JPH0525140A - ベンズイミダゾール誘導体 - Google Patents
ベンズイミダゾール誘導体Info
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- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】一般式
【化10】
[式中、Aは、水素原子、低級アルコキシ基等を示し、
Bは、フェニル基、低級アルコキシ基等を示す。]の化
合物とその塩。 【効果】本発明の化合物は、優れた胃酸分泌抑制作用を
示し、抗潰瘍剤として有用である。
Bは、フェニル基、低級アルコキシ基等を示す。]の化
合物とその塩。 【効果】本発明の化合物は、優れた胃酸分泌抑制作用を
示し、抗潰瘍剤として有用である。
Description
【0001】
【0002】
【産業上の利用分野】本発明は、優れた胃酸分泌抑制作
用及び抗潰瘍作用を有する新規なベンズイミダゾール誘
導体及びその塩に関する。
用及び抗潰瘍作用を有する新規なベンズイミダゾール誘
導体及びその塩に関する。
【0003】
【従来の技術】ベンズイミダゾール環を有する胃酸分泌
抑制剤であるオメプラゾール(特許公開昭54−141
783号公報)が、抗潰瘍剤として知られている。
抑制剤であるオメプラゾール(特許公開昭54−141
783号公報)が、抗潰瘍剤として知られている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、ベンズ
イミダゾール環を有する誘導体の合成とその薬理活性に
ついて永年に亘り鋭意研究を行なった結果、新規なベン
ズイミダゾール誘導体が優れた胃液分泌抑制作用を有す
ることを見出し、本発明を完成した。
イミダゾール環を有する誘導体の合成とその薬理活性に
ついて永年に亘り鋭意研究を行なった結果、新規なベン
ズイミダゾール誘導体が優れた胃液分泌抑制作用を有す
ることを見出し、本発明を完成した。
【0005】
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、一般式
【0007】
【化2】
【0008】[式中、Aは、水素原子又は、低級アルコ
キシ基(当該低級アルコキシ基は、ジ低級アルキルアミ
ノ基、低級アルコキシカルボニル基若しくはカルバモイ
ル基を置換基として有していてもよい。)を示し、B
は、アミノ基で置換されたフェニル基、低級アルコキシ
基(当該低級アルコキシ基は、ヘテロアリール基若しく
はジ低級アルキルアミノ基を置換基として有していても
よい。)、シアノ基、カルバモイル基、低級アルコキシ
カルボニル基、式−C(=NH)R1 を有する基(R1
は、低級アルコキシ基、ジ低級アルキルアミノ基又は1-
ピペリジニル基を示す。)又はアラルキルオキシ基(当
該アラルキルオキシ基は、ジ低級アルキルアミノ基を置
換基として有していてもよい。)を示す。]で表される
ベンズイミダゾール誘導体及びその薬理上許容される塩
である。
キシ基(当該低級アルコキシ基は、ジ低級アルキルアミ
ノ基、低級アルコキシカルボニル基若しくはカルバモイ
ル基を置換基として有していてもよい。)を示し、B
は、アミノ基で置換されたフェニル基、低級アルコキシ
基(当該低級アルコキシ基は、ヘテロアリール基若しく
はジ低級アルキルアミノ基を置換基として有していても
よい。)、シアノ基、カルバモイル基、低級アルコキシ
カルボニル基、式−C(=NH)R1 を有する基(R1
は、低級アルコキシ基、ジ低級アルキルアミノ基又は1-
ピペリジニル基を示す。)又はアラルキルオキシ基(当
該アラルキルオキシ基は、ジ低級アルキルアミノ基を置
換基として有していてもよい。)を示す。]で表される
ベンズイミダゾール誘導体及びその薬理上許容される塩
である。
【0009】前記一般式(I)のジ低級アルキルアミノ
基、低級アルコキシ基若しくは低級アルコキシカルボニ
ル基の低級アルキル部分は、例えば、メチル基、エチル
基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソ
ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、イ
ソペンチル基、2-メチルブチル基、ネオペンチル基、1-
エチルプロピル基、n-ヘキシル基、4-メチルペンチル
基、3-メチルペンチル基、2-メチルペンチル基、1-メチ
ルペンチル基、3,3-ジメチルブチル基、2,2-ジメチルブ
チル基、1,1-ジメチルブチル基、1,2-ジメチルブチル
基、1,3-ジメチルブチル基、2,3-ジメチルブチル基、2-
エチルブチル基のような炭素数1乃至6個の直鎖又は分
枝鎖アルキル基であり、好適には炭素数1乃至4個の直
鎖又は分枝鎖アルキル基であり、更に好適には炭素数1
乃至4個の直鎖アルキル基であり、最も好適には、メチ
ル基又はエチル基である。
基、低級アルコキシ基若しくは低級アルコキシカルボニ
ル基の低級アルキル部分は、例えば、メチル基、エチル
基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソ
ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、イ
ソペンチル基、2-メチルブチル基、ネオペンチル基、1-
エチルプロピル基、n-ヘキシル基、4-メチルペンチル
基、3-メチルペンチル基、2-メチルペンチル基、1-メチ
ルペンチル基、3,3-ジメチルブチル基、2,2-ジメチルブ
チル基、1,1-ジメチルブチル基、1,2-ジメチルブチル
基、1,3-ジメチルブチル基、2,3-ジメチルブチル基、2-
エチルブチル基のような炭素数1乃至6個の直鎖又は分
枝鎖アルキル基であり、好適には炭素数1乃至4個の直
鎖又は分枝鎖アルキル基であり、更に好適には炭素数1
乃至4個の直鎖アルキル基であり、最も好適には、メチ
ル基又はエチル基である。
【0010】前記一般式(I)中、A、B及びR1 の定
義における「ジ低級アルキルアミノ基」とは、同一又は
異なった2個の前記「低級アルキル基」が置換したアミ
ノ基であり、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミ
ノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、メチル
エチルアミノ基、メチルプロピルアミノ基、エチルプロ
ピルアミノ基のような基であり、好適には同一の低級ア
ルキル基が2個置換したアミノ基である。
義における「ジ低級アルキルアミノ基」とは、同一又は
異なった2個の前記「低級アルキル基」が置換したアミ
ノ基であり、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミ
ノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、メチル
エチルアミノ基、メチルプロピルアミノ基、エチルプロ
ピルアミノ基のような基であり、好適には同一の低級ア
ルキル基が2個置換したアミノ基である。
【0011】前記一般式(I)中、Bの定義における
「アミノ基で置換されたフェニル基」とは、例えば、2-
アミノフェニル基、3-アミノフェニル基、4-アミノフェ
ニル基、2,3-ジアミノフェニル基、2,4-ジアミノフェニ
ル基、2,5-ジアミノフェニル基、2,6-ジアミノフェニル
基、3,4-ジアミノフェニル基、3,5-ジアミノフェニル
基、2,4,6-トリアミノフェニル基のような1乃至3個の
アミノ基で置換されたフェニル基であり、好適には1個
のアミノ基で置換されたフェニル基である。
「アミノ基で置換されたフェニル基」とは、例えば、2-
アミノフェニル基、3-アミノフェニル基、4-アミノフェ
ニル基、2,3-ジアミノフェニル基、2,4-ジアミノフェニ
ル基、2,5-ジアミノフェニル基、2,6-ジアミノフェニル
基、3,4-ジアミノフェニル基、3,5-ジアミノフェニル
基、2,4,6-トリアミノフェニル基のような1乃至3個の
アミノ基で置換されたフェニル基であり、好適には1個
のアミノ基で置換されたフェニル基である。
【0012】前記一般式(I)中、Bの定義における
「ヘテロアリール基」とは、例えば、ピロリル基、イミ
ダゾリル基、ピラゾリル基、トリアゾリル基、ピリジル
基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、
ピロリジニル基、ピペリジル基、トリアジニル基、チエ
ニル基、フリル基、ピラニル基、イソチアゾリル基、イ
ソキサゾリル基のような、窒素原子のみを1乃至3個有
するか、又は窒素原子を1個有するか有しないで酸素原
子又は硫黄原子を1個有する、5又は6員複素環基であ
り、好適には窒素原子を1乃至2個のみを有する6員複
素環基、或いは酸素原子又は硫黄原子のみを1個有する
5員複素環基であり、更に好適にはピロリル基、イミダ
ゾリル基、ピラゾリル基、トリアゾリル基、ピリジル
基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、
ピロリジニル基、ピペリジル基、トリアジニル基、チエ
ニル基、フリル基であり、最も好適にはピリジル基、ピ
ロリジニル基、ピペリジル基、チエニル基、フリル基で
ある。
「ヘテロアリール基」とは、例えば、ピロリル基、イミ
ダゾリル基、ピラゾリル基、トリアゾリル基、ピリジル
基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、
ピロリジニル基、ピペリジル基、トリアジニル基、チエ
ニル基、フリル基、ピラニル基、イソチアゾリル基、イ
ソキサゾリル基のような、窒素原子のみを1乃至3個有
するか、又は窒素原子を1個有するか有しないで酸素原
子又は硫黄原子を1個有する、5又は6員複素環基であ
り、好適には窒素原子を1乃至2個のみを有する6員複
素環基、或いは酸素原子又は硫黄原子のみを1個有する
5員複素環基であり、更に好適にはピロリル基、イミダ
ゾリル基、ピラゾリル基、トリアゾリル基、ピリジル
基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、
ピロリジニル基、ピペリジル基、トリアジニル基、チエ
ニル基、フリル基であり、最も好適にはピリジル基、ピ
ロリジニル基、ピペリジル基、チエニル基、フリル基で
ある。
【0013】前記一般式(I)の各置換基の定義におけ
る「アラルキル基」とは、「アリール基」が前記「低級
アルキル基」に結合した基である。ここで、「アリ−ル
基」とは、例えばフェニル基、インデニル基、ナフチル
基、フェナンスレニル基、アントラセニル基のような炭
素数5乃至14個の芳香族炭化水素基であり、好適には
フェニル基又はナフチル基であり、更に好適にはフェニ
ル基である。
る「アラルキル基」とは、「アリール基」が前記「低級
アルキル基」に結合した基である。ここで、「アリ−ル
基」とは、例えばフェニル基、インデニル基、ナフチル
基、フェナンスレニル基、アントラセニル基のような炭
素数5乃至14個の芳香族炭化水素基であり、好適には
フェニル基又はナフチル基であり、更に好適にはフェニ
ル基である。
【0014】すなわち、Bの定義における「アラルキル
オキシ基」とは、例えば、ベンジルオキシ基、ナフチル
メチルオキシ基、2-フェネチルオキシ基、1-ナフチルエ
チルオキシ基、2-ナフチルエチルオキシ基のような前記
「アリール基」が1個前記「低級アルキル基」に置換し
た基、ジフェニルメチルオキシ基のような前記「アリー
ル基」が2個前記「低級アルキル基」に置換した基、ト
リフェニルメチルオキシ基のような前記「アリール基」
が2個前記「低級アルキル基」に置換した基であり、好
適には前記「アリール基」が1個前記「低級アルキル
基」に置換した基である。
オキシ基」とは、例えば、ベンジルオキシ基、ナフチル
メチルオキシ基、2-フェネチルオキシ基、1-ナフチルエ
チルオキシ基、2-ナフチルエチルオキシ基のような前記
「アリール基」が1個前記「低級アルキル基」に置換し
た基、ジフェニルメチルオキシ基のような前記「アリー
ル基」が2個前記「低級アルキル基」に置換した基、ト
リフェニルメチルオキシ基のような前記「アリール基」
が2個前記「低級アルキル基」に置換した基であり、好
適には前記「アリール基」が1個前記「低級アルキル
基」に置換した基である。
【0015】一般式(I)の化合物は、容易に薬理上許
容される塩に変換することができ、その塩としては、例
えば、フマル酸、酒石酸、乳酸、マレイン酸のような有
機酸との塩又は、例えば、塩酸、硫酸のような無機酸と
の塩等である。
容される塩に変換することができ、その塩としては、例
えば、フマル酸、酒石酸、乳酸、マレイン酸のような有
機酸との塩又は、例えば、塩酸、硫酸のような無機酸と
の塩等である。
【0016】一般式(I)において、好適な化合物とし
ては、 (1) Aが、無置換の低級アルコキシ基又はジ低級ア
ルキルアミノ基を置換基として有する低級アルコキシ基
である化合物、(2) Bが、アミノ基を置換基として
有するフェニル基、無置換の低級アルコキシ基、ヘテロ
アリール基を置換基として有する低級アルコキシ基、又
は−C(=NH)R1 基(R1 は低級アルコキシ基)で
ある化合物、を挙げることができる。
ては、 (1) Aが、無置換の低級アルコキシ基又はジ低級ア
ルキルアミノ基を置換基として有する低級アルコキシ基
である化合物、(2) Bが、アミノ基を置換基として
有するフェニル基、無置換の低級アルコキシ基、ヘテロ
アリール基を置換基として有する低級アルコキシ基、又
は−C(=NH)R1 基(R1 は低級アルコキシ基)で
ある化合物、を挙げることができる。
【0017】以下の表1に、本発明の一般式(I)を有
する化合物を具体的に例示するが、本発明はそれらに限
られるものではない。
する化合物を具体的に例示するが、本発明はそれらに限
られるものではない。
【0018】なお、表1において、Phはフェニル基、2-
Pyr は2-ピリジル基、2-Thi は2-チエニル基、2-Fur は
2-フリル基、1-Pyrdは1-ピロリジニル基、1-Pip は1-ピ
ペリジル基を示す。
Pyr は2-ピリジル基、2-Thi は2-チエニル基、2-Fur は
2-フリル基、1-Pyrdは1-ピロリジニル基、1-Pip は1-ピ
ペリジル基を示す。
【0019】
【表1】
【0020】
【化3】
【0021】 ─────────────────────────────── 化合物番号 A B ─────────────────────────────── 1 H -(4-NH2)Ph 2 H -OCH3 3 H -OCH2CH3 4 H -OCH2-(2-Pyr) 5 H -OCH2-(2-Thi) 6 H -OCH2-(2-Fur) 7 H -OCH2CH2-(2-Pyr) 8 H -OCH2CH2-(2-Thi) 9 H -OCH2CH2-(2-Fur) 10 H -OCH2CH2N(CH3)2 11 H -OCH2CH2N(CH2CH3)2 12 H -OCH2CH2CH2N(CH3)2 13 H -CN 14 H -CONH2 15 H -COOCH3 16 H -COOCH2CH3 17 H -C(=NH)OCH3 18 H -C(=NH)OCH2CH3 19 H -C(=NH)OCH2CH2CH3 20 H -C(=NH)N(CH2CH3)2 21 H -C(=NH)N(CH2CH2CH3)2 22 H -C(=NH)-(1-Pyrd) 23 H -C(=NH)-(1-Pip) 24 H -OCH2Ph 25 H -OCH2-(2-N(CH3)2)Ph 26 H -OCH2-(4-N(CH3)2)Ph 27 OCH3 -(4-NH2)Ph 28 OCH3 -OCH3 29 OCH3 -OCH2CH3 30 OCH3 -OCH2-(2-Pyr) 31 OCH3 -OCH2-(2-Thi) 32 OCH3 -OCH2-(2-Fur) 33 OCH3 -OCH2CH2-(2-Pyr) 34 OCH3 -OCH2CH2-(2-Thi) 35 OCH3 -OCH2CH2-(2-Fur) 36 OCH3 -OCH2CH2N(CH3)2 37 OCH3 -OCH2CH2N(CH2CH3)2 38 OCH3 -OCH2CH2CH2N(CH3)2 39 OCH3 -CN 40 OCH3 -CONH2 41 OCH3 -COOCH3 42 OCH3 -COOCH2CH3 43 OCH3 -C(=NH)OCH3 44 OCH3 -C(=NH)OCH2CH3 45 OCH3 -C(=NH)OCH2CH2CH3 46 OCH3 -C(=NH)N(CH2CH3)2 47 OCH3 -C(=NH)N(CH2CH2CH3)2 48 OCH3 -C(=NH)-(1-Pyrd) 49 OCH3 -C(=NH)-(1-Pip) 50 OCH3 -OCH2Ph 51 OCH3 -OCH2-(2-N(CH3)2)Ph 52 OCH3 -OCH2-(4-N(CH3)2)Ph 53 OCH2CH3 -(4-NH2)Ph 54 OCH2CH3 -OCH3 55 OCH2CH3 -OCH2CH3 56 OCH2CH3 -OCH2-(2-Pyr) 57 OCH2CH3 -OCH2-(2-Thi) 58 OCH2CH3 -OCH2-(2-Fur) 59 OCH2CH3 -OCH2CH2-(2-Pyr) 60 OCH2CH3 -OCH2CH2-(2-Thi) 61 OCH2CH3 -OCH2CH2-(2-Fur) 62 OCH2CH3 -OCH2CH2N(CH3)2 63 OCH2CH3 -OCH2CH2N(CH2CH3)2 64 OCH2CH3 -OCH2CH2CH2N(CH3)2 65 OCH2CH3 -CN 66 OCH2CH3 -CONH2 67 OCH2CH3 -COOCH3 68 OCH2CH3 -COOCH2CH3 69 OCH2CH3 -C(=NH)OCH3 70 OCH2CH3 -C(=NH)OCH2CH3 71 OCH2CH3 -C(=NH)OCH2CH2CH3 72 OCH2CH3 -C(=NH)N(CH2CH3)2 73 OCH2CH3 -C(=NH)N(CH2CH2CH3)2 74 OCH2CH3 -C(=NH)-(1-Pyrd) 75 OCH2CH3 -C(=NH)-(1-Pip) 76 OCH2CH3 -OCH2Ph 77 OCH2CH3 -OCH2-(2-N(CH3)2)Ph 78 OCH2CH3 -OCH2-(4-N(CH3)2)Ph 79 OCH2CH2CH3 -(4-NH2)Ph 80 OCH2CH2CH2CH3 -OCH2CH2N(CH2CH3)2 81 OCH2CH2N(CH3)2 -(4-NH2)Ph 82 OCH2CH2N(CH3)2 -OCH3 83 OCH2CH2N(CH3)2 -OCH2CH3 84 OCH2CH2N(CH3)2 -OCH2-(2-Pyr) 85 OCH2CH2N(CH3)2 -OCH2-(2-Thi) 86 OCH2CH2N(CH3)2 -OCH2-(2-Fur) 87 OCH2CH2N(CH3)2 -OCH2CH2-(2-Pyr) 88 OCH2CH2N(CH3)2 -OCH2CH2-(2-Thi) 89 OCH2CH2N(CH3)2 -OCH2CH2-(2-Fur) 90 OCH2CH2N(CH3)2 -OCH2CH2N(CH3)2 91 OCH2CH2N(CH3)2 -OCH2CH2N(CH2CH3)2 92 OCH2CH2N(CH3)2 -OCH2CH2CH2N(CH3)2 93 OCH2CH2N(CH3)2 -CN 94 OCH2CH2N(CH3)2 -CONH2 95 OCH2CH2N(CH3)2 -COOCH3 96 OCH2CH2N(CH3)2 -COOCH2CH3 97 OCH2CH2N(CH3)2 -C(=NH)OCH3 98 OCH2CH2N(CH3)2 -C(=NH)OCH2CH3 99 OCH2CH2N(CH3)2 -C(=NH)OCH2CH2CH3 100 OCH2CH2N(CH3)2 -C(=NH)N(CH2CH3)2 101 OCH2CH2N(CH3)2 -C(=NH)N(CH2CH2CH3)2 102 OCH2CH2N(CH3)2 -C(=NH)-(1-Pyrd) 103 OCH2CH2N(CH3)2 -C(=NH)-(1-Pip) 104 OCH2CH2N(CH3)2 -OCH2Ph 105 OCH2CH2N(CH3)2 -OCH2-(2-N(CH3)2)Ph 106 OCH2CH2N(CH3)2 -OCH2-(4-N(CH3)2)Ph 107 OCH2CH2N(CH2CH3)2 -(4-NH2)Ph 108 OCH2CH2N(CH2CH3)2 -CONH2 109 OCH2CH2N(CH2CH3)2 -COOCH2CH3 110 OCH2CH2N(CH2CH3)2 -C(=NH)-(1-Pyrd) 111 OCH2CH2CH2N(CH3)2 -(4-NH2)Ph 112 OCH2CH2CH2N(CH3)2 -CONH2 113 OCH2CH2CH2N(CH3)2 -C(=NH)N(CH2CH2CH3)2 114 OCH2CH2CH2N(CH2CH3)2 -(4-NH2)Ph 115 OCH2CH2CH2N(CH2CH3)2 -COOCH3 116 OCH2CH2CH2N(CH2CH3)2 -C(=NH)OCH2CH3 117 OCH2CH2CH2N(CH2CH3)2 -C(=NH)OCH2CH2CH3 118 OCH2CH2CH2N(CH2CH3)2 -C(=NH)-(1-Pip) 119 OCH2COOCH3 -OCH2CH2N(CH3)2 120 OCH2COOCH3 -OCH2-(2-Pyr) 121 OCH2COOCH3 -OCH2-(2-N(CH3)2)Ph 122 OCH2COOCH2CH3 -OCH2-(2-Pyr) 123 OCH2COOCH2CH2CH3 -OCH2-(2-Pyr) 124 OCH2CONH2 -OCH2CH2N(CH3)2 125 OCH2CONH2 -OCH2-(2-N(CH3)2)Ph ─────────────────────────────── 本発明の化合物は、以下に示す方法により製造すること
ができる。
ができる。
【0022】(A法)
【0023】
【化4】
【0024】上記式中、Bは前記と同意義を示し、R2
は、低級アルキル基(当該低級アルキル基は、ジ低級ア
ルキルアミノ基、低級アルコキシカルボニル基又はカル
バモイル基を置換基として有していてもよい。)を示
す。
は、低級アルキル基(当該低級アルキル基は、ジ低級ア
ルキルアミノ基、低級アルコキシカルボニル基又はカル
バモイル基を置換基として有していてもよい。)を示
す。
【0025】A法は、一般式(II)で示されるヒドロ
キシ誘導体を、不活性溶剤中、塩基の存在下、一般式R
2 X(式中、R2 は前述したものと同意義を示し、Xは
塩素原子、臭素原子、沃素原子のようなハロゲン原子を
示す。)で示されるハロゲン化物でアルキル化反応を行
い、化合物(III)(一般式(I)において、Aが、
低級アルコキシ基(当該低級アルコキシ基は、ジ低級ア
ルキルアミノ基、低級アルコキシカルボニル基又はカル
バモイル基を置換基として有していてもよい。)である
化合物)を製造する方法である。
キシ誘導体を、不活性溶剤中、塩基の存在下、一般式R
2 X(式中、R2 は前述したものと同意義を示し、Xは
塩素原子、臭素原子、沃素原子のようなハロゲン原子を
示す。)で示されるハロゲン化物でアルキル化反応を行
い、化合物(III)(一般式(I)において、Aが、
低級アルコキシ基(当該低級アルコキシ基は、ジ低級ア
ルキルアミノ基、低級アルコキシカルボニル基又はカル
バモイル基を置換基として有していてもよい。)である
化合物)を製造する方法である。
【0026】使用される溶媒としては、本反応に関与し
ないものであれば特に限定はないが、好適にはテトラヒ
ドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、ベンゼ
ン、トルエンのような芳香族炭化水素類、N,N−ジメ
チルホルムアミドのようなアミド類若しくはジメチルス
ルホキシドのようなスルホキシド類又はこれらの混合溶
剤であり、さらに好適にはアミド類である。
ないものであれば特に限定はないが、好適にはテトラヒ
ドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、ベンゼ
ン、トルエンのような芳香族炭化水素類、N,N−ジメ
チルホルムアミドのようなアミド類若しくはジメチルス
ルホキシドのようなスルホキシド類又はこれらの混合溶
剤であり、さらに好適にはアミド類である。
【0027】使用される塩基としては、化合物の他の部
分に影響を与えないものであれば特に限定はないが、好
適には水酸化ナトリウム、水酸化バリウムのようなアル
カリ金属水酸化物及びアルカリ土類金属水酸化物、水素
化ナトリウム、水素化リチウムのようなアルカリ金属水
素化物、トリエチルアミン、1,5−ジアザビシクロ
[5,4,0]ウンデク−5−エン、ピリジンのような
有機塩基であり、さらに好適にはアルカリ金属水素化物
及びアルカリ土類金属水酸化物である。
分に影響を与えないものであれば特に限定はないが、好
適には水酸化ナトリウム、水酸化バリウムのようなアル
カリ金属水酸化物及びアルカリ土類金属水酸化物、水素
化ナトリウム、水素化リチウムのようなアルカリ金属水
素化物、トリエチルアミン、1,5−ジアザビシクロ
[5,4,0]ウンデク−5−エン、ピリジンのような
有機塩基であり、さらに好適にはアルカリ金属水素化物
及びアルカリ土類金属水酸化物である。
【0028】反応温度は−10℃乃至120℃で行なわ
れるが、好適には0℃乃至室温である。
れるが、好適には0℃乃至室温である。
【0029】反応時間は、主に反応温度、原料化合物、
反応試薬又は使用される溶媒の種類によって異なるが、
通常30分乃至2日間であり、好適には1乃至15時間
である。
反応試薬又は使用される溶媒の種類によって異なるが、
通常30分乃至2日間であり、好適には1乃至15時間
である。
【0030】反応終了後、目的の化合物(III)は常
法に従って反応混合物から採取される。例えば、反応終
了後、過剰の塩基を酢酸で中和し、乾固して得られる残
渣を水と酢酸エチルのような有機溶剤に分配し、有機溶
剤層を水洗、乾燥し、さらに有機溶剤を留去して得られ
る。得られた目的化合物は必要ならば常法、例えば再結
晶、再沈殿、クロマトグラフィーなどによって更に精製
できる。
法に従って反応混合物から採取される。例えば、反応終
了後、過剰の塩基を酢酸で中和し、乾固して得られる残
渣を水と酢酸エチルのような有機溶剤に分配し、有機溶
剤層を水洗、乾燥し、さらに有機溶剤を留去して得られ
る。得られた目的化合物は必要ならば常法、例えば再結
晶、再沈殿、クロマトグラフィーなどによって更に精製
できる。
【0031】また所望により、R2 が低級アルコキシカ
ルボニルで置換された低級アルキル基である化合物(I
IIa)は、例えばメタノール、エタノールのようなア
ルコール中、濃アンモニア水と室温付近で1時間乃至1
2時間反応させることにより、R2 がカルバモイルで置
換された低級アルキル基である化合物(IIIb)へと
変換できる。
ルボニルで置換された低級アルキル基である化合物(I
IIa)は、例えばメタノール、エタノールのようなア
ルコール中、濃アンモニア水と室温付近で1時間乃至1
2時間反応させることにより、R2 がカルバモイルで置
換された低級アルキル基である化合物(IIIb)へと
変換できる。
【0032】(B法)
【0033】
【化5】
【0034】上記式中、Aは前記と同意義を示し、nは
1乃至3を示す。
1乃至3を示す。
【0035】B法は、一般式(IV)を有する化合物を
接触還元又は亜鉛のような金属による還元を行うことに
より化合物(V)(一般式(I)において、Bが1乃至
3個のアミノ基で置換されたフェニル基である化合物)
を製造する方法である。
接触還元又は亜鉛のような金属による還元を行うことに
より化合物(V)(一般式(I)において、Bが1乃至
3個のアミノ基で置換されたフェニル基である化合物)
を製造する方法である。
【0036】接触還元を行う場合、使用される触媒は、
例えばパラジウム、白金などである。
例えばパラジウム、白金などである。
【0037】使用される溶剤は、例えばメタノール、エ
タノールなどのアルコール類、酢酸エチルのようなエス
テル類又はテトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエー
テル類である。
タノールなどのアルコール類、酢酸エチルのようなエス
テル類又はテトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエー
テル類である。
【0038】反応温度は、通常20乃至100℃であ
り、好適には30乃至80℃である。
り、好適には30乃至80℃である。
【0039】反応時間は、通常1乃至24時間であり、
好適には2乃至5時間である。
好適には2乃至5時間である。
【0040】反応終了後、目的化合物は常法に従って反
応混合物から採取される。例えば反応液を塩化メチレン
などの溶剤で希釈し、反応に用いた触媒をセライトで濾
過して除き、溶剤を留去することによって得られる。
応混合物から採取される。例えば反応液を塩化メチレン
などの溶剤で希釈し、反応に用いた触媒をセライトで濾
過して除き、溶剤を留去することによって得られる。
【0041】金属による還元を行う場合、使用される金
属は、例えば亜鉛である。
属は、例えば亜鉛である。
【0042】使用される溶剤は、例えばメタノール、エ
タノールのようなアルコール類と酢酸との混合溶剤であ
る。
タノールのようなアルコール類と酢酸との混合溶剤であ
る。
【0043】反応温度は、通常室温乃至100℃であ
り、好適には40乃至60℃である。反応時間は、通常
1乃至12時間であり、好適には2乃至4時間である。
り、好適には40乃至60℃である。反応時間は、通常
1乃至12時間であり、好適には2乃至4時間である。
【0044】反応終了後、目的化合物は常法に従って反
応混合物から採取される。例えば反応液を塩化メチレン
などの溶剤で希釈し、反応に用いた触媒をセライトで濾
過して除き、溶剤を留去することによって得られる。
応混合物から採取される。例えば反応液を塩化メチレン
などの溶剤で希釈し、反応に用いた触媒をセライトで濾
過して除き、溶剤を留去することによって得られる。
【0045】(C法)
【0046】
【化6】
【0047】上記式中、R2 は前記と同意義を示し、B
1は、低級アルコキシ基(当該低級アルコキシ基は、ヘ
テロアリール基又はジ低級アルキルアミノ基を置換基と
して有していてもよい。)又はアラルキルオキシ基(当
該アラルキルオキシ基は、ジ低級アルキルアミノ基を置
換基として有していてもよい。)を示す。
1は、低級アルコキシ基(当該低級アルコキシ基は、ヘ
テロアリール基又はジ低級アルキルアミノ基を置換基と
して有していてもよい。)又はアラルキルオキシ基(当
該アラルキルオキシ基は、ジ低級アルキルアミノ基を置
換基として有していてもよい。)を示す。
【0048】C法は、塩基存在下、シアノ化合物(V
I)に対して一般式B1 Hを有する化合物を用いて付加
脱離反応することにより、化合物(VII)(一般式
(I)において、Aが低級アルコキシ基(当該低級アル
コキシ基は、ジ低級アルキルアミノ基、低級アルコキシ
カルボニル基又はカルバモイル基を置換基として有して
いてもよい。)であり、Bが低級アルコキシ基(当該低
級アルコキシ基は、ヘテロアリール基又はジ低級アルキ
ルアミノ基を置換基として有していてもよい。)又はア
ラルキルオキシ基(当該アラルキルオキシ基は、ジ低級
アルキルアミノ基を置換基として有していてもよい。)
である化合物)を製造する方法である。
I)に対して一般式B1 Hを有する化合物を用いて付加
脱離反応することにより、化合物(VII)(一般式
(I)において、Aが低級アルコキシ基(当該低級アル
コキシ基は、ジ低級アルキルアミノ基、低級アルコキシ
カルボニル基又はカルバモイル基を置換基として有して
いてもよい。)であり、Bが低級アルコキシ基(当該低
級アルコキシ基は、ヘテロアリール基又はジ低級アルキ
ルアミノ基を置換基として有していてもよい。)又はア
ラルキルオキシ基(当該アラルキルオキシ基は、ジ低級
アルキルアミノ基を置換基として有していてもよい。)
である化合物)を製造する方法である。
【0049】使用される溶剤は、例えばN,N−ジメチ
ルホルムアミド、N−メチルピロリドン、リン酸トリア
ミドのような非プロトン性極性溶剤であり、好適には
N,N−ジメチルホルムアミドである。
ルホルムアミド、N−メチルピロリドン、リン酸トリア
ミドのような非プロトン性極性溶剤であり、好適には
N,N−ジメチルホルムアミドである。
【0050】使用される塩基は、例えば水素化リチウ
ム、水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカ
リ金属水素化物であり、好適には水素化ナトリウムであ
る。
ム、水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカ
リ金属水素化物であり、好適には水素化ナトリウムであ
る。
【0051】反応温度は、通常−20乃至100℃であ
るが、好適には−10乃至50℃である。
るが、好適には−10乃至50℃である。
【0052】反応時間は主に反応温度、原料化合物の種
類によって異なり、通常5分乃至2日間であり、好適に
は10分間乃至1日間である。
類によって異なり、通常5分乃至2日間であり、好適に
は10分間乃至1日間である。
【0053】(D法)
【0054】
【化7】
【0055】上記式中、R2 は前記と同意義を示し、B
2は、低級アルコキシカルボニル基、式−C(=NH)
R1 を有する基(R1 は、低級アルコキシ基、ジ低級ア
ルキルアミノ基又はピペリジノ基を示す。)、ヒドロキ
シメチル基又はピリジルオキシメチル基を示す。
2は、低級アルコキシカルボニル基、式−C(=NH)
R1 を有する基(R1 は、低級アルコキシ基、ジ低級ア
ルキルアミノ基又はピペリジノ基を示す。)、ヒドロキ
シメチル基又はピリジルオキシメチル基を示す。
【0056】D法は、塩基存在下、シアノ化合物(V
I)に対して、アルコール類の付加反応を行うことによ
り、化合物(VIIIa)(一般式(I)において、A
が低級アルコキシ基(当該低級アルコキシ基は、ジ低級
アルキルアミノ基、低級アルコキシカルボニル基又はカ
ルバモイル基を置換基として有していてもよい。)であ
り、Bが低級アルコキシカルボニル基又は式−C(=N
H)R1 を有する基(R1 は、低級アルコキシ基を示
す。)である化合物)を製造するか、水の付加反応を行
うことにより、化合物(VIIIb)(一般式(I)に
おいて、Aが低級アルコキシ基(当該低級アルコキシ基
は、ジ低級アルキルアミノ基、低級アルコキシカルボニ
ル基又はカルバモイル基を置換基として有していてもよ
い。)であり、Bがカルバモイル基である化合物)を製
造するか、又はアミン類の付加反応を行うことにより、
化合物(VIIIc)(一般式(I)において、Aが低
級アルコキシ基(当該低級アルコキシ基は、ジ低級アル
キルアミノ基、低級アルコキシカルボニル基又はカルバ
モイル基を置換基として有していてもよい。)であり、
Bが式−C(=NH)R1 を有する基(R1 は、ジ低級
アルキルアミノ基又はピペリジノ基を示す。)である化
合物)を製造する方法である。本方法は、本方法で製造
された化合物(VIIIa)を加水分解することにより
B2 が低級アルコキシカルボニル基である化合物(VI
II)を製造し、さらにB2 が低級アルコキシカルボニ
ル基である化合物(VIII)を還元することによりB
2 がヒドロキシメチル基である化合物を製造し、さらに
B2 がヒドロキシメチル基である化合物にハロゲン化ピ
リジンを反応させることによりB2 がピリジルオキシメ
チル基である化合物を製造する方法をも含有する。
I)に対して、アルコール類の付加反応を行うことによ
り、化合物(VIIIa)(一般式(I)において、A
が低級アルコキシ基(当該低級アルコキシ基は、ジ低級
アルキルアミノ基、低級アルコキシカルボニル基又はカ
ルバモイル基を置換基として有していてもよい。)であ
り、Bが低級アルコキシカルボニル基又は式−C(=N
H)R1 を有する基(R1 は、低級アルコキシ基を示
す。)である化合物)を製造するか、水の付加反応を行
うことにより、化合物(VIIIb)(一般式(I)に
おいて、Aが低級アルコキシ基(当該低級アルコキシ基
は、ジ低級アルキルアミノ基、低級アルコキシカルボニ
ル基又はカルバモイル基を置換基として有していてもよ
い。)であり、Bがカルバモイル基である化合物)を製
造するか、又はアミン類の付加反応を行うことにより、
化合物(VIIIc)(一般式(I)において、Aが低
級アルコキシ基(当該低級アルコキシ基は、ジ低級アル
キルアミノ基、低級アルコキシカルボニル基又はカルバ
モイル基を置換基として有していてもよい。)であり、
Bが式−C(=NH)R1 を有する基(R1 は、ジ低級
アルキルアミノ基又はピペリジノ基を示す。)である化
合物)を製造する方法である。本方法は、本方法で製造
された化合物(VIIIa)を加水分解することにより
B2 が低級アルコキシカルボニル基である化合物(VI
II)を製造し、さらにB2 が低級アルコキシカルボニ
ル基である化合物(VIII)を還元することによりB
2 がヒドロキシメチル基である化合物を製造し、さらに
B2 がヒドロキシメチル基である化合物にハロゲン化ピ
リジンを反応させることによりB2 がピリジルオキシメ
チル基である化合物を製造する方法をも含有する。
【0057】付加反応の条件は、付加反応に用いる化合
物によって異なる。
物によって異なる。
【0058】アルコール類を付加反応に用いる場合、付
加させるアルコール類を溶剤として用いる。塩基として
は、付加させるアルコール類のナトリウム塩又はカリウ
ム塩のようなアルカリ金属アルコラートを用いることに
よって行われ、好適にはナトリウムアルコラートであ
る。反応温度は、通常−10乃至50℃であり、好適に
は氷冷乃至室温である。反応時間は、主に反応温度、原
料化合物の種類によって異なるが、通常2分間乃至10
時間であり、好適には10分間乃至2時間である。反応
の終了後、目的の化合物は常法に従って反応混合物から
採取される。例えば、酢酸を加えて過剰の塩基を中和し
た後、溶剤を留去し、残渣を水と酢酸エチルのような有
機溶剤に分配し、さらに溶剤を留去して得られる。得ら
れた目的化合物は必要ならば常法、例えば再結晶、再沈
殿またはクロマトグラフィなどによって更に精製でき
る。
加させるアルコール類を溶剤として用いる。塩基として
は、付加させるアルコール類のナトリウム塩又はカリウ
ム塩のようなアルカリ金属アルコラートを用いることに
よって行われ、好適にはナトリウムアルコラートであ
る。反応温度は、通常−10乃至50℃であり、好適に
は氷冷乃至室温である。反応時間は、主に反応温度、原
料化合物の種類によって異なるが、通常2分間乃至10
時間であり、好適には10分間乃至2時間である。反応
の終了後、目的の化合物は常法に従って反応混合物から
採取される。例えば、酢酸を加えて過剰の塩基を中和し
た後、溶剤を留去し、残渣を水と酢酸エチルのような有
機溶剤に分配し、さらに溶剤を留去して得られる。得ら
れた目的化合物は必要ならば常法、例えば再結晶、再沈
殿またはクロマトグラフィなどによって更に精製でき
る。
【0059】また所望により、式(VIIIa)の化合
物中、B2 が式−C(=NH)R1を有する基(R1
は、低級アルコキシ基を示す。)である化合物を、1,
2−ジメトキシエタンのようなエーテル系溶剤中、塩酸
のような酸で室温付近で1時間乃至10時間処理し加水
分解することによって、B2 が低級アルコキシカルボニ
ル基である化合物(VIII)に変換することができ
る。
物中、B2 が式−C(=NH)R1を有する基(R1
は、低級アルコキシ基を示す。)である化合物を、1,
2−ジメトキシエタンのようなエーテル系溶剤中、塩酸
のような酸で室温付近で1時間乃至10時間処理し加水
分解することによって、B2 が低級アルコキシカルボニ
ル基である化合物(VIII)に変換することができ
る。
【0060】またさらにB2 が低級アルコキシカルボニ
ル基である化合物(VIII)を、水素ホウ素ナトリウ
ムのような還元剤を用いて、メタノール、エタノールの
ようなアルコール中、室温付近で1時間乃至10時間反
応させて還元することにより、B2 がヒドロキシメチル
基である化合物(VIII)とすることができる。
ル基である化合物(VIII)を、水素ホウ素ナトリウ
ムのような還元剤を用いて、メタノール、エタノールの
ようなアルコール中、室温付近で1時間乃至10時間反
応させて還元することにより、B2 がヒドロキシメチル
基である化合物(VIII)とすることができる。
【0061】この、B2 がヒドロキシメチル基である化
合物(VIII)をさらに水素化ナトリウムのような塩
基の存在下、2−フルオロピリジン又は4−ブロモピリ
ジンのようなハロゲン化ピリジンと常法に従って反応さ
せることにより、B2 がピリジルオキシメチル基である
化合物(VIII)へと変換することができる。
合物(VIII)をさらに水素化ナトリウムのような塩
基の存在下、2−フルオロピリジン又は4−ブロモピリ
ジンのようなハロゲン化ピリジンと常法に従って反応さ
せることにより、B2 がピリジルオキシメチル基である
化合物(VIII)へと変換することができる。
【0062】水を付加反応に用いる場合、1,2−ジメ
トキシエタン又はテトラヒドロフランのような水と混合
可能なエーテル系溶剤と水との混合溶剤中、苛性ソーダ
または苛性カリのようなアルカリ金属水酸化物を塩基触
媒として用いて行われる。反応温度は、通常室温乃至1
00℃であり、好適には40乃至70℃である。反応時
間は、主に反応温度、原料化合物の種類によって異なる
が、通常30分間乃至10時間であり、好適には1時間
乃至5時間である。反応終了後、目的化合物は前述のア
ルコールを用いた付加反応の場合と同様な操作により、
採取、精製される。
トキシエタン又はテトラヒドロフランのような水と混合
可能なエーテル系溶剤と水との混合溶剤中、苛性ソーダ
または苛性カリのようなアルカリ金属水酸化物を塩基触
媒として用いて行われる。反応温度は、通常室温乃至1
00℃であり、好適には40乃至70℃である。反応時
間は、主に反応温度、原料化合物の種類によって異なる
が、通常30分間乃至10時間であり、好適には1時間
乃至5時間である。反応終了後、目的化合物は前述のア
ルコールを用いた付加反応の場合と同様な操作により、
採取、精製される。
【0063】アミン類を付加反応に用いた場合、付加さ
せる二級アミンを溶剤として用いる。反応温度は、通常
室温乃至150℃であり、好適には50乃至100℃で
ある。反応時間は、主に反応温度、原料化合物の種類に
よって異なるが、通常1時間乃至7日間であり、好適に
は5時間乃至2日間である。反応終了後、目的の化合物
は常法に従って反応混合物から採取される。例えば、過
剰のアミンを減圧留去し、得られた残渣をクロマトグラ
フィーなどによって精製することにより目的化合物を得
ることができる。
せる二級アミンを溶剤として用いる。反応温度は、通常
室温乃至150℃であり、好適には50乃至100℃で
ある。反応時間は、主に反応温度、原料化合物の種類に
よって異なるが、通常1時間乃至7日間であり、好適に
は5時間乃至2日間である。反応終了後、目的の化合物
は常法に従って反応混合物から採取される。例えば、過
剰のアミンを減圧留去し、得られた残渣をクロマトグラ
フィーなどによって精製することにより目的化合物を得
ることができる。
【0064】(E法)
【0065】
【化8】
【0066】上記式中、Bは前記と同意義を示す。
【0067】F法は、一般式(II)で示される化合物
のベンズイミダゾール環1位のヒドロキシ基を還元的に
除去することにより、化合物(IX)(一般式(I)に
おいてAが水素原子である化合物)を製造する方法であ
る。
のベンズイミダゾール環1位のヒドロキシ基を還元的に
除去することにより、化合物(IX)(一般式(I)に
おいてAが水素原子である化合物)を製造する方法であ
る。
【0068】ヒドロキシ基の除去は、三塩化チタニウム
のような低原子価金属による還元又は接触還元によって
行われる。
のような低原子価金属による還元又は接触還元によって
行われる。
【0069】低原子価金属による還元においては、例え
ばメタノール、エタノールのようなアルコール類と水と
の混合溶剤が使用され、好適にはメタノールと水の混合
溶剤である。反応温度は、−30乃至70℃である。反
応時間は、反応温度により異なるが、通常10分間乃至
5時間である。
ばメタノール、エタノールのようなアルコール類と水と
の混合溶剤が使用され、好適にはメタノールと水の混合
溶剤である。反応温度は、−30乃至70℃である。反
応時間は、反応温度により異なるが、通常10分間乃至
5時間である。
【0070】接触還元は、B法に記載した方法に準じて
行うことができる。
行うことができる。
【0071】(F法)
【0072】
【化9】
【0073】上記式中、Bは前記と同意義を示し、R3
はヒドロキシ基の保護基で、例えばテトラヒドロ−2−
ピラニル基、メトキシメチル基のような酸により除去さ
れる保護基であり、好適にはテトラヒドロ−2−ピラニ
ル基である。
はヒドロキシ基の保護基で、例えばテトラヒドロ−2−
ピラニル基、メトキシメチル基のような酸により除去さ
れる保護基であり、好適にはテトラヒドロ−2−ピラニ
ル基である。
【0074】F法は、一般式(II)で示される化合物
のヒドロキシ基を保護、脱保護する方法である。
のヒドロキシ基を保護、脱保護する方法である。
【0075】保護は、常法に従って行なうことができ
る。
る。
【0076】すなわち、テトラヒドロ−2−ピラニル基
によって保護する場合、酸触媒を用いて3,4−ジヒド
ロ−2H−ピランと反応させることによって保護が行わ
れる。用いられる酸としては、p−トルエンスルホン
酸、カンファースルホン酸のような有機酸を挙げること
ができる。使用される溶媒としては、塩化メチレン、
1,2−ジクロロエタンのようなハロゲン化炭素であ
る。反応温度は、通常−10℃乃至30℃である。反応
時間は、反応温度により異なるが、通常30分間乃至1
2時間である。
によって保護する場合、酸触媒を用いて3,4−ジヒド
ロ−2H−ピランと反応させることによって保護が行わ
れる。用いられる酸としては、p−トルエンスルホン
酸、カンファースルホン酸のような有機酸を挙げること
ができる。使用される溶媒としては、塩化メチレン、
1,2−ジクロロエタンのようなハロゲン化炭素であ
る。反応温度は、通常−10℃乃至30℃である。反応
時間は、反応温度により異なるが、通常30分間乃至1
2時間である。
【0077】また、メトキシメチル基によって保護する
場合、塩基触媒を用いてメトキシメチルクロリドと反応
させることによって保護が行われる。用いられる塩基と
してはトリエチルアミン、1,8−ジアザビシクロ
[5,4,0]ウンデセンのような有機塩基又は水素化
リチウム若しくは水素化ナトリウムのような金属水素化
物である。用いられる溶剤としては、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンのようなエーテル系溶剤である。反応温
度は通常0乃至150℃である。反応時間は、反応温度
により異なるが、通常30分間乃至12時間である。
場合、塩基触媒を用いてメトキシメチルクロリドと反応
させることによって保護が行われる。用いられる塩基と
してはトリエチルアミン、1,8−ジアザビシクロ
[5,4,0]ウンデセンのような有機塩基又は水素化
リチウム若しくは水素化ナトリウムのような金属水素化
物である。用いられる溶剤としては、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンのようなエーテル系溶剤である。反応温
度は通常0乃至150℃である。反応時間は、反応温度
により異なるが、通常30分間乃至12時間である。
【0078】脱保護は、酸を用いて行なうことができ
る。用いる酸としては、例えばトリフルオロ酢酸、臭化
水素、塩酸、蟻酸又はアンバーリスト15のような酸性
樹脂等を挙げることができる。使用される溶剤として
は、例えばテトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエ
タンのようなエーテル類又はメタノール、エタノールの
ようなアルコール類と水との混合溶剤を挙げることがで
きる。反応温度は、通常−10℃乃至溶剤の沸点であ
る。反応時間は、反応温度により異なるが、通常30分
間乃至12時間である。
る。用いる酸としては、例えばトリフルオロ酢酸、臭化
水素、塩酸、蟻酸又はアンバーリスト15のような酸性
樹脂等を挙げることができる。使用される溶剤として
は、例えばテトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエ
タンのようなエーテル類又はメタノール、エタノールの
ようなアルコール類と水との混合溶剤を挙げることがで
きる。反応温度は、通常−10℃乃至溶剤の沸点であ
る。反応時間は、反応温度により異なるが、通常30分
間乃至12時間である。
【0079】
【発明の効果】本発明の化合物は、以下に示すように、
すぐれた胃液分泌抑制効果を有し、抗潰瘍剤として有用
である。
すぐれた胃液分泌抑制効果を有し、抗潰瘍剤として有用
である。
【0080】[胃液分泌抑制効果]Shay法[H.S
hay:Gastroenterology,5巻,4
3頁(1945年)]に基づき、以下のように行った。
体重約180〜200gのSD系雄性ラットを一群5匹
用いた。実験前24時間絶食させ、水は自由に摂取させ
た。エーテル麻酔下に開腹し、幽門部を結紮し、0.5 %
カルボキシメチルセルロース液で懸濁した被験化合物を
十二指腸内に投与した。4時間後にラットを炭酸ガス吸
入にて殺し、胃を摘出、胃液を採取した。2500rp
mで15分間遠心分離後、上清の液量を測定した。対照
群に対する抑制率(R)を次式で算出し、表2に示し
た。
hay:Gastroenterology,5巻,4
3頁(1945年)]に基づき、以下のように行った。
体重約180〜200gのSD系雄性ラットを一群5匹
用いた。実験前24時間絶食させ、水は自由に摂取させ
た。エーテル麻酔下に開腹し、幽門部を結紮し、0.5 %
カルボキシメチルセルロース液で懸濁した被験化合物を
十二指腸内に投与した。4時間後にラットを炭酸ガス吸
入にて殺し、胃を摘出、胃液を採取した。2500rp
mで15分間遠心分離後、上清の液量を測定した。対照
群に対する抑制率(R)を次式で算出し、表2に示し
た。
【0081】R=(1−B/A)×100 A:対照群の胃液量(ml/100g体重) B:検体投与群の胃液量(ml/100g体重)
【0082】
【表2】 本発明の化合物(I)およびその薬理上許容される塩
類を抗潰瘍剤として用いる場合、その投与形態として
は、例えば、錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤若しくは
ドライシロップ等による経口投与または注射剤、噴霧
剤、点眼剤貼付剤もしくは座剤等による非経口的投与を
挙げることができ、好適には、経口投与を挙げることが
できる。
類を抗潰瘍剤として用いる場合、その投与形態として
は、例えば、錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤若しくは
ドライシロップ等による経口投与または注射剤、噴霧
剤、点眼剤貼付剤もしくは座剤等による非経口的投与を
挙げることができ、好適には、経口投与を挙げることが
できる。
【0083】これらの製剤は、賦形剤、希釈剤、結合
剤、崩壊剤、安定剤、滑沢剤、矯味矯臭剤等の添加剤を
用いて周知の方法で製造される。その使用量は症状、年
齢等により異なるが、経口的には、1日当たり1乃至5
00mg(好適には、10乃至100mg)を、非経口
的には、1日当たり0.1乃至50mg(好適には、1
乃至10mg)を成人に対して1日1回又は数回に分け
て投与することができる。
剤、崩壊剤、安定剤、滑沢剤、矯味矯臭剤等の添加剤を
用いて周知の方法で製造される。その使用量は症状、年
齢等により異なるが、経口的には、1日当たり1乃至5
00mg(好適には、10乃至100mg)を、非経口
的には、1日当たり0.1乃至50mg(好適には、1
乃至10mg)を成人に対して1日1回又は数回に分け
て投与することができる。
【0084】
【実施例】以下に、実施例及び参考例を示して本発明を
さらに詳細に説明するが、本発明の範囲はこれに限られ
るものではない。
さらに詳細に説明するが、本発明の範囲はこれに限られ
るものではない。
【0085】実施例1 2−(4−アミノフェニル)−1−ヒドロキシベンズイ
ミダゾール(B法) (その1)2−(4−ニトロフェニル)−1−ヒドロキ
シベンズイミダゾール200mg(0.78mmol)のメタノー
ル−酢酸(10:1)5ml溶液に亜鉛1.6g(24.4m
mol)を加え室温で6時間撹拌した。反応液をセライトで
濾過した後、沈殿をメタノールで洗浄し、濾液と洗液を
合わせ溶剤を留去した。残渣にメタノール10mlを加
え不溶物を濾過して除き、得られた濾液にシリカゲル3
gを加え溶剤を留去した。これをシリカゲル20gにチ
ャージして、塩化メチレン−メタノール(10:1〜
2)で溶出して少量の不純物を含む目的物145mgを得
た。この粉末を酢酸エチルで洗浄し、目的物107mg
(60%)を得た。 (その2)2−(4−ニトロフェニル)−1−ヒドロキ
シベンズイミダゾール600mg(2.35mmol)を苛性ソー
ダ94mg(2.35mmol)の水−メタノール(1:1)20
ml溶液に加えて溶解させ、さらに2N塩酸を加え溶液
のpHを9にした。これに10%パラジウム−炭素を加
え水素気流中激しく5時間撹拌した。セライトを用い反
応液を濾過し、濾液を酢酸エチルと水に分配した後、水
層を酢酸エチルで洗浄した。水層を0.5N塩酸で中和
して濃縮乾固し、メタノールを加え、不溶物を濾過して
除いた。濾液から溶剤を留去して目的物197mg(3
7%)を得た。 分解点 131.5−146℃ IRスペクトル(KBr)cm-1 :3345,3213,1606,1492,1458 NMR スペクトル(メタノールd4-CDCl3,3:1):6.58(2H,d,J=8H
z),6.7-7.7(4H,m),8.03(2H,d,J=8Hz) マススペクトル(m/z) :225(M+,C13H11N2O) 元素分析値 C13H11N2O として 計算値:C,69.10;H,4.99;N,19.01 実測値:C,69.31;H,4.92;N,18.65。
ミダゾール(B法) (その1)2−(4−ニトロフェニル)−1−ヒドロキ
シベンズイミダゾール200mg(0.78mmol)のメタノー
ル−酢酸(10:1)5ml溶液に亜鉛1.6g(24.4m
mol)を加え室温で6時間撹拌した。反応液をセライトで
濾過した後、沈殿をメタノールで洗浄し、濾液と洗液を
合わせ溶剤を留去した。残渣にメタノール10mlを加
え不溶物を濾過して除き、得られた濾液にシリカゲル3
gを加え溶剤を留去した。これをシリカゲル20gにチ
ャージして、塩化メチレン−メタノール(10:1〜
2)で溶出して少量の不純物を含む目的物145mgを得
た。この粉末を酢酸エチルで洗浄し、目的物107mg
(60%)を得た。 (その2)2−(4−ニトロフェニル)−1−ヒドロキ
シベンズイミダゾール600mg(2.35mmol)を苛性ソー
ダ94mg(2.35mmol)の水−メタノール(1:1)20
ml溶液に加えて溶解させ、さらに2N塩酸を加え溶液
のpHを9にした。これに10%パラジウム−炭素を加
え水素気流中激しく5時間撹拌した。セライトを用い反
応液を濾過し、濾液を酢酸エチルと水に分配した後、水
層を酢酸エチルで洗浄した。水層を0.5N塩酸で中和
して濃縮乾固し、メタノールを加え、不溶物を濾過して
除いた。濾液から溶剤を留去して目的物197mg(3
7%)を得た。 分解点 131.5−146℃ IRスペクトル(KBr)cm-1 :3345,3213,1606,1492,1458 NMR スペクトル(メタノールd4-CDCl3,3:1):6.58(2H,d,J=8H
z),6.7-7.7(4H,m),8.03(2H,d,J=8Hz) マススペクトル(m/z) :225(M+,C13H11N2O) 元素分析値 C13H11N2O として 計算値:C,69.10;H,4.99;N,19.01 実測値:C,69.31;H,4.92;N,18.65。
【0086】実施例2 2−(4−アミノフェニル)−1−メトキシベンズイミ
ダゾール(A法) 参考例1の化合物1.00g(3.71mmol)のテトラヒドロ
フラン20ml溶液に10%パラジウム−炭素300m
gを加え、氷浄しながら水素気流下激しく4時間撹拌し
た。セライトを用い反応液を濾過し、触媒を酢酸エチル
で洗浄した。洗液と濾液を合わせ、溶剤を留去して得ら
れた残渣をアルミナ55gを用いるカラムクロマトグラ
フィーに付し、塩化メチレン−ヘキサン(2:1)で溶
出して、目的物624mg(69%)を結晶として得
た。 融点 114−116℃(エタノール−ヘキサンより再
結晶) IRスペクトル(nujol)cm-1 :3450,3300,3175,1639,161
0,1310 NMR スペクトル(CDCl3) δppm :3.4-4.3(2H,br.s),3.89
(3H,s),6.68(2H,d,J=8Hz),7.0-7.9(4H,m),8.0(2H,d,J=8
Hz) 元素分析値 C14H13N3O として 計算値:C,70.28;H,5.48;N,17.56 実測値:C,69.87;H,5.64;N,17.36。
ダゾール(A法) 参考例1の化合物1.00g(3.71mmol)のテトラヒドロ
フラン20ml溶液に10%パラジウム−炭素300m
gを加え、氷浄しながら水素気流下激しく4時間撹拌し
た。セライトを用い反応液を濾過し、触媒を酢酸エチル
で洗浄した。洗液と濾液を合わせ、溶剤を留去して得ら
れた残渣をアルミナ55gを用いるカラムクロマトグラ
フィーに付し、塩化メチレン−ヘキサン(2:1)で溶
出して、目的物624mg(69%)を結晶として得
た。 融点 114−116℃(エタノール−ヘキサンより再
結晶) IRスペクトル(nujol)cm-1 :3450,3300,3175,1639,161
0,1310 NMR スペクトル(CDCl3) δppm :3.4-4.3(2H,br.s),3.89
(3H,s),6.68(2H,d,J=8Hz),7.0-7.9(4H,m),8.0(2H,d,J=8
Hz) 元素分析値 C14H13N3O として 計算値:C,70.28;H,5.48;N,17.56 実測値:C,69.87;H,5.64;N,17.36。
【0087】実施例3 2−エトキシ−1−[(2−ジメチルアミノ)エチル]
オキシベンズイミダゾール(A法) ヘキサンで2度洗浄した55%水素化ナトリウム794
mg(18.2mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド20m
l懸濁液に、2−エトキシ−1−ヒドロキシベンズイミ
ダゾール1.014g(5.69mmol)を氷冷下加え、発泡が
おさまるまで室温で撹拌した。ついで再度氷冷し、N,
N−ジメチルアミノエチルクロリド塩酸塩1.31g
(9.10mmol)を加え、さらに反応温度を室温に戻して10
分、50℃で30分間撹拌した。エタノールを加えて過
剰の水素化ナトリウムを分解し、さらに酢酸を加えて中
和した。溶剤を留去して得られる残渣を水と酢酸エチル
に分配し、有機層を5%重曹水、氷で洗浄した。溶剤を
留去し残渣をアルミナ50gを用いるカラムクロマトグ
ラフィーに付しヘキサン:塩化メチレン(1:0.5〜
1)で溶出して1.28gの目的物を含む混合物を得
た。これを再度、シリカゲル20gを用いるカラムクロ
マトグラフィーで精製し、塩化メチレン−メタノール
(100:0.5〜5)で溶出して980mg(70
%)の目的物を油状物質として得た。 IRスペクトル(CHCl3)cm-1 :2820,2758,1440,1380,135
3 NMR スペクトル(CDCl3) δppm :1.50(3H,t,J=7Hz),2.37
(2×3H,s),2.70(2H,t,J=6Hz),4.30(2H,t,J=6Hz),4.61(2
H,q,J=7Hz),7.0-7.6(4H,m) マススペクトル(m/z) :249(M+,C13H19N3O2) 。
オキシベンズイミダゾール(A法) ヘキサンで2度洗浄した55%水素化ナトリウム794
mg(18.2mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド20m
l懸濁液に、2−エトキシ−1−ヒドロキシベンズイミ
ダゾール1.014g(5.69mmol)を氷冷下加え、発泡が
おさまるまで室温で撹拌した。ついで再度氷冷し、N,
N−ジメチルアミノエチルクロリド塩酸塩1.31g
(9.10mmol)を加え、さらに反応温度を室温に戻して10
分、50℃で30分間撹拌した。エタノールを加えて過
剰の水素化ナトリウムを分解し、さらに酢酸を加えて中
和した。溶剤を留去して得られる残渣を水と酢酸エチル
に分配し、有機層を5%重曹水、氷で洗浄した。溶剤を
留去し残渣をアルミナ50gを用いるカラムクロマトグ
ラフィーに付しヘキサン:塩化メチレン(1:0.5〜
1)で溶出して1.28gの目的物を含む混合物を得
た。これを再度、シリカゲル20gを用いるカラムクロ
マトグラフィーで精製し、塩化メチレン−メタノール
(100:0.5〜5)で溶出して980mg(70
%)の目的物を油状物質として得た。 IRスペクトル(CHCl3)cm-1 :2820,2758,1440,1380,135
3 NMR スペクトル(CDCl3) δppm :1.50(3H,t,J=7Hz),2.37
(2×3H,s),2.70(2H,t,J=6Hz),4.30(2H,t,J=6Hz),4.61(2
H,q,J=7Hz),7.0-7.6(4H,m) マススペクトル(m/z) :249(M+,C13H19N3O2) 。
【0088】実施例4 1−(2−ジメチルアミノエチル)オキシ−2−(メト
キシカルボンイミドイル)ベンズイミダゾール(D法) 無水メタノール3mlと金属ナトリウム39mg(1.7mm
ol) から調製したナトリウムメトキシド溶液に、氷冷
下、参考例2の化合物300mg(1.3mmol) を加え、同
温度で15分間撹拌した。酢酸102mg(1.7mmol) を
加え反応を終了させ、溶剤を留去した。残渣を酢酸エチ
ルと水に分配し、有機層から溶剤を留去して得られた残
渣を酢酸エチル−ヘキサンより再結晶して、目的物23
1mg(68%)を得た。 融点 56.5−57.5℃ IRスペクトル(CHCl3)cm-1 :2830,2770,1661,1320 NMR スペクトル(CDCl3) δppm :2.30(2 ×3H,s),2.70(2
H,t,J=6Hz),4.02(3H,s),4.38(2H,t,J=6Hz),7.1-7.9(4H,
m),8.4-9.7(1H,br) マススペクトル(m/z) :262(M+,C13H18N4O2) 元素分析値 C13H18N4O2として 計算値:C,59.52;H,6.92;N,21.36 実測値:C,59.75;H,6.76;N,21.46。
キシカルボンイミドイル)ベンズイミダゾール(D法) 無水メタノール3mlと金属ナトリウム39mg(1.7mm
ol) から調製したナトリウムメトキシド溶液に、氷冷
下、参考例2の化合物300mg(1.3mmol) を加え、同
温度で15分間撹拌した。酢酸102mg(1.7mmol) を
加え反応を終了させ、溶剤を留去した。残渣を酢酸エチ
ルと水に分配し、有機層から溶剤を留去して得られた残
渣を酢酸エチル−ヘキサンより再結晶して、目的物23
1mg(68%)を得た。 融点 56.5−57.5℃ IRスペクトル(CHCl3)cm-1 :2830,2770,1661,1320 NMR スペクトル(CDCl3) δppm :2.30(2 ×3H,s),2.70(2
H,t,J=6Hz),4.02(3H,s),4.38(2H,t,J=6Hz),7.1-7.9(4H,
m),8.4-9.7(1H,br) マススペクトル(m/z) :262(M+,C13H18N4O2) 元素分析値 C13H18N4O2として 計算値:C,59.52;H,6.92;N,21.36 実測値:C,59.75;H,6.76;N,21.46。
【0089】実施例5 1−(2−ジメチルアミノエチル)オキシ−2−(エト
キシカルボンイミドイル)ベンズイミダゾール(D法) 実施例4に記載の方法に準じて、メタノールのかわりに
エタノールを用い、目的物を72%の収率で結晶として
得た。 融点 55.5−57.5℃(酢酸エチル−ヘキサンよ
り再結晶) IRスペクトル(CHCl3)cm-1 :2890,2790,,1641,1320 NMR スペクトル(CDCl3) δppm : 1.50(3H,t,J=7Hz),2.3
7(2 ×3H,s),2.74(2H,t,J=5Hz),4.43(2H,t,J=5Hz),4.48
(2H,q,J=7Hz),7.1-8.0(4H,m),8.7-9.4(1H,br) マススペクトル(m/z) :277(M++1,C14H21N4O2) 元素分析値 C14H20N4O2・0.05C6H14 として 計算値:C,61.20;H,7.44;N,19.96 実測値:C,60.86;H,7.79;N,20.28。
キシカルボンイミドイル)ベンズイミダゾール(D法) 実施例4に記載の方法に準じて、メタノールのかわりに
エタノールを用い、目的物を72%の収率で結晶として
得た。 融点 55.5−57.5℃(酢酸エチル−ヘキサンよ
り再結晶) IRスペクトル(CHCl3)cm-1 :2890,2790,,1641,1320 NMR スペクトル(CDCl3) δppm : 1.50(3H,t,J=7Hz),2.3
7(2 ×3H,s),2.74(2H,t,J=5Hz),4.43(2H,t,J=5Hz),4.48
(2H,q,J=7Hz),7.1-8.0(4H,m),8.7-9.4(1H,br) マススペクトル(m/z) :277(M++1,C14H21N4O2) 元素分析値 C14H20N4O2・0.05C6H14 として 計算値:C,61.20;H,7.44;N,19.96 実測値:C,60.86;H,7.79;N,20.28。
【0090】実施例6 2−アミノカルボニル−1−(2−ジメチルアミノエチ
ル)オキシベンズイミダゾール(D法) 参考例2の化合物460mg(2mmol) の1,2−ジメト
キシエタン10ml溶液に、0.1N苛性ソーダ溶液7
mlを加え50℃で3時間撹拌した。反応液を2N塩酸
で中和し、酢酸エチルで抽出した。溶剤を留去し、塩化
メチレン−ヘキサンで再結晶し、目的物352mg(7
1%)を得た。 融点 91.5−92.5℃ IRスペクトル(nujol)cm-1 :3350-3240,1700,1665,138
0,1324 NMR スペクトル(CDCl3) δppm : 2.39(2×3H,s),2.69(2
H,t,J=5.5Hz),4.58(2H,t,J=5.5Hz),6.2-6.8(1H,br),7.1
-7.9(4H,m) マススペクトル(m/z) :249(M++1,C12H17N4O2) 元素分析値 C12H16N4O2として 計算値:C,58.04;H,6.49;N,22.56 実測値:C,58.17;H,6.47;N,22.53。
ル)オキシベンズイミダゾール(D法) 参考例2の化合物460mg(2mmol) の1,2−ジメト
キシエタン10ml溶液に、0.1N苛性ソーダ溶液7
mlを加え50℃で3時間撹拌した。反応液を2N塩酸
で中和し、酢酸エチルで抽出した。溶剤を留去し、塩化
メチレン−ヘキサンで再結晶し、目的物352mg(7
1%)を得た。 融点 91.5−92.5℃ IRスペクトル(nujol)cm-1 :3350-3240,1700,1665,138
0,1324 NMR スペクトル(CDCl3) δppm : 2.39(2×3H,s),2.69(2
H,t,J=5.5Hz),4.58(2H,t,J=5.5Hz),6.2-6.8(1H,br),7.1
-7.9(4H,m) マススペクトル(m/z) :249(M++1,C12H17N4O2) 元素分析値 C12H16N4O2として 計算値:C,58.04;H,6.49;N,22.56 実測値:C,58.17;H,6.47;N,22.53。
【0091】実施例7 1−(2−ジメチルアミノエチル)オキシ−2−[(1
−ピペリジニル)カルボンイミドイル]ベンズイミダゾ
ール(D法) 参考例2の化合物500mg(2.17mmol)にピペリジン6
mlを加え、75℃で9.5時間撹拌した。過剰の試薬
を留去し、残渣をシリカゲル70gを用いるカラムクロ
マトグラフィーに付し、塩化メチレン−メタノール(2
0:1)で溶出される画分を得た。これをさらにアルミ
ナ30gを用いるカラムクロマトグラフィーに付し、塩
化メチレン−酢酸エチル−メタノール(12:4:1)
で溶出して目的物507mg(70%)を油状物質とし
て得た。 IRスペクトル(liq)cm-1 :2950,2850,2830,2780,1640,
1320 NMR スペクトル(CDCl3) δppm : 1.4-1.9(6H,m),2.33(2
×3H,s),2.70(2H,t,J=5.5Hz),3.3-3.8(4H,m),4.45(2H,
t,J=5.5Hz),7.2-7.9(5H,m) マススペクトル(m/z) :316(M++1,C17H26N5O)。
−ピペリジニル)カルボンイミドイル]ベンズイミダゾ
ール(D法) 参考例2の化合物500mg(2.17mmol)にピペリジン6
mlを加え、75℃で9.5時間撹拌した。過剰の試薬
を留去し、残渣をシリカゲル70gを用いるカラムクロ
マトグラフィーに付し、塩化メチレン−メタノール(2
0:1)で溶出される画分を得た。これをさらにアルミ
ナ30gを用いるカラムクロマトグラフィーに付し、塩
化メチレン−酢酸エチル−メタノール(12:4:1)
で溶出して目的物507mg(70%)を油状物質とし
て得た。 IRスペクトル(liq)cm-1 :2950,2850,2830,2780,1640,
1320 NMR スペクトル(CDCl3) δppm : 1.4-1.9(6H,m),2.33(2
×3H,s),2.70(2H,t,J=5.5Hz),3.3-3.8(4H,m),4.45(2H,
t,J=5.5Hz),7.2-7.9(5H,m) マススペクトル(m/z) :316(M++1,C17H26N5O)。
【0092】実施例8 1−(2−ジメチルアミノエチル)オキシ−1−メトキ
シカルボニルベンズイミダゾール(D法) 実施例4の化合物500mg(1.9mmol) の1,2−ジメ
トキシエタン50ml溶液を氷冷し、0.5N塩酸10
mlを加え同温度で10分間撹拌した。反応液に水、塩
化エチレンを加え分配した後、有機層を5%重曹水、水
で洗浄した。溶剤を留去し残渣を酢酸エチルとヘキサン
で再結晶して、目的物441mgを結晶として得た。 融点 65−66.5℃ IRスペクトル(nujol)cm-1 :1720,1340 NMR スペクトル(CDCl3) δppm :2.41(2×3H,s),2.82(2
H,t,J=5.5Hz),4.09(3H,s),4.58(2H,t,J=5.5Hz),7.2-8.1
(4H,m) マススペクトル(m/z) :263(M+,C13H17N3O3) 元素分析 C13H17N3O3として 計算値:C,59.30;H,6.56;N,15.96 実測値:C,59.62;H,6.41;N,16.08。
シカルボニルベンズイミダゾール(D法) 実施例4の化合物500mg(1.9mmol) の1,2−ジメ
トキシエタン50ml溶液を氷冷し、0.5N塩酸10
mlを加え同温度で10分間撹拌した。反応液に水、塩
化エチレンを加え分配した後、有機層を5%重曹水、水
で洗浄した。溶剤を留去し残渣を酢酸エチルとヘキサン
で再結晶して、目的物441mgを結晶として得た。 融点 65−66.5℃ IRスペクトル(nujol)cm-1 :1720,1340 NMR スペクトル(CDCl3) δppm :2.41(2×3H,s),2.82(2
H,t,J=5.5Hz),4.09(3H,s),4.58(2H,t,J=5.5Hz),7.2-8.1
(4H,m) マススペクトル(m/z) :263(M+,C13H17N3O3) 元素分析 C13H17N3O3として 計算値:C,59.30;H,6.56;N,15.96 実測値:C,59.62;H,6.41;N,16.08。
【0093】実施例9 2−(2−ジメチルアミノエチル)オキシ−1−メトキ
シベンズイミダゾール(C法) ヘキサンで2度洗浄した55%水素化ナトリウム130
mg(3.0mmol) のN,N−ジメチルホルムアミド4ml
懸濁液に、氷冷下、2−ジメチルアミノエチルアルコー
ル295mg(3.3mmol) のN,N−ジメチルホルムアミ
ド3ml溶液を滴下し、滴化終了後室温で40分間撹拌
した。再度氷冷して、参考例3の化合物173mg(1mm
ol) を加え、1時間30分同温度で撹拌した。反応液に
水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を数回水洗
し、溶剤を留去して得られる残渣をシリカゲル10gを
用いるカラムクロマトグラフィーに付し 塩化メチレン
−メタノール(100:3〜16)で溶出して、目的物
226mg(96%)を油状物質として得た。 IRスペクトル(CHCl3)cm-1 :2850,2740,1590,1340 NMR スペクトル(CDCl3) δppm :2.35(2×3H,s),2.79(2
H,t,J=5.5Hz),4.06(3H,s),4.66(2H,t,J=5.5Hz),7.0-7.3
(3H,m),7.3-7.7(1H,m) マススペクトル(m/z) :235(C12H17N3O2) 。
シベンズイミダゾール(C法) ヘキサンで2度洗浄した55%水素化ナトリウム130
mg(3.0mmol) のN,N−ジメチルホルムアミド4ml
懸濁液に、氷冷下、2−ジメチルアミノエチルアルコー
ル295mg(3.3mmol) のN,N−ジメチルホルムアミ
ド3ml溶液を滴下し、滴化終了後室温で40分間撹拌
した。再度氷冷して、参考例3の化合物173mg(1mm
ol) を加え、1時間30分同温度で撹拌した。反応液に
水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を数回水洗
し、溶剤を留去して得られる残渣をシリカゲル10gを
用いるカラムクロマトグラフィーに付し 塩化メチレン
−メタノール(100:3〜16)で溶出して、目的物
226mg(96%)を油状物質として得た。 IRスペクトル(CHCl3)cm-1 :2850,2740,1590,1340 NMR スペクトル(CDCl3) δppm :2.35(2×3H,s),2.79(2
H,t,J=5.5Hz),4.06(3H,s),4.66(2H,t,J=5.5Hz),7.0-7.3
(3H,m),7.3-7.7(1H,m) マススペクトル(m/z) :235(C12H17N3O2) 。
【0094】実施例9と同様の方法によって、実施例1
0及び11の化合物を得た。
0及び11の化合物を得た。
【0095】実施例10 2−(2−ピリジル)メチルオキシ−1−メトキシベン
ズイミダゾール 収率79% 油状物質 NMR スペクトル(CDCl3) δppm :4.10(3H,s),5.70(2H,
s),7.0-7.9(7H,m),8.5-8.7(1H,m) 。
ズイミダゾール 収率79% 油状物質 NMR スペクトル(CDCl3) δppm :4.10(3H,s),5.70(2H,
s),7.0-7.9(7H,m),8.5-8.7(1H,m) 。
【0096】実施例11 2−(2−ジメチルアミノフェニル)メチルオキシ−1
−メトキシベンズイミダゾール 収率18% 融点 86.5−87.5℃ NMR スペクトル(CDCl3) δppm :2.75(2×3H,s),4.10(3
H,s),5.14(2H,s),6.7-7.3(8H,m) 。
−メトキシベンズイミダゾール 収率18% 融点 86.5−87.5℃ NMR スペクトル(CDCl3) δppm :2.75(2×3H,s),4.10(3
H,s),5.14(2H,s),6.7-7.3(8H,m) 。
【0097】実施例12 2−(1−メチル−4−ピペリジニル)オキシ−1−
[(メトキシカルボニル)メチル]オキシベンズイミダ
ゾール(A法) 実施例3に記載の方法に準じて、参考例10の化合物と
ブロモ酢酸メチルを用い、28%の収率で目的物を油状
物質として得た。 IRスペクトル(CHCl3)cm-1 :2798,1761,1620,1360 NMR スペクトル(CDCl3) δppm :1.8-3.1(8H,m),2.36(3
H,s),3.81(3H,s),4.82(2H,s),4.9-5.5(1H,m),7.1-7.4(2
H,m),7.3-7.7(2H,m) マススペクトル(m/z) :319(M+,C16H21N3O4)。
[(メトキシカルボニル)メチル]オキシベンズイミダ
ゾール(A法) 実施例3に記載の方法に準じて、参考例10の化合物と
ブロモ酢酸メチルを用い、28%の収率で目的物を油状
物質として得た。 IRスペクトル(CHCl3)cm-1 :2798,1761,1620,1360 NMR スペクトル(CDCl3) δppm :1.8-3.1(8H,m),2.36(3
H,s),3.81(3H,s),4.82(2H,s),4.9-5.5(1H,m),7.1-7.4(2
H,m),7.3-7.7(2H,m) マススペクトル(m/z) :319(M+,C16H21N3O4)。
【0098】実施例13 1−[(アミノカルボニル)メチル]オキシ−2−(1
−メチル−4−ピペリジニル)オキシベンズイミダゾー
ル(A法) 実施例12の化合物92mg(0.29mmol)のメタノール2
ml溶液を氷冷し、28%アンモニア水0.7mlを加
えて1時間撹拌した。反応液を塩化メチレンで希釈して
飽和食塩水と分配し、水層よりさらに塩化メチレンで抽
出した。抽出液を合わせ溶剤を留去し、アルミナ10g
を用いるカラムクロマトグラフィーに付し、塩化メチレ
ン−メタノール(20:1)で溶出して、目的物58m
g(70%)を油状物質として得た。 IRスペクトル(CHCl3)cm-1 :3410,1700,1622,1598,13
62 NMR スペクトル(CDCl3) δppm :1.6-3.1(8H,m),2.34(3
H,s),4.77(2H,s),4.9-5.4(1H,m),6.2-7.2(2H,br),7.0-
7.3(3H,m),7.3-7.65(1H,m) マススペクトル(m/z) :304(M+,C15H20N4O3)。
−メチル−4−ピペリジニル)オキシベンズイミダゾー
ル(A法) 実施例12の化合物92mg(0.29mmol)のメタノール2
ml溶液を氷冷し、28%アンモニア水0.7mlを加
えて1時間撹拌した。反応液を塩化メチレンで希釈して
飽和食塩水と分配し、水層よりさらに塩化メチレンで抽
出した。抽出液を合わせ溶剤を留去し、アルミナ10g
を用いるカラムクロマトグラフィーに付し、塩化メチレ
ン−メタノール(20:1)で溶出して、目的物58m
g(70%)を油状物質として得た。 IRスペクトル(CHCl3)cm-1 :3410,1700,1622,1598,13
62 NMR スペクトル(CDCl3) δppm :1.6-3.1(8H,m),2.34(3
H,s),4.77(2H,s),4.9-5.4(1H,m),6.2-7.2(2H,br),7.0-
7.3(3H,m),7.3-7.65(1H,m) マススペクトル(m/z) :304(M+,C15H20N4O3)。
【0099】実施例14 2−[(2−ピリジル)メチル]オキシベンズイミダゾ
ール(E法) 参考例9の化合物153mg(0.63mmol)と酢酸ナトリウ
ム645mg(7.9mmol) の、メタノール10mlと水4
ml溶液に、20%三塩化チタン水溶液0.98mlを
滴下し、滴下終了後30分間撹拌した。反応液を濃縮乾
固して得られた残渣を塩化メチレン−メタノール(8
5:15)で抽出した。抽出液の溶剤を留去し残渣をシ
リカゲル10gを用いるカラムクロマトグラフィーに付
し、塩化メチレン−メタノール(100:2〜5)で溶
出して目的物137mg(96%)を結晶として得た。 融点 177−179℃(酢酸エチルより再結晶) IRスペクトル(nujol)cm-1 :3050,1635,1600,1580,15
55,1360,1062,735 NMR スペクトル(CDCl3,270MHz)δppm :5.68(2H,s),7.0
9-7.30(4H,m),7.48(1H,d,J=Hz),7.55(1H,d,J=8Hz),7.72
(1H,ddd,J=8,8,2Hz),8.64(1H,br,d,J=4Hz),9.39(1H,br,
s) マススペクトル(m/z) :225(M+,C13H11N3O) 元素分析 C13H11N3O として 計算値:C,69.32;H,4.92;N,18.66 実測値:C,69.24;H,5.27;N,18.61。
ール(E法) 参考例9の化合物153mg(0.63mmol)と酢酸ナトリウ
ム645mg(7.9mmol) の、メタノール10mlと水4
ml溶液に、20%三塩化チタン水溶液0.98mlを
滴下し、滴下終了後30分間撹拌した。反応液を濃縮乾
固して得られた残渣を塩化メチレン−メタノール(8
5:15)で抽出した。抽出液の溶剤を留去し残渣をシ
リカゲル10gを用いるカラムクロマトグラフィーに付
し、塩化メチレン−メタノール(100:2〜5)で溶
出して目的物137mg(96%)を結晶として得た。 融点 177−179℃(酢酸エチルより再結晶) IRスペクトル(nujol)cm-1 :3050,1635,1600,1580,15
55,1360,1062,735 NMR スペクトル(CDCl3,270MHz)δppm :5.68(2H,s),7.0
9-7.30(4H,m),7.48(1H,d,J=Hz),7.55(1H,d,J=8Hz),7.72
(1H,ddd,J=8,8,2Hz),8.64(1H,br,d,J=4Hz),9.39(1H,br,
s) マススペクトル(m/z) :225(M+,C13H11N3O) 元素分析 C13H11N3O として 計算値:C,69.32;H,4.92;N,18.66 実測値:C,69.24;H,5.27;N,18.61。
【0100】参考例1 2−(4−ニトロフェニル)−1−メトキシベンズイミ
ダゾール(A法) ヘキサンで2回洗浄した55%水素化ナトリウム1.6
4mg(37.6mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド60
mlの懸濁液を−20℃に冷却し、1−ヒドロキシ−2
−(4−ニトロフェニルベンズイミダゾール4.0g
(15.67mmol)を加え室温に戻して発泡がおさまるまで撹
拌した。再度−20℃に冷却し、ヨウ化メチル4.5m
l(72.3mmol)を加え、反応温度を室温に戻して1時間撹
拌した。反応終了後、水−酢酸エチルに分配し、有機層
を水洗して、溶剤を留去した。残渣を酢酸エチルと少量
のメタノールにとかしヘキサンを加え、目的物3.06
g(73%)を結晶として得た。 融点 158−159.5℃(酢酸エチル−ヘキサンよ
り再結晶) IRスペクトル(nujol)cm-1 :1598,1509,1342 NMR スペクトル(CDCl3) δppm :3.99(3H,s),7.1-7.8(4
H,m),8.23(2H,d,J=10Hz),8.40(2H,d,J=10Hz) マススペクトル(m/z) :269(M+,C14H11N3O3) 元素分析 C14H11N3O3として 計算値:C,62.45;H,4.12;N,15.61 実測値:C,62.45;H,4.13;N,15.60。
ダゾール(A法) ヘキサンで2回洗浄した55%水素化ナトリウム1.6
4mg(37.6mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド60
mlの懸濁液を−20℃に冷却し、1−ヒドロキシ−2
−(4−ニトロフェニルベンズイミダゾール4.0g
(15.67mmol)を加え室温に戻して発泡がおさまるまで撹
拌した。再度−20℃に冷却し、ヨウ化メチル4.5m
l(72.3mmol)を加え、反応温度を室温に戻して1時間撹
拌した。反応終了後、水−酢酸エチルに分配し、有機層
を水洗して、溶剤を留去した。残渣を酢酸エチルと少量
のメタノールにとかしヘキサンを加え、目的物3.06
g(73%)を結晶として得た。 融点 158−159.5℃(酢酸エチル−ヘキサンよ
り再結晶) IRスペクトル(nujol)cm-1 :1598,1509,1342 NMR スペクトル(CDCl3) δppm :3.99(3H,s),7.1-7.8(4
H,m),8.23(2H,d,J=10Hz),8.40(2H,d,J=10Hz) マススペクトル(m/z) :269(M+,C14H11N3O3) 元素分析 C14H11N3O3として 計算値:C,62.45;H,4.12;N,15.61 実測値:C,62.45;H,4.13;N,15.60。
【0101】参考例2 2−シアノ−1−[(2−ジメチルアミノ)エチル]オ
キシベンズイミダゾール(A法) 実施例3に記載の方法に準じて、2−シアノ−1−ヒド
ロキシベンズイミダゾールを用い、目的物を77%の収
率で結晶として得た。 融点 30−31℃(酢酸エチル−ヘキサンより再結
晶) IRスペクトル(nujol)cm-1 :2250,1335 NMR スペクトル(CDCl3) δppm :2.33(2×3H,s),2.78(2
H,t,J=5Hz),4.51(2H,t,J=5Hz),7.2-8.0(4H,m) マススペクトル(m/z) :230(M+,C12H14N4O) 元素分析 C12H14N4O として 計算値:C,62.59;H,6.13;N,24.33 実測値:C,62.84;H,6.00;N,24.32。
キシベンズイミダゾール(A法) 実施例3に記載の方法に準じて、2−シアノ−1−ヒド
ロキシベンズイミダゾールを用い、目的物を77%の収
率で結晶として得た。 融点 30−31℃(酢酸エチル−ヘキサンより再結
晶) IRスペクトル(nujol)cm-1 :2250,1335 NMR スペクトル(CDCl3) δppm :2.33(2×3H,s),2.78(2
H,t,J=5Hz),4.51(2H,t,J=5Hz),7.2-8.0(4H,m) マススペクトル(m/z) :230(M+,C12H14N4O) 元素分析 C12H14N4O として 計算値:C,62.59;H,6.13;N,24.33 実測値:C,62.84;H,6.00;N,24.32。
【0102】参考例3 2−シアノ−1−メトキシベンズイミダゾール(A法) 参考例1と同様の方法によって、2−シアノ−1−ヒド
ロキシベンズイミダゾールから92%の収率で結晶とし
て得た。 IRスペクトル(nujol)cm-1 :2300,1400,1338 NMR スペクトル(CDCl3) δppm :4.30(3H,s),7.3-7.3(3
H,m),7.7-8.0(1H,m) マススペクトル(m/z) :173(M+,C9H7N3O) 元素分析 C9H7N3O として 計算値:C,62.42;H,4.07;N,24.27 実測値:C,62.56;H,4.00;N,24.48。
ロキシベンズイミダゾールから92%の収率で結晶とし
て得た。 IRスペクトル(nujol)cm-1 :2300,1400,1338 NMR スペクトル(CDCl3) δppm :4.30(3H,s),7.3-7.3(3
H,m),7.7-8.0(1H,m) マススペクトル(m/z) :173(M+,C9H7N3O) 元素分析 C9H7N3O として 計算値:C,62.42;H,4.07;N,24.27 実測値:C,62.56;H,4.00;N,24.48。
【0103】参考例4 2−シアノ−1−(テトラヒドロ−2−ピラニル)オキ
シベンズイミダゾール(F法) 2−シアノ−1−ヒドロキシベンズイミダゾール710
mg(4.47mmol) の塩化メチレン7ml懸濁液に3,4
−ジヒドロ−2H−ピラン912mg(10.8mmol)とp−
トルエンスルホン酸1水和物触媒量とを加え3時間撹拌
した。透明になった反応混合液を塩化メチレンで希釈
し、5%重曹水、水で順次洗浄した。溶剤を留去して得
られる残渣を酢酸エチル−ヘキサンで再結晶し784m
gの結晶を得、その濾液より49mgの二次結晶を得
た。さらに二次結晶の濾液を塩化メチレンを展開溶剤と
して薄層クロマトグラフィーで精製し、134mgの目
的物を得た。合計収量967mg(89%)。 融点 101−102℃ IRスペクトル(nujol)cm-1 :2230,1208,1129,1034 NMR スペクトル(CDCl3) δppm :1.4-2.3(6H,m),3.5-4.
0(1H,m),4.0-4.6(1H,m),5.2-5.5(1H,m),7.1-7.6(3H,m),
7.6-7.9(1H,m) マススペクトル(m/z) :243(C13H13N3O2) 元素分析 C13H13N3O2として 計算値:C,64.18;H,5.39;N,17.27 実測値:C,64.25;H,5.44;N,17.18。
シベンズイミダゾール(F法) 2−シアノ−1−ヒドロキシベンズイミダゾール710
mg(4.47mmol) の塩化メチレン7ml懸濁液に3,4
−ジヒドロ−2H−ピラン912mg(10.8mmol)とp−
トルエンスルホン酸1水和物触媒量とを加え3時間撹拌
した。透明になった反応混合液を塩化メチレンで希釈
し、5%重曹水、水で順次洗浄した。溶剤を留去して得
られる残渣を酢酸エチル−ヘキサンで再結晶し784m
gの結晶を得、その濾液より49mgの二次結晶を得
た。さらに二次結晶の濾液を塩化メチレンを展開溶剤と
して薄層クロマトグラフィーで精製し、134mgの目
的物を得た。合計収量967mg(89%)。 融点 101−102℃ IRスペクトル(nujol)cm-1 :2230,1208,1129,1034 NMR スペクトル(CDCl3) δppm :1.4-2.3(6H,m),3.5-4.
0(1H,m),4.0-4.6(1H,m),5.2-5.5(1H,m),7.1-7.6(3H,m),
7.6-7.9(1H,m) マススペクトル(m/z) :243(C13H13N3O2) 元素分析 C13H13N3O2として 計算値:C,64.18;H,5.39;N,17.27 実測値:C,64.25;H,5.44;N,17.18。
【0104】参考例5 2−(2−ピリジル)メチルオキシ−1−(テトラヒド
ロ−2−ピラニル)オキシベンズイミダゾール(C法) 実施例9に記載の方法に準じて、参考例4の化合物と2
−ピリジルメタノールを用い、77%の収率で結晶とし
て得た。 融点 80.5−81.5℃(酢酸エチル−ヘキサンよ
り再結晶) IRスペクトル(nujol)cm-1 :1620,1595,1550 NMR スペクトル(CDCl3) δppm :1.4-2.3(6H,m),3.35-
3.83(1H,m),4.0-4.6(1H,m),5.3-5.45(1H,m),5.72(2H,
s),7.0-7.9(7H,m),8.5-8.7(1H,m) マススペクトル(m/z) :325(M+,C18H19N3O3) 元素分析 C18H19N3O3として 計算値:C,66.44;H,5.89;N,12.92 実測値:C,66.51;H,5.95;N,12.99。
ロ−2−ピラニル)オキシベンズイミダゾール(C法) 実施例9に記載の方法に準じて、参考例4の化合物と2
−ピリジルメタノールを用い、77%の収率で結晶とし
て得た。 融点 80.5−81.5℃(酢酸エチル−ヘキサンよ
り再結晶) IRスペクトル(nujol)cm-1 :1620,1595,1550 NMR スペクトル(CDCl3) δppm :1.4-2.3(6H,m),3.35-
3.83(1H,m),4.0-4.6(1H,m),5.3-5.45(1H,m),5.72(2H,
s),7.0-7.9(7H,m),8.5-8.7(1H,m) マススペクトル(m/z) :325(M+,C18H19N3O3) 元素分析 C18H19N3O3として 計算値:C,66.44;H,5.89;N,12.92 実測値:C,66.51;H,5.95;N,12.99。
【0105】参考例6 2−(1−メチル−4−ピペリジル)オキシ−1−(テ
トラヒドロ−2−ピラニル)オキシベンズイミダゾール
(C法) 実施例9に記載の方法に準じて、参考例4の化合物と4
−ヒドロキシ−1−メチルピペリジンを用い、70%の
収率で目的物を油状物質として得た。 IRスペクトル(CHCl3)cm-1 :2800,1625,1370 NMR スペクトル(CDCl3) δppm :1.3-2.9(14H,m),2.31
(3H,s),3.5-3.9(1H,m),4.0-4.6(1H,m),4.9-5.3(1H,m),
5.2-5.4(1H,m),7.0-7.3(3H,m),7.3-7.6(1H,m) マススペクトル(m/z) :331(M+,C18H25N3O3)。
トラヒドロ−2−ピラニル)オキシベンズイミダゾール
(C法) 実施例9に記載の方法に準じて、参考例4の化合物と4
−ヒドロキシ−1−メチルピペリジンを用い、70%の
収率で目的物を油状物質として得た。 IRスペクトル(CHCl3)cm-1 :2800,1625,1370 NMR スペクトル(CDCl3) δppm :1.3-2.9(14H,m),2.31
(3H,s),3.5-3.9(1H,m),4.0-4.6(1H,m),4.9-5.3(1H,m),
5.2-5.4(1H,m),7.0-7.3(3H,m),7.3-7.6(1H,m) マススペクトル(m/z) :331(M+,C18H25N3O3)。
【0106】参考例7 2−ヒドロキシメチル−1−メトキシベンズイミダゾー
ル 1)実施例4に記載の方法に準じて、参考例3の化合物
を用い、97%の収率で2−メトキシカルボンイミドイ
ル−1−メトキシベンズイミダゾールを油状物質として
得た。 IRスペクトル(CHCl3)cm-1 :1698,1648,1322,1109,10
86 NMR スペクトル(CDCl3) δppm :4.06(3H,s),4.15(3H,
s),7.1-7.6(3H,m),7.6-7.9(1H,m),8.7-9.3(1H,br) マススペクトル(m/z) :205(M+,C10H11N3O2) 2)1)で得られた化合物を用い、実施例8に記載の方
法に準じて、2−メトキシカルボニル−1−メトキシベ
ンズイミダゾールを96%の収率で結晶として得た。 融点 66−66.5℃(酢酸エチル−ヘキサンより再
結晶) IRスペクトル(KBr)cm-1 :1725,1495,1436,1257,1221 NMR スペクトル(CDCl3) δppm :4.05(3H,s),4.27(3H,
s),7.1-7.7(3H,m),7.7-8.0(1H,m) マススペクトル(m/z) :206(M+,C10H10N2O3) 3)2)で得られた化合物2.9g(14mmol)のメタノー
ル43ml溶液に、氷冷下、水素化ホウ素ナトリウム1.
06g(28mmol)を徐々に加え、同温度で1時間30分、さ
らに室温で2時間撹拌した。原料消失後、反応液を濃縮
し、それを酢酸エチルと水に分配した溶剤を留去し、酢
酸エチル−ヘキサンで再結晶して2.14g(85%)
の目的物を得た。 融点 121−122.5℃ IRスペクトル(nujol)cm-1 :1512,1317,1280 NMR スペクトル(CDCl3) δppm :4.17(3H,s),4.92(2H,
s),6.7-7.1(1H,br),7.1-7.5(3H,m),7.5-7.8(1H,m) マススペクトル(m/z) :178(M+,C9H10N2O2) 元素分析 C9H10N2O2 として 計算値:C,60.66;H,5.66;N,15.72 実測値:C,60.41;H,5.63;N,15.74。
ル 1)実施例4に記載の方法に準じて、参考例3の化合物
を用い、97%の収率で2−メトキシカルボンイミドイ
ル−1−メトキシベンズイミダゾールを油状物質として
得た。 IRスペクトル(CHCl3)cm-1 :1698,1648,1322,1109,10
86 NMR スペクトル(CDCl3) δppm :4.06(3H,s),4.15(3H,
s),7.1-7.6(3H,m),7.6-7.9(1H,m),8.7-9.3(1H,br) マススペクトル(m/z) :205(M+,C10H11N3O2) 2)1)で得られた化合物を用い、実施例8に記載の方
法に準じて、2−メトキシカルボニル−1−メトキシベ
ンズイミダゾールを96%の収率で結晶として得た。 融点 66−66.5℃(酢酸エチル−ヘキサンより再
結晶) IRスペクトル(KBr)cm-1 :1725,1495,1436,1257,1221 NMR スペクトル(CDCl3) δppm :4.05(3H,s),4.27(3H,
s),7.1-7.7(3H,m),7.7-8.0(1H,m) マススペクトル(m/z) :206(M+,C10H10N2O3) 3)2)で得られた化合物2.9g(14mmol)のメタノー
ル43ml溶液に、氷冷下、水素化ホウ素ナトリウム1.
06g(28mmol)を徐々に加え、同温度で1時間30分、さ
らに室温で2時間撹拌した。原料消失後、反応液を濃縮
し、それを酢酸エチルと水に分配した溶剤を留去し、酢
酸エチル−ヘキサンで再結晶して2.14g(85%)
の目的物を得た。 融点 121−122.5℃ IRスペクトル(nujol)cm-1 :1512,1317,1280 NMR スペクトル(CDCl3) δppm :4.17(3H,s),4.92(2H,
s),6.7-7.1(1H,br),7.1-7.5(3H,m),7.5-7.8(1H,m) マススペクトル(m/z) :178(M+,C9H10N2O2) 元素分析 C9H10N2O2 として 計算値:C,60.66;H,5.66;N,15.72 実測値:C,60.41;H,5.63;N,15.74。
【0107】参考例8 2−(1−メチル−4−ピペリジル)オキシ−1−メト
キシベンズイミダゾール 実施例9に記載の方法に準じて、目的化合物を52%の
収率で油状物質として得た。 NMR スペクトル(CDCl3) δppm :1.8-2.9(8H,m),2.29(3
H,s),4.03(3H,s),4.9-5.4(1H,m),7.0-7.3(3H,m),7.3-7.
6(1H,m) マススペクトル(m/z) :261(M+,C14H19N3O2)。
キシベンズイミダゾール 実施例9に記載の方法に準じて、目的化合物を52%の
収率で油状物質として得た。 NMR スペクトル(CDCl3) δppm :1.8-2.9(8H,m),2.29(3
H,s),4.03(3H,s),4.9-5.4(1H,m),7.0-7.3(3H,m),7.3-7.
6(1H,m) マススペクトル(m/z) :261(M+,C14H19N3O2)。
【0108】参考例9 1−ヒドロシ−2−[(2−ピリジル)メチル]オキシ
ベンズイミダゾール(F法) 参考例5の化合物1.73g(5.30mmol)のテトラヒドロ
フラン−水(10:1)40ml溶液に、アンバーリス
ト15を5.07g加え氷冷下2時間撹拌した。樹脂を
濾過し、エーテルで洗浄してエーテル可溶分を除いた。
次いで樹脂に吸着した目的物を28%アンモニア水−メ
タノール(1:9)で溶出させた。溶剤を留去して残渣
をシリカゲル30gを用いるカラムクロマトグラフィー
に付し、塩化メチレン−メタノール(100:2〜4)
で溶出して目的物1.28g(定量的)を結晶として得
た。 分解点 129−130℃(酢酸エチルより再結晶) IRスペクトル(nujol)cm-1 :2800-2200,1620,1600,15
92,1579,1541 NMR スペクトル(CDCl3+d6-DMSO)δppm :5.60(2H,s),
6.9-7.9(7H,m),8.5-8.7(1H,m) マススペクトル(m/z) :241(M+,C14H11N3O2) 元素分析 C14H11N3O2として 計算値:C,64.71;H,4.60;N,17.42 実測値:C,64.62;H,4.59;N,17.46。
ベンズイミダゾール(F法) 参考例5の化合物1.73g(5.30mmol)のテトラヒドロ
フラン−水(10:1)40ml溶液に、アンバーリス
ト15を5.07g加え氷冷下2時間撹拌した。樹脂を
濾過し、エーテルで洗浄してエーテル可溶分を除いた。
次いで樹脂に吸着した目的物を28%アンモニア水−メ
タノール(1:9)で溶出させた。溶剤を留去して残渣
をシリカゲル30gを用いるカラムクロマトグラフィー
に付し、塩化メチレン−メタノール(100:2〜4)
で溶出して目的物1.28g(定量的)を結晶として得
た。 分解点 129−130℃(酢酸エチルより再結晶) IRスペクトル(nujol)cm-1 :2800-2200,1620,1600,15
92,1579,1541 NMR スペクトル(CDCl3+d6-DMSO)δppm :5.60(2H,s),
6.9-7.9(7H,m),8.5-8.7(1H,m) マススペクトル(m/z) :241(M+,C14H11N3O2) 元素分析 C14H11N3O2として 計算値:C,64.71;H,4.60;N,17.42 実測値:C,64.62;H,4.59;N,17.46。
【0109】参考例10 1−ヒドロキシ−2−(1−メチル−4−ピペリジル)
オキシベンズイミダゾール(F法) 参考例9に記載の方法に準じて、参考例6の化合物を用
い、目的物を81%の収率で結晶として得た。 融点 192−193℃(メタノール−酢酸エチル−ヘ
キサンより再結晶) IRスペクトル(nujol)cm-1 :2700-2100,1590,1525,13
10 NMR スペクトル(CDCl3+d6-DMSO) δppm :1.4-3.0(8H,
m),2.27(3H,s),4.7-5.3(1H,m),6.9-7.5(4H,m)マススペクトル (m/z) :247(M+,C13H17N3O2) 元素分析 C13H17NO2 として 計算値:C,63.14;H,6.93;N,16.99 実測値:C,63.05;H,6.98;N,17.02。
オキシベンズイミダゾール(F法) 参考例9に記載の方法に準じて、参考例6の化合物を用
い、目的物を81%の収率で結晶として得た。 融点 192−193℃(メタノール−酢酸エチル−ヘ
キサンより再結晶) IRスペクトル(nujol)cm-1 :2700-2100,1590,1525,13
10 NMR スペクトル(CDCl3+d6-DMSO) δppm :1.4-3.0(8H,
m),2.27(3H,s),4.7-5.3(1H,m),6.9-7.5(4H,m)マススペクトル (m/z) :247(M+,C13H17N3O2) 元素分析 C13H17NO2 として 計算値:C,63.14;H,6.93;N,16.99 実測値:C,63.05;H,6.98;N,17.02。
【0110】参考例11 2−(1−メチル−4−ピペリジニル)オキシ−1−
[(2−ジメチルアミノメチル]オキシベンズイミダゾ
ール(A法) 実施例3に記載の方法に準じて、参考例10の化合物を
用いて目的物を80%の収率で油状物質として得た。 IRスペクトル(CHCl3)cm-1 :2799,1365,1280 NMR スペクトル(CDCl3) δppm :1.8-3.0(8H,m),2.33(3
H,s),2.38(2 ×3H,s),2.75(2H,t,J=6Hz),4.33(2H,t,J=6
Hz),4.9-5.5(1H,m),7.0-7.3(3H,m),7.3-7.65(1H,m) マススペクトル(m/z) :318(M+,C17H20N4O2)。
[(2−ジメチルアミノメチル]オキシベンズイミダゾ
ール(A法) 実施例3に記載の方法に準じて、参考例10の化合物を
用いて目的物を80%の収率で油状物質として得た。 IRスペクトル(CHCl3)cm-1 :2799,1365,1280 NMR スペクトル(CDCl3) δppm :1.8-3.0(8H,m),2.33(3
H,s),2.38(2 ×3H,s),2.75(2H,t,J=6Hz),4.33(2H,t,J=6
Hz),4.9-5.5(1H,m),7.0-7.3(3H,m),7.3-7.65(1H,m) マススペクトル(m/z) :318(M+,C17H20N4O2)。
【0111】参考例12 2−(2−ピリジルオキシ)メチル−1−メトキシベン
ズイミダゾール ヘキサンで2度洗浄した55%水素化ナトリウム74m
g(1.7mmol) のN,N−ジメチルホルムアミド4mlの
懸濁液に、氷冷下、2−フルオロピリジン172mg
(1.8mmol) 、参考例7の化合物300mg(1.7mmol) を
順次加え同温度で1時間室温で15時間撹拌した。溶剤
を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲル15gを用
いるカラムクロマトグラフィーに付し塩化メチレン−酢
酸エチル(10:1〜8:1)で溶出して、36mg
(8.4%)の目的物を油状物質として得た。 IRスペクトル(CHCl3)cm-1 :1595,1571,1472,1430 NMR スペクトル(CDCl3) δppm :4.17(3H,s),5.63(2H,
s),6.7-7.0(2H,m),7.7-7.9(5H,m),8.0-8.3(1H,m) マススペクトル(m/z) :256(M++1),255(M+,C14H13N
3O2)。
ズイミダゾール ヘキサンで2度洗浄した55%水素化ナトリウム74m
g(1.7mmol) のN,N−ジメチルホルムアミド4mlの
懸濁液に、氷冷下、2−フルオロピリジン172mg
(1.8mmol) 、参考例7の化合物300mg(1.7mmol) を
順次加え同温度で1時間室温で15時間撹拌した。溶剤
を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲル15gを用
いるカラムクロマトグラフィーに付し塩化メチレン−酢
酸エチル(10:1〜8:1)で溶出して、36mg
(8.4%)の目的物を油状物質として得た。 IRスペクトル(CHCl3)cm-1 :1595,1571,1472,1430 NMR スペクトル(CDCl3) δppm :4.17(3H,s),5.63(2H,
s),6.7-7.0(2H,m),7.7-7.9(5H,m),8.0-8.3(1H,m) マススペクトル(m/z) :256(M++1),255(M+,C14H13N
3O2)。
【0112】参考例13 2−(1−メチル−4−ピペリジニル)オキシベンズイ
ミダゾール(E法) 実施例14に記載の方法に準じて、参考例10の化合物
を用い、目的物を定量的収率で結晶として得た。 融点 237−238℃(メタノール−酢酸エチルより
再結晶) IRスペクトル(nujol)cm-1 :2750,1625,1550,1523,13
55,1063 NMR スペクトル(CDCl3,270MHz)δppm :2.0-2.4(6H,m),
2.39(3H,s),2.70-2.90(2H,m),5.19(septed,J=4.6Hz),7.
07-7.21(3H,m),7.53(1H,br.d,J=8Hz),10.16(1H,br.s) マススペクトル(m/z) :231(M+,C13H17N3O) 元素分析 C13H17N3O として 計算値:C,67.51;H,7.41;N,18.17 実測値:C,67.73;H,7.52;N,18.03。
ミダゾール(E法) 実施例14に記載の方法に準じて、参考例10の化合物
を用い、目的物を定量的収率で結晶として得た。 融点 237−238℃(メタノール−酢酸エチルより
再結晶) IRスペクトル(nujol)cm-1 :2750,1625,1550,1523,13
55,1063 NMR スペクトル(CDCl3,270MHz)δppm :2.0-2.4(6H,m),
2.39(3H,s),2.70-2.90(2H,m),5.19(septed,J=4.6Hz),7.
07-7.21(3H,m),7.53(1H,br.d,J=8Hz),10.16(1H,br.s) マススペクトル(m/z) :231(M+,C13H17N3O) 元素分析 C13H17N3O として 計算値:C,67.51;H,7.41;N,18.17 実測値:C,67.73;H,7.52;N,18.03。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07D 401/12 235 8829−4C (72)発明者 田端 敬一 東京都品川区広町1丁目2番58号 三共株 式会社内
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項1】一般式 【化1】 [式中、Aは、水素原子又は、低級アルコキシ基(当該
低級アルコキシ基は、ジ低級アルキルアミノ基、低級ア
ルコキシカルボニル基若しくはカルバモイル基を置換基
として有していてもよい。)を示し、Bは、アミノ基で
置換されたフェニル基、低級アルコキシ基(当該低級ア
ルコキシ基は、ヘテロアリール基若しくはジ低級アルキ
ルアミノ基を置換基として有していてもよい。)、シア
ノ基、カルバモイル基、低級アルコキシカルボニル基、
式−C(=NH)R1 を有する基(R1 は、低級アルコ
キシ基、ジ低級アルキルアミノ基又は1-ピペリジニル基
を示す。)又はアラルキルオキシ基(当該アラルキルオ
キシ基は、ジ低級アルキルアミノ基を置換基として有し
ていてもよい。)を示す。]で表されるベンズイミダゾ
ール誘導体及びその薬理上許容される塩。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18069091A JPH0525140A (ja) | 1991-07-22 | 1991-07-22 | ベンズイミダゾール誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18069091A JPH0525140A (ja) | 1991-07-22 | 1991-07-22 | ベンズイミダゾール誘導体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0525140A true JPH0525140A (ja) | 1993-02-02 |
Family
ID=16087606
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18069091A Pending JPH0525140A (ja) | 1991-07-22 | 1991-07-22 | ベンズイミダゾール誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0525140A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6184235B1 (en) | 1996-08-14 | 2001-02-06 | Warner-Lambert Company | 2-phenyl benzimidazole derivatives as MCP-1 antagonists |
US7405235B2 (en) | 2001-05-04 | 2008-07-29 | Paratek Pharmaceuticals, Inc. | Transcription factor modulating compounds and methods of use thereof |
JP2013510106A (ja) * | 2009-11-09 | 2013-03-21 | ウニヴェルシタ ディ ピサ | 乳酸脱水素酵素(ldh)の阻害化合物およびこれらの化合物を含む医薬組成物 |
US8436031B2 (en) | 2004-04-23 | 2013-05-07 | Paratek Pharmaceuticals, Inc. | Transcription factor modulating compounds and methods of use thereof |
-
1991
- 1991-07-22 JP JP18069091A patent/JPH0525140A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6184235B1 (en) | 1996-08-14 | 2001-02-06 | Warner-Lambert Company | 2-phenyl benzimidazole derivatives as MCP-1 antagonists |
US6348487B1 (en) | 1996-08-14 | 2002-02-19 | Millennium Pharmaceuticals, Inc. | 2-phenyl benzimidazole derivatives as MCP-1 antagonists |
US6534521B2 (en) | 1996-08-14 | 2003-03-18 | Millennium Pharmaceuticals, Inc. | 2-phenyl benzimidazole derivatives as MCP-1 antagonists |
US7405235B2 (en) | 2001-05-04 | 2008-07-29 | Paratek Pharmaceuticals, Inc. | Transcription factor modulating compounds and methods of use thereof |
US8436031B2 (en) | 2004-04-23 | 2013-05-07 | Paratek Pharmaceuticals, Inc. | Transcription factor modulating compounds and methods of use thereof |
JP2013510106A (ja) * | 2009-11-09 | 2013-03-21 | ウニヴェルシタ ディ ピサ | 乳酸脱水素酵素(ldh)の阻害化合物およびこれらの化合物を含む医薬組成物 |
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