JPH05251348A - バブラおよびガス供給装置 - Google Patents
バブラおよびガス供給装置Info
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- JPH05251348A JPH05251348A JP4816692A JP4816692A JPH05251348A JP H05251348 A JPH05251348 A JP H05251348A JP 4816692 A JP4816692 A JP 4816692A JP 4816692 A JP4816692 A JP 4816692A JP H05251348 A JPH05251348 A JP H05251348A
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- vapor
- container
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 27
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- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 8
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 気化蒸気の不安定供給を防止し、十分な蒸気
圧をもった気化蒸気の安定供給を行う。 【構成】 導入口3aからキャリアガスを液体有機金属
1内に導入して気泡5を発生させる。この気泡5は浮力
により容器2内の螺旋状の板6に導びかれ導出口4aへ
到達する。この間気泡5のパスを長くとっているので、
液体有機金属1の気化蒸気は十分な蒸気圧となる。
圧をもった気化蒸気の安定供給を行う。 【構成】 導入口3aからキャリアガスを液体有機金属
1内に導入して気泡5を発生させる。この気泡5は浮力
により容器2内の螺旋状の板6に導びかれ導出口4aへ
到達する。この間気泡5のパスを長くとっているので、
液体有機金属1の気化蒸気は十分な蒸気圧となる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、気相結晶成長装置に
関するもので、特に液体金属あるいは液体有機金属材料
を、安定した蒸気圧を有する気化蒸気の状態で、安定供
給するためのバブラおよびガス供給装置に関するもので
ある。
関するもので、特に液体金属あるいは液体有機金属材料
を、安定した蒸気圧を有する気化蒸気の状態で、安定供
給するためのバブラおよびガス供給装置に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】図3は、従来のバブラの構造である。液
体有機金属1の入った容器2にバブリングを行うキャリ
アガスを導入する導入管3の導入口3aとバブリングに
よって得られた蒸気を導出する導出管4の導出口4aが
設けられている。容器2は、恒温槽等によって所定の一
定温度に保たれており、容器2内は、液体有機金属1の
この温度における飽和蒸気圧を有することになる。この
時、導入管3から導入口3aよりキャリアガスを導入す
ることによって液体有機金属1がバブリングされ所定飽
和蒸気圧を有する気化蒸気と成ってキャリアガスと共に
導出口4aより導出管4へと導出し、これを気相成長装
置の成長室内に導入し結晶成長を行うことができる。
体有機金属1の入った容器2にバブリングを行うキャリ
アガスを導入する導入管3の導入口3aとバブリングに
よって得られた蒸気を導出する導出管4の導出口4aが
設けられている。容器2は、恒温槽等によって所定の一
定温度に保たれており、容器2内は、液体有機金属1の
この温度における飽和蒸気圧を有することになる。この
時、導入管3から導入口3aよりキャリアガスを導入す
ることによって液体有機金属1がバブリングされ所定飽
和蒸気圧を有する気化蒸気と成ってキャリアガスと共に
導出口4aより導出管4へと導出し、これを気相成長装
置の成長室内に導入し結晶成長を行うことができる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来のバブラは以上の
ように構成されているので、容器2下部で発生した気泡
5が液体有機金属1中を移動する際、十分な蒸気圧をも
った気泡にならず、一定した蒸気圧の気化蒸気を安定し
て供給できない問題点があった。
ように構成されているので、容器2下部で発生した気泡
5が液体有機金属1中を移動する際、十分な蒸気圧をも
った気泡にならず、一定した蒸気圧の気化蒸気を安定し
て供給できない問題点があった。
【0004】また、液体有機金属1の代りに液体金属材
料を用いることもできるが、例えば水銀のように比重の
大きい材料をバブリングする際には、キャリアガスの気
泡が断続的になり水銀蒸気の安定供給ができないなどの
問題点があった。
料を用いることもできるが、例えば水銀のように比重の
大きい材料をバブリングする際には、キャリアガスの気
泡が断続的になり水銀蒸気の安定供給ができないなどの
問題点があった。
【0005】この発明は上記のような問題点を解決する
ためになされたもので、気化蒸気の不安定供給を防止
し、十分な蒸気圧をもった気化蒸気の安定供給を行うこ
とのできるバブラおよびガス供給装置を得ることを目的
とする。
ためになされたもので、気化蒸気の不安定供給を防止
し、十分な蒸気圧をもった気化蒸気の安定供給を行うこ
とのできるバブラおよびガス供給装置を得ることを目的
とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】この発明のバブラは、バ
ブラにおいて、液体金属あるいは液体有機金属材料の入
った容器内でバブリングによって発生した気泡のパスを
長くしたものである。
ブラにおいて、液体金属あるいは液体有機金属材料の入
った容器内でバブリングによって発生した気泡のパスを
長くしたものである。
【0007】また、ガス供給装置において、上記材料の
液滴を所定温度に設定した管内に導入し、この液滴をキ
ャリアガスによって移動させ上記液滴の気化を行う管の
長さを長くしたものである。
液滴を所定温度に設定した管内に導入し、この液滴をキ
ャリアガスによって移動させ上記液滴の気化を行う管の
長さを長くしたものである。
【0008】
【作用】この発明におけるバブラは、液体金属あるいは
液体有機金属材料の入った容器内でバブリングによって
発生した気泡のパスを長くしているので、気化蒸気の蒸
気圧が不十分になることを防ぐことができる。従って、
十分な蒸気圧をもった気化蒸気の安定供給を行うことが
可能になる。
液体有機金属材料の入った容器内でバブリングによって
発生した気泡のパスを長くしているので、気化蒸気の蒸
気圧が不十分になることを防ぐことができる。従って、
十分な蒸気圧をもった気化蒸気の安定供給を行うことが
可能になる。
【0009】また、この発明におけるガス供給装置は、
所定温度に設定した管内に上記材料の液滴を導入し、こ
の液滴をキャリアガスによって移動させ上記液滴を気化
して気化蒸気を発生させるので、上記材料内をキャリア
ガスの気泡が移動しないため、気泡が断続的に発生する
ことを防ぐことができる。従って、十分な蒸気圧をもっ
た気化蒸気の安定供給が可能となる。
所定温度に設定した管内に上記材料の液滴を導入し、こ
の液滴をキャリアガスによって移動させ上記液滴を気化
して気化蒸気を発生させるので、上記材料内をキャリア
ガスの気泡が移動しないため、気泡が断続的に発生する
ことを防ぐことができる。従って、十分な蒸気圧をもっ
た気化蒸気の安定供給が可能となる。
【0010】
【実施例】実施例1.以下、この発明の一実施例を図に
ついて説明する。図1はこの発明の一実施例を示すバブ
ラの斜視図である。
ついて説明する。図1はこの発明の一実施例を示すバブ
ラの斜視図である。
【0011】図1において、1は液体金属あるいは液体
有機金属が好適だが本実施例の場合では液体有機金属、
2は液体有機金属1を内部に充填した容器、3は容器2
内下部にキャリアガスの導入口3aを有する導入管、4
は容器2上部にキャリアガスや気化蒸気の導出口4aを
有する導出管、5は液体有機金属1内でのバブリングに
よって発生した気泡、6は螺旋の軸方向が容器2の深さ
方向となるように容器2内に設けられた螺旋状の板であ
り、導入口3aから液体有機金属1の液面までの気泡5
のパスを螺旋状にして長くするものである。
有機金属が好適だが本実施例の場合では液体有機金属、
2は液体有機金属1を内部に充填した容器、3は容器2
内下部にキャリアガスの導入口3aを有する導入管、4
は容器2上部にキャリアガスや気化蒸気の導出口4aを
有する導出管、5は液体有機金属1内でのバブリングに
よって発生した気泡、6は螺旋の軸方向が容器2の深さ
方向となるように容器2内に設けられた螺旋状の板であ
り、導入口3aから液体有機金属1の液面までの気泡5
のパスを螺旋状にして長くするものである。
【0012】次に、図1を参照して実施例1の動作につ
いて説明する。容器2内下部に設けられたバブリングを
行うキャリアガスの導入管3の導入口3aより容器2内
に導入されたキャリアガスは、容器2内に充填された液
体有機金属1内で気泡5となり、その浮力で容器2内上
方へ移動する。この時、この気泡5は、パスを長くする
ために容器2内に設けられた螺旋状の板6に沿って容器
2内を上方に移動する。
いて説明する。容器2内下部に設けられたバブリングを
行うキャリアガスの導入管3の導入口3aより容器2内
に導入されたキャリアガスは、容器2内に充填された液
体有機金属1内で気泡5となり、その浮力で容器2内上
方へ移動する。この時、この気泡5は、パスを長くする
ために容器2内に設けられた螺旋状の板6に沿って容器
2内を上方に移動する。
【0013】上記のようにキャリアガスを容器2内に導
入することによって液体有機金属材料1が、バブリング
され、所定飽和気化蒸気圧を有する気化蒸気となってキ
ャリアガスと共に導出口4aより導出管4へと導出され
る。
入することによって液体有機金属材料1が、バブリング
され、所定飽和気化蒸気圧を有する気化蒸気となってキ
ャリアガスと共に導出口4aより導出管4へと導出され
る。
【0014】上記のように容器2内に設けた螺旋状の板
6は、容器2内下部で発生した気泡5の容器2内での移
動のパスを長くできるため気化蒸気の蒸気圧が不十分に
なることを防ぐことができる。従って、十分な蒸気圧を
もった気化蒸気の安定供給を行うことが可能になる。
6は、容器2内下部で発生した気泡5の容器2内での移
動のパスを長くできるため気化蒸気の蒸気圧が不十分に
なることを防ぐことができる。従って、十分な蒸気圧を
もった気化蒸気の安定供給を行うことが可能になる。
【0015】実施例2.ところで上記説明では、容器2
内に充填された液体金属あるいは液体有機金属1をバブ
リングによって気化蒸気を発生していたが、図2に示す
構成のガス供給装置によっても気化蒸気を得ることがで
きる。
内に充填された液体金属あるいは液体有機金属1をバブ
リングによって気化蒸気を発生していたが、図2に示す
構成のガス供給装置によっても気化蒸気を得ることがで
きる。
【0016】図2において、1Aは液体金属あるいは液
体有機金属が好適だが本実施例では液体金属、7は液体
金属1Aの充填された容器、8は容器7の下部に設けら
れた細い管状の導入口、9は液体金属1Aの液滴であ
る。3aはキャリアガスの導入口、10は導入口3aか
ら導入したキャリアガスの流量制御のために設けられた
マスフローコントローラ(以下、MFCと称す。)であ
る。
体有機金属が好適だが本実施例では液体金属、7は液体
金属1Aの充填された容器、8は容器7の下部に設けら
れた細い管状の導入口、9は液体金属1Aの液滴であ
る。3aはキャリアガスの導入口、10は導入口3aか
ら導入したキャリアガスの流量制御のために設けられた
マスフローコントローラ(以下、MFCと称す。)であ
る。
【0017】また、11は管内径が渦の中心に向かうに
つれて細くなっている渦巻状の管で、その最外側の渦巻
から離れてMFC10の流出口に接続された近くの始端
に容器7の導入口8が接続されている。また、渦巻状の
管11の中心部はキャリアガスや液体金属1Aの気化蒸
気を導出するための導出口4aを有する導出管4に連通
している。12は導出口4aより上部側の導出管4途中
に設けられ、気相成長装置の成長室内に導入する気化蒸
気およびキャリアガスの流量制御のためのMFCであ
る。13は渦巻状の管11の終端部で蒸発しきれずに残
った液滴9を回収する回収容器である。
つれて細くなっている渦巻状の管で、その最外側の渦巻
から離れてMFC10の流出口に接続された近くの始端
に容器7の導入口8が接続されている。また、渦巻状の
管11の中心部はキャリアガスや液体金属1Aの気化蒸
気を導出するための導出口4aを有する導出管4に連通
している。12は導出口4aより上部側の導出管4途中
に設けられ、気相成長装置の成長室内に導入する気化蒸
気およびキャリアガスの流量制御のためのMFCであ
る。13は渦巻状の管11の終端部で蒸発しきれずに残
った液滴9を回収する回収容器である。
【0018】14はMFC10の流出口から導出口4a
の間、及び導出口4aから導出管4が所定温度に加熱さ
れた加熱箇所である。
の間、及び導出口4aから導出管4が所定温度に加熱さ
れた加熱箇所である。
【0019】次に、図2を参照して実施例2の動作につ
いて説明する、液体金属1Aの液滴9を、渦巻状の管1
1の始端に設けられた、容器7内に充填された液体金属
1Aの導入口8より渦巻状の管11内に導入する。この
渦巻状の管11内に導入された液体金属1Aの液滴9
は、キャリアガスの導入口3aより導入されたキャリア
ガスによって渦巻状の管11内をその中心へと移動す
る。
いて説明する、液体金属1Aの液滴9を、渦巻状の管1
1の始端に設けられた、容器7内に充填された液体金属
1Aの導入口8より渦巻状の管11内に導入する。この
渦巻状の管11内に導入された液体金属1Aの液滴9
は、キャリアガスの導入口3aより導入されたキャリア
ガスによって渦巻状の管11内をその中心へと移動す
る。
【0020】この時、渦巻状の管11は、所望する蒸気
圧の気化蒸気を有するに必要な温度に設定されており
(加熱箇所14)、液体金属1Aの液滴9は、この渦巻
状の管11内を移動しながら気化して気化蒸気としてキ
ャリアガスと共に渦巻状の管11内を中心部へと移動す
る。この際、渦巻状の管11内に導入するキャリアガス
の温度もこの渦巻状の管11の温度と同じ温度に設定し
て導入することによって気化蒸気の蒸気圧をより安定に
保つことが可能となる。
圧の気化蒸気を有するに必要な温度に設定されており
(加熱箇所14)、液体金属1Aの液滴9は、この渦巻
状の管11内を移動しながら気化して気化蒸気としてキ
ャリアガスと共に渦巻状の管11内を中心部へと移動す
る。この際、渦巻状の管11内に導入するキャリアガス
の温度もこの渦巻状の管11の温度と同じ温度に設定し
て導入することによって気化蒸気の蒸気圧をより安定に
保つことが可能となる。
【0021】渦巻状の管11内を気化しながら移動する
液体金属1Aの液滴9の大きさは、その気化に伴って徐
々に小さくなるため、渦巻状の管11の内径は渦の中心
に向かうにつれて細くなっている。渦巻状の管11の終
端には、気化蒸気およびキャリアガスを取出す導出口4
aを有する導出管4と蒸発しきれずに残った液体金属1
Aの液滴9を回収する回収容器13につながる管が設け
られている。
液体金属1Aの液滴9の大きさは、その気化に伴って徐
々に小さくなるため、渦巻状の管11の内径は渦の中心
に向かうにつれて細くなっている。渦巻状の管11の終
端には、気化蒸気およびキャリアガスを取出す導出口4
aを有する導出管4と蒸発しきれずに残った液体金属1
Aの液滴9を回収する回収容器13につながる管が設け
られている。
【0022】導出口4aから気化蒸気およびキャリアガ
スを取出す導出管4は、MFC12を介して気相結晶成
長を行う成長室に渦巻状の管11の設定温度と同じ温度
に設定されてつながっており、所望の蒸気圧の気化蒸気
を液化することなくキャリアガスと共に成長室内に供給
することができる。
スを取出す導出管4は、MFC12を介して気相結晶成
長を行う成長室に渦巻状の管11の設定温度と同じ温度
に設定されてつながっており、所望の蒸気圧の気化蒸気
を液化することなくキャリアガスと共に成長室内に供給
することができる。
【0023】なお、渦巻状の管11内に導入するキャリ
アガスの流量制御のために設けられたMFC10と成長
室内に導入する気化蒸気およびキャリアガスの流量制御
のために設けられたMFC12は連動して流量を制御
し、成長室内へ気化蒸気およびキャリアガスを安定供給
することができる。
アガスの流量制御のために設けられたMFC10と成長
室内に導入する気化蒸気およびキャリアガスの流量制御
のために設けられたMFC12は連動して流量を制御
し、成長室内へ気化蒸気およびキャリアガスを安定供給
することができる。
【0024】上記のように所定温度に設定した渦巻状の
管11内をキャリアガスによって液体有機金属あるいは
液体金属1Aの液滴を移動させて気化蒸気を得るため、
従来のバブリングの様に気泡を発生させないため断続的
な気化蒸気の供給を防ぐことができる。また、気化蒸気
を発生する管を渦巻状にしてパスを長くしているため、
気化蒸気の蒸気圧が不十分になることを防ぐことができ
る。従って、十分な蒸気圧を持った気化蒸気の安定供給
を行うことが可能になる。
管11内をキャリアガスによって液体有機金属あるいは
液体金属1Aの液滴を移動させて気化蒸気を得るため、
従来のバブリングの様に気泡を発生させないため断続的
な気化蒸気の供給を防ぐことができる。また、気化蒸気
を発生する管を渦巻状にしてパスを長くしているため、
気化蒸気の蒸気圧が不十分になることを防ぐことができ
る。従って、十分な蒸気圧を持った気化蒸気の安定供給
を行うことが可能になる。
【0025】上記実施例では加熱箇所を加熱したが、用
いる液体金属あるいは液体有機金属材料によっては所定
温度に冷却する場合もある。
いる液体金属あるいは液体有機金属材料によっては所定
温度に冷却する場合もある。
【0026】
【発明の効果】以上のように、この発明によればバブリ
ングにより発生した気泡の容器内での移動のパスを長く
するように構成したので、気化蒸気の蒸気圧が不十分に
なることを防止できる。
ングにより発生した気泡の容器内での移動のパスを長く
するように構成したので、気化蒸気の蒸気圧が不十分に
なることを防止できる。
【0027】また、温度制御した管内をキャリアガスに
よって液体金属あるいは液体有機金属の液滴を移動させ
て気化蒸気を得るように構成したので、従来のバブリン
グのように気泡を発生させないために断続的な気化蒸気
の供給を防ぐことができる。従って、十分な蒸気圧をも
った気化蒸気が得られ、その安定供給を行うことが可能
になる。
よって液体金属あるいは液体有機金属の液滴を移動させ
て気化蒸気を得るように構成したので、従来のバブリン
グのように気泡を発生させないために断続的な気化蒸気
の供給を防ぐことができる。従って、十分な蒸気圧をも
った気化蒸気が得られ、その安定供給を行うことが可能
になる。
【図1】この発明の実施例1のバブラの構成を示す斜視
図である。
図である。
【図2】この発明の実施例2によるガス供給装置の構成
を示す図である。
を示す図である。
【図3】従来のバブラの構造を示す断面図である。
1 液体有機金属 1A 液体金属 2 容器 3 導入管 3a 導入口 4 導出管 4a 導出口 5 気泡 6 螺旋状の板 9 液滴 11 渦巻状の管 14 加熱箇所
Claims (2)
- 【請求項1】 液体金属あるいは液体有機金属材料を容
器内に入れ、上記容器内にキャリアガスを導入して上記
材料をバブリングによって気化し、気相結晶成長用に上
記材料の気化蒸気を導出するバブラにおいて、上記材料
の入った容器内でバブリングによって発生した気泡のパ
スを長くしたことを特徴とするバブラ。 - 【請求項2】 液体金属あるいは液体有機金属材料の液
滴を所定温度に設定した管内に導入し、この管内の液滴
をキャリアガスによって上記長い管内中を移動させて上
記管内中で上記液滴の気化を行い、気相結晶成長用に上
記材料の気化蒸気を得るガス供給装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4816692A JPH05251348A (ja) | 1992-03-05 | 1992-03-05 | バブラおよびガス供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4816692A JPH05251348A (ja) | 1992-03-05 | 1992-03-05 | バブラおよびガス供給装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05251348A true JPH05251348A (ja) | 1993-09-28 |
Family
ID=12795807
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4816692A Pending JPH05251348A (ja) | 1992-03-05 | 1992-03-05 | バブラおよびガス供給装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05251348A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002359238A (ja) * | 2001-06-01 | 2002-12-13 | Tokyo Electron Ltd | 固体原料気化装置および固体原料気化方法 |
WO2009113400A1 (ja) | 2008-03-12 | 2009-09-17 | 三井造船株式会社 | 原料供給装置 |
JP2011176369A (ja) * | 2003-05-27 | 2011-09-08 | Applied Materials Inc | 半導体処理システムのための前駆物質を生成する方法及び装置 |
US8170404B2 (en) | 2004-05-20 | 2012-05-01 | Akzo Nobel N.V. | Bubbler for constant vapor delivery of a solid chemical |
-
1992
- 1992-03-05 JP JP4816692A patent/JPH05251348A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002359238A (ja) * | 2001-06-01 | 2002-12-13 | Tokyo Electron Ltd | 固体原料気化装置および固体原料気化方法 |
JP2011176369A (ja) * | 2003-05-27 | 2011-09-08 | Applied Materials Inc | 半導体処理システムのための前駆物質を生成する方法及び装置 |
US8170404B2 (en) | 2004-05-20 | 2012-05-01 | Akzo Nobel N.V. | Bubbler for constant vapor delivery of a solid chemical |
WO2009113400A1 (ja) | 2008-03-12 | 2009-09-17 | 三井造船株式会社 | 原料供給装置 |
US8382071B2 (en) | 2008-03-12 | 2013-02-26 | Mitsui Engineering & Shipbuilding Co., Ltd. | Raw material supply device |
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