50秒間露光を行
なったのち、下記組成の現像液で現像しアラビアガム水
溶液でガム引きして平版印刷版とした。 現像液: 亜硫酸ナトリウム ・・・5g ベンジルアルコール ・・・30g 炭酸ナトリウム ・・・5g イソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム ・・・12g 純水 ・・・1000g この様にして製版された平版印刷版を用いて通常の手段
で印刷した砂目と印刷汚れについて評価した結果と、前
記EPMAでの合金成分の濃度分布との関係を表1に示
す。
A5 ),(B1 〜B5 ),(C1 〜C5)に下記組成物
を、乾燥後の塗布重量が1.8g/m2 になる様に塗布
して感光層を設けた。 感光液: N−(4−ヒドロキシフェニル),メタクリルアミド/2−ヒドロキ シエチルメタクリレート/アクリロニトリル/メチルメタクリレート /メタクリル酸(=15:10:30:38:7モル比)共重合体( 平均分子量60000) ・・・5.0g 4−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドの縮合物の六弗化燐 酸塩 ・・・0.5g 亜燐酸 ・・・0.05g ジクトリアピュアーブル−BOH(保土ヶ谷化学(株)社製) ・・・0.1g 2−メトキシエタノール ・・・100.0g このようにして作製した感光性平版印刷版に、真空焼枠
中で透明ネガティブフィルムを通して、1mの距離から
3kwのメタルハライドランプにより50秒間露光を行
なったのち、下記組成の現像液で現像しアラビアガム水
溶液でガム引きして平版印刷版とした。 現像液: 亜硫酸ナトリウム ・・・5g ベンジルアルコール ・・・30g 炭酸ナトリウム ・・・5g イソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム ・・・12g 純水 ・・・1000g この様にして製版された平版印刷版を用いて通常の手段
で印刷した砂目と印刷汚れについて評価した結果と、前
記EPMAでの合金成分の濃度分布との関係を表1に示
す。
【0015】
【表1】
【0016】表1に示すように、実施例−1(A1 〜A
5 )は砂目が均一であり、印刷汚れが良好であったが、
比較例−1,比較例−2のそれぞれのサンプル(B1 〜
B5),(C1 〜C5 )は何れも不合格であった。
5 )は砂目が均一であり、印刷汚れが良好であったが、
比較例−1,比較例−2のそれぞれのサンプル(B1 〜
B5),(C1 〜C5 )は何れも不合格であった。
【0017】
【発明の効果】本発明の平版印刷版支持体及びその製造
方法により、実施例に示すようにアルミニウム支持体の
材質のバラツキを少くし、電解粗面化処理の得率を向上
させ、品質の優れた、得率の良い平版印刷版を製造する
ことが出来るようになった。
方法により、実施例に示すようにアルミニウム支持体の
材質のバラツキを少くし、電解粗面化処理の得率を向上
させ、品質の優れた、得率の良い平版印刷版を製造する
ことが出来るようになった。
【図1】本発明に用いる連続鋳造機及び連続熱間圧延機
を示す略式側面図
を示す略式側面図
1 溶解保持炉 2 連続鋳造機 3 コイラー
【表1】
【表1】
Claims (2)
- 【請求項1】 0.15%<Fe<0.5%,0.05
%<Si<0.35%,0.01%<Ti<0.1%、
その他の合金成分合計<0.3%を含むアルミニウム溶
湯を調製し、連続鋳造により薄板を作成し、焼鈍,冷間
圧延,矯正の工程を経て得られたアルミニウム支持体の
Fe合金成分の濃度分布が、平均濃度±0.05%以内
であることを特徴とする平版印刷版支持体。 - 【請求項2】 0.15%<Fe<0.5%,0.05
%<Si<0.35%,0.01%<Ti<0.1%,
その他の合金成分合計<0.3%を含むアルミニウム溶
湯を調製し、連続鋳造により薄板を作成し、焼鈍,冷間
圧延,矯正の工程を経て得られたアルミニウム表面層の
Fe合金成分の濃度分布が、平均濃度±0.05%以内
になるように工程条件を制御することを特徴とする平版
印刷版支持体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13138992A JPH05301478A (ja) | 1992-04-27 | 1992-04-27 | 平版印刷版支持体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13138992A JPH05301478A (ja) | 1992-04-27 | 1992-04-27 | 平版印刷版支持体及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05301478A true JPH05301478A (ja) | 1993-11-16 |
Family
ID=15056820
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13138992A Pending JPH05301478A (ja) | 1992-04-27 | 1992-04-27 | 平版印刷版支持体及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05301478A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0672759A1 (en) * | 1994-03-17 | 1995-09-20 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Support for planographic printing plate and method for producing the same |
EP0695647A1 (en) | 1994-08-05 | 1996-02-07 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Aluminum alloy support for planographic printing plate and method for producing the same |
EP1625944A1 (en) | 2004-08-13 | 2006-02-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of manufacturing lithographic printing plate support |
EP1712368A1 (en) | 2005-04-13 | 2006-10-18 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of manufacturing a support for a lithographic printing plate |
WO2010150810A1 (ja) | 2009-06-26 | 2010-12-29 | 富士フイルム株式会社 | 光反射基板およびその製造方法 |
WO2011078010A1 (ja) | 2009-12-25 | 2011-06-30 | 富士フイルム株式会社 | 絶縁基板、絶縁基板の製造方法、配線の形成方法、配線基板および発光素子 |
JP2011184798A (ja) * | 2011-04-04 | 2011-09-22 | Toshiba Corp | スパッタリングターゲットとそれを用いたTi−Al−N膜および電子部品の製造方法 |
-
1992
- 1992-04-27 JP JP13138992A patent/JPH05301478A/ja active Pending
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---|---|---|---|---|
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WO2010150810A1 (ja) | 2009-06-26 | 2010-12-29 | 富士フイルム株式会社 | 光反射基板およびその製造方法 |
WO2011078010A1 (ja) | 2009-12-25 | 2011-06-30 | 富士フイルム株式会社 | 絶縁基板、絶縁基板の製造方法、配線の形成方法、配線基板および発光素子 |
JP2011184798A (ja) * | 2011-04-04 | 2011-09-22 | Toshiba Corp | スパッタリングターゲットとそれを用いたTi−Al−N膜および電子部品の製造方法 |
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