JPH0526804A - 多種ガス検出装置 - Google Patents
多種ガス検出装置Info
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- JPH0526804A JPH0526804A JP20759991A JP20759991A JPH0526804A JP H0526804 A JPH0526804 A JP H0526804A JP 20759991 A JP20759991 A JP 20759991A JP 20759991 A JP20759991 A JP 20759991A JP H0526804 A JPH0526804 A JP H0526804A
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- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 複数の半導体レーザ素子を用いて多種類のガ
スを同時に検出するガス検知装置の各半導体レーザ素子
の発振波長を同時に安定化する。 【構成】 周波数f1 で変調された半導体レーザ素子2
0aのレーザ光と、周波数f2 で変調された半導体レー
ザ素子20bのレーザ光とをビームスプリッタ23で混
合し、複数の参照用ガスが封入された参照用セル22内
のガスを通過させた後受光器24で受光し、メタン用波
長制御装置21aで周波数f1 に対応したレーザ光の発
振波長を安定化し、同時にアセチレン用波長制御装置2
1bで周波数f2 に対応したレーザ光の発振波長を安定
化する。
スを同時に検出するガス検知装置の各半導体レーザ素子
の発振波長を同時に安定化する。 【構成】 周波数f1 で変調された半導体レーザ素子2
0aのレーザ光と、周波数f2 で変調された半導体レー
ザ素子20bのレーザ光とをビームスプリッタ23で混
合し、複数の参照用ガスが封入された参照用セル22内
のガスを通過させた後受光器24で受光し、メタン用波
長制御装置21aで周波数f1 に対応したレーザ光の発
振波長を安定化し、同時にアセチレン用波長制御装置2
1bで周波数f2 に対応したレーザ光の発振波長を安定
化する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体レーザ素子を用
いた多種ガス検出装置に関する。
いた多種ガス検出装置に関する。
【0002】
【従来の技術】特定波長のレーザ光がある種の気体に吸
収されやすいことを利用してガスの有無を検出できるこ
とが知られており、この原理を応用したセンシング技術
が工業計測、公害監視などに広く用いられている。一例
として、He−Neレーザにより発生されるレーザ光の
3.3922μmの発振線はメタンに強く吸収されるこ
とを利用してメタンの有無を感度よく検出することが可
能である。メタンは都市ガスの主成分であるのでメタン
ガスの検出によって都市ガスの漏洩が検知できる。しか
し半導体レーザを用いてガス検知を行う場合にはレーザ
素子の温度により発振波長が大きく変わるのでレーザ光
の発振波長をガスの吸収線の中心波長に合わせて安定化
する必要がある。
収されやすいことを利用してガスの有無を検出できるこ
とが知られており、この原理を応用したセンシング技術
が工業計測、公害監視などに広く用いられている。一例
として、He−Neレーザにより発生されるレーザ光の
3.3922μmの発振線はメタンに強く吸収されるこ
とを利用してメタンの有無を感度よく検出することが可
能である。メタンは都市ガスの主成分であるのでメタン
ガスの検出によって都市ガスの漏洩が検知できる。しか
し半導体レーザを用いてガス検知を行う場合にはレーザ
素子の温度により発振波長が大きく変わるのでレーザ光
の発振波長をガスの吸収線の中心波長に合わせて安定化
する必要がある。
【0003】特願平2−78498号においては、周波
数変調法を応用しかつ光ファイバを伝送路とした遠隔ガ
ス(メタンガス)検出装置が提案されている。この検出
装置では、半導体レーザ素子の駆動電流を所定の電流値
を中心として高周波信号で変調するとともに、半導体レ
ーザ素子から出射されるレーザ光の一部を用いて、半導
体レーザ素子の電流および温度を制御して発振の中心波
長をメタンの吸収線の所定位置に一致させることでレー
ザ光の発振波長を安定化している。そしてこの安定化さ
れたレーザ光を光ファイバを介して未知濃度のメタンガ
スを含むガスセルに導き、そのガスセル内を通過した光
を別の光ファイバで受け、受光部で電気信号に変換した
後位相敏感検波器によりレーザ光の2倍波検波信号およ
び基本波検波信号を求めこれら2つの信号の比からガス
濃度を求めている。
数変調法を応用しかつ光ファイバを伝送路とした遠隔ガ
ス(メタンガス)検出装置が提案されている。この検出
装置では、半導体レーザ素子の駆動電流を所定の電流値
を中心として高周波信号で変調するとともに、半導体レ
ーザ素子から出射されるレーザ光の一部を用いて、半導
体レーザ素子の電流および温度を制御して発振の中心波
長をメタンの吸収線の所定位置に一致させることでレー
ザ光の発振波長を安定化している。そしてこの安定化さ
れたレーザ光を光ファイバを介して未知濃度のメタンガ
スを含むガスセルに導き、そのガスセル内を通過した光
を別の光ファイバで受け、受光部で電気信号に変換した
後位相敏感検波器によりレーザ光の2倍波検波信号およ
び基本波検波信号を求めこれら2つの信号の比からガス
濃度を求めている。
【0004】しかし、この検出装置では1種類のガスの
濃度しか検知できないので、多種類のガスの濃度を検知
したい場合には、ガスの種類の数だけ検知装置を用意し
なければならないという問題がある。
濃度しか検知できないので、多種類のガスの濃度を検知
したい場合には、ガスの種類の数だけ検知装置を用意し
なければならないという問題がある。
【0005】これに対して本願出願人は特願平3−96
826号において多種類のガスを検知する多種ガス検知
装置を提案した。
826号において多種類のガスを検知する多種ガス検知
装置を提案した。
【0006】図3は本願出願人による多種ガス検知装置
の概略構成図である。
の概略構成図である。
【0007】この装置はメタンガスの吸収線を発振線と
してもつ半導体レーザ素子1aとアセチレンガスの吸収
線を発振線としてもつ半導体レーザ素子1bとを備え、
半導体レーザ素子1aをメタン用駆動装置2aにより周
波数f1 で変調し、半導体レーザ素子1bをアセチレン
用駆動装置2bにより周波数f1 とは異なる周波数f 2
で変調する。この変調された半導体レーザ素子1aから
のレーザ光をメタンガスの封入された参照用セル3aを
通過させて受光器4aで受けて電気信号に変換し、メタ
ン用波長制御装置5aにより半導体レーザ素子1aに設
けられたペルチェ素子6aの温度を制御し、半導体レー
ザ1bからのレーザ光をアセチレンガスの封入された参
照用セル3bを通過させて受光器4bで受けて電気信号
に変換し、アセチレン用波長制御装置5bにより半導体
レーザ素子1bに設けられたペルチェ素子6bの温度を
制御する。
してもつ半導体レーザ素子1aとアセチレンガスの吸収
線を発振線としてもつ半導体レーザ素子1bとを備え、
半導体レーザ素子1aをメタン用駆動装置2aにより周
波数f1 で変調し、半導体レーザ素子1bをアセチレン
用駆動装置2bにより周波数f1 とは異なる周波数f 2
で変調する。この変調された半導体レーザ素子1aから
のレーザ光をメタンガスの封入された参照用セル3aを
通過させて受光器4aで受けて電気信号に変換し、メタ
ン用波長制御装置5aにより半導体レーザ素子1aに設
けられたペルチェ素子6aの温度を制御し、半導体レー
ザ1bからのレーザ光をアセチレンガスの封入された参
照用セル3bを通過させて受光器4bで受けて電気信号
に変換し、アセチレン用波長制御装置5bにより半導体
レーザ素子1bに設けられたペルチェ素子6bの温度を
制御する。
【0008】一方、半導体レーザ素子1a、1bからの
レーザ光を反射光を防止するアイソレータ7aを介して
分岐結合器8で一つの光に混合したのち、往路用光ファ
イバ9を介して測定用セル10まで導き、測定用セル1
0内を通過した光を復路用光ファイバ11を介して光検
出器12まで導きアンプ13で増幅する。そしてさら
に、この検出出力中の周波数f1 に対応する成分をメタ
ン用信号処理装置14aにより位相敏感検波して、測定
用セル10内のメタンガスの濃度を検出し、検出出力中
の周波数f2 に対応する成分をアセチレン用信号処理装
置14bにより位相敏感検波して、測定用セル10内の
アセチレンガスの濃度を検出する。
レーザ光を反射光を防止するアイソレータ7aを介して
分岐結合器8で一つの光に混合したのち、往路用光ファ
イバ9を介して測定用セル10まで導き、測定用セル1
0内を通過した光を復路用光ファイバ11を介して光検
出器12まで導きアンプ13で増幅する。そしてさら
に、この検出出力中の周波数f1 に対応する成分をメタ
ン用信号処理装置14aにより位相敏感検波して、測定
用セル10内のメタンガスの濃度を検出し、検出出力中
の周波数f2 に対応する成分をアセチレン用信号処理装
置14bにより位相敏感検波して、測定用セル10内の
アセチレンガスの濃度を検出する。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】ところが、このような
構成の多種ガス検知装置では、参照用のセルと、このセ
ルを通過したレーザ光を受光する受光器がそれぞれ検知
したいガスの種類の数だけ必要となり、しかもそれぞれ
別々に発振波長を安定化しなければならないので装置が
複雑になる上、大型化するという問題点がある。
構成の多種ガス検知装置では、参照用のセルと、このセ
ルを通過したレーザ光を受光する受光器がそれぞれ検知
したいガスの種類の数だけ必要となり、しかもそれぞれ
別々に発振波長を安定化しなければならないので装置が
複雑になる上、大型化するという問題点がある。
【0010】本発明は、上記の点にかんがみてなされた
ものであり、その目的は、複数の半導体レーザを用いて
多種類のガスを同時に検出するガス検知装置において、
各半導体レーザの発振波長を同時に安定化することにあ
る。
ものであり、その目的は、複数の半導体レーザを用いて
多種類のガスを同時に検出するガス検知装置において、
各半導体レーザの発振波長を同時に安定化することにあ
る。
【0011】
【課題を解決するための手段】前記目的は、本発明によ
ると、発振波長の異なる複数の半導体レーザと、各半導
体レーザの駆動電流をそれぞれ異なる所定の周波数で変
調する変調手段とを備え、変調手段により変調され複数
のガスが封入された測定用セルを通過したレーザ光を用
いて測定用セル内のガスの濃度を検出する多種ガス検出
装置であって、各半導体レーザから出射するレーザ光を
混合する混合手段と、複数の参照用ガスが封入された参
照用セルと、参照用セルを透過したレーザ光を受光する
受光手段と、受光手段の出力から所定の周波数に等しい
周波数成分を検出し、周波数成分に基づいて各半導体レ
ーザの波長をそれぞれ安定化する複数の波長安定化手段
とを設けた多種ガス検出装置によって達成される。
ると、発振波長の異なる複数の半導体レーザと、各半導
体レーザの駆動電流をそれぞれ異なる所定の周波数で変
調する変調手段とを備え、変調手段により変調され複数
のガスが封入された測定用セルを通過したレーザ光を用
いて測定用セル内のガスの濃度を検出する多種ガス検出
装置であって、各半導体レーザから出射するレーザ光を
混合する混合手段と、複数の参照用ガスが封入された参
照用セルと、参照用セルを透過したレーザ光を受光する
受光手段と、受光手段の出力から所定の周波数に等しい
周波数成分を検出し、周波数成分に基づいて各半導体レ
ーザの波長をそれぞれ安定化する複数の波長安定化手段
とを設けた多種ガス検出装置によって達成される。
【0012】
【作用】本発明の多種ガス検出装置は、異なる所定の周
波数で変調された複数のレーザ光を混合手段で混合し、
複数の参照用ガスが封入された参照用セルを通過させた
後受光手段で受光し、複数の波長安定化手段で所定の周
波数に対応したレーザ光の発振波長をそれぞれ安定化す
る。
波数で変調された複数のレーザ光を混合手段で混合し、
複数の参照用ガスが封入された参照用セルを通過させた
後受光手段で受光し、複数の波長安定化手段で所定の周
波数に対応したレーザ光の発振波長をそれぞれ安定化す
る。
【0013】
【実施例】以下本発明を図面に基づいて説明する。
【0014】図1は本発明による多種ガス検知装置の一
実施例の概略構成図であり、ここではメタンガスとアセ
チレンガスとの2種類のガスを検知する装置として説明
する。
実施例の概略構成図であり、ここではメタンガスとアセ
チレンガスとの2種類のガスを検知する装置として説明
する。
【0015】図示した多種ガス検知装置は、2個の半導
体レーザ素子20a、20bと、半導体レーザ素子20
aの発振波長を安定化するとともに周波数f1 で変調す
るメタン用波長制御装置21aと、半導体レーザ素子2
0bの発振波長を安定化するとともに周波数f2 で変調
するアセチレン用波長制御装置21bと、既知の濃度の
メタンガスとアセチレンガスとの混合ガスが封入された
参照用セル22と、各半導体レーザ素子20a、20b
から出射される変調されたレーザ光を混合するビームス
プリッタ23と、ビームスプリッタ23から出力され参
照用セル22を透過したレーザ光を受光し電気信号に変
換する受光手段としての光検出器24と、未知の濃度の
メタンガスとアセチレンガスとの混合ガスが封入された
測定用セル25と、ビームスプリッタ23から出力さ測
定用セル25を透過するレーザ光を受光して電気信号に
変換する光検出器26と、光検出器26から出力される
電気信号とメタン用波長制御装置21aから出力される
周波数f1 の信号とからメタンを検出するメタン検出装
置27aと、光検出器26から出力される電気信号とア
セチレン用波長制御装置21bから出力される周波数f
2 の信号とからアセチレンを検出するアセチレン検出装
置27bとで構成されている。
体レーザ素子20a、20bと、半導体レーザ素子20
aの発振波長を安定化するとともに周波数f1 で変調す
るメタン用波長制御装置21aと、半導体レーザ素子2
0bの発振波長を安定化するとともに周波数f2 で変調
するアセチレン用波長制御装置21bと、既知の濃度の
メタンガスとアセチレンガスとの混合ガスが封入された
参照用セル22と、各半導体レーザ素子20a、20b
から出射される変調されたレーザ光を混合するビームス
プリッタ23と、ビームスプリッタ23から出力され参
照用セル22を透過したレーザ光を受光し電気信号に変
換する受光手段としての光検出器24と、未知の濃度の
メタンガスとアセチレンガスとの混合ガスが封入された
測定用セル25と、ビームスプリッタ23から出力さ測
定用セル25を透過するレーザ光を受光して電気信号に
変換する光検出器26と、光検出器26から出力される
電気信号とメタン用波長制御装置21aから出力される
周波数f1 の信号とからメタンを検出するメタン検出装
置27aと、光検出器26から出力される電気信号とア
セチレン用波長制御装置21bから出力される周波数f
2 の信号とからアセチレンを検出するアセチレン検出装
置27bとで構成されている。
【0016】半導体レーザ素子20a、20bは、素子
自体の温度が高くなると発振波長が長くなり、温度が低
くなると発振波長が短くなる特性を有しており、半導体
レーザ素子20a、20bには図示しないペルチェ素子
が熱伝導板を介して取り付けられている。
自体の温度が高くなると発振波長が長くなり、温度が低
くなると発振波長が短くなる特性を有しており、半導体
レーザ素子20a、20bには図示しないペルチェ素子
が熱伝導板を介して取り付けられている。
【0017】ペルチェ素子はP型半導体とN型半導体と
が交互に金属板を介して接続されて構成されており、電
流の流れる方向により接続部が加熱または冷却されるの
で、ペルチェ素子に印加する電圧または電流を制御する
ことにより半導体レーザ素子20a、20bの発振波長
を安定化することができる。
が交互に金属板を介して接続されて構成されており、電
流の流れる方向により接続部が加熱または冷却されるの
で、ペルチェ素子に印加する電圧または電流を制御する
ことにより半導体レーザ素子20a、20bの発振波長
を安定化することができる。
【0018】ビームスプリッタ23は一般にハーフミラ
ーで構成されており、ハーフミラーに所定の角度で入射
された光ビームを反射光と透過光との2つに分割する。
半導体レーザ素子20aから出射し光路L1 を通るレー
ザ光は、その一部がビームスプリッタ23を透過し、測
定用セル25に入射するとともに、他の一部がビームス
プリッタ23で反射して参照用セル22に入射する。半
導体レーザ素子20bから出射されて光路L2 を通るレ
ーザ光も同様に、その一部がビームスプリッタ23で反
射して、測定用セル25に入射するとともに、他の一部
がビームスプリッタ23を透過して参照用セル22に入
射する。
ーで構成されており、ハーフミラーに所定の角度で入射
された光ビームを反射光と透過光との2つに分割する。
半導体レーザ素子20aから出射し光路L1 を通るレー
ザ光は、その一部がビームスプリッタ23を透過し、測
定用セル25に入射するとともに、他の一部がビームス
プリッタ23で反射して参照用セル22に入射する。半
導体レーザ素子20bから出射されて光路L2 を通るレ
ーザ光も同様に、その一部がビームスプリッタ23で反
射して、測定用セル25に入射するとともに、他の一部
がビームスプリッタ23を透過して参照用セル22に入
射する。
【0019】半導体レーザ素子20a、20bと、参照
用セル22と、測定用セル25とは、半導体レーザ素子
20aから出射されてビームスプリッタ23を透過した
レーザ光の光路L3 と、半導体レーザ素子20bから出
射し、ビームスプリッタ23で反射したレーザ光の光路
L3 とが一致するように配置され、半導体レーザ素子2
0bから出射されてビームスプリッタ23を透過したレ
ーザ光の光路L4 と、半導体レーザ20aから出射され
ビームスプリッタ23で反射したレーザ光の光路L4 と
が一致するように配置されている。このため光路L3 、
L4 上では半導体レーザ素子20aから出射したレーザ
光と半導体レーザ素子20bから出射したレーザ光とが
混合されることになるのでビームスプリッタ23は混合
手段として機能する。
用セル22と、測定用セル25とは、半導体レーザ素子
20aから出射されてビームスプリッタ23を透過した
レーザ光の光路L3 と、半導体レーザ素子20bから出
射し、ビームスプリッタ23で反射したレーザ光の光路
L3 とが一致するように配置され、半導体レーザ素子2
0bから出射されてビームスプリッタ23を透過したレ
ーザ光の光路L4 と、半導体レーザ20aから出射され
ビームスプリッタ23で反射したレーザ光の光路L4 と
が一致するように配置されている。このため光路L3 、
L4 上では半導体レーザ素子20aから出射したレーザ
光と半導体レーザ素子20bから出射したレーザ光とが
混合されることになるのでビームスプリッタ23は混合
手段として機能する。
【0020】受光器24、26は入射したレーザ光を電
気信号に変換する素子であり、たとえばフォトダイオー
ドであるが、これに限定されずフォトトランジスタを用
いてもよい。
気信号に変換する素子であり、たとえばフォトダイオー
ドであるが、これに限定されずフォトトランジスタを用
いてもよい。
【0021】メタン用波長制御装置21aは、受光器2
4からの出力成分から半導体レーザ素子20aの波長を
モニタし、発振波長を安定化するため半導体レーザ素子
20aに取り付けられたペルチェ素子の温度が所定の温
度になるように温度調整を行うとともに半導体レーザ素
子21aの駆動電流を周波数f1 で変調する。アセチレ
ン用波長制御装置21bも同様に、半導体レーザ素子2
0bに取り付けられたペルチェ素子の温度が所定の温度
になるように半導体レーザ素子20bの温度調整を行う
とともに半導体レーザ素子20bの駆動電流を周波数f
2 で変調する。
4からの出力成分から半導体レーザ素子20aの波長を
モニタし、発振波長を安定化するため半導体レーザ素子
20aに取り付けられたペルチェ素子の温度が所定の温
度になるように温度調整を行うとともに半導体レーザ素
子21aの駆動電流を周波数f1 で変調する。アセチレ
ン用波長制御装置21bも同様に、半導体レーザ素子2
0bに取り付けられたペルチェ素子の温度が所定の温度
になるように半導体レーザ素子20bの温度調整を行う
とともに半導体レーザ素子20bの駆動電流を周波数f
2 で変調する。
【0022】メタン検出装置27aは測定用セル25中
のメタンガスの濃度を算出し、アセチレン用検出装置2
7bは測定用セル25中のアセチレンガスの濃度を算出
する。
のメタンガスの濃度を算出し、アセチレン用検出装置2
7bは測定用セル25中のアセチレンガスの濃度を算出
する。
【0023】次に多種ガス検知装置の動作について説明
する。
する。
【0024】半導体レーザ素子20a、20bの変調周
波数f1 、f2 はその最小公倍数が大きい方が測定精度
が向上することが知られているので、たとえばメタンガ
ス用の半導体レーザ素子20aの変調周波数f1 を51
KHZ に、アセチレンガス用の半導体レーザ素子20b
の変調周波数f2 を49KHZ に選んだ。変調周波数は
49KHZ 、51KHZ であるが、互いに整数倍でなけ
れば他の周波数を用いてもよい。
波数f1 、f2 はその最小公倍数が大きい方が測定精度
が向上することが知られているので、たとえばメタンガ
ス用の半導体レーザ素子20aの変調周波数f1 を51
KHZ に、アセチレンガス用の半導体レーザ素子20b
の変調周波数f2 を49KHZ に選んだ。変調周波数は
49KHZ 、51KHZ であるが、互いに整数倍でなけ
れば他の周波数を用いてもよい。
【0025】まずメタン用波長制御装置21aとアセチ
レン用波長制御装置21bとを駆動する。半導体レーザ
素子20aはメタンの吸収波長に等しい波長で励起する
とともに周波数51KHZ で変調され、半導体レーザ素
子20bはアセチレンの吸収波長に等しい波長で励起す
るとともに周波数49KHZ で変調される。その結果、
各半導体レーザ素子20a、20bからは所定のバイア
ス電流を中心として所定の周波数で変調されたレーザ光
が発振される。
レン用波長制御装置21bとを駆動する。半導体レーザ
素子20aはメタンの吸収波長に等しい波長で励起する
とともに周波数51KHZ で変調され、半導体レーザ素
子20bはアセチレンの吸収波長に等しい波長で励起す
るとともに周波数49KHZ で変調される。その結果、
各半導体レーザ素子20a、20bからは所定のバイア
ス電流を中心として所定の周波数で変調されたレーザ光
が発振される。
【0026】こうして発振されたレーザ光のうち、半導
体レーザ素子20aから出射されビームスプリッタ23
を透過したレーザ光と、半導体レーザ素子20bから出
射されビームスプリッタ23で反射したレーザ光との混
合光は、参照用セル22を透過した後受光器24で電気
信号に変換される。受光器24より得られる出力信号は
それぞれ波長制御装置21a、21bに入力されるが、
メタン用波長制御装置21aにおいては周波数51KH
Z の変調波だけについて信号処理が行われてペルチェ素
子の電圧が制御され、半導体レーザ素子20aの温度が
制御されるのでメタンの吸収波長に発振波長が安定化さ
れる。これに対してアセチレン用制御装置21bにおい
ては周波数49KHZ の変調波だけについて信号処理が
行われてペルチェ素子の電圧が制御され、半導体レーザ
素子20bの温度が制御される。波長制御装置21a、
21bは内蔵する位相敏感検波器、積分器、ペルチェ素
子用電源などで構成されており、受光器24から得られ
た出力信号はそれぞれ変調周波数49KHZ 、51KH
Z についての基本波の位相敏感検波信号を求め、その値
がゼロとなるように半導体レーザ素子20a、20bの
温度を制御する。これにより半導体レーザ素子20a、
20bの発振波長はそれぞれの検出ガスの吸収線の中心
に同時に安定化される。
体レーザ素子20aから出射されビームスプリッタ23
を透過したレーザ光と、半導体レーザ素子20bから出
射されビームスプリッタ23で反射したレーザ光との混
合光は、参照用セル22を透過した後受光器24で電気
信号に変換される。受光器24より得られる出力信号は
それぞれ波長制御装置21a、21bに入力されるが、
メタン用波長制御装置21aにおいては周波数51KH
Z の変調波だけについて信号処理が行われてペルチェ素
子の電圧が制御され、半導体レーザ素子20aの温度が
制御されるのでメタンの吸収波長に発振波長が安定化さ
れる。これに対してアセチレン用制御装置21bにおい
ては周波数49KHZ の変調波だけについて信号処理が
行われてペルチェ素子の電圧が制御され、半導体レーザ
素子20bの温度が制御される。波長制御装置21a、
21bは内蔵する位相敏感検波器、積分器、ペルチェ素
子用電源などで構成されており、受光器24から得られ
た出力信号はそれぞれ変調周波数49KHZ 、51KH
Z についての基本波の位相敏感検波信号を求め、その値
がゼロとなるように半導体レーザ素子20a、20bの
温度を制御する。これにより半導体レーザ素子20a、
20bの発振波長はそれぞれの検出ガスの吸収線の中心
に同時に安定化される。
【0027】一方、半導体レーザ素子20aから出射さ
れてビームスプリッタ23を透過したレーザ光と、半導
体レーザ素子20bから出射されてビームスプリッタ2
3で反射したレーザ光との混合光は測定用セル25を透
過した後受光器26で電気信号に変換され、メタン用検
出装置27aおよびアセチレン用検出装置27bに入力
される。メタン用検出装置27aおよびアセチレン用検
出装置27bは、それぞれ対応する変調周波数49KH
Z 、51KHZ についての基本波の位相敏感検波信号お
よび2倍波位相敏感検波信号を出力する2つの位相敏感
検波器、位相敏感検波器の出力比を得る割算器、割算器
の出力を記録する記録計などで構成されている。そし
て、2倍波位相敏感検波信号の値を基本波位相敏感検波
信号の値で割った値から測定用セル25におけるメタン
ガスおよびアセチレンガスの濃度を求める。
れてビームスプリッタ23を透過したレーザ光と、半導
体レーザ素子20bから出射されてビームスプリッタ2
3で反射したレーザ光との混合光は測定用セル25を透
過した後受光器26で電気信号に変換され、メタン用検
出装置27aおよびアセチレン用検出装置27bに入力
される。メタン用検出装置27aおよびアセチレン用検
出装置27bは、それぞれ対応する変調周波数49KH
Z 、51KHZ についての基本波の位相敏感検波信号お
よび2倍波位相敏感検波信号を出力する2つの位相敏感
検波器、位相敏感検波器の出力比を得る割算器、割算器
の出力を記録する記録計などで構成されている。そし
て、2倍波位相敏感検波信号の値を基本波位相敏感検波
信号の値で割った値から測定用セル25におけるメタン
ガスおよびアセチレンガスの濃度を求める。
【0028】半導体レーザ素子20a、20bで発振さ
れるレーザ光の中心波長を、それぞれメタンガス、アセ
チレンガスの吸収線の中心f0 に一致させると、2倍波
検波信号と基本波検波信号との比P(2f)/P(f)
max はピーク値Rを示し、数1のように表わされる。
れるレーザ光の中心波長を、それぞれメタンガス、アセ
チレンガスの吸収線の中心f0 に一致させると、2倍波
検波信号と基本波検波信号との比P(2f)/P(f)
max はピーク値Rを示し、数1のように表わされる。
【0029】
【数1】
R=P(2f)/P(f)max
=I0 (ΔF)2 α(f0 )・c・L/(2ΔI・γ2 )
ここで、I0 は各々のレーザ出力の中心強度、ΔIは強
度変調振幅、ΔFは周波数変調振幅、α(f0 )は特定
ガスの吸収線中心f0 での吸収係数、γはそのα(f
0 )の半値幅2γの半分の値、c・Lは特定ガスの濃度
cと測定用セル25での光伝搬距離Lとの積に比例する
ため、伝搬距離Lがわかれば、数1により特定ガスの濃
度cを算出できる。
度変調振幅、ΔFは周波数変調振幅、α(f0 )は特定
ガスの吸収線中心f0 での吸収係数、γはそのα(f
0 )の半値幅2γの半分の値、c・Lは特定ガスの濃度
cと測定用セル25での光伝搬距離Lとの積に比例する
ため、伝搬距離Lがわかれば、数1により特定ガスの濃
度cを算出できる。
【0030】図2は多種ガス検知装置の他の実施例の概
略構成図である。
略構成図である。
【0031】この実施例と図1に示した多種ガス検出装
置との相違点は、レーザ光集光用のレンズ29、30が
用いられ、ビームスプリッタ23の代わりにファイバカ
ップラ28が用いられ、半導体レーザ素子20a、20
b、ファイバーカップラ28、参照用セル24および測
定用セル25間が光ファイバF1 、F2 、F3 およびF
4 で接続されていることである。
置との相違点は、レーザ光集光用のレンズ29、30が
用いられ、ビームスプリッタ23の代わりにファイバカ
ップラ28が用いられ、半導体レーザ素子20a、20
b、ファイバーカップラ28、参照用セル24および測
定用セル25間が光ファイバF1 、F2 、F3 およびF
4 で接続されていることである。
【0032】半導体レーザ素子20aがメタン用波長制
御装置21aによって周波数f1 で変調され、半導体レ
ーザ素子20aから出射したレーザ光がレンズ29を介
して光ファイバF1 でファイバカップラ28に入射す
る。半導体レーザ素子20bがアセチレン用波長制御装
置21bによって周波数f2 で変調され、半導体レーザ
素子21bから出射したレーザ光がレンズ30を介して
光ファイバF2 でファイバカップラ28に入射する。フ
ァイバカップラ28で半導体レーザ素子20aおよび半
導体レーザ素子20bからのレーザ光を混合し、混合さ
れたレーザ光は光ファイバF3 、F4 を介して参照用セ
ル22および測定用セル25を照射する。参照用セル2
2を透過したレーザ光は受光器24により電気信号に変
換されメタン用波長制御装置21aおよびアセチレン用
波長制御装置21bに入力され、測定用セル25を透過
したレーザ光は受光器26により電気信号に変換されメ
タン用波長制御装置27aに入力される。
御装置21aによって周波数f1 で変調され、半導体レ
ーザ素子20aから出射したレーザ光がレンズ29を介
して光ファイバF1 でファイバカップラ28に入射す
る。半導体レーザ素子20bがアセチレン用波長制御装
置21bによって周波数f2 で変調され、半導体レーザ
素子21bから出射したレーザ光がレンズ30を介して
光ファイバF2 でファイバカップラ28に入射する。フ
ァイバカップラ28で半導体レーザ素子20aおよび半
導体レーザ素子20bからのレーザ光を混合し、混合さ
れたレーザ光は光ファイバF3 、F4 を介して参照用セ
ル22および測定用セル25を照射する。参照用セル2
2を透過したレーザ光は受光器24により電気信号に変
換されメタン用波長制御装置21aおよびアセチレン用
波長制御装置21bに入力され、測定用セル25を透過
したレーザ光は受光器26により電気信号に変換されメ
タン用波長制御装置27aに入力される。
【0033】以下前述の多種ガス検知装置と同様に、メ
タン用波長制御装置21aでは周波数51KHZ の変調
波だけについて信号処理が行われることによりペルチェ
素子の電圧が制御され、半導体レーザ素子20aの温度
が制御され、発振波長が安定化される。アセチレン用波
長制御装置21bでは周波数49KHZ の変調波だけに
ついて信号処理が行われることによりペルチェ素子の電
圧が制御され、半導体レーザ素子20bの温度が制御さ
れ、発振波長が安定化される。
タン用波長制御装置21aでは周波数51KHZ の変調
波だけについて信号処理が行われることによりペルチェ
素子の電圧が制御され、半導体レーザ素子20aの温度
が制御され、発振波長が安定化される。アセチレン用波
長制御装置21bでは周波数49KHZ の変調波だけに
ついて信号処理が行われることによりペルチェ素子の電
圧が制御され、半導体レーザ素子20bの温度が制御さ
れ、発振波長が安定化される。
【0034】このように周波数f1 で変調された半導体
レーザ素子20aのレーザ光と、周波数f1 とは異なる
周波数f2 で変調された半導体レーザ素子20bのレー
ザ光とをビームスプリッタ23またはファイバカップラ
28で混合し、参照用セル22内のガスを通過させた後
受光器24で受光し、メタン用波長制御装置21aで周
波数f1 に対応したレーザ光の発振波長を安定化し、同
時にアセチレン用波長制御装置21bで周波数f2 に対
応したレーザ光の発振波長を安定化することにより、従
来は測定したいガスの種類の数だけ参照用セル22と受
光器24が必要であり、波長の安定を別々に行っていた
が、本発明では1つの参照用セルと1つの受光器で波長
の安定化が同時にできる。
レーザ素子20aのレーザ光と、周波数f1 とは異なる
周波数f2 で変調された半導体レーザ素子20bのレー
ザ光とをビームスプリッタ23またはファイバカップラ
28で混合し、参照用セル22内のガスを通過させた後
受光器24で受光し、メタン用波長制御装置21aで周
波数f1 に対応したレーザ光の発振波長を安定化し、同
時にアセチレン用波長制御装置21bで周波数f2 に対
応したレーザ光の発振波長を安定化することにより、従
来は測定したいガスの種類の数だけ参照用セル22と受
光器24が必要であり、波長の安定を別々に行っていた
が、本発明では1つの参照用セルと1つの受光器で波長
の安定化が同時にできる。
【0035】なお、本実施例ではガス検出装置の発振波
長の安定を行っているが、これに限定されず、レーザを
用いた通信装置、たとえば多重通信装置等における発振
波長の安定を行ってもよい。
長の安定を行っているが、これに限定されず、レーザを
用いた通信装置、たとえば多重通信装置等における発振
波長の安定を行ってもよい。
【0036】
【発明の効果】以上説明したように本発明においては、
各半導体レーザより出射する変調されたレーザ光を混合
する混合手段と、混合手段で混合された後複数の参照用
ガスが封入された参照用セルと、参照用セルを透過した
レーザ光を受光する受光手段と、受光手段の出力から所
定の周波数に等しい周波数成分を検出し、周波数成分に
基づいて各半導体レーザの波長をそれぞれ安定化する複
数の波長安定化手段とを設けたので、複数の半導体レー
ザを用いて多種類のガスを同時に検出するガス検知装置
の各半導体レーザの発振波長が同時に安定化される。
各半導体レーザより出射する変調されたレーザ光を混合
する混合手段と、混合手段で混合された後複数の参照用
ガスが封入された参照用セルと、参照用セルを透過した
レーザ光を受光する受光手段と、受光手段の出力から所
定の周波数に等しい周波数成分を検出し、周波数成分に
基づいて各半導体レーザの波長をそれぞれ安定化する複
数の波長安定化手段とを設けたので、複数の半導体レー
ザを用いて多種類のガスを同時に検出するガス検知装置
の各半導体レーザの発振波長が同時に安定化される。
【図1】本発明による多種ガス検知装置の一実施例の概
略構成図である。
略構成図である。
【図2】本発明による多種ガス検知装置の他の実施例の
概略構成図である。
概略構成図である。
【図3】本願出願人による多種ガス検知装置の概略構成
図である。
図である。
20a、20b 半導体レーザ素子
21a アセチレン用波長制御装置
21b メタン用波長制御装置
22 参照用セル
24、26 受光器
25 測定用セル
27a メタン用検出装置
27b アセチレン用検出装置
28 ファイバカップラ
Claims (3)
- 【請求項1】 発振波長の異なる複数の半導体レーザ
と、該各半導体レーザの駆動電流をそれぞれ異なる所定
の周波数で変調する変調手段とを備え、該変調手段によ
り変調され複数のガスが封入された測定用セルを通過し
たレーザ光を用いて該測定用セル内のガスの濃度を検出
する多種ガス検出装置であって、前記各半導体レーザか
ら出射するレーザ光を混合する混合手段と、複数の参照
用ガスが封入された参照用セルと、該参照用セルを透過
したレーザ光を受光する受光手段と、該受光手段の出力
から前記所定の周波数に等しい周波数成分を検出し、該
周波数成分に基づいて前記各半導体レーザの波長をそれ
ぞれ安定化する複数の波長安定化手段とを設けたことを
特徴とする多種ガス検出装置。 - 【請求項2】 前記混合手段がビームスプリッタである
ことを特徴とする請求項1に記載の多種ガス検出装置。 - 【請求項3】 前記混合手段がファイバーカップラであ
り、該ファイバーカップラと各半導体レーザとが光ファ
イバで接続されるとともに前記ファイバーカップラと前
記参照用セルとが光ファイバで接続されていることを特
徴とする請求項1に記載の多種ガス検出装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20759991A JP2796650B2 (ja) | 1991-07-24 | 1991-07-24 | 多種ガス検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20759991A JP2796650B2 (ja) | 1991-07-24 | 1991-07-24 | 多種ガス検出装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0526804A true JPH0526804A (ja) | 1993-02-02 |
JP2796650B2 JP2796650B2 (ja) | 1998-09-10 |
Family
ID=16542444
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20759991A Expired - Fee Related JP2796650B2 (ja) | 1991-07-24 | 1991-07-24 | 多種ガス検出装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2796650B2 (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001074653A (ja) * | 1999-08-31 | 2001-03-23 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | ガス濃度計測装置及び燃焼炉 |
WO2001053803A1 (fr) * | 2000-01-17 | 2001-07-26 | Norihiro Kiuchi | Procede de detection de concentrations dans un liquide et dispositif a cet effet |
JP2001343379A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-12-14 | Showa Denko Kk | ハロゲン濃度の測定方法、測定装置及びハロゲン化合物の製造方法 |
JP2006052955A (ja) * | 2004-08-09 | 2006-02-23 | Japan Science & Technology Agency | 気体中微量物質の濃度測定方法 |
WO2007136124A1 (ja) * | 2006-05-19 | 2007-11-29 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | ガス分析装置及びガス分析装置におけるレーザの波長掃引制御方法 |
JP2008268064A (ja) * | 2007-04-23 | 2008-11-06 | Fuji Electric Systems Co Ltd | 多成分対応レーザ式ガス分析計 |
US8208143B2 (en) | 2005-04-28 | 2012-06-26 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Exhaust gas analyzer |
JP2015180899A (ja) * | 2015-07-14 | 2015-10-15 | 横河電機株式会社 | レーザガス分析装置 |
WO2017029791A1 (ja) * | 2015-08-18 | 2017-02-23 | 国立大学法人徳島大学 | 濃度測定装置 |
JP2018056371A (ja) * | 2016-09-29 | 2018-04-05 | 住友電気工業株式会社 | 光源モジュール |
-
1991
- 1991-07-24 JP JP20759991A patent/JP2796650B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001074653A (ja) * | 1999-08-31 | 2001-03-23 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | ガス濃度計測装置及び燃焼炉 |
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JP2006052955A (ja) * | 2004-08-09 | 2006-02-23 | Japan Science & Technology Agency | 気体中微量物質の濃度測定方法 |
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WO2007136124A1 (ja) * | 2006-05-19 | 2007-11-29 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | ガス分析装置及びガス分析装置におけるレーザの波長掃引制御方法 |
JP2009216385A (ja) * | 2006-05-19 | 2009-09-24 | Toyota Motor Corp | ガス分析装置及びガス分析装置におけるレーザの波長掃引制御方法 |
JP2008268064A (ja) * | 2007-04-23 | 2008-11-06 | Fuji Electric Systems Co Ltd | 多成分対応レーザ式ガス分析計 |
JP2015180899A (ja) * | 2015-07-14 | 2015-10-15 | 横河電機株式会社 | レーザガス分析装置 |
WO2017029791A1 (ja) * | 2015-08-18 | 2017-02-23 | 国立大学法人徳島大学 | 濃度測定装置 |
JPWO2017029791A1 (ja) * | 2015-08-18 | 2018-05-31 | 国立大学法人徳島大学 | 濃度測定装置 |
JP2018056371A (ja) * | 2016-09-29 | 2018-04-05 | 住友電気工業株式会社 | 光源モジュール |
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JP2796650B2 (ja) | 1998-09-10 |
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