JPH05237621A - 連続鋳造方法 - Google Patents
連続鋳造方法Info
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- JPH05237621A JPH05237621A JP4078589A JP7858992A JPH05237621A JP H05237621 A JPH05237621 A JP H05237621A JP 4078589 A JP4078589 A JP 4078589A JP 7858992 A JP7858992 A JP 7858992A JP H05237621 A JPH05237621 A JP H05237621A
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Abstract
微量元素の偏析を防止し、均質な製品を得る。 【構成】 鋳片を連続的に引き抜く溶融金属の連続鋳造
法において、鋳型内に連続的に供給される溶融金属の流
動を電磁石により制御することにより、鋳片内の凝固ラ
インの形状をコントロールしつつ、未凝固鋳片を連続的
に圧下する。
Description
固させる連続鋳造法において、鋳片中心部にみられる微
量元素の偏析を防止し、均質な製品を得るために、鋳片
内に残留する溶鋼の流動を制御する方法に関する。
は、S、P、Mn 等の微量元素を含み、これらの元素
は、鋳片中心部に濃化し、中心偏析と呼ばれる領域を形
成し、製品の品質を低下させる大きな原因となってい
る。この偏析現象は、凝固末期における鋳片内の残溶鋼
が、鋳片の凝固収縮やバルジング(溶鋼静圧によりロー
ル間のシェルが膨張する現象)により流動することによ
って生じるとされている。
は、ロール間のバルジングを小さくし、さらに、凝固収
縮に応じた量だけ鋳片を圧下すれば良く、この技術に関
し、多くの公知文献、例えば特開昭62−28056号
公報、特開昭53−102225号公報等がある。
凝固部分を圧下するのは、次の理由により極めて困難な
ことである。すなわち、図1に示すように従来のスラブ
型の連続鋳造機においては、通常二孔ノズルと呼ばれる
浸漬ノズル11より水冷鋳型12内へ溶融金属13を吐
出するため、大きな循環下降流14が凝固シェル15内
に形成される。この下降流により、スラブ内の均一な冷
却が不可能となり、図2に示すような先端(クレータエ
ンド)がフィシュテール状で断面がヘアピン状の未凝固
領域を形成することになる。
と同時に示すが、この断面図より明らかなように、未凝
固部が均一に存在しないため、均等な圧下が不可能とな
る。この不均一未凝固域形成の原因は、溶融金属の流
動、とくに鋳型の両短辺に沿う下降流に起因している。
うな形状の不均一な未凝固領域の形成をコントロールし
てこれを均一にすればよい。そして浸漬ノズルからの吐
出流のうちの下降流を制御することができれば、未凝固
領域の形状コントロールが可能となる。
力を用いることを特徴とする。電磁力印加の手段として
は、直流磁場による電磁ブレーキと、交流による移動磁
界を利用するものである。
したがって、直流磁場を利用する場合を説明する。浸漬
ノズル1より供給された溶鋼2は、鋳型の短辺に向かう
吐出流3となるが、この部分に印加した静磁場4との相
互作用によりうず電流5を誘起し、ここに示すような電
流ループを形成する。この誘起された電流と印加磁場と
の相互作用により、吐出流と反対向きにローレンツ力6
が作用し、溶鋼流動に制動力を与えることになる。
に制御して、断面紡錘形とし、かつ鋳片横断面内の速度
分布を両側より中心部を大きくすることが可能となる。
このような流動条件によって生じた未凝固領域を持つ鋳
片は、その凝固収縮量に応じた圧下が可能となる。
用例を示すが、移動磁界の方向に電磁力が働き、流動に
対し駆動と制動とを選択できる。図5に示すような方向
に移動磁界を与えると、図4に示すのと同様な未凝固領
域を形成させることが可能となる。以下に、クレーター
エンドの形状制御の態様について図8ないし図12を参
照してさらに説明する。
は図8に示すような流れとなる。ノズルからの吐出流
は、短辺側に下降流を形成し、中心部では上昇流を形成
している。この流動パターンにしたがって未凝固領域が
形成される。したがって、溶鋼の流量パターンを変化さ
せることによりクレータエンドの形状制御が可能とな
る。
ズルからの溶鋼吐出流の制御 図9に示すように、一般的な電磁ブレーキによってノズ
ルからの吐出溶鋼流にブレーキング力を作動させて流動
パターンを制御し、クレータエンドの形状を下に凸とな
るようにすることができる。
均一化 図10に示すように、一般的な電磁攪拌を行なうと、短
辺下降流が均一化され、それにしたがいクレータエンド
の形状も均一化される。
からの溶鋼吐出流の制御 図11、12に示すように、移動磁場を利用することに
より積極的に中心下降流を生起させる。この方法がもっ
とも流動制御の柔軟性に優れている。
鋳造を行った実施例の結果を図7に示す。図6は、長辺
L1m、短L2mの横断面をもつ鋳型に溶鋼を流量Q ton
/minで連続的に鋳造する場合に、溶鋼に電磁石を印加
しない鋳型(a)、静磁場を印加する鋳型(b),移動
磁場を印加する鋳型(c)を用いて、凝固後の鋳片の中
心部(両短辺から等しい距離にある帯域で図7内の右上
の図に示される)においてCの偏析量を測定した。
bはそれぞれ磁界発生用の磁石の有効(断)面積であ
り、x,yは、それぞれ磁石の中心が浸漬ノズルの中心
線および鋳型の上面から離れている距離を表す。また静
磁場における最大磁束密度は0.35テスラ、移動磁界
における最大磁束密度は0.17テスラであった。これ
らの条件は表1に示すとおりである。
あるいは交流磁場により流動制御を行い、未凝固領域の
形状を改善することにより、圧下を容易に行うことがで
き、中心偏析を大幅に改善することが可能であった。ち
なみに、ケース(a)では、許容圧下量は3.5mmで
あったが、ケース(b),(c)ではいずれも圧下量
4.5mmとすることができた。また中心部のc量の偏
析度が約1.4から1以下に低減したことが観察され
た。ここで偏析度は数1の式によって表される。
るに際し、電磁力により未凝固領域の形状を制御し、未
凝固領域の均一な圧下を可能とすることにより、中心部
に偏析のほとんどない良質で均質な鋳片を得ることが可
能となった。
念図である。
示す図である。
る。
凝固領域の形状を示す図である。
コントロールの状況を示す図である。
置を示す図である。
炭素の偏析度との関係を示すグラフである。
ーンを示す図である。
制御の態様を示す図である。
である。
流の制御の態様を示す図である。
出流の制御の態様を示す図である。
Claims (1)
- 【請求項1】 鋳片を連続的に引き抜く溶融金属の連続
鋳造方法において、鋳型内に連続的に供給される溶融金
属の流動を電磁力により制御することにより、鋳片内の
凝固ラインの形状をスラブ中央部のシェルの厚みを薄く
するようにコントロールしつつ、未凝固鋳片を連続的に
圧下して中心偏析を防止することを特徴とする連続鋳造
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP07858992A JP3237177B2 (ja) | 1992-02-28 | 1992-02-28 | 連続鋳造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP07858992A JP3237177B2 (ja) | 1992-02-28 | 1992-02-28 | 連続鋳造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05237621A true JPH05237621A (ja) | 1993-09-17 |
JP3237177B2 JP3237177B2 (ja) | 2001-12-10 |
Family
ID=13666102
Family Applications (1)
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JP07858992A Expired - Lifetime JP3237177B2 (ja) | 1992-02-28 | 1992-02-28 | 連続鋳造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3237177B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1997000747A1 (fr) * | 1995-06-21 | 1997-01-09 | Sumitomo Metal Industries, Ltd. | Coulee continue de pieces minces |
JPH11347701A (ja) * | 1998-06-12 | 1999-12-21 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 連続鋳造方法および連続鋳造機 |
CN108436049A (zh) * | 2018-02-08 | 2018-08-24 | 中国科学院金属研究所 | 一种控制大尺寸连铸坯中v偏析的方法 |
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-
1992
- 1992-02-28 JP JP07858992A patent/JP3237177B2/ja not_active Expired - Lifetime
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JP3237177B2 (ja) | 2001-12-10 |
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