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JPH05299575A - Semiconductor device with built-in memory - Google Patents

Semiconductor device with built-in memory

Info

Publication number
JPH05299575A
JPH05299575A JP4097858A JP9785892A JPH05299575A JP H05299575 A JPH05299575 A JP H05299575A JP 4097858 A JP4097858 A JP 4097858A JP 9785892 A JP9785892 A JP 9785892A JP H05299575 A JPH05299575 A JP H05299575A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
memory
chip
semiconductor device
ram
rom
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4097858A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideharu Toyomoto
英晴 豊本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP4097858A priority Critical patent/JPH05299575A/en
Publication of JPH05299575A publication Critical patent/JPH05299575A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • H10W70/682
    • H10W72/884
    • H10W90/722
    • H10W90/734
    • H10W90/753
    • H10W90/754

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  • Microcomputers (AREA)
  • Dram (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 大容量のメモリを内蔵する半導体装置を提供
する。 【構成】 メモリ回路が形成されたRAM及びROMチ
ップ12,13と、演算回路が形成されたMPU11と
が同一パッケージ14に封止される。さらに、これらの
MPU11、RAMチップ12、ROMチップ13及び
外部リード17間が、パッケージ14内で必要に応じて
電気的に接続される。 【効果】 メモリ回路を有するメモリチップ(RAMチ
ップ及びROMチップ)を独立して設けたことにより、
メモリ容量の大容量化を図ることができる。
(57) [Abstract] [Purpose] To provide a semiconductor device including a large-capacity memory. [Configuration] RAM and ROM chips 12 and 13 having a memory circuit formed therein and an MPU 11 having an arithmetic circuit formed therein are sealed in the same package 14. Further, the MPU 11, the RAM chip 12, the ROM chip 13, and the external leads 17 are electrically connected to each other in the package 14 as needed. [Effect] By independently providing memory chips (RAM chips and ROM chips) having memory circuits,
It is possible to increase the memory capacity.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、メモリを内蔵した半
導体装置、特にRAM(=Random Access Memory )やR
OM(=Read Only Memory )などのメモリチップと、M
PU(=MicroProcessing Unit)が形成された演算チッ
プとが同一パッケージに封止されたメモリ内蔵半導体装
置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device having a built-in memory, particularly RAM (= Random Access Memory) and R.
A memory chip such as OM (= Read Only Memory) and M
The present invention relates to a semiconductor device with a built-in memory in which an arithmetic chip having a PU (= Micro Processing Unit) formed therein is sealed in the same package.

【0002】[0002]

【従来の技術】図8は、メモリを内蔵した半導体装置の
従来例を示す図である。ここでは、パッケージ内部の構
造の理解を助けるために、パッケージ上部を切り取った
状態を示している。
2. Description of the Related Art FIG. 8 is a diagram showing a conventional example of a semiconductor device having a built-in memory. Here, in order to help understanding of the internal structure of the package, the state in which the upper part of the package is cut away is shown.

【0003】このメモリ内蔵半導体装置では、同図に示
すように、パッケージ1にRAM回路2及びROM回路
3を内蔵するMPU4が封止されている。なお、MPU
4は演算回路(図示省略)を有するとともに、図示を省
略する配線によってRAM回路2及びROM回路3と電
気的に接続されている。
In this semiconductor device with a built-in memory, as shown in the figure, a package 1 is sealed with an MPU 4 containing a RAM circuit 2 and a ROM circuit 3. In addition, MPU
Reference numeral 4 has an arithmetic circuit (not shown), and is electrically connected to the RAM circuit 2 and the ROM circuit 3 by wiring not shown.

【0004】また、このMPU4の外周部にボンディン
グパッド5が設けられるとともに、それらボンディング
パッド5はそれぞれワイヤ6によってパッケージ1から
外部に伸びる外部リード7に電気的に接続されている。
このため、この半導体装置は外部リード7及びワイヤ6
を介して外部周辺回路などと電気的に接続されており、
電気信号などの授受を行う。
Bonding pads 5 are provided on the outer periphery of the MPU 4, and the bonding pads 5 are electrically connected to external leads 7 extending from the package 1 to the outside by wires 6, respectively.
Therefore, this semiconductor device has the external lead 7 and the wire 6
It is electrically connected to external peripheral circuits via
Send and receive electrical signals.

【0005】次に、上記のように構成されたメモリ内蔵
半導体装置の動作について説明する。この半導体装置に
外部より電源が新たに投入されるか、或いはリセット信
号が印加されると、MPU4は予め決められた番地を出
力する。この番地は通常MPU4に内蔵されたROM回
路3の番地であり、この番地出力によってROM回路3
に記録されているプログラムが実行開始される。また、
MPU4に内蔵されているRAM回路2には、上記プロ
グラムにしたがって処理された結果がデータとして格納
される。
Next, the operation of the semiconductor device with a built-in memory configured as described above will be described. When the semiconductor device is externally powered on or a reset signal is applied, the MPU 4 outputs a predetermined address. This address is usually the address of the ROM circuit 3 incorporated in the MPU 4, and the ROM circuit 3 is output by this address output.
The program recorded in is started to execute. Also,
The RAM circuit 2 built in the MPU 4 stores the result processed according to the program as data.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】従来のメモリ内蔵半導
体装置は以上のようにMPU4にRAM回路2及びRO
M回路3を内蔵している、つまり同一チップにRAM回
路2,ROM回路3及び演算回路を形成している。その
ため、設計上、RAM回路2及びROM回路3を形成す
る領域を大きくすることができず、その結果、RAM回
路2及びROM回路3のメモリ容量が比較的小さいもの
となってしまう。特に、MPU4を作動させるために必
要なメモリ容量が内蔵メモリ(RAM回路2および/ま
たはROM回路3)の容量よりも大きい場合には、容量
の大きいRAMおよび/またはROMを外部付加して不
足分のメモリ容量を補っている。この場合、メモリ素子
(ROM,RAMなど)を外付けした分だけ、実装面積
が大きくなってしまう。
In the conventional semiconductor device with a built-in memory, the MPU 4 has the RAM circuit 2 and the RO circuit as described above.
The M circuit 3 is built in, that is, the RAM circuit 2, the ROM circuit 3 and the arithmetic circuit are formed on the same chip. Therefore, the area where the RAM circuit 2 and the ROM circuit 3 are formed cannot be increased in design, and as a result, the memory capacity of the RAM circuit 2 and the ROM circuit 3 becomes relatively small. In particular, when the memory capacity required for operating the MPU 4 is larger than the capacity of the built-in memory (RAM circuit 2 and / or ROM circuit 3), a large capacity RAM and / or ROM is externally added to make up the shortage. To supplement the memory capacity of. In this case, the mounting area is increased by the amount of externally attached memory elements (ROM, RAM, etc.).

【0007】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、大容量のメモリを内蔵する半導
体装置を提供することを第1の目的とする。
The present invention has been made to solve the above problems, and a first object of the present invention is to provide a semiconductor device having a large capacity memory built therein.

【0008】また、上記第1の目的に加え、内蔵メモリ
半導体装置の小型化を図ることをこの発明の第2の目的
とする。
In addition to the first object, it is a second object of the present invention to downsize the built-in memory semiconductor device.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、上記
目的を達成するために、メモリ回路が形成されたメモリ
チップと、演算回路が形成された演算チップと、前記メ
モリチップと外部の間および/または前記演算チップと
外部の間で、電気信号の授受を行うための複数の外部リ
ードとを備え、前記メモリチップ及び前記演算チップを
同一パッケージに封止するとともに、それらメモリチッ
プ、演算チップ及び外部リードの間を、前記パッケージ
内で必要に応じて電気的に接続している。
In order to achieve the above object, the invention of claim 1 is a memory chip in which a memory circuit is formed, an arithmetic chip in which an arithmetic circuit is formed, and the memory chip and an external device. And / or a plurality of external leads for exchanging electrical signals between the arithmetic chip and the outside, the memory chip and the arithmetic chip are sealed in the same package, and the memory chip and the arithmetic The chip and the external leads are electrically connected in the package as needed.

【0010】請求項2の発明は、上記第2の目的を達成
するために、前記メモリチップを複数個備えており、そ
れらのメモリチップが相互に積層されるとともに、その
積層状態で前記複数のメモリチップが相互に電気的に接
続している。
According to a second aspect of the present invention, in order to achieve the second object, a plurality of the memory chips are provided, and the memory chips are laminated with each other and the plurality of the memory chips are laminated in the laminated state. The memory chips are electrically connected to each other.

【0011】請求項3の発明は、上記第2の目的を達成
するために、前記メモリチップが前記演算チップ上に積
層されるとともに、その積層状態で前記メモリチップと
前記演算チップとが電気的に接続している。
According to a third aspect of the invention, in order to achieve the second object, the memory chip is stacked on the arithmetic chip, and the memory chip and the arithmetic chip are electrically connected in the laminated state. Connected to.

【0012】[0012]

【作用】請求項1の発明では、メモリ回路及び演算回路
がそれぞれ異なる半導体チップ、すなわちメモリチップ
及び演算チップに形成される。そして、それらメモリチ
ップ及び演算チップが同一パッケージ内に封止されると
ともに、適当に電気的に接続される。このようにメモリ
回路を有するメモリチップを独立させることにより、メ
モリ容量の大容量化を図ることができる。また、メモリ
チップと演算チップとが同一パッケージ内に納められて
いるため、外付けのメモリ素子が不要となり、その結
果、実装時の面積が小さくなる。
According to the present invention, the memory circuit and the arithmetic circuit are formed on different semiconductor chips, that is, the memory chip and the arithmetic chip, respectively. Then, the memory chip and the arithmetic chip are sealed in the same package and appropriately electrically connected. By independently providing the memory chip having the memory circuit in this manner, the memory capacity can be increased. Moreover, since the memory chip and the arithmetic chip are housed in the same package, an external memory element is not required, and as a result, the area for mounting is reduced.

【0013】請求項2の発明では、複数のメモリチップ
が相互に積層されるとともに、その積層状態で相互に電
気的に接続されるので、上記請求項1の発明にかかる半
導体装置に比べて半導体装置の平面サイズがより小さく
なる。
According to the invention of claim 2, since a plurality of memory chips are stacked on each other and are electrically connected to each other in the stacked state, the semiconductor device is different from the semiconductor device according to the invention of claim 1 above. The planar size of the device is smaller.

【0014】請求項3の発明では、複数のメモリチップ
が相互に積層されるとともに、その積層状態で相互に電
気的に接続されるので、半導体装置の平面サイズを小さ
く保ちながら、メモリ容量を大きくすることができる。
According to the third aspect of the present invention, since a plurality of memory chips are stacked on each other and electrically connected to each other in the stacked state, the memory capacity is increased while keeping the planar size of the semiconductor device small. can do.

【0015】[0015]

【実施例】図1は、この発明にかかるメモリ内蔵半導体
装置の第1実施例を示す斜視図である。同図において
も、図8と同様に、半導体装置の構成の理解を助けるた
め、パッケージ上部を切り取った状態を示している。
1 is a perspective view showing a first embodiment of a semiconductor device with a built-in memory according to the present invention. Similar to FIG. 8, this figure also shows a state in which the upper part of the package is cut off to facilitate understanding of the configuration of the semiconductor device.

【0016】この半導体装置では、同図に示すように、
演算回路が形成されたMPU11と、RAM回路が形成
されたメモリチップ(以下「RAMチップ」という)1
2と、ROM回路が形成されたメモリチップ(以下「R
OMチップ」という)13が同一パッケージ14内に封
止されている。これらのMPU11,RAMチップ1
2,ROMチップ13にはそれぞれボンディングパッド
15が設けられており、またワイヤ16によってMPU
11がRAMチップ12及びROMチップ13と適当に
接続されている。さらに、MPU11,RAMチップ1
2,ROMチップ13は、ボンディングパッド15及び
ワイヤ16を介してパッケージ14から外部に伸びる外
部リード17とも電気的に接続されている。
In this semiconductor device, as shown in FIG.
An MPU 11 in which an arithmetic circuit is formed and a memory chip (hereinafter referred to as a “RAM chip”) in which a RAM circuit is formed 1
2 and a memory chip formed with a ROM circuit (hereinafter referred to as “R
An “OM chip” 13 is encapsulated in the same package 14. These MPU11, RAM chip 1
2. The ROM chip 13 is provided with the bonding pad 15 respectively, and the MPU is provided by the wire 16.
11 is properly connected to the RAM chip 12 and the ROM chip 13. Furthermore, MPU11, RAM chip 1
2. The ROM chip 13 is also electrically connected to the external lead 17 extending from the package 14 to the outside via the bonding pad 15 and the wire 16.

【0017】なお、上記のように構成された半導体装置
の動作については、従来例のそれと同一であるため、こ
こではその説明を省略する。
The operation of the semiconductor device configured as described above is the same as that of the conventional example, and therefore its description is omitted here.

【0018】以上のように、この発明にかかる半導体装
置では、メモリ回路として機能するRAM回路及びRO
M回路が、MPU11から分離独立して、それぞれRA
M及びROMチップ12,13上に形成されている。そ
のため、単にRAM及びROMチップ12,13のサイ
ズを大きくし、それらのRAM及びROMチップ12,
13に大容量のRAM回路及びROM回路を形成すれ
ば、半導体装置のメモリ容量を大幅にアップさせること
ができる。しかも、これらのRAM及びROMチップ1
2,13はMPU11と同一パッケージ14内に封止さ
れているので、メモリ容量を大きくするために半導体装
置にメモリ素子を外付けする必要がなくなり、その結
果、実装時の面積を小さくすることができる。
As described above, in the semiconductor device according to the present invention, the RAM circuit and the RO functioning as the memory circuit.
The M circuit is separated from the MPU 11 and is independent of each RA.
It is formed on the M and ROM chips 12, 13. Therefore, the sizes of the RAM and ROM chips 12, 13 are simply increased, and the RAM and ROM chips 12, 13 are increased.
If a large-capacity RAM circuit and ROM circuit are formed in 13, the memory capacity of the semiconductor device can be greatly increased. Moreover, these RAM and ROM chips 1
Since 2 and 13 are sealed in the same package 14 as the MPU 11, it is not necessary to attach a memory element to the semiconductor device in order to increase the memory capacity, and as a result, the mounting area can be reduced. it can.

【0019】なお、上記第1実施例では、MPU11,
RAMチップ12及びROMチップ13をワイヤボンデ
ィングによって電気的に接続する場合について説明した
が、接続方法はそれに限定されるものではなく、後述す
る実施例のようにしてもよく、上記第1実施例と同様の
効果を奏する。ただし、後述する半導体装置は、接続方
法を除いて、基本的構成及び動作について第1実施例と
同一であるので、それらについては省略する。
In the first embodiment, the MPU 11,
Although the case where the RAM chip 12 and the ROM chip 13 are electrically connected by wire bonding has been described, the connecting method is not limited to that, and may be performed as in an embodiment described later. Has the same effect. However, the semiconductor device described later has the same basic configuration and operation as those of the first embodiment except the connection method, and therefore the description thereof will be omitted.

【0020】図2は、この発明にかかるメモリ内蔵半導
体装置の第2実施例を示す平面図である。この半導体装
置では、MPU11,RAMチップ12及びROMチッ
プ13がTAB(=Tape Automated Bonding )によって
電気的に接続されている。すなわち、以下のようにし
て、上記接続が行われる。まず、フィルム18に予め配
線19を形成するとともに、MPU11,RAMチップ
12及びROMチップ13の電極にバンプ(図示省略)
を形成しておく。そして、フィルム18と各チップ(M
PU11,RAMチップ12及びROMチップ13)と
を位置合わせした後、バンプを配線19に接続する。
FIG. 2 is a plan view showing a second embodiment of the semiconductor device with a built-in memory according to the present invention. In this semiconductor device, the MPU 11, the RAM chip 12, and the ROM chip 13 are electrically connected by TAB (= Tape Automated Bonding). That is, the above connection is performed as follows. First, the wiring 19 is formed in advance on the film 18, and bumps (not shown) are formed on the electrodes of the MPU 11, the RAM chip 12 and the ROM chip 13.
Is formed. Then, the film 18 and each chip (M
After aligning the PU 11, the RAM chip 12, and the ROM chip 13), the bump is connected to the wiring 19.

【0021】図3は、この発明にかかるメモリ内蔵半導
体装置の第3実施例を示す斜視図である。この半導体装
置では、MPU11にバンプ20が形成されるととも
に、それらのバンプ20にRAMチップ12及びROM
チップ13の電極がそれぞれ接続されている。したがっ
て、同図に示すようにMPU11上にRAMチップ12
及びROMチップ13が積層された状態のままでMPU
11とRAM,ROMチップ12,13とが電気的に接
続される。そのため、第1実施例に比べてパッケージ1
4のサイズが小さくなり、実装面積をより小さくするこ
とができる。
FIG. 3 is a perspective view showing a third embodiment of the memory-embedded semiconductor device according to the present invention. In this semiconductor device, the bumps 20 are formed on the MPU 11, and the RAM chip 12 and the ROM are formed on the bumps 20.
The electrodes of the chip 13 are connected to each other. Therefore, as shown in FIG.
And MPU with the ROM chips 13 stacked
11 and the RAM and ROM chips 12 and 13 are electrically connected. Therefore, compared to the first embodiment, the package 1
The size of 4 can be reduced, and the mounting area can be further reduced.

【0022】また、バンプ20による接続の代わりに、
図4に示すように、スルーホール21を利用してもよ
い。すなわち、RAMチップ12及びROMチップ13
の電極15がそれぞれMPU11の電極15上に位置す
るようにRAM,ROMチップ12,13を配置される
とともに、各チップ12,13に貫通形成されたスルー
ホール21にアルミニューム(Al)などの金属を充填
することによってMPU11の電極15と電気的に接続
されている。
Further, instead of the connection by the bump 20,
As shown in FIG. 4, a through hole 21 may be used. That is, the RAM chip 12 and the ROM chip 13
The RAM and ROM chips 12 and 13 are arranged so that the electrodes 15 of each of them are located on the electrodes 15 of the MPU 11, respectively, and a metal such as aluminum (Al) is provided in the through hole 21 formed through each of the chips 12 and 13. Is electrically connected to the electrode 15 of the MPU 11.

【0023】また、スルーホール21の代わりに、図5
に示すように、拡散層22を利用することも可能であ
る。この場合、RAMチップ12では表面に形成された
電極15に対応して裏面側に電極23が形成されるとと
もに、これら電極15,23に挟まれた領域に適当な不
純物を拡散させてRAMチップ12の基板とは逆の導電
型の拡散層22が形成されている。また、ROMチップ
13についても、RAMチップ12と同様に、電極1
5,23に挟まれた領域に逆導電型の拡散層22が形成
されている。一方、MPU11では、電極15上にバン
プ24が設けられている。そして、バンプ24に各電極
23を接続することによって、MPU11上にRAMチ
ップ12及びROMチップ13が積層された状態のまま
で、MPU11とRAM,ROMチップ12,13とが
電気的に接続される。
Further, instead of the through hole 21, FIG.
It is also possible to utilize the diffusion layer 22 as shown in FIG. In this case, in the RAM chip 12, an electrode 23 is formed on the back surface side corresponding to the electrode 15 formed on the front surface, and appropriate impurities are diffused in the region sandwiched between these electrodes 15 and 23 to make the RAM chip 12 A diffusion layer 22 having a conductivity type opposite to that of the substrate is formed. The ROM chip 13 also has the same electrode 1 as the RAM chip 12.
A diffusion layer 22 of the opposite conductivity type is formed in a region sandwiched by 5, 23. On the other hand, in the MPU 11, the bump 24 is provided on the electrode 15. Then, by connecting the electrodes 23 to the bumps 24, the MPU 11 and the RAM and ROM chips 12 and 13 are electrically connected while the RAM chip 12 and the ROM chip 13 are stacked on the MPU 11. ..

【0024】上記実施例では、RAMチップ12及びR
OMチップ13をそれぞれMPU11に積層する場合に
ついて説明したが、RAMチップ12上にROMチップ
13を積層させて積層型のメモリチップ30を形成し
(図6)、そのメモリチップ30とMPU11を、第1
実施例と同様に、同一パッケージ14に封止するように
してもよい。すなわち、図6に示すように、RAMチッ
プ12の電極15上にバンプ25を形成し、さらにその
バンプ25にROMチップ13の電極15を接続するこ
とによって、メモリチップ30が形成されている。な
お、MPU11,メモリチップ30及び外部リード17
は、図7に示すように、ワイヤ16により相互に電気的
に接続されている。このように、RAMチップ12とR
OMチップ13とを積層させることによって、メモリチ
ップ(RAM,ROMチップ)の平面サイズが第1実施
例のそれより小さくなる。
In the above embodiment, the RAM chips 12 and R
The case where the OM chips 13 are stacked on the MPU 11 has been described, but the ROM chip 13 is stacked on the RAM chip 12 to form a stacked memory chip 30 (FIG. 6), and the memory chip 30 and the MPU 11 are 1
Similar to the embodiment, they may be sealed in the same package 14. That is, as shown in FIG. 6, the bumps 25 are formed on the electrodes 15 of the RAM chip 12, and the electrodes 15 of the ROM chip 13 are connected to the bumps 25 to form the memory chip 30. The MPU 11, the memory chip 30, and the external leads 17
Are electrically connected to each other by wires 16 as shown in FIG. In this way, the RAM chip 12 and the R
By stacking with the OM chip 13, the plane size of the memory chip (RAM, ROM chip) becomes smaller than that of the first embodiment.

【0025】なお、上記実施例では、RAMチップ12
及びROMチップ13を備えたメモリ内蔵半導体装置に
ついて説明したが、少なくとも1つ以上のメモリチップ
を有する半導体装置全般に本発明を適用することができ
る。
In the above embodiment, the RAM chip 12
Although the semiconductor device with a built-in memory including the ROM chip 13 has been described, the present invention can be applied to general semiconductor devices including at least one or more memory chips.

【0026】[0026]

【発明の効果】以上のように、請求項1の発明によれ
ば、メモリ回路及び演算回路をそれぞれメモリチップ及
び演算チップに形成し、それらメモリチップ及び演算チ
ップを同一パッケージ内に封止し、さらに適当に電気的
に接続しているので、メモリ容量の大容量化を図ること
ができる。
As described above, according to the invention of claim 1, the memory circuit and the arithmetic circuit are formed in the memory chip and the arithmetic chip, respectively, and the memory chip and the arithmetic chip are sealed in the same package, Further, since the electric connection is made appropriately, the memory capacity can be increased.

【0027】また、請求項2の発明によれば、複数のメ
モリチップを相互に積層するとともに、その積層状態で
相互に電気的に接続しているので、上記請求項1の発明
にかかる半導体装置に比べて半導体装置の平面サイズを
より小さくすることができ、半導体装置を小型化するこ
とができる。
According to the invention of claim 2, since a plurality of memory chips are stacked on each other and are electrically connected to each other in the stacked state, the semiconductor device according to the invention of claim 1 above. The semiconductor device can be downsized, and the semiconductor device can be miniaturized.

【0028】さらに、請求項3の発明によれば、複数の
メモリチップを相互に積層するとともに、その積層状態
で相互に電気的に接続しているので、半導体装置を大型
化させることなく、メモリ容量を大きくすることができ
る。
Further, according to the third aspect of the present invention, since the plurality of memory chips are stacked on each other and are electrically connected to each other in the stacked state, the memory can be formed without increasing the size of the semiconductor device. The capacity can be increased.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明にかかるメモリ内蔵半導体装置の第1
実施例を示す斜視図である。
FIG. 1 is a first semiconductor device with a built-in memory according to the present invention.
It is a perspective view showing an example.

【図2】この発明にかかるメモリ内蔵半導体装置の第2
実施例を示す平面図である。
FIG. 2 shows a second semiconductor device with a built-in memory according to the present invention.
It is a top view showing an example.

【図3】この発明にかかるメモリ内蔵半導体装置の第3
実施例を示す斜視図である。
FIG. 3 is a third semiconductor device with a built-in memory according to the present invention.
It is a perspective view showing an example.

【図4】この発明にかかるメモリ内蔵半導体装置の第4
実施例を示す断面図である。
FIG. 4 is a fourth semiconductor device with a built-in memory according to the present invention.
It is sectional drawing which shows an Example.

【図5】この発明にかかるメモリ内蔵半導体装置の第5
実施例を示す断面図である。
FIG. 5 is a fifth semiconductor device with a built-in memory according to the present invention.
It is sectional drawing which shows an Example.

【図6】この発明にかかるメモリ内蔵半導体装置の第6
実施例を示す部分断面図である。
FIG. 6 is a sixth semiconductor memory device according to the present invention.
It is a fragmentary sectional view showing an example.

【図7】この発明にかかるメモリ内蔵半導体装置の第6
実施例を示す斜視図である。
FIG. 7 is a sixth semiconductor device with a built-in memory according to the present invention.
It is a perspective view showing an example.

【図8】従来のメモリ内蔵メモリ内蔵半導体装置を示す
斜視図である。
FIG. 8 is a perspective view showing a conventional semiconductor device with a built-in memory.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 MPU 12 RAMチップ 13 ROMチップ 14 パッケージ 17 外部リード 11 MPU 12 RAM chip 13 ROM chip 14 Package 17 External lead

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 メモリ回路が形成されたメモリチップ
と、 演算回路が形成された演算チップと、 前記メモリチップと外部の間および/または前記演算チ
ップと外部の間で、電気信号の授受を行うための複数の
外部リードとを備え、 前記メモリチップ及び前記演算チップを同一パッケージ
に封止するとともに、それらメモリチップ、演算チップ
及び外部リードの間を、前記パッケージ内で必要に応じ
て電気的に接続したことを特徴とするメモリ内蔵半導体
装置。
1. A memory chip in which a memory circuit is formed, an arithmetic chip in which an arithmetic circuit is formed, and an electric signal is exchanged between the memory chip and the outside and / or between the arithmetic chip and the outside. A plurality of external leads for encapsulating the memory chip and the arithmetic chip in the same package, and electrically between the memory chip, the arithmetic chip, and the external leads in the package as needed. A semiconductor device with a built-in memory characterized by being connected.
【請求項2】 前記メモリチップを複数個備えており、
それらのメモリチップが相互に積層されるとともに、そ
の積層状態で前記複数のメモリチップが相互に電気的に
接続された請求項1記載のメモリ内蔵半導体装置。
2. A plurality of the memory chips are provided,
2. The memory-embedded semiconductor device according to claim 1, wherein the memory chips are stacked on each other, and the plurality of memory chips are electrically connected to each other in the stacked state.
【請求項3】 前記メモリチップが前記演算チップ上に
積層されるとともに、その積層状態で前記メモリチップ
と前記演算チップとが電気的に接続された請求項1記載
のメモリ内蔵半導体装置。
3. The semiconductor device with a built-in memory according to claim 1, wherein the memory chip is laminated on the arithmetic chip, and the memory chip and the arithmetic chip are electrically connected in the laminated state.
JP4097858A 1992-04-17 1992-04-17 Semiconductor device with built-in memory Pending JPH05299575A (en)

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