JPH05273901A - 反射型ホログラムの複製方法 - Google Patents
反射型ホログラムの複製方法Info
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- JPH05273901A JPH05273901A JP4101747A JP10174792A JPH05273901A JP H05273901 A JPH05273901 A JP H05273901A JP 4101747 A JP4101747 A JP 4101747A JP 10174792 A JP10174792 A JP 10174792A JP H05273901 A JPH05273901 A JP H05273901A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/04—Processes or apparatus for producing holograms
- G03H1/20—Copying holograms by holographic, i.e. optical means
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 反射型ホログラム光学素子(HOE)の原板
11にレーザーを照射し、正反射光23と反射回折光2
5とを感光層上で重ね合わせ、高精度かつ簡単に反射型
HOEを複写する。シリンドリカル面等の非球面波用H
OEの複写に好適。 【構成】 反射型HOEの原版11にレーザーからの平
行光束21を照射し、原版11からの正反射光23と反
射回折光25の2つの反射光を生成せしめる。正反射光
23を反射鏡31で反射させて、反射回折光25と複写
用基体41の感光層上で重ね合わせて干渉せしめ、形成
された干渉縞の強度パターンを感光層上に記録し、原版
11の反射型格子パターンを複写する。
11にレーザーを照射し、正反射光23と反射回折光2
5とを感光層上で重ね合わせ、高精度かつ簡単に反射型
HOEを複写する。シリンドリカル面等の非球面波用H
OEの複写に好適。 【構成】 反射型HOEの原版11にレーザーからの平
行光束21を照射し、原版11からの正反射光23と反
射回折光25の2つの反射光を生成せしめる。正反射光
23を反射鏡31で反射させて、反射回折光25と複写
用基体41の感光層上で重ね合わせて干渉せしめ、形成
された干渉縞の強度パターンを感光層上に記録し、原版
11の反射型格子パターンを複写する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ホログラム光学素子な
どとして用いられる反射型ホログラムを複製する方法に
関する。
どとして用いられる反射型ホログラムを複製する方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】ホログラムは、光の入射により回折格子
パターンに応じた回折光を発生することから、レンズ、
プリズム等と同様の機能を有する光学素子と考えること
ができる。このようなホログラム光学素子(HOE)と
しては、正弦波格子やホログラフィーレンズなどが知ら
れており、例えば、干渉法による球面、非球面等の面形
状の測定においては、計算機ホログラムを用いて被検面
の理想形状と同じ波面を再生するホログラム光学素子を
作成し、これを従来の干渉原器の代りに用いる干渉測定
法が提案されている(精密工学会誌、vol.56,N
o.4,p745(1890))。シリンドリカル面等
の非球面においては、光学ガラスの研磨により従来の干
渉原器を高精度に作成することが困難であるが、計算機
ホログラムによれば、このような非球面波を発生させる
ホログラム光学素子を精度良く作成することができる。
パターンに応じた回折光を発生することから、レンズ、
プリズム等と同様の機能を有する光学素子と考えること
ができる。このようなホログラム光学素子(HOE)と
しては、正弦波格子やホログラフィーレンズなどが知ら
れており、例えば、干渉法による球面、非球面等の面形
状の測定においては、計算機ホログラムを用いて被検面
の理想形状と同じ波面を再生するホログラム光学素子を
作成し、これを従来の干渉原器の代りに用いる干渉測定
法が提案されている(精密工学会誌、vol.56,N
o.4,p745(1890))。シリンドリカル面等
の非球面においては、光学ガラスの研磨により従来の干
渉原器を高精度に作成することが困難であるが、計算機
ホログラムによれば、このような非球面波を発生させる
ホログラム光学素子を精度良く作成することができる。
【0003】しかし、ホログラム光学素子は比較的大面
積のものが要求されるため、コンピュータ計算に基づい
た電子ビーム描画による計算機ホログラムで作成したの
では、製造コストが高くなり、製造ライン等における干
渉計でも使用可能な安価ものは得られない。
積のものが要求されるため、コンピュータ計算に基づい
た電子ビーム描画による計算機ホログラムで作成したの
では、製造コストが高くなり、製造ライン等における干
渉計でも使用可能な安価ものは得られない。
【0004】従来のホログラムの複写方法としては、図
4に示すように、透明基板53上に格子パターン55が
形成されたホログラム光学素子の原版51を、感光層6
5を有する複写用基体61上にマスクとして重ね、上部
から光照射して感光層65を選択的に露光し、原版51
の格子パターン55を複写用基体61に複写する方法が
知られている。しかしこの方法は、原版51の透明基板
53の不均一性などに基づくノイズが多く発生し、得ら
れる複製ホログラム光学素子の精度の点で問題があっ
た。
4に示すように、透明基板53上に格子パターン55が
形成されたホログラム光学素子の原版51を、感光層6
5を有する複写用基体61上にマスクとして重ね、上部
から光照射して感光層65を選択的に露光し、原版51
の格子パターン55を複写用基体61に複写する方法が
知られている。しかしこの方法は、原版51の透明基板
53の不均一性などに基づくノイズが多く発生し、得ら
れる複製ホログラム光学素子の精度の点で問題があっ
た。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、高精度に、
かつ簡便に複製物の製造が可能な反射型ホログラムの複
製方法を提供するものである。
かつ簡便に複製物の製造が可能な反射型ホログラムの複
製方法を提供するものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の反射型ホログラ
ムの複製方法は、反射型ホログラムの原版にコヒーレン
ト光を照射し、原版からの正反射光と反射回折光との2
つの反射光束を生成せしめ、正反射光を平面反射板で反
射させて感光層上で反射回折光と重ね合わせて干渉せし
め、形成された干渉縞の強度パターンを感光層により記
録して、原版の干渉格子パターンを複写することを特徴
とする。
ムの複製方法は、反射型ホログラムの原版にコヒーレン
ト光を照射し、原版からの正反射光と反射回折光との2
つの反射光束を生成せしめ、正反射光を平面反射板で反
射させて感光層上で反射回折光と重ね合わせて干渉せし
め、形成された干渉縞の強度パターンを感光層により記
録して、原版の干渉格子パターンを複写することを特徴
とする。
【0007】
【実施例】本発明の反射型ホログラムの原版としては、
所定の反射率を有するクロム、アルミニウム等の薄膜か
らなる格子パターンをガラス等の基板上に形成したもの
を用いることができる。このような原版は、例えば、従
来の計算機ホログラム等で作成することができ、また、
これを原版として複製したものを新たな原版として用い
ることもできる。
所定の反射率を有するクロム、アルミニウム等の薄膜か
らなる格子パターンをガラス等の基板上に形成したもの
を用いることができる。このような原版は、例えば、従
来の計算機ホログラム等で作成することができ、また、
これを原版として複製したものを新たな原版として用い
ることもできる。
【0008】特に、本発明は、シリンドリカル面等の非
球面と同様の作用をし、入射する平行光束(平面波)に対
して、反射回折光としてシリンドリカル光等の非球面波
を出射するホログラム光学素子の複製に好適である。図
1はこのような反射型ホログラム光学素子11の一例を
示す断面図であり、ガラス基板13の表面にクロムから
なる格子パターン15が形成されている。格子パターン
15は、紙面に対して鉛直方向に所定ピッチで平行の格
子が延びている。
球面と同様の作用をし、入射する平行光束(平面波)に対
して、反射回折光としてシリンドリカル光等の非球面波
を出射するホログラム光学素子の複製に好適である。図
1はこのような反射型ホログラム光学素子11の一例を
示す断面図であり、ガラス基板13の表面にクロムから
なる格子パターン15が形成されている。格子パターン
15は、紙面に対して鉛直方向に所定ピッチで平行の格
子が延びている。
【0009】この反射型ホログラム光学素子11に平行
光束21が入射すると、正反射光23と格子パターン1
5に基づく一次の反射回折光25が出射する。反射回折
光25の回折角θとピッチ幅Pとの間には、平行光束の
入射角をαとしたとき、P・(sinα−sinθ)=
λ(λ:入射光の波長)の関係があるので、格子パター
ン15のピッチ幅を設計計算値に基づいてP1からP2に
変化させることにより、回折角θの大きさがθ1からθ2
まで変化し、あたかもシリンドリカル面で反射したよう
な反射回折光25が得られる。
光束21が入射すると、正反射光23と格子パターン1
5に基づく一次の反射回折光25が出射する。反射回折
光25の回折角θとピッチ幅Pとの間には、平行光束の
入射角をαとしたとき、P・(sinα−sinθ)=
λ(λ:入射光の波長)の関係があるので、格子パター
ン15のピッチ幅を設計計算値に基づいてP1からP2に
変化させることにより、回折角θの大きさがθ1からθ2
まで変化し、あたかもシリンドリカル面で反射したよう
な反射回折光25が得られる。
【0010】この反射型ホログラム光学素子11を原版
として図2のように配置し、平行光束21(レーザ光)
を格子パターン15の形成面に照射すると、シリンドリ
カル光である反射回折光25と正反射光23が反射され
る。平面波である正反射光23は平面鏡31で反射し
て、複写用基体41に照射される。一方、反射回折光2
5は、焦点で収束して再び発散し複写用基体41上で正
反射光23と重ね合わされて干渉し、原版である反射型
ホログラム光学素子11の格子パターン15と同じ干渉
縞の強度パターンを形成する。
として図2のように配置し、平行光束21(レーザ光)
を格子パターン15の形成面に照射すると、シリンドリ
カル光である反射回折光25と正反射光23が反射され
る。平面波である正反射光23は平面鏡31で反射し
て、複写用基体41に照射される。一方、反射回折光2
5は、焦点で収束して再び発散し複写用基体41上で正
反射光23と重ね合わされて干渉し、原版である反射型
ホログラム光学素子11の格子パターン15と同じ干渉
縞の強度パターンを形成する。
【0011】図3(A)に示すように、複写用基体41
は、ガラス基板43上にクロム薄膜45が形成され、さ
らにその上に感光性樹脂層47(感光層)が形成されて
いる。感光性樹脂層47は、干渉縞の強度パターンの明
の部分で選択的に露光・感光され、この露光部47aが
エッチング液に対して可溶化する。一方、暗の部分は非
露光部45bであり可溶化しない(図3B参照)。つい
で、露光部47aおよびその下部のクロム薄膜層45を
エッチングし(図3C参照)、さらに感光性樹脂層の非
露光部47bを除去して原版と同じ格子パターン15を
形成し、複製された反射型ホログラム光学素子11’が
得られる(図3D参照)。複製の際に生じる精度の低下
としては、反射鏡31の平面度の誤差が考えられが、反
射鏡31の平面度の精度を向上させることは技術レベル
的に容易であり、高精度の複写が可能となる。
は、ガラス基板43上にクロム薄膜45が形成され、さ
らにその上に感光性樹脂層47(感光層)が形成されて
いる。感光性樹脂層47は、干渉縞の強度パターンの明
の部分で選択的に露光・感光され、この露光部47aが
エッチング液に対して可溶化する。一方、暗の部分は非
露光部45bであり可溶化しない(図3B参照)。つい
で、露光部47aおよびその下部のクロム薄膜層45を
エッチングし(図3C参照)、さらに感光性樹脂層の非
露光部47bを除去して原版と同じ格子パターン15を
形成し、複製された反射型ホログラム光学素子11’が
得られる(図3D参照)。複製の際に生じる精度の低下
としては、反射鏡31の平面度の誤差が考えられが、反
射鏡31の平面度の精度を向上させることは技術レベル
的に容易であり、高精度の複写が可能となる。
【0012】
【発明の効果】本発明によれば、反射型ホログラムを高
精度で簡単に複製することができる。よって、特に大面
積のホログラム光学素子などの複製に好適であり、ま
た、低コストでホログラム光学素子が得られるので、汎
用の干渉計の基準面などとして広く応用することができ
る。
精度で簡単に複製することができる。よって、特に大面
積のホログラム光学素子などの複製に好適であり、ま
た、低コストでホログラム光学素子が得られるので、汎
用の干渉計の基準面などとして広く応用することができ
る。
【図1】反射型ホログラム光学素子の一例を示す断面説
明図である。
明図である。
【図2】本発明の複製方法の実施例を示す説明図であ
る。
る。
【図3】感光性基体の処理方法を示す説明図である。
【図4】従来の複製方法の一例を示す説明図である。
11 反射型ホログラム光学素子 13 ガラス基板 15 格子パターン 21 平行光束 23 正反射光 25 反射回折光 31 反射鏡 41 複写用基体 43 ガラス基板 45 クロム薄膜層 47 感光性樹脂層 47a 露光部 47b 非露光部
Claims (1)
- 【請求項1】 反射型ホログラムの原版にコヒーレント
光を照射し、原版からの正反射光と反射回折光との2つ
の反射光束を生成せしめ、正反射光を平面反射板で反射
させて反射回折光と感光層上で重ね合わせて干渉せし
め、形成された干渉縞の強度パターンを感光層により記
録して、原版の干渉格子パターンを複写することを特徴
とする反射型ホログラムの複製方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4101747A JPH05273901A (ja) | 1992-03-27 | 1992-03-27 | 反射型ホログラムの複製方法 |
US08/038,976 US5372900A (en) | 1992-03-27 | 1993-03-29 | Method of reproducing reflecting type hologram and apparatus therefor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4101747A JPH05273901A (ja) | 1992-03-27 | 1992-03-27 | 反射型ホログラムの複製方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05273901A true JPH05273901A (ja) | 1993-10-22 |
Family
ID=14308842
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4101747A Pending JPH05273901A (ja) | 1992-03-27 | 1992-03-27 | 反射型ホログラムの複製方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5372900A (ja) |
JP (1) | JPH05273901A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020166300A (ja) * | 2015-06-29 | 2020-10-08 | 学校法人 関西大学 | ホログラム表示装置を作製する方法、及びホログラム表示装置の作製装置 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7215451B1 (en) * | 1996-04-15 | 2007-05-08 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Reflection type diffuse hologram, hologram for reflection hologram color filters, etc., and reflection type display device using such holograms |
DE19700162B4 (de) * | 1997-01-07 | 2006-09-07 | Eads Deutschland Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines holografischen Bildschirms für die Laseraufprojektion |
DE19704740B4 (de) * | 1997-02-13 | 2006-07-13 | Eads Deutschland Gmbh | Holografischer Bildschirm und Herstellungsverfahren |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3838903A (en) * | 1965-10-29 | 1974-10-01 | Battelle Development Corp | Wavefront reconstruction |
US3767310A (en) * | 1972-06-23 | 1973-10-23 | Ibm | Diffraction grating beam splitter |
US3875026A (en) * | 1974-05-22 | 1975-04-01 | Rca Corp | Method for producing aluminum holographic masters |
US3944420A (en) * | 1974-05-22 | 1976-03-16 | Rca Corporation | Generation of permanent phase holograms and relief patterns in durable media by chemical etching |
GB1506400A (en) * | 1975-12-08 | 1978-04-05 | Rank Organisation Ltd | Diffraction gratings |
JPS60164702A (ja) * | 1984-02-06 | 1985-08-27 | Ricoh Co Ltd | ホログラム回折格子の製造方法 |
DE3514642A1 (de) * | 1985-04-23 | 1986-10-23 | Lambda Physik GmbH, 3400 Göttingen | Verfahren zur herstellung holographischer beugungsgitter |
JPS62297879A (ja) * | 1986-06-18 | 1987-12-25 | Nec Corp | 位相シフト回折格子の製造装置 |
US4895790A (en) * | 1987-09-21 | 1990-01-23 | Massachusetts Institute Of Technology | High-efficiency, multilevel, diffractive optical elements |
US4942102A (en) * | 1988-01-15 | 1990-07-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Holographic optical elements having a reflection hologram formed in a photopolymer |
GB8803283D0 (en) * | 1988-02-12 | 1988-03-09 | Ciba Geigy Ag | Copying holograms |
-
1992
- 1992-03-27 JP JP4101747A patent/JPH05273901A/ja active Pending
-
1993
- 1993-03-29 US US08/038,976 patent/US5372900A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020166300A (ja) * | 2015-06-29 | 2020-10-08 | 学校法人 関西大学 | ホログラム表示装置を作製する方法、及びホログラム表示装置の作製装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5372900A (en) | 1994-12-13 |
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