JPH05211361A - Semiconductor laser-pumping solid laser device - Google Patents
Semiconductor laser-pumping solid laser deviceInfo
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 130
- 238000005086 pumping Methods 0.000 title claims abstract description 73
- 239000007787 solid Substances 0.000 title abstract description 11
- 239000002826 coolant Substances 0.000 claims abstract description 19
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims abstract description 19
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims abstract description 12
- 239000000110 cooling liquid Substances 0.000 claims description 39
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 23
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 claims description 17
- 239000000112 cooling gas Substances 0.000 claims description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 8
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 2
- RVZRBWKZFJCCIB-UHFFFAOYSA-N perfluorotributylamine Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)N(C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F RVZRBWKZFJCCIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- -1 fluorocarbon compound Chemical class 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Lasers (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、半導体レーザ装置か
ら射出されたレーザ光を励起光として用いる半導体レー
ザ励起固体レーザ装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor laser pumped solid-state laser device that uses laser light emitted from a semiconductor laser device as pumping light.
【0002】[0002]
【従来の技術】半導体レーザ装置から射出されたレーザ
光を励起光として用いる半導体レーザ励起固体レーザ装
置は、励起用半導体レーザ装置から射出される励起用レ
ーザ光の波長が固体レーザ媒体の吸収波長に一致してい
ないと、著しく発振効率が落ちる。ここで、励起用半導
体レーザ装置の発振波長は、励起用半導体レーザ装置の
温度によって変化する。このため、この励起用半導体レ
ーザ装置の発振波長を固体レーザ媒体の吸収波長と一致
させるために、該励起用半導体レーザ装置の温度を所定
の温度に正確に保持する必要がある。2. Description of the Related Art A semiconductor laser pumped solid-state laser device that uses laser light emitted from a semiconductor laser device as pumping light is such that the wavelength of the pumping laser light emitted from the pumping semiconductor laser device is equal to the absorption wavelength of the solid-state laser medium. If they do not match, the oscillation efficiency drops significantly. Here, the oscillation wavelength of the pumping semiconductor laser device changes depending on the temperature of the pumping semiconductor laser device. Therefore, in order to match the oscillation wavelength of the pumping semiconductor laser device with the absorption wavelength of the solid-state laser medium, the temperature of the pumping semiconductor laser device must be accurately maintained at a predetermined temperature.
【0003】励起用半導体レーザ装置の温度を所定の温
度に保持する方法としては、励起用半導体レーザ装置の
発光部を取付けた基板をペルチェ素子等を用いて一定の
温度に保持する方法が一般的であった(例えば、米国特
許第4,739,507 号明細書参照)。しかし、高出力を得る
ために多数の励起用半導体レーザ装置を用いる場合に
は、多数のペルチェ素子とその駆動装置が必要となり、
装置が複雑高価になって現実的でない。そこで、このよ
うな場合には、励起用半導体レーザ装置の発光部を取付
けた基板に放熱器を取り付け、この放熱器に冷却水を通
して冷却する方法も試みられている(Advaced Solid-St
ate Laser 1991 technical digest pdp8-1参照)。As a method of maintaining the temperature of the pumping semiconductor laser device at a predetermined temperature, a method of holding the substrate on which the light emitting portion of the pumping semiconductor laser device is mounted at a constant temperature by using a Peltier element is generally used. (See, eg, US Pat. No. 4,739,507). However, when a large number of pumping semiconductor laser devices are used to obtain a high output, a large number of Peltier elements and their driving devices are required,
The device becomes complicated and expensive, which is not realistic. Therefore, in such a case, a method of mounting a radiator on a substrate on which a light emitting portion of a semiconductor laser device for excitation is mounted and cooling water by passing cooling water through the radiator (Advaced Solid-St
ate Laser 1991 technical digest pdp8-1).
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述の従来
の方法における励起用半導体レーザ装置の冷却方法は、
励起用半導体レーザ装置を固定する基板の温度を一定に
保持し、この基板表面と半導体レーザ装置との接触面で
熱伝導による熱交換を行ない、半導体レーザ装置の発光
部の温度を間接的に所定の温度にしようとするものであ
った。しかしながら、このような間接冷却方法では、接
触面で熱抵抗が生じるため、温度制御の効率及び安定性
の向上には一定の限界があった。例えば、出力が10W
の半導体レーザ装置の温度を20℃で駆動させようとす
ると、半導体レーザ装置は約30Wの熱を発生し、半導
体レーザ装置と基板との接触面の熱抵抗が0.2℃/W
の場合、基板の温度は14℃まで下げなければならな
い。半導体レーザ装置の出力が増加すれば、さらに半導
体レーザ装置と基板との温度差は拡がる結果となり、高
出力の半導体レーザ装置を用いるときに問題となる。By the way, the cooling method of the pumping semiconductor laser device in the above-mentioned conventional method is as follows.
The temperature of the substrate on which the pumping semiconductor laser device is fixed is kept constant, and heat is exchanged by heat conduction at the contact surface between the substrate surface and the semiconductor laser device to indirectly determine the temperature of the light emitting portion of the semiconductor laser device. It was the one trying to reach the temperature. However, in such an indirect cooling method, thermal resistance is generated at the contact surface, so that there is a certain limit in improving the efficiency and stability of temperature control. For example, output is 10W
When the temperature of the semiconductor laser device is to be driven at 20 ° C., the semiconductor laser device generates heat of about 30 W, and the thermal resistance of the contact surface between the semiconductor laser device and the substrate is 0.2 ° C./W.
In this case, the temperature of the substrate must be lowered to 14 ° C. If the output of the semiconductor laser device increases, the temperature difference between the semiconductor laser device and the substrate further widens, which is a problem when using a high-output semiconductor laser device.
【0005】このように、従来の方法においては半導体
レーザ装置の放熱を考慮することが不可欠であったた
め、装置の構造には熱の問題に関する制限が非常に多く
あり、使用できる半導体レーザ装置の出力と配置できる
個数が限られてしまい、装置の構造も複雑にならざるを
得なかった。As described above, in the conventional method, it is indispensable to consider the heat radiation of the semiconductor laser device. Therefore, the structure of the device has many restrictions on the problem of heat, and the output of the usable semiconductor laser device is large. The number of devices that can be arranged is limited, and the structure of the device must be complicated.
【0006】さらに、固体レーザ媒体は、固体レーザ媒
体を支持する部分と接触している部分からしか冷却され
ないため、この接触部分に微細な凹凸が存在する等の原
因により一様に熱が伝搬しないような場合には固体レー
ザ媒体内部に不規則な温度分布が生じ易く、熱歪みによ
るレーザービーム品質の低下や固体レーザ媒体の劣化を
引き起こしやすかった。Furthermore, since the solid-state laser medium is cooled only from the portion in contact with the portion supporting the solid-state laser medium, heat does not propagate uniformly due to the presence of fine irregularities in the contact portion. In such a case, an irregular temperature distribution is likely to occur inside the solid-state laser medium, which easily causes deterioration of the laser beam quality and deterioration of the solid-state laser medium due to thermal strain.
【0007】この発明は、上述の背景のもとでなされた
ものであり、比較的簡単な構成により、発振出力が安定
でかつ容易に高出力とすることが可能な半導体レーザ励
起固体レーザ装置を提供することを目的としたものであ
る。The present invention has been made under the background described above, and provides a semiconductor laser pumped solid-state laser device which has a stable oscillation output and can easily attain a high output with a relatively simple structure. It is intended to be provided.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
めに本発明は、(1) 励起用半導体レーザ装置から射
出された励起用のレーザ光を、レーザ共振器内に配置さ
れた固体レーザ媒体に照射し、該固体レーザ媒体を励起
して出力レーザ光を得るようにした半導体レーザ励起固
体レーザ装置において、前記励起用半導体レーザ装置及
び固体レーザ媒体を容器内に収容し、該容器内に絶縁性
を有しかつ透明な冷媒を入れて該冷媒が前記励起用半導
体レーザ装置及び固体レーザ媒体の少なくとも一部に接
触するようにするとともに、前記冷媒の温度を、前記励
起用半導体レーザ装置の発振波長が前記固体レーザ媒体
の吸収波長に一致するように励起用半導体レーザ装置の
温度を維持する温度制御装置を設けたことを特徴とする
構成とした。In order to solve the above problems, the present invention provides (1) a solid-state laser in which a laser beam for pumping emitted from a semiconductor laser device for pumping is arranged in a laser resonator. In a semiconductor laser pumped solid-state laser device for irradiating a medium and exciting the solid-state laser medium to obtain output laser light, the pumping semiconductor laser device and the solid-state laser medium are housed in a container, and Insulating and transparent refrigerant is introduced so that the refrigerant comes into contact with at least a part of the semiconductor laser device for excitation and the solid-state laser medium, and the temperature of the refrigerant is set to the temperature of the semiconductor laser device for excitation. A temperature control device for maintaining the temperature of the pumping semiconductor laser device is provided so that the oscillation wavelength matches the absorption wavelength of the solid-state laser medium.
【0009】また、この構成1の態様として、(2)
構成1の半導体レーザ励起固体レーザ装置において、前
記冷媒が冷却液であることを特徴とした構成、(3)
構成1の半導体レーザ励起固体レーザ装置において、前
記冷媒が冷却ガスであることを特徴とした構成、及び、
(4) 構成1の半導体レーザ励起固体レーザ装置にお
いて、前記温度制御装置は、前記冷媒の一部を前記容器
から取り出して導入し、その温度を目的の温度にした
後、前記容器に戻すようにした循環式温度制御装置であ
ることを特徴とした構成とした。As a mode of the configuration 1, (2)
In the semiconductor laser pumped solid-state laser device of constitution 1, the refrigerant is a cooling liquid, (3)
In the semiconductor laser pumped solid-state laser device of configuration 1, the refrigerant is a cooling gas, and
(4) In the semiconductor-laser-pumped solid-state laser device of configuration 1, the temperature control device takes out a part of the refrigerant from the container and introduces it, and after returning the temperature to a target temperature, returns it to the container. The configuration is characterized in that it is a circulating type temperature control device.
【0010】さらに、構成1〜4の態様として、(5)
構成1ないし4のいずれかの半導体レーザ励起固体レ
ーザ装置において、前記励起用半導体レーザ装置から射
出された励起用のレーザ光を、前記固体レーザ媒体の側
面から該固体レーザ媒体に照射するようにしたことを特
徴とする構成、及び、(6) 構成1ないし4のいずれ
かの半導体レーザ励起固体レーザ装置において、前記励
起用半導体レーザ装置から射出された励起用のレーザ光
を、前記固体レーザ媒体の共振レーザ光の入・出射面た
る端面から該固体レーザ媒体に照射するようにしたこと
を特徴とする構成とした。Further, as modes of configurations 1 to 4, (5)
In the semiconductor laser pumped solid-state laser device according to any one of configurations 1 to 4, the pumping laser light emitted from the pumping semiconductor laser device is irradiated onto the solid-state laser medium from a side surface of the solid-state laser medium. In the semiconductor laser pumped solid-state laser device according to any one of configurations 1 to 4, the pumping laser light emitted from the pumping semiconductor laser device is supplied to the solid-state laser medium. The solid-state laser medium is irradiated from the end faces that are the entrance and exit faces of the resonant laser light.
【0011】[0011]
【作用】上述の構成1によれば、励起用半導体レーザ装
置の発光部に液体または気体の冷媒を直接接触させて冷
却できるため、冷媒を正確に所定の温度に維持すること
により、励起用半導体レーザ装置の発光部の温度を正確
に所定の温度に保持することが可能である。このため、
半導体レーザ装置の波長変動を抑えることができ、固体
レーザ媒体に吸収される励起光の出力を安定にすること
ができる。また、複数の励起用半導体レーザ装置を用い
る場合には、半導体レーザ装置ごとに放熱方法を考慮す
る必要がなく装置の構造を単純にでき、より多くの励起
用半導体レーザ装置を比較的自由に配置するスペースを
確保することが可能である。さらに、冷媒により励起用
半導体レーザ装置とともに固体レーザ媒体も同時に冷却
でき、固体レーザ媒体の温度を安定した温度に維持する
ことができる。このため、発振するレーザ光の出力やビ
ーム特性を安定して得ることが可能となる。According to the above configuration 1, since the liquid or gas refrigerant can be directly brought into contact with the light emitting portion of the pumping semiconductor laser device to cool it, the pumping semiconductor can be accurately maintained at a predetermined temperature. It is possible to accurately maintain the temperature of the light emitting portion of the laser device at a predetermined temperature. For this reason,
The wavelength fluctuation of the semiconductor laser device can be suppressed, and the output of the excitation light absorbed by the solid-state laser medium can be stabilized. Further, when using a plurality of pumping semiconductor laser devices, it is not necessary to consider the heat radiation method for each semiconductor laser device, the structure of the device can be simplified, and more pumping semiconductor laser devices can be arranged relatively freely. It is possible to secure a space to operate. Furthermore, the solid-state laser medium can be cooled at the same time as the pumping semiconductor laser device by the coolant, and the temperature of the solid-state laser medium can be maintained at a stable temperature. Therefore, it is possible to stably obtain the output of the oscillating laser light and the beam characteristics.
【0012】ここで、構成2のように、冷媒として熱容
量の大きい冷却液を用いると、励起用半導体レーザ装置
等の発熱量が大きい場合でもこれを強力に冷却すること
ができ、構成3のように冷媒として冷却ガスを用いるこ
とにより、比較的簡易な冷却が可能となる。Here, if a cooling liquid having a large heat capacity is used as the refrigerant as in the configuration 2, it can be strongly cooled even when the heat generation amount of the pumping semiconductor laser device or the like is large. By using the cooling gas as the cooling medium, the cooling can be performed relatively easily.
【0013】また、構成4によれば、冷媒の温度を所定
の温度にする温度制御装置を外部に設けることができる
から、容器周辺の構成をより小型・コンパクトにするこ
とができる。According to the structure 4, since the temperature control device for controlling the temperature of the refrigerant to the predetermined temperature can be provided outside, the structure around the container can be made smaller and more compact.
【0014】さらに、構成5によれば、側面励起方法を
とることにより、多数の励起用半導体レーザ装置を配置
し、これらを正確に所定の温度に維持することができる
から、高出力のレーザ光の発振が可能となる。Further, according to the structure 5, a large number of pumping semiconductor laser devices can be arranged by using the lateral pumping method, and these can be accurately maintained at a predetermined temperature. Can be oscillated.
【0015】また、構成6によれば、端面励起方法をと
ることにより、容器内に励起用半導体レーザ装置と固体
レーザ装置とを収容し、これら双方を冷媒により冷却す
るという単純な構成にできるとともに、励起用半導体レ
ーザ装置の温度を極めて正確に所定の温度に保持するこ
とができるから、端面励起の特徴を十分に生かしてビー
ム特性にすぐれたレーザ光を得ることができ、かつ、装
置を極めて小型・コンパクトに形成できる端面励起の半
導体レーザ励起固体レーザ装置を得ることができる。According to the structure 6, by adopting the end face pumping method, the pumping semiconductor laser device and the solid-state laser device are housed in the container, and both of them can be cooled by the refrigerant, and a simple structure can be obtained. Since the temperature of the pumping semiconductor laser device can be maintained at a predetermined temperature extremely accurately, it is possible to obtain a laser beam having excellent beam characteristics by fully utilizing the characteristics of the end face pumping, and It is possible to obtain an edge-pumped semiconductor laser pumped solid-state laser device that can be formed compactly and compactly.
【0016】[0016]
【実施例】第1実施例 図1はこの発明の第1実施例にかかる半導体レーザ励起
固体レーザ装置の縦断面図、図2はこの発明の第1実施
例にかかる半導体レーザ励起固体レーザ装置の横断面図
である。以下、これらの図を参照にしながらこの発明の
第1実施例を詳細に説明する。なお、この実施例は、冷
却媒体として冷却液を用い、側面励起方法により、高出
力のレーザ光を得る場合の例である。 First Embodiment FIG. 1 is a longitudinal sectional view of a semiconductor laser pumped solid-state laser device according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a semiconductor laser pumped solid-state laser device according to the first embodiment of the present invention. FIG. Hereinafter, the first embodiment of the present invention will be described in detail with reference to these drawings. It should be noted that this embodiment is an example in which a cooling liquid is used as a cooling medium and a high-power laser beam is obtained by a side excitation method.
【0017】図1及び図2において、符号1は容器、符
号2はロッド状の固体レーザ媒体、符号3は励起用半導
体レーザ装置、符号4は全反射ミラー、符号5は出力ミ
ラー、符号6は循環式温度制御装置、符号7は容器1内
に満たされた冷却液である。なお、全反射ミラー4と出
力ミラー5とでレーザ共振器を構成する。1 and 2, reference numeral 1 is a container, reference numeral 2 is a rod-shaped solid-state laser medium, reference numeral 3 is a pumping semiconductor laser device, reference numeral 4 is a total reflection mirror, reference numeral 5 is an output mirror, and reference numeral 6 is A circulation type temperature control device, reference numeral 7 is a cooling liquid filled in the container 1. The total reflection mirror 4 and the output mirror 5 form a laser resonator.
【0018】容器1は、アルミ、ステンレス等の材質で
構成され、外形が角柱状をなすとともに、内部に角柱の
軸に沿って固体レーザ媒体2の外形より大きい径の円柱
形状の空洞が形成され、これが収納部1aとされている
ものである。また、角柱の軸と交わる両端面には固体レ
ーザ媒体2の径と略等しい径の円形状の窓部1b及び1
cが形成されている。そして、これら窓部1b及び1c
に固体レーザ媒体2の両端部を嵌合し、Oリング1dを
挾んでこれら窓部に形成されたねじ部に止めねじ1eを
螺合することにより、固体レーザ媒体2の両端部を密封
して固定するようになっている。すなわち、固体レーザ
媒体2は、収納部1aの中心軸に沿って配置され、か
つ、その光軸と交わる両端面は外部に露出されるように
なっている。The container 1 is made of a material such as aluminum or stainless steel, and has a prismatic outer shape, and a cylindrical cavity having a diameter larger than the outer shape of the solid-state laser medium 2 is formed inside along the axis of the prism. This is the storage section 1a. Further, on both end faces that intersect the axis of the prism, circular window portions 1b and 1 having a diameter substantially equal to the diameter of the solid-state laser medium 2 are provided.
c is formed. And these window parts 1b and 1c
Both ends of the solid-state laser medium 2 are sealed by fitting the both ends of the solid-state laser medium 2 in between, inserting the O-ring 1d, and screwing the setscrews 1e into the screw portions formed in these windows. It is designed to be fixed. That is, the solid-state laser medium 2 is arranged along the central axis of the housing portion 1a, and both end surfaces that intersect the optical axis are exposed to the outside.
【0019】また、収納部1aの内周面の一部はその長
手方向の全長にわたって中心に向かって突出され、か
つ、その突出部の表面の一部が中心に向かう平坦面に形
成されており、これが台座部1fとされている。そし
て、この台座部1fには、5個の励起用半導体レーザ装
置3が、それぞれの発光部が固体レーザ媒体2の方向に
向くようにして互いに所定の間隔をおいて固定されるよ
うになっている。Further, a part of the inner peripheral surface of the storage portion 1a is projected toward the center over the entire length in the longitudinal direction, and a part of the surface of the projected portion is formed into a flat surface directed toward the center. This is the base portion 1f. Then, five pumping semiconductor laser devices 3 are fixed to the pedestal portion 1f at predetermined intervals so that their respective light emitting portions face the direction of the solid-state laser medium 2. There is.
【0020】さらに、容器1の長手方向の両端部には、
冷却液流出孔1g及び冷却液流入孔1hがそれぞれ設け
られており、冷却液流出孔1gには接合金具6aを介し
て冷却液流出パイプの一端が接続され、また、冷却液流
入孔1hには接合金具6cを介して冷却液流入パイプ6
dの一端が接続されている。そして、これら冷却液流出
孔1g及び冷却液流入孔1hのそれぞれの他端は循環式
温度制御装置6の冷却液導入口及び冷却液排出口に接続
されている。Furthermore, at both ends in the longitudinal direction of the container 1,
A cooling liquid outflow hole 1g and a cooling liquid inflow hole 1h are provided respectively, one end of a cooling liquid outflow pipe is connected to the cooling liquid outflow hole 1g through a joint fitting 6a, and the cooling liquid inflow hole 1h is connected to the cooling liquid inflow hole 1h. Cooling liquid inflow pipe 6 via joining metal fitting 6c
One end of d is connected. The other ends of the cooling liquid outflow hole 1g and the cooling liquid inflow hole 1h are connected to the cooling liquid introduction port and the cooling liquid discharge port of the circulation type temperature control device 6.
【0021】この循環式温度制御装置6は冷却液導入口
から冷却液を導入し、冷却液排出孔から排出して冷却液
7を循環させる循環ポンプと、導入した冷却液の温度を
一定の温度にコントロールする温度コントローラを内蔵
するものである。This circulation type temperature control device 6 introduces the cooling liquid from the cooling liquid introduction port, discharges it from the cooling liquid discharge hole, circulates the cooling liquid 7, and circulates the cooling liquid 7, and the temperature of the introduced cooling liquid is constant. It has a built-in temperature controller for controlling.
【0022】さらに、容器1内で収納部1aを形成する
内周面は鏡面に形成されており、反射面1iとされてい
る。この反射面1iは、容器1内で収納部1aを形成す
る内周面を鏡面研摩したものであるが、アルミ、銀もし
くは金その他の反射膜を形成したものでもよい。Further, the inner peripheral surface of the container 1 forming the housing portion 1a is formed into a mirror surface, and is a reflecting surface 1i. The reflection surface 1i is formed by mirror-polishing the inner peripheral surface of the container 1 which forms the storage portion 1a, but may be formed by forming a reflection film of aluminum, silver, gold or the like.
【0023】固体レーザ媒体2は、波長1064nmの
レーザ光を発振するNd:YAGレーザロッドであっ
て、直径3mmφ、長さ30mmの寸法を有し、両端面
は平面研摩され、発振レーザ光に対する反射防止膜が形
成されている。この固体レーザ媒体2の光吸収ピーク波
長は807nmである。The solid-state laser medium 2 is an Nd: YAG laser rod that oscillates a laser beam having a wavelength of 1064 nm, has a diameter of 3 mmφ and a length of 30 mm. Both end surfaces are flat-polished and reflected by the oscillating laser beam. The prevention film is formed. The light absorption peak wavelength of this solid-state laser medium 2 is 807 nm.
【0024】この固体レーザ媒体2の長手方向における
両側であって、容器1の外側に位置する部位には、固体
レーザ媒体2と光軸を共通にしてともに球曲面状の凹面
を反射面とする全反射ミラー4と出力ミラー5とが配置
されて、レーザ共振器を構成している。On both sides of the solid-state laser medium 2 in the longitudinal direction and on the outer side of the container 1, the optical axis is common to the solid-state laser medium 2 and both spherical concave concave surfaces serve as reflecting surfaces. The total reflection mirror 4 and the output mirror 5 are arranged to form a laser resonator.
【0025】ここで、全反射鏡4は、全反射面たる凹面
の曲率半径を5mに設定したものである。また、出力ミ
ラー5は、凹面がレーザ媒体2側に向くように配置され
た凹レンズ状をなしたガラス体の凹面の表面に誘電体多
層膜からなる反射膜を形成し、出力レーザ光L1 に対す
る透過率が3%になるようにしたもので、凹面の曲率半
径を5mに設定することにより、全反射鏡4とで共振器
長が100mmのレーザ共振器を構成している。Here, the total reflection mirror 4 is such that the radius of curvature of the concave surface which is the total reflection surface is set to 5 m. Further, the output mirror 5 forms a reflection film made of a dielectric multilayer film on the surface of the concave surface of a glass body having a concave lens shape arranged so that the concave surface faces the laser medium 2 side, and the output laser light L 1 The transmittance is set to 3%, and by setting the radius of curvature of the concave surface to 5 m, the total reflection mirror 4 constitutes a laser resonator having a resonator length of 100 mm.
【0026】励起用半導体レーザ装置3は、発振波長が
800〜820nmのGaAs系の半導体レーザ装置で
あり、出力が5Wである。5個の励起用半導体レーザ装
置3は、各々の温度が皆等しいときに、各々のレーザ光
の発振波長が一致するものを揃える必要がある。この実
施例においては、5個の励起用半導体レーザ装置3が、
ともその温度が25℃で発振波長が807nmになるも
のを使用する。これは固体レーザ媒体2として吸収のピ
ーク波長が807nmのNd:YAGを用いた場合であ
るが、吸収のピーク波長が795nmのNd:YLFを
固体レーザ媒体として用いる場合には、それぞれの温度
が同じときすべての発振波長が795nmになるように
特性の揃った半導体レーザ装置を選ぶ。なお、この励起
用半導体レーザ3は、駆動装置3aによって駆動される
ようになっている。The pumping semiconductor laser device 3 is a GaAs semiconductor laser device having an oscillation wavelength of 800 to 820 nm and has an output of 5 W. It is necessary to arrange the five pumping semiconductor laser devices 3 so that the oscillation wavelengths of the respective laser lights are the same when the temperatures are all the same. In this embodiment, five pumping semiconductor laser devices 3 are
Both of them have a temperature of 25 ° C. and an oscillation wavelength of 807 nm. This is the case where Nd: YAG having an absorption peak wavelength of 807 nm is used as the solid-state laser medium 2, but when Nd: YLF having an absorption peak wavelength of 795 nm is used as the solid-state laser medium, the respective temperatures are the same. At this time, a semiconductor laser device having uniform characteristics is selected so that all oscillation wavelengths become 795 nm. The excitation semiconductor laser 3 is driven by the driving device 3a.
【0027】冷却液7は、透明で高い絶縁性を示す液体
を用いる。この実施例では、フロロカーボン化合物の一
種であり、半導体部品等の冷却液として使用されるフロ
リナート(米国スリーエム社の商品名)を用いた。この
フロリナートは、励起用半導体レーザ装置3から射出さ
れる波長807nmの光に対して90%以上の高い透過
率を有し、絶縁耐力が30KVと極めて高いとともに、
熱的、化学的に安定であって、励起用レーザ装置3の動
作を乱したり発光部を損なうようなことがない。しか
も、熱伝導率がシリコンオイルの2倍であるので、冷却
液として最適である。なお、この冷却液7としては、シ
リコンオイルを用いてもよい。As the cooling liquid 7, a transparent and highly insulating liquid is used. In this example, Fluorinert (trade name of 3M Company, USA), which is a kind of fluorocarbon compound and is used as a cooling liquid for semiconductor parts and the like, was used. This Fluorinert has a high transmittance of 90% or more with respect to the light having a wavelength of 807 nm emitted from the excitation semiconductor laser device 3, and has an extremely high dielectric strength of 30 KV.
It is thermally and chemically stable, and does not disturb the operation of the excitation laser device 3 or damage the light emitting portion. Moreover, since it has twice the thermal conductivity of silicone oil, it is optimal as a cooling liquid. Silicon oil may be used as the cooling liquid 7.
【0028】上述の構成において、循環式温度制御装置
6によって冷却液7を25°Cに保持し、駆動装置3a
により、励起用半導体レーザ装置3を駆動して固体レー
ザ媒体2に励起用レーザ光L0 (波長;807nm)を
照射してレーザ発振を行うことにより、波長1064n
mで、出力が3Wの極めて高い値を有し、ビーム特性の
すぐれた出力レーザ光L1 を得ることができる。ちなみ
に、従来の半導体レーザ励起の固体レーザ装置で同等の
出力を得るためには、各々の励起用半導体レーザ装置の
基底部に水冷用の配管を行なうなど装置全体が複雑な構
造となり、かつ、大型なものとなっていた。これに対
し、上述の実施例では、構造が極めて単純であり、した
がって、装置を極めて小型コンパクトに構成することが
できる。In the above-mentioned structure, the circulation type temperature control device 6 holds the cooling liquid 7 at 25 ° C.
To drive the pumping semiconductor laser device 3 to irradiate the solid-state laser medium 2 with the pumping laser beam L 0 (wavelength: 807 nm) to oscillate the laser beam.
At m, the output has an extremely high value of 3 W, and the output laser light L 1 having excellent beam characteristics can be obtained. By the way, in order to obtain an equivalent output with a conventional semiconductor laser pumped solid-state laser device, the entire device has a complicated structure such as a water cooling pipe at the base of each pumping semiconductor laser device, and a large size. It was supposed to be. On the other hand, in the above-described embodiment, the structure is extremely simple, and therefore, the device can be made extremely small and compact.
【0029】第2実施例 図3はこの発明の第2実施例にかかる半導体レーザ励起
固体レーザ装置の横断面図である。以下図3を参照にし
ながら第2実施例を詳述する。なお、この実施例も冷却
媒体として冷却液を用い、側面励起方法によるものであ
り、上述の第1実施例と構成の多くが共通するので、共
通する部分には同一の符号を付してその説明を省略し、
以下ではこの実施例に特有な点のみを説明する。 Second Embodiment FIG. 3 is a transverse sectional view of a semiconductor laser pumped solid-state laser device according to a second embodiment of the present invention. The second embodiment will be described in detail below with reference to FIG. Note that this embodiment also uses a cooling liquid as a cooling medium and is based on the side surface excitation method, and since much of the configuration is common to the above-described first embodiment, the same reference numerals are given to the common parts. Omit the description,
Only the points unique to this embodiment will be described below.
【0030】この実施例は、上述の第1実施例における
容器1の代わりに容器21を用い、この容器21に第1
実施例の場合に比較してより多くの励起用半導体レーザ
装置を取り付けられるようにして、より大きな出力のレ
ーザ光を得るようにしたものである。すなわち、容器2
1は、収納部21a内に上述の第1実施例における台座
部1fに相当する台座部21fが、収納部1aの中心軸
の周りに4つ設けられたものであり、これら各台座部2
1fにそれぞれ5個の励起用半導体レーザ装置3が取り
付けられ、合計20個の励起用半導体レーザ装置3によ
り固体レーザ媒体2を励起するようにしたものである。
その外の構成は第1実施例と略同じである。これによ
り、出力9Wの極めて高い出力のレーザ光を極めて安定
して得ることができる。In this embodiment, a container 21 is used instead of the container 1 in the first embodiment described above, and
As compared with the case of the embodiment, a larger number of pumping semiconductor laser devices can be attached to obtain a larger output laser beam. That is, container 2
The reference numeral 1 indicates that four pedestal portions 21f corresponding to the pedestal portions 1f in the above-described first embodiment are provided in the storage portion 21a around the central axis of the storage portion 1a.
Five pumping semiconductor laser devices 3 are attached to each 1f, and the solid-state laser medium 2 is pumped by a total of 20 pumping semiconductor laser devices 3.
The other structure is substantially the same as that of the first embodiment. This makes it possible to obtain a very high-power laser beam with an output of 9 W in an extremely stable manner.
【0031】第3実施例 図4はこの発明の第3実施例にかかる半導体レーザ励起
固体レーザ装置の横断面図である。以下図4を参照にし
ながら第3実施例を詳述する。なお、この実施例は、冷
却媒体として冷却液を用いる点では上記第1及び第2実
施例と同じであるが、励起方法として端面励起方法を採
用することにより、極めて小型コンパクトな構成で、ビ
ーム特性にすぐれたレーザ光を得た例である。 Third Embodiment FIG. 4 is a cross sectional view of a semiconductor laser pumped solid state laser device according to a third embodiment of the present invention. The third embodiment will be described in detail below with reference to FIG. Note that this embodiment is the same as the first and second embodiments in that a cooling liquid is used as the cooling medium, but by adopting the end face excitation method as the excitation method, an extremely small and compact structure is achieved. This is an example of obtaining a laser beam having excellent characteristics.
【0032】図4において、符号31は容器、符号32
はロッド状の固体レーザ媒体、符号33は励起用半導体
レーザ装置、符号34は固体レーザ媒体32の一方の端
面に形成された選択反射膜、符号35は出力ミラー、符
号37は容器31内に満たされた冷却液、符号38a,
38bは集光レンズである。なお、選択反射膜34と出
力ミラー5とでレーザ共振器を構成する。In FIG. 4, reference numeral 31 is a container and reference numeral 32.
Is a rod-shaped solid-state laser medium, 33 is a pumping semiconductor laser device, 34 is a selective reflection film formed on one end face of the solid-state laser medium 32, 35 is an output mirror, and 37 is a container 31. Cooling liquid, reference numeral 38a,
38b is a condenser lens. The selective reflection film 34 and the output mirror 5 form a laser resonator.
【0033】容器31は、アルミ、ステンレス等の材質
で構成され、外形が角柱状をなすとともに、内部に角柱
の軸に沿って固体レーザ媒体2の外形より大きい径の略
円柱形状の空洞が形成され、これが収納部31aとされ
ているものである。また、角柱の軸と交わる一方の端
部、すなわち図中右端部は肉厚に形成され、この右端部
には角柱の中心軸方向に沿って固体レーザ媒体32の径
と略等しい径の円形状の貫通孔31bが形成されてい
る。そして、この貫通孔31bに固体レーザ媒体32が
挿入され、固体レーザ媒体32の一部(全長の略1/3
程度)が収納部31a内に突出するようにして配置さ
れ、この突出された側と反対側がOリング31dを挾ん
で貫通孔31dに形成されたねじ部に止めねじ31eを
螺合することにより、固体レーザ媒体2の右端部を密封
して固定するようになっている。すなわち、固体レーザ
媒体2は、収納部1aの中心軸に沿って配置され、か
つ、その光軸と交わる両端面のうち、左端面は収納部3
1aに露出され、右端面は外部に露出されるようになっ
ている。The container 31 is made of a material such as aluminum or stainless steel, and has a prismatic outer shape, and a substantially cylindrical cavity having a diameter larger than the outer shape of the solid-state laser medium 2 is formed inside along the axis of the prism. This is the storage portion 31a. Further, one end portion that intersects with the axis of the prism, that is, the right end portion in the figure is formed thick, and the right end portion has a circular shape with a diameter substantially equal to the diameter of the solid-state laser medium 32 along the central axis direction of the prism. Through hole 31b is formed. Then, the solid-state laser medium 32 is inserted into the through hole 31b, and a part of the solid-state laser medium 32 (approximately 1/3 of the entire length) is inserted.
Is disposed so as to project into the storage portion 31a, and the side opposite to the projected side sandwiches the O-ring 31d and the set screw 31e is screwed into the threaded portion formed in the through hole 31d. The right end of the solid-state laser medium 2 is hermetically fixed. That is, the solid-state laser medium 2 is arranged along the central axis of the storage portion 1a, and the left end face of the both end surfaces intersecting the optical axis of the storage portion 1a has the storage portion 3a.
1a, and the right end face is exposed to the outside.
【0034】また、収納部31a内には、固体レーザ媒
体32と光軸を共通にして、左方側から励起用半導体レ
ーザ装置33及び集光レンズ38a,38bが順次配置
されている。この場合、励起用半導体レーザ装置33
は、収納部31aの左端面に固定され、また、集光レン
ズ38a,38bは、収納部31aの内周面の一部を中
心に向けてリング状に突出させて形成した2つのレンズ
保持枠31jに保持されるようになっている。なお、レ
ンズ保持枠31jには、冷却液流通孔31kが形成さ
れ、冷却液7が収納部31a内を自由に流通できるよう
になっている。Further, in the housing portion 31a, the pumping semiconductor laser device 33 and the condenser lenses 38a and 38b are sequentially arranged from the left side with the optical axis in common with the solid-state laser medium 32. In this case, the excitation semiconductor laser device 33
Is fixed to the left end surface of the housing portion 31a, and the condenser lenses 38a and 38b are two lens holding frames formed by protruding a ring-shaped part of the inner peripheral surface of the housing portion 31a toward the center. 31j. It should be noted that the lens holding frame 31j is formed with a cooling liquid circulation hole 31k so that the cooling liquid 7 can freely flow in the storage portion 31a.
【0035】さらに、容器31の長手方向の両端部に
は、冷却液流出孔31g及び冷却液流入孔31hがそれ
ぞれ設けられており、図示しない循環式温度制御装置に
接続されて、第1実施例と同様に、冷却液7を循環して
所定の温度(25°C)に保持できるようになってい
る。Further, a cooling liquid outflow hole 31g and a cooling liquid inflow hole 31h are provided at both ends of the container 31 in the longitudinal direction, respectively, and are connected to a circulation type temperature control device (not shown), and the first embodiment is used. Similarly, the cooling liquid 7 can be circulated and maintained at a predetermined temperature (25 ° C.).
【0036】固体レーザ媒体32は、波長1064nm
のレーザ光を発振するNd:YAGレーザロッドであっ
て、直径3mmφ、長さ5mmの寸法を有し、波長80
7nmの光に吸収ピークを有する。The solid-state laser medium 32 has a wavelength of 1064 nm.
Nd: YAG laser rod that oscillates a laser beam having a diameter of 3 mmφ and a length of 5 mm and a wavelength of 80 mm.
It has an absorption peak for light of 7 nm.
【0037】この固体レーザ媒体32の光軸と交わる一
方の端面、すなわち、図中左端面には誘電体多層膜から
なる選択反射膜34が形成されている。この選択反射膜
34は、出力ミラー35とでレーザ共振器を構成するも
のであり、出力レーザ光(L1 =1064nm)に対し
ては99.9%以上の高い反射率をもち、一方、励起用
レーザ光(L0 =807nm)を85%以上透過する性
質を有する。なお、固体レーザ媒体32の他方の端面、
すなわち、図中右端面には図示しないが、無反射コート
が施されており、この端面での出力レーザ光L1 に対す
る反射率が0.5%以下になるようになっている。A selective reflection film 34 made of a dielectric multilayer film is formed on one end face of the solid laser medium 32, which intersects the optical axis, that is, on the left end face in the drawing. The selective reflection film 34 constitutes a laser resonator together with the output mirror 35, and has a high reflectance of 99.9% or more with respect to the output laser light (L 1 = 1064 nm), while being excited. Has a property of transmitting 85% or more of the laser light for use (L 0 = 807 nm). The other end face of the solid-state laser medium 32,
That is, although not shown, the right end face in the figure is provided with a non-reflective coating so that the reflectivity for the output laser beam L 1 at this end face is 0.5% or less.
【0038】出力ミラー35は、凹面がレーザ媒体32
側に向くように配置された凹レンズ状をなしたガラス体
の凹面の表面に誘電体多層膜からなる反射膜を形成し、
出力レーザ光L1 に対する透過率が3%になるようにし
たもので、凹面の曲率半径を30mmに設定することに
より、上述の選択反射膜34とで共振器長が25mmの
レーザ共振器を構成している。The concave surface of the output mirror 35 is the laser medium 32.
A reflective film composed of a dielectric multilayer film is formed on the surface of the concave surface of the glass body in the shape of a concave lens arranged so as to face the side,
The transmittance for the output laser light L 1 is set to 3%, and the radius of curvature of the concave surface is set to 30 mm, thereby forming a laser resonator having a resonator length of 25 mm together with the selective reflection film 34 described above. is doing.
【0039】励起用半導体レーザ装置33は、発振波長
が800〜820nmのGaAs系の半導体レーザ装置
であり、出力が500mWである。この励起用半導体レ
ーザ装置33は、その温度を25°Cに保持したとき、
発振波長が固体レーザ媒体32の吸収ピークに一致する
807nmになる。なお、この励起用半導体レーザ33
は、図示しない駆動装置によって駆動されるようになっ
ている。The pumping semiconductor laser device 33 is a GaAs-based semiconductor laser device having an oscillation wavelength of 800 to 820 nm and an output of 500 mW. This pumping semiconductor laser device 33, when the temperature is kept at 25 ° C.,
The oscillation wavelength is 807 nm which coincides with the absorption peak of the solid-state laser medium 32. The pumping semiconductor laser 33
Are driven by a driving device (not shown).
【0040】集光レンズ38a,38bは、励起用半導
体レーザ装置33から射出された励起用レーザ光L0 を
集光して固体レーザ媒体32の選択反射膜34が形成さ
れた端面から該固体レーザ媒体32内に入射させて励起
するものである。なお、その集光度合いは、励起用レー
ザ光L0 のモード体積と出力レーザ光L1 のモード体積
との良い一致が得られるように設定される。なお、冷却
液7は上述の第1及び第2実施例で用いた冷却液7と同
じものである。The condenser lenses 38a and 38b condense the pumping laser light L 0 emitted from the pumping semiconductor laser device 33 and from the end face of the solid laser medium 32 on which the selective reflection film 34 is formed, to the solid laser. It is excited by being made incident on the medium 32. The degree of focusing is set so that the mode volume of the excitation laser beam L 0 and the mode volume of the output laser beam L 1 can be well matched. The cooling liquid 7 is the same as the cooling liquid 7 used in the first and second embodiments described above.
【0041】この実施例によれば、冷却液7によって、
励起用半導体レーザ装置33を正確に一定の温度(25
°C)に維持でき、励起用レーザ光L0 の波長を常に正
確に所定の波長(807nm)に維持できるとともに、
固体レーザ媒体32も一定の温度に維持できる。しか
も、装置を極めて小型コンパクトに形成できる。したが
って、端面励起の特徴を十分に生かしたビーム特性にす
ぐれたレーザ光を得ることができ、かつ、装置を極めて
小型・コンパクトに形成できる端面励起の半導体レーザ
励起固体レーザ装置を得ることができる。この実施例の
装置を用い、冷却液7を25°Cに保持して発振させる
と、波長1064nmで、出力が150mWを有し、縦
・横モードとも極めてすぐれた出力レーザ光L1 を得る
ことができる。According to this embodiment, with the cooling liquid 7,
The semiconductor laser device 33 for excitation is set at a precisely constant temperature (25
° C), the wavelength of the excitation laser beam L 0 can always be accurately maintained at a predetermined wavelength (807 nm), and
The solid-state laser medium 32 can also be maintained at a constant temperature. Moreover, the device can be made extremely small and compact. Therefore, it is possible to obtain a laser beam having excellent beam characteristics that makes full use of the characteristics of edge pumping, and to obtain a semiconductor laser pumped solid-state laser apparatus of edge pumping that can form the apparatus in an extremely small and compact size. When the cooling liquid 7 is held at 25 ° C. and oscillated by using the apparatus of this embodiment, an output laser beam L 1 having a wavelength of 1064 nm and an output of 150 mW and excellent in both longitudinal and transverse modes can be obtained. You can
【0042】第4実施例 図5はこの発明の第4実施例にかかる半導体レーザ励起
固体レーザー装置の縦断面図、図6は図5のVIーVI
線断面図である。以下、図5及び図6を参照にしながら
第4実施例を説明する。なお、この実施例は、冷却媒体
として冷却ガスたる高圧乾燥ガスを用い、励起方法とし
て側面励起方法を採用するとともに、励起用半導体レー
ザ装置や固体レーザ媒体のほかに全反射ミラー及び出力
ミラーをも冷却用の容器内に収納するようにした例であ
る。 Fourth Embodiment FIG. 5 is a longitudinal sectional view of a semiconductor laser pumped solid-state laser device according to a fourth embodiment of the present invention, and FIG. 6 is VI-VI of FIG.
It is a line sectional view. The fourth embodiment will be described below with reference to FIGS. 5 and 6. In this embodiment, a high pressure dry gas as a cooling medium is used as a cooling medium, a side excitation method is adopted as an excitation method, and a total reflection mirror and an output mirror are used in addition to a semiconductor laser device for excitation and a solid-state laser medium. This is an example in which it is stored in a container for cooling.
【0043】図5において、符号41は容器、符号42
はロッド状の固体レーザ媒体、符号43は励起用半導体
レーザ装置、符号44は全反射ミラー、符号45は出力
ミラー、符号46は温度制御装置、符号46aは熱電素
子、符号47は容器41内に封入された高圧乾燥ガス
(冷却媒体)である。In FIG. 5, reference numeral 41 is a container and reference numeral 42.
Is a rod-shaped solid-state laser medium, 43 is a pumping semiconductor laser device, 44 is a total reflection mirror, 45 is an output mirror, 46 is a temperature control device, 46a is a thermoelectric element, and 47 is a container 41. It is a high pressure dry gas (cooling medium) enclosed.
【0044】容器41は、アルミ、ステンレス等の材質
で構成され、中空の箱形になっている。すなわち、容器
41の内部には、中空部41aが形成され、この中空部
41a内には、固体レーザ媒体42を収納固定する突条
収納部41mと、5個の励起用の半導体レーザ装置43
を固定する台座部41f及び全反射ミラー44を固定す
るミラー台座部41pとが設けられている。また、容器
41の図中右端部には中空部41aと外部とを貫通した
孔部であって出力レーザ光の取り出し窓を兼ねた出力ミ
ラーの固定孔41bが形成されている。さらに、中空部
41aの内周面全体には、表面積を増やすためにひだ状
に加工された熱交換部41nが形成されている。そし
て、容器41の外面部、すなわち、図中底面部には、ペ
ルチェ素子等の熱電素子46aの一方の面が密着固定さ
れ、この熱電素子46aの他方の面には放熱フィン46
cを備えた放熱器46bが取り付けられて放熱が行われ
るようになっている。ここで、熱電素子46aは温度制
御装置46によって制御駆動されるようになっており、
熱電素子46aによって容器41全体を冷却することに
より、容器41内部の固体レーザ媒体42や半導体レー
ザ装置43等を冷却するようにしている。The container 41 is made of a material such as aluminum or stainless steel and has a hollow box shape. That is, a hollow portion 41a is formed inside the container 41, and in this hollow portion 41a, a ridge storage portion 41m for storing and fixing the solid-state laser medium 42 and five semiconductor laser devices 43 for excitation.
And a mirror pedestal portion 41p for fixing the total reflection mirror 44. Further, a fixing hole 41b of the output mirror, which is a hole penetrating the hollow portion 41a and the outside and which also serves as a window for taking out the output laser light, is formed at the right end portion of the container 41 in the drawing. Further, the entire inner peripheral surface of the hollow portion 41a is provided with a heat exchange portion 41n processed into a pleated shape to increase the surface area. Then, one surface of a thermoelectric element 46a such as a Peltier element is adhered and fixed to the outer surface portion of the container 41, that is, the bottom surface portion in the figure, and the radiation fin 46 is attached to the other surface of the thermoelectric element 46a.
A radiator 46b provided with c is attached so as to radiate heat. Here, the thermoelectric element 46a is controlled and driven by the temperature control device 46,
By cooling the entire container 41 with the thermoelectric element 46a, the solid-state laser medium 42, the semiconductor laser device 43, and the like inside the container 41 are cooled.
【0045】突条収納部41mは、中空部41aの内部
側面部を中心部に向かって突条に突出させ、その内部
に、固体レーザ媒体42を収納する円柱状の空洞部であ
る固体レーザ媒体収納部41iを形成し、この固体レー
ザ媒体収納部41iの長手方向に沿ってその一部、すな
わち、図中下部に長尺の開口部を形成し、励起用レーザ
光を導入する励起レーザ光入射窓41qを設けたもので
ある。この固体レーザ媒体収納部41iには、ロッド状
の固体レーザ媒体42が収納され、該固体レーザ媒体4
2の両端部に装着されたOリング等によって該固体レー
ザ媒体収納部41i内に保持・固定されるようになって
いる。なお、この固体レーザ媒体収納部41iの内面
は、鏡面又はアルミ、銀もしくは金その他の反射膜が被
着された反射面となっており、また、この固体レーザ媒
体収納部41iの内周面と固体レーザ媒体42の外周面
とは接触に近い程近接するようになっており、これらの
間でできるだけ効率のよい熱交換が行えるようになって
いる。The ridge receiving portion 41m is a solid-state laser medium which is a cylindrical hollow portion in which the inner side surface of the hollow portion 41a is projected toward the center and the solid-state laser medium 42 is housed therein. A housing portion 41i is formed, and a long opening is formed in a part of the solid-state laser medium housing portion 41i along the longitudinal direction, that is, in the lower part of the drawing, and pump laser light is introduced to introduce pump laser light. The window 41q is provided. A rod-shaped solid-state laser medium 42 is stored in the solid-state laser medium storage portion 41i.
It is adapted to be held and fixed in the solid-state laser medium accommodating portion 41i by O-rings or the like attached to both end portions of No. 2. The inner surface of the solid-state laser medium housing portion 41i is a mirror surface or a reflecting surface coated with a reflecting film of aluminum, silver, gold or the like, and the inner peripheral surface of the solid-state laser medium housing portion 41i is The closer to the outer peripheral surface of the solid-state laser medium 42, the closer it is to the contact, and the more efficient heat exchange between them can be performed.
【0046】また、固体レーザ媒体収納部41iの励起
レーザ光入射窓41qに対向する部位には該レーザ光入
射窓41qの長手方向に沿って順次等間隔をもって5個
の半導体レーザ装置43が配置される。これら半導体レ
ーザ装置43は、突条収納部41mの図中下部に該突条
収納部41mと同様の突条部である台座部41fに固定
されるようになっている。Further, five semiconductor laser devices 43 are arranged at regular intervals along the longitudinal direction of the laser light incident window 41q at a portion of the solid-state laser medium housing portion 41i facing the excited laser light incident window 41q. It These semiconductor laser devices 43 are fixed to a pedestal portion 41f, which is a ridge portion similar to the ridge housing portion 41m, in the lower part of the ridge housing portion 41m in the figure.
【0047】また、ミラー台座部41pに固定された全
反射ミラー44、固体レーザ媒体42及び出力ミラーの
固定孔41bに固定された出力ミラー45はともに光軸
が共通になるように配置され、全反射ミラー44と出力
ミラー45とでレーザ共振器を構成するようになってい
る。なお、出力ミラー45は、出力ミラーの固定孔41
bに形成されたねじ部に止めねじ41eを螺合して該止
めねじ41eと該出力ミラーの固定孔41bとの間に介
在されたOリング41dを押圧することにより該出力ミ
ラー固定孔41bに固定保持されているとともに、これ
により同時に中空部41aと外部との気密が保持される
ようになっている。Further, the total reflection mirror 44 fixed to the mirror pedestal portion 41p, the solid-state laser medium 42, and the output mirror 45 fixed to the fixing hole 41b of the output mirror are all arranged so that the optical axes thereof are common, and the total reflection mirror 44 is fixed. The reflection mirror 44 and the output mirror 45 form a laser resonator. The output mirror 45 has a fixed hole 41 for the output mirror.
A set screw 41e is screwed into a screw portion formed on the b side, and an O-ring 41d interposed between the set screw 41e and the fixing hole 41b of the output mirror is pressed, whereby the output mirror fixing hole 41b is inserted. In addition to being fixedly held, the airtightness between the hollow portion 41a and the outside is also kept at the same time.
【0048】固体レーザ媒体42は、波長1064nm
のレーザ光を発生するNd:YAGレーザロッドであっ
て、直径3mmφ、長さ30mmの寸法を有し、両端面
は平面研磨され、発振レーザ光に対する反射防止膜が形
成されている。この固体レーザ媒体42の光吸収ピーク
波長は807nmである。The solid-state laser medium 42 has a wavelength of 1064 nm.
Nd: YAG laser rod for generating a laser beam having a diameter of 3 mmφ and a length of 30 mm. Both end faces are flat-polished to form an antireflection film for the oscillation laser beam. The light absorption peak wavelength of this solid-state laser medium 42 is 807 nm.
【0049】励起用半導体レーザ装置43は、所定の温
度のときの発振波長が固体レーザ媒体42の吸収波長の
ピークの807nmに一致するもので、固体レーザ媒体
42を側面から励起するものである。なお、半導体レー
ザ装置43は図示されていない電源により駆動され、1
個あたりの出力が5Wで、5個で合計25Wの出力を有
する。The pumping semiconductor laser device 43 has an oscillation wavelength at a predetermined temperature that matches the absorption wavelength peak of 807 nm of the solid-state laser medium 42, and pumps the solid-state laser medium 42 from the side. The semiconductor laser device 43 is driven by a power source (not shown) and
The output per piece is 5W, and the total output of 25 pieces is 25W.
【0050】全反射ミラー44は、曲率半径が5mで、
固体レーザ媒体42の発振波長の光を全反射する凹面ミ
ラーである。なお、図示しないがミラー台座部41pに
は、全反射ミラー44の角度を変化させる調整機構が設
けられており、反射角度を調整できるようになってい
る。The total reflection mirror 44 has a radius of curvature of 5 m,
It is a concave mirror that totally reflects the light of the oscillation wavelength of the solid-state laser medium 42. Although not shown, the mirror pedestal portion 41p is provided with an adjusting mechanism for changing the angle of the total reflection mirror 44 so that the reflection angle can be adjusted.
【0051】出力ミラー45は、曲率半径が5mで、固
体レーザ媒体42の発振波長の光を95%反射する凹面
ミラーである。The output mirror 45 is a concave mirror having a radius of curvature of 5 m and reflecting 95% of the light of the oscillation wavelength of the solid-state laser medium 42.
【0052】容器41の内部には冷媒たる3気圧程度の
高圧乾燥ガス47が封入されている。この高圧乾燥ガス
47は半導体レーザ装置43や固体レーザ媒体42の発
生した熱を吸収し、熱交換部41nを通じて容器41と
の間で自然対流による熱交換を行なう。こうして容器4
1に吸収された熱は熱電素子46aに強制的に吸収さ
れ、放熱器46bによって外部に放熱される。高圧乾燥
ガス47としては、ヘリウムやネオン等の分子量が小さ
く不活性な気体を用いる。分子量の小さな気体は熱を吸
収して運動しやすく、熱を伝える性質に優れている。例
えば、ヘリウムの熱伝導率は0.14W・m-1・k-1で
あり、窒素に比べて約6倍の熱伝導率を有する。半導体
レーザー装置は特に湿気に弱いため、冷媒たる気体は出
来るだけ水分を含まないようにする必要があり、相対湿
度を20%程度に抑えることが望ましい。なお、高圧乾
燥ガス47は、図示しないガスの取り込み口より容器4
1の内部に封入される。また、本実施例では冷媒たる高
圧乾燥ガスを容器41の内部に封入する方法を示した
が、他の実施例のように冷媒を循環させて外部冷却器で
温度調整をしてもよい。さらに、この実施例では気体を
封入した例を掲げたが、液体を封入してもよいことは勿
論である。A high pressure dry gas 47 of about 3 atm, which is a refrigerant, is enclosed in the container 41. The high-pressure dry gas 47 absorbs the heat generated by the semiconductor laser device 43 and the solid-state laser medium 42, and performs heat exchange by natural convection with the container 41 through the heat exchange section 41n. Thus container 4
The heat absorbed by No. 1 is forcibly absorbed by the thermoelectric element 46a and radiated to the outside by the radiator 46b. As the high-pressure dry gas 47, an inert gas having a small molecular weight such as helium or neon is used. A gas with a small molecular weight absorbs heat, is easy to move, and has an excellent property of transmitting heat. For example, the thermal conductivity of helium is 0.14 W · m −1 · k −1, which is about 6 times that of nitrogen. Since the semiconductor laser device is particularly vulnerable to moisture, it is necessary that the gas as the refrigerant contains as little moisture as possible, and it is desirable to keep the relative humidity at about 20%. The high-pressure dry gas 47 is supplied from a gas intake port (not shown) to the container 4
It is enclosed inside 1. Further, in this embodiment, the method of enclosing the high-pressure dry gas as a refrigerant in the container 41 has been described, but the refrigerant may be circulated and the temperature may be adjusted by an external cooler as in other embodiments. Furthermore, in this embodiment, an example in which a gas is enclosed is given, but it goes without saying that a liquid may be enclosed.
【0053】上述の構成において、固体レーザ媒体42
と半導体レーザ装置43は、容器41を冷却することに
より間接的に冷却されるが、容器41の内部には乾燥高
圧ガス47が封入されているため、該高圧乾燥ガス47
の分子が固体レーザ媒体42と半導体レーザ装置43と
が発生する熱を吸収して容器41の内面にひだ状に突起
した熱交換部41nに熱を伝導するため、固体レーザ媒
体42と半導体レーザ装置43とが効率よく冷却され
る。また、固体レーザ媒体42と突条収納部41mとの
間の熱抵抗を下げることもできる。In the above structure, the solid-state laser medium 42 is used.
The semiconductor laser device 43 is indirectly cooled by cooling the container 41. However, since the dry high pressure gas 47 is sealed inside the container 41, the high pressure dry gas 47 is cooled.
Of the solid laser medium 42 and the semiconductor laser device 43 absorb the heat generated by the solid laser medium 42 and the semiconductor laser device 43 and conduct the heat to the heat exchange portion 41n protruding in a pleated shape on the inner surface of the container 41. 43 and 43 are efficiently cooled. Further, the thermal resistance between the solid-state laser medium 42 and the ridge storage portion 41m can be reduced.
【0054】この実施例の利点は以下の通りである。The advantages of this embodiment are as follows.
【0055】冷媒の吸収による光損失が少なく効率が
高い。Light loss due to absorption of the refrigerant is small and efficiency is high.
【0056】レーザー共振器を構成するミラーも固体
レーザー媒体や半導体レーザー装置と同一の容器内部に
納めることができる。The mirror constituting the laser resonator can also be housed in the same container as the solid-state laser medium and the semiconductor laser device.
【0057】冷媒ガスを封入する場合では外部冷却器
や配管などが不要なため取り扱いも容易である。When the refrigerant gas is sealed, no external cooler or piping is required, and therefore the handling is easy.
【0058】価格も気体の方が安価である。As for the price, gas is cheaper.
【0059】気体は液体に比べて熱伝導率が低いた
め、半導体レーザー装置の個数が少ない比較的低い出力
のレーザー装置の場合に有効である。Since gas has a lower thermal conductivity than liquid, it is effective in the case of a laser device having a relatively low output with a small number of semiconductor laser devices.
【0060】なお、上述の実施例では、固体レーザ媒体
としてNd:YAGロッドを用いた例を掲げたが、この
固体レーザ媒体としては、Nd:YLF、Nd:gla
ss、Er:YAG、Er:YLF、Er:glass
等を用いてもよいし、その種類も、ロッド以外に、例え
ば、スラブや多面体形状のものであってもよい。その場
合には、各レーザ媒体に応じてレーザ共振器等の条件を
選定すべきは勿論である。In the above-mentioned embodiment, an example in which the Nd: YAG rod is used as the solid-state laser medium is given. However, as the solid-state laser medium, Nd: YLF and Nd: gla are used.
ss, Er: YAG, Er: YLF, Er: glass
For example, a slab or a polyhedron shape may be used instead of the rod. In that case, it is needless to say that conditions such as a laser resonator should be selected according to each laser medium.
【0061】また、励起用半導体レーザ装置も、固体レ
ーザ媒体の励起波長に応じて、例えば、InGaP、A
lGaAs、GaAsP等を用いてもよい。Further, the pumping semiconductor laser device is also made of, for example, InGaP, A or the like depending on the pumping wavelength of the solid-state laser medium.
lGaAs, GaAsP or the like may be used.
【0062】[0062]
【発明の効果】以上詳述したように、本発明にかかる半
導体レーザ励起固体レーザ装置は、励起用半導体レーザ
装置及び固体レーザ媒体を容器内に収容し、該容器内に
絶縁性の透明液体もしくは不活性ガスからなる冷媒を入
れて、該冷媒が前記励起用半導体レーザ装置及び固体レ
ーザ媒体の少なくとも一部に接触し、前記励起用半導体
レーザ装置の発振波長が前記固体レーザ媒体の吸収波長
になる温度に冷却することを特徴とする。これにより、
容器内部に収納した励起用半導体レーザ装置及び固体レ
ーザ媒体を液体または気体の冷媒で直接冷却することが
できるため、半導体レーザ装置の発光部の温度制御も精
度良く行なうことができ、半導体レーザ装置及び固体レ
ーザ媒体を比較的自由に配置することが可能となる。ま
た、多数の励起用半導体レーザ装置を用いることができ
るため、より高出力のレーザ装置が得られる。また、固
体レーザ媒体の温度も下げられるため、ビーム品質がよ
く安定なレーザ光が得られる。As described above in detail, in the semiconductor laser pumped solid-state laser device according to the present invention, the pumping semiconductor laser device and the solid-state laser medium are housed in a container, and an insulating transparent liquid or A coolant made of an inert gas is put in, the coolant contacts at least a part of the pumping semiconductor laser device and the solid-state laser medium, and the oscillation wavelength of the pumping semiconductor laser device becomes the absorption wavelength of the solid-state laser medium. It is characterized by cooling to a temperature. This allows
Since the pumping semiconductor laser device and the solid-state laser medium housed inside the container can be directly cooled by a liquid or gas cooling medium, the temperature of the light emitting portion of the semiconductor laser device can be accurately controlled. It is possible to arrange the solid-state laser medium relatively freely. Further, since a large number of pumping semiconductor laser devices can be used, a laser device with higher output can be obtained. Further, since the temperature of the solid-state laser medium can be lowered, stable laser light with good beam quality can be obtained.
【図1】この発明の第1実施例にかかる半導体レーザ励
起固体レーザ装置の縦断面図である。FIG. 1 is a vertical sectional view of a semiconductor laser pumped solid-state laser device according to a first embodiment of the present invention.
【図2】この発明の第1実施例にかかる半導体レーザ励
起固体レーザ装置の横断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of a semiconductor laser pumped solid-state laser device according to the first embodiment of the present invention.
【図3】この発明の第2実施例にかかる半導体レーザ励
起固体レーザ装置の横断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view of a semiconductor laser pumped solid-state laser device according to a second embodiment of the present invention.
【図4】この発明の第3実施例にかかる半導体レーザ励
起固体レーザ装置の縦断面図である。FIG. 4 is a vertical sectional view of a semiconductor laser pumped solid-state laser device according to a third embodiment of the present invention.
【図5】この発明の第4実施例にかかる半導体レーザ励
起固体レーザ装置の縦断面図である。FIG. 5 is a vertical sectional view of a semiconductor laser pumped solid-state laser device according to a fourth embodiment of the present invention.
【図6】図5のVIーVI線断面図である。6 is a sectional view taken along line VI-VI of FIG.
1,21,31,41…容器、2,32,42…固体レ
ーザ媒体、3,33,43…励起用半導体レーザ装置、
4,44…全反射ミラー、5,35,45…出力ミラ
ー、6…循環式温度制御装置、7…冷却液、34…選択
反射膜、38a,38b…集光レンズ、47…高圧乾燥
気体、46…温度制御装置。1, 21, 31, 41 ... Vessel, 2, 32, 42 ... Solid-state laser medium, 3, 33, 43 ... Excitation semiconductor laser device,
4, 44 ... Total reflection mirror, 5, 35, 45 ... Output mirror, 6 ... Circulation type temperature control device, 7 ... Coolant, 34 ... Selective reflection film, 38a, 38b ... Condensing lens, 47 ... High pressure dry gas, 46 ... Temperature control device.
Claims (6)
励起用のレーザ光を、レーザ共振器内に配置された固体
レーザ媒体に照射し、該固体レーザ媒体を励起して出力
レーザ光を得るようにした半導体レーザ励起固体レーザ
装置において、 前記励起用半導体レーザ装置及び固体レーザ媒体を容器
内に収容し、該容器内に絶縁性を有しかつ透明な冷媒を
入れて該冷媒が前記励起用半導体レーザ装置及び固体レ
ーザ媒体の少なくとも一部に接触するようにするととも
に、前記冷媒の温度を、前記励起用半導体レーザ装置の
発振波長が前記固体レーザ媒体の吸収波長に一致するよ
うに励起用半導体レーザ装置の温度を維持する温度制御
装置を設けたことを特徴とする半導体レーザ励起固体レ
ーザ装置。1. A solid-state laser medium disposed in a laser resonator is irradiated with laser light for excitation emitted from an excitation semiconductor laser device, and the solid-state laser medium is excited to obtain output laser light. In the semiconductor laser pumped solid-state laser device described above, the pumping semiconductor laser device and the solid-state laser medium are housed in a container, and an insulating and transparent coolant is put in the container, and the coolant is the pumping semiconductor. At least a part of the laser device and the solid-state laser medium are brought into contact with each other, and the temperature of the coolant is adjusted so that the oscillation wavelength of the excitation semiconductor laser device matches the absorption wavelength of the solid-state laser medium. A semiconductor laser pumped solid-state laser device comprising a temperature control device for maintaining the temperature of the device.
レーザ装置において、 前記冷媒が冷却液であることを特徴とした半導体レーザ
励起固体レーザ装置。2. The semiconductor laser pumped solid-state laser device according to claim 1, wherein the coolant is a cooling liquid.
レーザ装置において、 前記冷媒が冷却ガスであることを特徴とした半導体レー
ザ励起固体レーザ装置。3. The semiconductor-laser-pumped solid-state laser device according to claim 1, wherein the coolant is a cooling gas.
レーザ装置において、 前記温度制御装置は、前記冷媒の一部を前記容器から取
り出して導入し、その温度を目的の温度にした後、前記
容器に戻すようにした循環式温度制御装置であることを
特徴とした半導体レーザ励起固体レーザ装置。4. The semiconductor laser pumped solid-state laser device according to claim 1, wherein the temperature control device takes out a part of the refrigerant from the container and introduces it, and after setting the temperature to a target temperature, A semiconductor laser pumped solid-state laser device characterized by being a circulation type temperature control device which is returned to a container.
導体レーザ励起固体レーザ装置において、 前記励起用半導体レーザ装置から射出された励起用のレ
ーザ光を、前記固体レーザ媒体の側面から該固体レーザ
媒体に照射するようにしたことを特徴とする半導体レー
ザ励起固体レーザ装置。5. The semiconductor laser pumped solid-state laser device according to claim 1, wherein the pumping laser light emitted from the pumping semiconductor laser device is applied to the solid-state laser medium from a side surface of the solid-state laser medium. A semiconductor laser pumped solid-state laser device characterized by irradiating a laser medium.
導体レーザ励起固体レーザ装置において、 前記励起用半導体レーザ装置から射出された励起用のレ
ーザ光を、前記固体レーザ媒体の共振レーザ光の入・出
射面たる端面から該固体レーザ媒体に照射するようにし
たことを特徴とする半導体レーザ励起固体レーザ装置。6. The semiconductor laser pumped solid-state laser device according to claim 1, wherein the pumping laser beam emitted from the pumping semiconductor laser device is a resonant laser beam of the solid-state laser medium. A semiconductor laser pumped solid-state laser device characterized in that the solid-state laser medium is irradiated from an end face which is an entrance / exit face.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23021192A JPH05211361A (en) | 1991-08-30 | 1992-08-28 | Semiconductor laser-pumping solid laser device |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3-220092 | 1991-08-30 | ||
JP22009291 | 1991-08-30 | ||
JP23021192A JPH05211361A (en) | 1991-08-30 | 1992-08-28 | Semiconductor laser-pumping solid laser device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05211361A true JPH05211361A (en) | 1993-08-20 |
Family
ID=26523530
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23021192A Pending JPH05211361A (en) | 1991-08-30 | 1992-08-28 | Semiconductor laser-pumping solid laser device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05211361A (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998034305A1 (en) * | 1997-01-30 | 1998-08-06 | Fanuc Ltd | Laser oscillator |
JP2003023196A (en) * | 2001-07-06 | 2003-01-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | LD pumped laser device |
JP2009049439A (en) * | 2001-11-21 | 2009-03-05 | General Atomics | Laser containing distributed gain medium |
US7680171B2 (en) | 2007-02-13 | 2010-03-16 | Panasonic Corporation | Semiconductor laser device, and image display device |
-
1992
- 1992-08-28 JP JP23021192A patent/JPH05211361A/en active Pending
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WO1998034305A1 (en) * | 1997-01-30 | 1998-08-06 | Fanuc Ltd | Laser oscillator |
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