JPH05301466A - 昇華型感熱転写記録方式の被記録体 - Google Patents
昇華型感熱転写記録方式の被記録体Info
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Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 記録画像の耐光性が優れ、日光や蛍光灯の光
により変色、退色が極めて少ない昇華型感熱転写記録方
式の被記録体を得る。 【構成】 被記録体の受像層に、下記一般式(1)で表
わされるホスファイト系酸化防止剤を含有させる。 【化1】 (但し、一般式(1)において、R1 ,R2 ,R3 ,R
4 はH、炭素数1〜20のアルキル基、AはH、1〜1
0個の炭素を主骨格とする原子団、n=1,2,3,4
である。)
により変色、退色が極めて少ない昇華型感熱転写記録方
式の被記録体を得る。 【構成】 被記録体の受像層に、下記一般式(1)で表
わされるホスファイト系酸化防止剤を含有させる。 【化1】 (但し、一般式(1)において、R1 ,R2 ,R3 ,R
4 はH、炭素数1〜20のアルキル基、AはH、1〜1
0個の炭素を主骨格とする原子団、n=1,2,3,4
である。)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、耐光性が優れた記録画
像を形成し得る昇華型感熱転写記録方式の被記録体に関
するものである。
像を形成し得る昇華型感熱転写記録方式の被記録体に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】昇華型感熱転写記録方式は、記録時の音
が静かである、装置が小型で安価である、保守が容易で
ある、出力時間が短い等の特徴を有している。さらに、
昇華型染料を使用しているため、発熱エネルギー量を連
続的に変化させることにより容易に階調度の高い記録が
できるほか、高濃度、高解像度である等の特徴を持って
いる。そのため、他の記録方式に比べ、特にフルカラー
ハードコピーを得るのに有利であり、カラープリンタ
ー、ビデオプリンター等への記録方式として多く採用さ
れている。
が静かである、装置が小型で安価である、保守が容易で
ある、出力時間が短い等の特徴を有している。さらに、
昇華型染料を使用しているため、発熱エネルギー量を連
続的に変化させることにより容易に階調度の高い記録が
できるほか、高濃度、高解像度である等の特徴を持って
いる。そのため、他の記録方式に比べ、特にフルカラー
ハードコピーを得るのに有利であり、カラープリンタ
ー、ビデオプリンター等への記録方式として多く採用さ
れている。
【0003】しかしながら、昇華型感熱転写方式により
記録される画像は昇華性染料により形成されているた
め、一般的に耐光性が不良で、日光や蛍光灯の光により
退色したり変色したりしやすいという欠点がある。この
欠点を解決する目的で被記録体の受像層に紫外線吸収剤
や光安定剤を添加することが一般に行われており、これ
によりある程度耐光性は改善されているが、十分とは言
い難い。また、特開平1−127387号公報に記載さ
れているように受像層に特定のフェノール系酸化防止剤
を添加する方法や、特開平3−19893号公報、特開
昭61−229594号公報に記載されているように受
像層に特定のリン系酸化防止剤を添加する方法等も提案
されており、若干の耐光性向上効果は認められるが、光
による退色や変色の程度は依然として大きい。
記録される画像は昇華性染料により形成されているた
め、一般的に耐光性が不良で、日光や蛍光灯の光により
退色したり変色したりしやすいという欠点がある。この
欠点を解決する目的で被記録体の受像層に紫外線吸収剤
や光安定剤を添加することが一般に行われており、これ
によりある程度耐光性は改善されているが、十分とは言
い難い。また、特開平1−127387号公報に記載さ
れているように受像層に特定のフェノール系酸化防止剤
を添加する方法や、特開平3−19893号公報、特開
昭61−229594号公報に記載されているように受
像層に特定のリン系酸化防止剤を添加する方法等も提案
されており、若干の耐光性向上効果は認められるが、光
による退色や変色の程度は依然として大きい。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】よって、本発明の課題
は、上記従来技術の欠点を改良し、記録画像の耐光性が
優れ、光による退色、変色が極めて少ない昇華型感熱転
写記録方式の被記録体を得ることにある。
は、上記従来技術の欠点を改良し、記録画像の耐光性が
優れ、光による退色、変色が極めて少ない昇華型感熱転
写記録方式の被記録体を得ることにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】かかる課題は、受像層に
特定の構造を有するホスファイト系酸化防止剤を含有さ
せることにより解決される。即ち、本発明は、基材表面
に、下記一般式(1)で示されるホスファイト系酸化防
止剤の少なくとも一種を含有する樹脂組成物からなる受
像層を形成したことを特徴とする昇華型感熱転写記録方
式の被記録体である。
特定の構造を有するホスファイト系酸化防止剤を含有さ
せることにより解決される。即ち、本発明は、基材表面
に、下記一般式(1)で示されるホスファイト系酸化防
止剤の少なくとも一種を含有する樹脂組成物からなる受
像層を形成したことを特徴とする昇華型感熱転写記録方
式の被記録体である。
【0006】
【化2】
【0007】(但し、一般式(1)において、R1 ,R
2 ,R3 ,R4 はH、炭素数1〜20のアルキル基、A
はH、1〜10個の炭素を主骨格とする原子団、n=
1,2,3,4である。)
2 ,R3 ,R4 はH、炭素数1〜20のアルキル基、A
はH、1〜10個の炭素を主骨格とする原子団、n=
1,2,3,4である。)
【0008】以下、本発明について詳細に説明する。本
発明の被記録体を構成する基材としては、フィルムまた
は紙が適しており、例えば、ポリエステルフィルム、ポ
リエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリス
チレンフィルム、ナイロンフィルム、塩化ビニルフィル
ム等の各種プラスチック製フィルム及びこれらに白色顔
料や充填剤を加えた白色フィルム;印刷用紙、アート
紙、コート紙等のセルロース繊維を主体とする紙;アク
リル紙、ポリプロピレン紙、ポリエステル紙などプラス
チック繊維を主体とする紙などが挙げられる。これらの
紙またはフィルムは、それ自体をそのまま使用しても良
く、必要に応じて洗浄、エッチング、コロナ放電、活性
エネルギー線照射、染色、印刷等の前処理が施されたも
のを使用しても良い。また、上記基材の2種以上を貼り
合わせたラミネート基材も使用できる。基材の厚さは特
に限定はされないが、20〜500μm程度が好まし
い。
発明の被記録体を構成する基材としては、フィルムまた
は紙が適しており、例えば、ポリエステルフィルム、ポ
リエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリス
チレンフィルム、ナイロンフィルム、塩化ビニルフィル
ム等の各種プラスチック製フィルム及びこれらに白色顔
料や充填剤を加えた白色フィルム;印刷用紙、アート
紙、コート紙等のセルロース繊維を主体とする紙;アク
リル紙、ポリプロピレン紙、ポリエステル紙などプラス
チック繊維を主体とする紙などが挙げられる。これらの
紙またはフィルムは、それ自体をそのまま使用しても良
く、必要に応じて洗浄、エッチング、コロナ放電、活性
エネルギー線照射、染色、印刷等の前処理が施されたも
のを使用しても良い。また、上記基材の2種以上を貼り
合わせたラミネート基材も使用できる。基材の厚さは特
に限定はされないが、20〜500μm程度が好まし
い。
【0009】上記基材の少なくとも一方の面に受像層が
形成されるが、受像層は転写シートから移行してくる昇
華性染料を受容して顕色する層であり、この受像層を構
成する材料としては、昇華性染料に良く染まり、かつ記
録時に転写シートとブロッキングを起こさないものであ
れば特に限定されず、例えば、メチルセルロース、エチ
ルセルロース、エチルヒドロキシセルロース、ヒドロキ
シエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、
酢酸セルロース等のセルロース系樹脂、ポリビニルアル
コール、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセター
ル、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリビニルピロ
リドン、スチレン等のビニル系樹脂、ポリメチル(メ
タ)アクリレート、ポリブチル(メタ)アクリレート、
ポリアクリルアミド、ポリアクリロニトリル等のアクリ
レート系樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹
脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、尿素樹脂、ポ
リカプロラクトン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスル
ホン樹脂などやこれらの共重合体もしくは混合物を染着
性樹脂として使用できる。このうち、ポリエステル樹脂
は、昇華性染料に良く染まり、かつ得られる画像の保存
安定性も良好であることから、染着性樹脂の少なくとも
一成分として含有させることが好ましい。
形成されるが、受像層は転写シートから移行してくる昇
華性染料を受容して顕色する層であり、この受像層を構
成する材料としては、昇華性染料に良く染まり、かつ記
録時に転写シートとブロッキングを起こさないものであ
れば特に限定されず、例えば、メチルセルロース、エチ
ルセルロース、エチルヒドロキシセルロース、ヒドロキ
シエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、
酢酸セルロース等のセルロース系樹脂、ポリビニルアル
コール、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセター
ル、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリビニルピロ
リドン、スチレン等のビニル系樹脂、ポリメチル(メ
タ)アクリレート、ポリブチル(メタ)アクリレート、
ポリアクリルアミド、ポリアクリロニトリル等のアクリ
レート系樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹
脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、尿素樹脂、ポ
リカプロラクトン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスル
ホン樹脂などやこれらの共重合体もしくは混合物を染着
性樹脂として使用できる。このうち、ポリエステル樹脂
は、昇華性染料に良く染まり、かつ得られる画像の保存
安定性も良好であることから、染着性樹脂の少なくとも
一成分として含有させることが好ましい。
【0010】本発明の受像層には、さらに受像層と転写
シートの離型性を向上させる目的で、架橋性成分を含有
させることが好ましい。例えば、イソシアネートとポリ
オール等の熱硬化性成分を含有させ、受像層形成後に熱
架橋させたり、あるいは、我々が、特開昭62−466
89号公報や特開昭63−67188号公報に開示した
ように、活性エネルギー線で硬化し得る架橋剤、例えば
アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基を
有するモノマーおよびオリゴマーを含む樹脂組成物を基
材上に塗布した後、活性エネルギー線で硬化して受像層
を得ることができる。特に、活性エネルギー線で架橋し
得る成分を配合し、活性エネルギー線で硬化させて受像
層を得る方法は、生産性が高く、かつ得られる受像層の
光沢が高いのでより好ましい。
シートの離型性を向上させる目的で、架橋性成分を含有
させることが好ましい。例えば、イソシアネートとポリ
オール等の熱硬化性成分を含有させ、受像層形成後に熱
架橋させたり、あるいは、我々が、特開昭62−466
89号公報や特開昭63−67188号公報に開示した
ように、活性エネルギー線で硬化し得る架橋剤、例えば
アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基を
有するモノマーおよびオリゴマーを含む樹脂組成物を基
材上に塗布した後、活性エネルギー線で硬化して受像層
を得ることができる。特に、活性エネルギー線で架橋し
得る成分を配合し、活性エネルギー線で硬化させて受像
層を得る方法は、生産性が高く、かつ得られる受像層の
光沢が高いのでより好ましい。
【0011】上記染着性樹脂および架橋剤の使用量は特
に限定はされないが、染着性樹脂および架橋性成分の合
計100重量部に対し、染着性樹脂を40〜95重量
%、架橋性成分を60〜5重量%含有させることが好ま
しい。活性エネルギー線で硬化し得る架橋剤を含有させ
た樹脂組成物は、電子線、紫外線などの活性エネルギー
線で硬化されるが、活性エネルギー線として紫外線を使
用する場合には、公知の光重合開始剤を含有させること
が望ましい。光重合開始剤の使用量は特に限定はされな
いが、受像層を形成する前述の染着性樹脂および架橋性
成分の合計100重量部に対し、0.1〜10重量部含
有させることが好ましい。
に限定はされないが、染着性樹脂および架橋性成分の合
計100重量部に対し、染着性樹脂を40〜95重量
%、架橋性成分を60〜5重量%含有させることが好ま
しい。活性エネルギー線で硬化し得る架橋剤を含有させ
た樹脂組成物は、電子線、紫外線などの活性エネルギー
線で硬化されるが、活性エネルギー線として紫外線を使
用する場合には、公知の光重合開始剤を含有させること
が望ましい。光重合開始剤の使用量は特に限定はされな
いが、受像層を形成する前述の染着性樹脂および架橋性
成分の合計100重量部に対し、0.1〜10重量部含
有させることが好ましい。
【0012】本発明では、受像層に記録される画像の耐
光性を向上させる目的で、上記一般式(1)で示される
ホスファイト系酸化防止剤の少なくとも一種を受像層に
含有させる。
光性を向上させる目的で、上記一般式(1)で示される
ホスファイト系酸化防止剤の少なくとも一種を受像層に
含有させる。
【0013】上記一般式(1)で示される特定の構造を
有するホスファイト系酸化防止剤を受像層に配合するこ
とにより、記録画像の耐光性は従来の技術からは予想さ
れなかったほど大きく向上し、光による退色や変色が極
めて少なくなることを見いだした。一般式(1)で示さ
れるホスファイト系酸化防止剤の具体例としては、例え
ば次のような構造式〜で示される化合物などが挙げ
られる。
有するホスファイト系酸化防止剤を受像層に配合するこ
とにより、記録画像の耐光性は従来の技術からは予想さ
れなかったほど大きく向上し、光による退色や変色が極
めて少なくなることを見いだした。一般式(1)で示さ
れるホスファイト系酸化防止剤の具体例としては、例え
ば次のような構造式〜で示される化合物などが挙げ
られる。
【0014】
【化3】
【0015】これらの酸化防止剤は、単独でも、2種以
上を混合しても使用することができる。これらの酸化防
止剤の使用量は特に限定はされないが、受像層を形成す
る染着性樹脂および架橋性成分の合計100重量部に対
し、0.5〜20重量部、好ましくは2〜15重量部含
有させることが望ましい。使用量が少なすぎると本発明
の目的とする優れた耐光性が得られず、逆に使用量が多
すぎると、該酸化防止剤が受像層表面にブリードアウト
してきたり、記録画像が経時的ににじんできたりするこ
とがある。
上を混合しても使用することができる。これらの酸化防
止剤の使用量は特に限定はされないが、受像層を形成す
る染着性樹脂および架橋性成分の合計100重量部に対
し、0.5〜20重量部、好ましくは2〜15重量部含
有させることが望ましい。使用量が少なすぎると本発明
の目的とする優れた耐光性が得られず、逆に使用量が多
すぎると、該酸化防止剤が受像層表面にブリードアウト
してきたり、記録画像が経時的ににじんできたりするこ
とがある。
【0016】本発明では、受像層の耐光性をさらに向上
させる目的で、上記酸化防止剤に加えて、紫外線吸収剤
を含有させても良い。紫外線吸収剤としては、公知のベ
ンゾトリアゾール系あるいはベンゾフェノン系等の紫外
線吸収剤が使用でき、例えばベンゾトリアゾール系の紫
外線吸収剤の具体例としては、2−(5−メチル−2−
ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール(チバガイギ
ー製:TINUVINP)、2−〔2−ヒドロキシ−
3,5−ビス(α,α−ジメチル−ベンジル)フェニ
ル〕−2H−ベンゾトリアゾール(チバガイギー製:T
INUVIN 234)、2−(5−t−ブチル−2−
ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール(チバガイギ
ー製:TINUVIN PS)、2−(3,5−ジ−t
−ブチル−2−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾー
ル(チバガイギー製:TINUVIN 320)、2−
(3−t−ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシフェニ
ル)−5−クロロベンゾトリアゾール(チバガイギー
製:TINUVIN 326)、2−(3,5−ジ−t
−ブチル−2−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベン
ゾトリアゾール(チバガイギー製:TINUVIN 3
27)、2−(3,5−ジ−t−アミル−2−ヒドロキ
シフェニル)ベンゾトリアゾール(チバガイギー製:T
INUVIN 328)、2−〔2−ヒドロキシ−3−
(3,4,5,6−テトラヒドロフタルイミドメチル)
−5−メチルフェニル〕ベンゾトリアゾール(住友化学
工業製:SUMISORB 250)、2−(4−オク
トキシ−2−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール
などが挙げられる。
させる目的で、上記酸化防止剤に加えて、紫外線吸収剤
を含有させても良い。紫外線吸収剤としては、公知のベ
ンゾトリアゾール系あるいはベンゾフェノン系等の紫外
線吸収剤が使用でき、例えばベンゾトリアゾール系の紫
外線吸収剤の具体例としては、2−(5−メチル−2−
ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール(チバガイギ
ー製:TINUVINP)、2−〔2−ヒドロキシ−
3,5−ビス(α,α−ジメチル−ベンジル)フェニ
ル〕−2H−ベンゾトリアゾール(チバガイギー製:T
INUVIN 234)、2−(5−t−ブチル−2−
ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール(チバガイギ
ー製:TINUVIN PS)、2−(3,5−ジ−t
−ブチル−2−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾー
ル(チバガイギー製:TINUVIN 320)、2−
(3−t−ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシフェニ
ル)−5−クロロベンゾトリアゾール(チバガイギー
製:TINUVIN 326)、2−(3,5−ジ−t
−ブチル−2−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベン
ゾトリアゾール(チバガイギー製:TINUVIN 3
27)、2−(3,5−ジ−t−アミル−2−ヒドロキ
シフェニル)ベンゾトリアゾール(チバガイギー製:T
INUVIN 328)、2−〔2−ヒドロキシ−3−
(3,4,5,6−テトラヒドロフタルイミドメチル)
−5−メチルフェニル〕ベンゾトリアゾール(住友化学
工業製:SUMISORB 250)、2−(4−オク
トキシ−2−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール
などが挙げられる。
【0017】ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の具体例と
しては、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒ
ドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキ
シ−4−オクトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−
4−ドデシルオキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−
4−ベンジルオキシベンゾフェノン、2,2′−ジヒド
ロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2′,4,
4′−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,2′−ジ
ヒドロキシ−4,4′−ジメトキシベンゾフェノン、
2,2′−ジヒドロキシ−4,4′−ジオクトキシベン
ゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシ−4,4′−ジド
デシルオキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メ
トキシ−5−スルホベンゾフェノンなどが挙げられる。
しては、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒ
ドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキ
シ−4−オクトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−
4−ドデシルオキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−
4−ベンジルオキシベンゾフェノン、2,2′−ジヒド
ロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2′,4,
4′−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,2′−ジ
ヒドロキシ−4,4′−ジメトキシベンゾフェノン、
2,2′−ジヒドロキシ−4,4′−ジオクトキシベン
ゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシ−4,4′−ジド
デシルオキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メ
トキシ−5−スルホベンゾフェノンなどが挙げられる。
【0018】これらの紫外線吸収剤は、単独でも、2種
以上を混合しても使用することができる。使用量は特に
限定はされないが、染着性樹脂および架橋性成分の合計
100重量部に対し、1〜10重量部含有させることが
望ましい。使用量が少なすぎると耐光性向上効果が十分
でなく、逆に多すぎると、該紫外線吸収剤が受像層表面
にブリードアウトしてきたり、記録画像が経時的ににじ
んできたりすることがある。
以上を混合しても使用することができる。使用量は特に
限定はされないが、染着性樹脂および架橋性成分の合計
100重量部に対し、1〜10重量部含有させることが
望ましい。使用量が少なすぎると耐光性向上効果が十分
でなく、逆に多すぎると、該紫外線吸収剤が受像層表面
にブリードアウトしてきたり、記録画像が経時的ににじ
んできたりすることがある。
【0019】また、受像層の耐光性をさらに向上させる
目的で、さらにヒンダードアミン系光安定剤を含有させ
ても良い。ヒンダードアミン系光安定剤としては公知の
ものが使用でき、具体的には、ビス(2,2,6,6−
テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート(三共製:
SANOL LS770)、ビス(1,2,2,6,6
−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート(三共
製:SANOL LS765)、1−{2−〔3−
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)
プロピオニルオキシ〕エチル}−4−〔3−(3,5−
ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニ
ルオキシ〕−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
(三共製:SANOL LS2626)、4−ベンゾイ
ルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
(三共製:SANOL LS744)、8−アセチル−
3−ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1,
3,8−トリアザスピロ〔4,5〕デカン−2,4−ジ
オン(三共製:SANOL LS440)、2−(3,
5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2−
n−ブチルマロン酸ビス(1,2,2,6,6−ペンタ
メチル−4−ピペリジル)(チバガイギー製:TINU
VIN 144)、コハク酸ビス(2,2,6,6−テ
トラメチル−4−ピペリジニル)エステル(チバガイギ
ー製:TINUVIN780FF)、コハク酸ジメチル
と1−(2−ヒドロキシエチル)−4−ヒドロキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジンの重縮合物
(チバガイギー製:TINUVIN 622LD)、ポ
リ{〔6−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)ア
ミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル〕
〔(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)
イミノ〕ヘキサメチレン〔(2,2,6,6−テトラメ
チル−4−ピペリジル)イミノ〕}(チバガイギー製:
CHIMASSORB 944LD)、N,N′−ビス
(3−アミノプロピル)エチレンジアミンと2,4−ビ
ス〔N−ブチル−N−(1,2,2,6,6−ペンタメ
チル−4−ピペリジル)アミノ〕−6−クロロ−1,
3,5−トリアジンの重縮合物(チバガイギー製:CH
IMASSORB 119FL)、HA−70G(三共
製)、アデカスタブ LA−52、アデカスタブ LA
−57、アデカスタブLA−62、アデカスタブ LA
−67、アデカスタブ LA−63、アデカスタブ L
A−68、アデカスタブ LA−82、アデカスタブ
LA−87(いずれも旭電化工業製)などが挙げられ
る。
目的で、さらにヒンダードアミン系光安定剤を含有させ
ても良い。ヒンダードアミン系光安定剤としては公知の
ものが使用でき、具体的には、ビス(2,2,6,6−
テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート(三共製:
SANOL LS770)、ビス(1,2,2,6,6
−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート(三共
製:SANOL LS765)、1−{2−〔3−
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)
プロピオニルオキシ〕エチル}−4−〔3−(3,5−
ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニ
ルオキシ〕−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
(三共製:SANOL LS2626)、4−ベンゾイ
ルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
(三共製:SANOL LS744)、8−アセチル−
3−ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1,
3,8−トリアザスピロ〔4,5〕デカン−2,4−ジ
オン(三共製:SANOL LS440)、2−(3,
5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2−
n−ブチルマロン酸ビス(1,2,2,6,6−ペンタ
メチル−4−ピペリジル)(チバガイギー製:TINU
VIN 144)、コハク酸ビス(2,2,6,6−テ
トラメチル−4−ピペリジニル)エステル(チバガイギ
ー製:TINUVIN780FF)、コハク酸ジメチル
と1−(2−ヒドロキシエチル)−4−ヒドロキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジンの重縮合物
(チバガイギー製:TINUVIN 622LD)、ポ
リ{〔6−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)ア
ミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル〕
〔(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)
イミノ〕ヘキサメチレン〔(2,2,6,6−テトラメ
チル−4−ピペリジル)イミノ〕}(チバガイギー製:
CHIMASSORB 944LD)、N,N′−ビス
(3−アミノプロピル)エチレンジアミンと2,4−ビ
ス〔N−ブチル−N−(1,2,2,6,6−ペンタメ
チル−4−ピペリジル)アミノ〕−6−クロロ−1,
3,5−トリアジンの重縮合物(チバガイギー製:CH
IMASSORB 119FL)、HA−70G(三共
製)、アデカスタブ LA−52、アデカスタブ LA
−57、アデカスタブLA−62、アデカスタブ LA
−67、アデカスタブ LA−63、アデカスタブ L
A−68、アデカスタブ LA−82、アデカスタブ
LA−87(いずれも旭電化工業製)などが挙げられ
る。
【0020】これらのヒンダードアミン系光安定剤は、
単独でも、2種以上を混合しても使用することができる
が、耐光性向上効果を考慮すると、前述の紫外線吸収剤
と併用することが好ましい。ヒンダードアミン系光安定
剤の使用量は特に限定はされないが、染着性樹脂および
架橋性成分の合計100重量部に対し、1〜10重量部
含有させることが望ましい。使用量が少なすぎると耐光
性向上効果が十分でなく、逆に多すぎると、該ヒンダー
ドアミン系光安定剤が受像層表面にブリードアウトして
きたり、記録画像が経時的ににじんできたりすることが
ある。
単独でも、2種以上を混合しても使用することができる
が、耐光性向上効果を考慮すると、前述の紫外線吸収剤
と併用することが好ましい。ヒンダードアミン系光安定
剤の使用量は特に限定はされないが、染着性樹脂および
架橋性成分の合計100重量部に対し、1〜10重量部
含有させることが望ましい。使用量が少なすぎると耐光
性向上効果が十分でなく、逆に多すぎると、該ヒンダー
ドアミン系光安定剤が受像層表面にブリードアウトして
きたり、記録画像が経時的ににじんできたりすることが
ある。
【0021】また、本発明の受像層には、受像層と転写
シートの離型性をさらに向上させる目的で離型剤を含有
させることが好ましい。離型剤としては、シリコン系界
面活性剤、フッ素系界面活性剤、ポリオルガノシロキサ
ンを幹または枝とするグラフトポリマー、シリコン系あ
るいは含フッ素系の架橋構造をとり得る化合物、例えば
アミノ変性シリコンとエポキシ変性シリコンの組み合わ
せなどを挙げることができ、これら離型剤を単独または
併用して使用することができる。離型剤の使用量は特に
限定はされないが、染着性樹脂および架橋性成分の合計
100重量部に対し、0.01〜30重量部含有させる
ことが望ましい。
シートの離型性をさらに向上させる目的で離型剤を含有
させることが好ましい。離型剤としては、シリコン系界
面活性剤、フッ素系界面活性剤、ポリオルガノシロキサ
ンを幹または枝とするグラフトポリマー、シリコン系あ
るいは含フッ素系の架橋構造をとり得る化合物、例えば
アミノ変性シリコンとエポキシ変性シリコンの組み合わ
せなどを挙げることができ、これら離型剤を単独または
併用して使用することができる。離型剤の使用量は特に
限定はされないが、染着性樹脂および架橋性成分の合計
100重量部に対し、0.01〜30重量部含有させる
ことが望ましい。
【0022】さらに、上記の樹脂組成物には、使用目的
によって、シリカ、炭酸カルシウム、酸化チタン、酸化
亜鉛などの無機充填剤を含有させても良い。
によって、シリカ、炭酸カルシウム、酸化チタン、酸化
亜鉛などの無機充填剤を含有させても良い。
【0023】本発明の被記録体を製造するには、樹脂組
成物をそのままロールコート、バーコート、ブレードコ
ートなどのコーティング方法によって基材表面に塗工
し、受像層を形成することが可能である。しかし、塗工
作業の作業性を向上させるためには、樹脂組成物を溶解
し得る溶剤、たとえばエチルアルコール、メチルエチル
ケトン、トルエン、酢酸エチル、ジメチルホルムアミ
ド、テトラヒドロフラン等の溶剤を配合して適当な塗工
粘度に調整して行った方が好ましい。これにより、スプ
レーコート、カーテンコート、フローコート、ディップ
コートなどを容易に行うことができる。なお、これらの
溶剤を配合する場合には、樹脂組成物を塗布後に溶剤を
揮散、乾燥させる必要がある。
成物をそのままロールコート、バーコート、ブレードコ
ートなどのコーティング方法によって基材表面に塗工
し、受像層を形成することが可能である。しかし、塗工
作業の作業性を向上させるためには、樹脂組成物を溶解
し得る溶剤、たとえばエチルアルコール、メチルエチル
ケトン、トルエン、酢酸エチル、ジメチルホルムアミ
ド、テトラヒドロフラン等の溶剤を配合して適当な塗工
粘度に調整して行った方が好ましい。これにより、スプ
レーコート、カーテンコート、フローコート、ディップ
コートなどを容易に行うことができる。なお、これらの
溶剤を配合する場合には、樹脂組成物を塗布後に溶剤を
揮散、乾燥させる必要がある。
【0024】受像層は、膜厚が0.5〜100μm、好
ましくは1〜50μmになるように形成することが望ま
しい。0.5μm未満では高い記録濃度が得られない。
また、本発明の被記録体は、受像層と基材との間に、易
接着層、帯電防止層、白度向上層、あるいはこれらの機
能を複合した複合層などの層を設けてもよい。さらに本
発明の被記録体は、受像層と反対の面に、帯電防止、汚
染防止、滑性付与、筆記性付与などの処理を施すことも
できる。
ましくは1〜50μmになるように形成することが望ま
しい。0.5μm未満では高い記録濃度が得られない。
また、本発明の被記録体は、受像層と基材との間に、易
接着層、帯電防止層、白度向上層、あるいはこれらの機
能を複合した複合層などの層を設けてもよい。さらに本
発明の被記録体は、受像層と反対の面に、帯電防止、汚
染防止、滑性付与、筆記性付与などの処理を施すことも
できる。
【0025】
【実施例】以下、実施例を用いて本発明をさらに詳細に
説明する。 実施例1 アート紙(厚さ85μm)の片面に、白色ポリエステル
フィルム(ダイアホイル社製:W900、厚さ38μ
m)を、もう片方の面に、白色ポリプロピレン紙(王子
油化製:ユポFPG、厚さ60μm)をラミネートして
基材を得た。接着剤は、東洋モートン製AD−577−
1とCAT−52を使用した。得られた基材の白色ポリ
エステルフィルム面に、下記の受像層用塗布液を浸漬法
により均一に塗布し、溶剤を揮散させたのち、高圧水銀
灯により紫外線を照射して、膜厚5〜6μmの受像層を
形成し被記録体を得た。
説明する。 実施例1 アート紙(厚さ85μm)の片面に、白色ポリエステル
フィルム(ダイアホイル社製:W900、厚さ38μ
m)を、もう片方の面に、白色ポリプロピレン紙(王子
油化製:ユポFPG、厚さ60μm)をラミネートして
基材を得た。接着剤は、東洋モートン製AD−577−
1とCAT−52を使用した。得られた基材の白色ポリ
エステルフィルム面に、下記の受像層用塗布液を浸漬法
により均一に塗布し、溶剤を揮散させたのち、高圧水銀
灯により紫外線を照射して、膜厚5〜6μmの受像層を
形成し被記録体を得た。
【0026】 受像層用塗布液 テレフタル酸/イソフタル酸/エチレングリコール/ネオペンチルグリコールを 縮重合させたポリエステル樹脂(分子量15000〜20000、ガラス転移温 度67℃) 20重量部 テレフタル酸/イソフタル酸/セバシン酸/エチレングリコール/ネオペンチル グリコール/1,4−ブタンジオールを縮重合させたポリエステル樹脂(分子量 18000〜20000、ガラス転移温度47℃) 50重量部 カヤラッドDPHA(日本化薬製) 15重量部 2,2−ビス(4−アクリロイルオキシジエトキシフェニル)プロパン 15重量部 1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン 3重量部 前記構造式で表される酸化防止剤(旭電化工業製:アデカスタブC) 8.0重量部 2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノン 4.8重量部 ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート 4.8重量部 下記構造式(2)で表されるシリコン系界面活性剤 0.5重量部 メチルエチルケトン 500重量部 トルエン 100重量部
【0027】
【化4】
【0028】得られた被記録体は、松下電器製ビデオプ
リンターNV−MP1用カラーシートVW−VS100
のシアン色を用い、京セラ製サーマルヘッド(950
Ω,6ドット/mm)によって、記録電圧13V、パル
ス幅10msecの条件で印字を行った。そして記録画
像をキセノンロングライフフェードメーター(スガ試験
機製:FAL−25AX型)を用いて72時間暴露し、
暴露前後の色差(ΔE)を測定した。結果を表1に示
す。
リンターNV−MP1用カラーシートVW−VS100
のシアン色を用い、京セラ製サーマルヘッド(950
Ω,6ドット/mm)によって、記録電圧13V、パル
ス幅10msecの条件で印字を行った。そして記録画
像をキセノンロングライフフェードメーター(スガ試験
機製:FAL−25AX型)を用いて72時間暴露し、
暴露前後の色差(ΔE)を測定した。結果を表1に示
す。
【0029】実施例2 実施例1における酸化防止剤に代えて、前記構造式で
表される酸化防止剤(城北化学製:JPM−311)
8.0重量部を用いた以外は実施例1と同様にして被記
録体を得た。得られた被記録体は、実施例1と同様にし
てΔEを測定した。結果を表1に示す。
表される酸化防止剤(城北化学製:JPM−311)
8.0重量部を用いた以外は実施例1と同様にして被記
録体を得た。得られた被記録体は、実施例1と同様にし
てΔEを測定した。結果を表1に示す。
【0030】実施例3 実施例1における酸化防止剤に代えて、前記構造式で
表される酸化防止剤(城北化学製:JPM−313)
8.0重量部を用いた以外は実施例1と同様にして被記
録体を得た。得られた被記録体は、実施例1と同様にし
てΔEを測定した。結果を表1に示す。
表される酸化防止剤(城北化学製:JPM−313)
8.0重量部を用いた以外は実施例1と同様にして被記
録体を得た。得られた被記録体は、実施例1と同様にし
てΔEを測定した。結果を表1に示す。
【0031】実施例4 実施例1における酸化防止剤に代えて、前記構造式で
表される酸化防止剤(城北化学製:JPP−100)
8.0重量部を用いた以外は実施例1と同様にして被記
録体を得た。得られた被記録体は、実施例1と同様にし
てΔEを測定した。結果を表1に示す。
表される酸化防止剤(城北化学製:JPP−100)
8.0重量部を用いた以外は実施例1と同様にして被記
録体を得た。得られた被記録体は、実施例1と同様にし
てΔEを測定した。結果を表1に示す。
【0032】実施例5 実施例1における酸化防止剤の使用量を1.6重量部に
した以外は実施例1と同様にして被記録体を得た。得ら
れた被記録体は、実施例1と同様にしてΔEを測定し
た。結果を表1に示す。
した以外は実施例1と同様にして被記録体を得た。得ら
れた被記録体は、実施例1と同様にしてΔEを測定し
た。結果を表1に示す。
【0033】実施例6 実施例1における酸化防止剤の使用量を3.2重量部に
した以外は実施例1と同様にして被記録体を得た。得ら
れた被記録体は、実施例1と同様にしてΔEを測定し
た。結果を表1に示す。
した以外は実施例1と同様にして被記録体を得た。得ら
れた被記録体は、実施例1と同様にしてΔEを測定し
た。結果を表1に示す。
【0034】実施例7 実施例1における酸化防止剤の使用量を13.0重量部
にした以外は実施例1と同様にして被記録体を得た。得
られた被記録体は、実施例1と同様にしてΔEを測定し
た。結果を表1に示す。
にした以外は実施例1と同様にして被記録体を得た。得
られた被記録体は、実施例1と同様にしてΔEを測定し
た。結果を表1に示す。
【0035】実施例8 実施例1で使用した基材の白色ポリエステルフィルム面
に、下記の受像層用塗布液を浸漬法により均一に塗布
し、溶剤を揮散させたのち、100℃で2時間加熱し
て、膜厚5〜6μmの受像層を形成し被記録体を得た。
すなわち、本実施例8の受像層は熱で硬化させたもので
ある。 受像層用塗布液 テレフタル酸/イソフタル酸/エチレングリコール/ネオペンチルグリコールを 縮重合させたポリエステル樹脂(分子量15000〜20000、ガラス転移温 度67℃) 24重量部 テレフタル酸/イソフタル酸/セバシン酸/エチレングリコール/ネオペンチル グリコール/1,4−ブタンジオールを縮重合させたポリエステル樹脂(分子量 18000〜20000、ガラス転移温度47℃) 60重量部 アミノ変性シリコーンオイル(信越シリコーン製:KF−393) 8重量部 エポキシ変性シリコーンオイル(信越シリコーン製:X−22−343) 8重量部 前記構造式で表される酸化防止剤(旭電化工業製:アデカスタブC) 11.3重量部 メチルエチルケトン 300重量部 トルエン 300重量部 得られた被記録体は、実施例1と同様にしてΔEを測定
した。結果を表1に示す。
に、下記の受像層用塗布液を浸漬法により均一に塗布
し、溶剤を揮散させたのち、100℃で2時間加熱し
て、膜厚5〜6μmの受像層を形成し被記録体を得た。
すなわち、本実施例8の受像層は熱で硬化させたもので
ある。 受像層用塗布液 テレフタル酸/イソフタル酸/エチレングリコール/ネオペンチルグリコールを 縮重合させたポリエステル樹脂(分子量15000〜20000、ガラス転移温 度67℃) 24重量部 テレフタル酸/イソフタル酸/セバシン酸/エチレングリコール/ネオペンチル グリコール/1,4−ブタンジオールを縮重合させたポリエステル樹脂(分子量 18000〜20000、ガラス転移温度47℃) 60重量部 アミノ変性シリコーンオイル(信越シリコーン製:KF−393) 8重量部 エポキシ変性シリコーンオイル(信越シリコーン製:X−22−343) 8重量部 前記構造式で表される酸化防止剤(旭電化工業製:アデカスタブC) 11.3重量部 メチルエチルケトン 300重量部 トルエン 300重量部 得られた被記録体は、実施例1と同様にしてΔEを測定
した。結果を表1に示す。
【0036】比較例1 実施例1において、酸化防止剤を用いなかった以外は実
施例1と同様にして被記録体を得た。得られた被記録体
は、実施例1と同様にしてΔEを測定した。結果を表1
に示す。
施例1と同様にして被記録体を得た。得られた被記録体
は、実施例1と同様にしてΔEを測定した。結果を表1
に示す。
【0037】比較例2 実施例1における酸化防止剤に代えて、下記構造式
(A)で表される酸化防止剤(旭電化工業製:アデカス
タブAO−75)8.0重量部を用いた以外は実施例1
と同様にして被記録体を得た。得られた被記録体は、実
施例1と同様にしてΔEを測定した。結果を表1に示
す。
(A)で表される酸化防止剤(旭電化工業製:アデカス
タブAO−75)8.0重量部を用いた以外は実施例1
と同様にして被記録体を得た。得られた被記録体は、実
施例1と同様にしてΔEを測定した。結果を表1に示
す。
【0038】
【化5】
【0039】比較例3 実施例1における酸化防止剤に代えて、下記構造式
(B)で表される酸化防止剤(住友化学工業製:スミラ
イザーBP−101)8.0重量部を用いた以外は実施
例1と同様にして被記録体を得た。得られた被記録体
は、実施例1と同様にしてΔEを測定した。結果を表1
に示す。
(B)で表される酸化防止剤(住友化学工業製:スミラ
イザーBP−101)8.0重量部を用いた以外は実施
例1と同様にして被記録体を得た。得られた被記録体
は、実施例1と同様にしてΔEを測定した。結果を表1
に示す。
【0040】
【化6】
【0041】比較例4 実施例1における酸化防止剤に代えて、下記構造式
(C)で表される酸化防止剤(住友化学工業製:スミラ
イザーTNP)8.0重量部を用いた以外は実施例1と
同様にして被記録体を得た。得られた被記録体は、実施
例1と同様にしてΔEを測定した。結果を表1に示す。
(C)で表される酸化防止剤(住友化学工業製:スミラ
イザーTNP)8.0重量部を用いた以外は実施例1と
同様にして被記録体を得た。得られた被記録体は、実施
例1と同様にしてΔEを測定した。結果を表1に示す。
【0042】
【化7】
【0043】比較例5 実施例1における酸化防止剤に代えて、下記構造式
(D)で表される酸化防止剤(住友化学工業製:スミラ
イザーTPP−R)8.0重量部を用いた以外は実施例
1と同様にして被記録体を得た。得られた被記録体は、
実施例1と同様にしてΔEを測定した。結果を表1に示
す。
(D)で表される酸化防止剤(住友化学工業製:スミラ
イザーTPP−R)8.0重量部を用いた以外は実施例
1と同様にして被記録体を得た。得られた被記録体は、
実施例1と同様にしてΔEを測定した。結果を表1に示
す。
【0044】
【化8】
【0045】比較例6 実施例1における酸化防止剤に代えて、下記構造式
(E)で表される酸化防止剤(住友化学工業製:スミラ
イザーP−16)8.0重量部を用いた以外は実施例1
と同様にして被記録体を得た。得られた被記録体は、実
施例1と同様にしてΔEを測定した。結果を表1に示
す。
(E)で表される酸化防止剤(住友化学工業製:スミラ
イザーP−16)8.0重量部を用いた以外は実施例1
と同様にして被記録体を得た。得られた被記録体は、実
施例1と同様にしてΔEを測定した。結果を表1に示
す。
【0046】
【化9】
【0047】比較例7 実施例1における酸化防止剤に代えて、下記構造式
(F)で表される酸化防止剤(堺化学工業製:Chel
ex−PC)8.0重量部を用いた以外は実施例1と同
様にして被記録体を得た。得られた被記録体は、実施例
1と同様にしてΔEを測定した。結果を表1に示す。
(F)で表される酸化防止剤(堺化学工業製:Chel
ex−PC)8.0重量部を用いた以外は実施例1と同
様にして被記録体を得た。得られた被記録体は、実施例
1と同様にしてΔEを測定した。結果を表1に示す。
【0048】
【化10】
【0049】比較例8 実施例1における酸化防止剤に代えて、下記構造式
(G)で表される酸化防止剤(旭電化工業製:アデカス
タブPEP−4C)8.0重量部を用いた以外は実施例
1と同様にして被記録体を得た。得られた被記録体は、
実施例1と同様にしてΔEを測定した。結果を表1に示
す。
(G)で表される酸化防止剤(旭電化工業製:アデカス
タブPEP−4C)8.0重量部を用いた以外は実施例
1と同様にして被記録体を得た。得られた被記録体は、
実施例1と同様にしてΔEを測定した。結果を表1に示
す。
【0050】
【化11】
【0051】比較例9 実施例1における酸化防止剤に代えて、下記構造式
(H)で表される酸化防止剤(旭電化工業製:アデカス
タブ3010)8.0重量部を用いた以外は実施例1と
同様にして被記録体を得た。得られた被記録体は、実施
例1と同様にしてΔEを測定した。結果を表1に示す。
(H)で表される酸化防止剤(旭電化工業製:アデカス
タブ3010)8.0重量部を用いた以外は実施例1と
同様にして被記録体を得た。得られた被記録体は、実施
例1と同様にしてΔEを測定した。結果を表1に示す。
【0052】
【化12】
【0053】
【表1】
【0054】表1の結果から明らかなように、実施例の
ものは、フェードメータによる暴露の前後の色差が比較
例のものに比べて小さくなっており、記録画像の耐光性
が向上していることがわかる。
ものは、フェードメータによる暴露の前後の色差が比較
例のものに比べて小さくなっており、記録画像の耐光性
が向上していることがわかる。
【0055】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
受像層に特定の構造を有するホスファイト系酸化防止剤
を含有させることにより、耐光性が優れた昇華型感熱転
写記録方式の被記録体を得ることができる。この被記録
体に記録された画像は、光による退色、変色が極めて少
なく、ビデオプリンターなどの普及に大きく寄与するも
のである。
受像層に特定の構造を有するホスファイト系酸化防止剤
を含有させることにより、耐光性が優れた昇華型感熱転
写記録方式の被記録体を得ることができる。この被記録
体に記録された画像は、光による退色、変色が極めて少
なく、ビデオプリンターなどの普及に大きく寄与するも
のである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 寿福 和彦 広島県大竹市御幸町20番1号 三菱レイヨ ン株式会社中央研究所内 (72)発明者 上田 昭史 広島県大竹市御幸町20番1号 三菱レイヨ ン株式会社中央研究所内
Claims (1)
- 【請求項1】 基材表面に、下記一般式(1)で示され
るホスファイト系酸化防止剤の少なくとも一種を含有す
る樹脂組成物からなる受像層を形成したことを特徴とす
る昇華型感熱転写記録方式の被記録体。 【化1】 (但し、一般式(1)において、 R1 ,R2 ,R3 ,R4 はH、炭素数1〜20のアルキ
ル基、 AはH、1〜10個の炭素を主骨格とする原子団、 n=1,2,3,4である。)
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CA 2090747 CA2090747A1 (en) | 1992-02-27 | 1993-02-24 | Recording medium for sublimation type heat-sensitive transfer recording process |
US08/022,296 US5326741A (en) | 1992-02-27 | 1993-02-25 | Recording medium for sublimation type heat-sensitive transfer recording process |
EP19930102958 EP0557990B1 (en) | 1992-02-27 | 1993-02-25 | Recording medium for sublimation type heat-sensitive transfer recording process |
DE69305389T DE69305389T2 (de) | 1992-02-27 | 1993-02-25 | Aufzeichnungsmedium und Verfahren für Sublimationsübertragungsaufzeichnung durch Wärme |
TW82101351A TW224069B (ja) | 1992-02-27 | 1993-02-25 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4-41742 | 1992-02-27 | ||
JP4174292 | 1992-02-27 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05301466A true JPH05301466A (ja) | 1993-11-16 |
Family
ID=12616883
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4286399A Withdrawn JPH05301466A (ja) | 1992-02-27 | 1992-10-23 | 昇華型感熱転写記録方式の被記録体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05301466A (ja) |
-
1992
- 1992-10-23 JP JP4286399A patent/JPH05301466A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000104 |