JPH05162451A - Optical recording medium - Google Patents
Optical recording mediumInfo
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- JPH05162451A JPH05162451A JP3352007A JP35200791A JPH05162451A JP H05162451 A JPH05162451 A JP H05162451A JP 3352007 A JP3352007 A JP 3352007A JP 35200791 A JP35200791 A JP 35200791A JP H05162451 A JPH05162451 A JP H05162451A
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- recording
- optical recording
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、記録層の結晶状態の変
化を利用して情報の記録・再生を行なう光記録媒体に関
する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical recording medium for recording / reproducing information by utilizing the change in crystal state of a recording layer.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、高密度記録が可能で、しかも記録
情報を消去して書き換えることが可能な光記録媒体が注
目されている。書き換え可能型の光記録媒体のうち、相
変化型の光記録媒体は、レーザー光を照射することによ
り、記録層を結晶質から非晶質に変化させたり、あるい
は非晶質から結晶質に変化させ、このような状態変化に
伴なう記録層の反射率変化を検出するものである。相変
化型の光記録媒体の駆動装置は、光学系の構成が光磁気
記録媒体のそれに比べて単純である。2. Description of the Related Art In recent years, an optical recording medium capable of high-density recording and capable of erasing and rewriting recorded information has attracted attention. Among rewritable optical recording media, phase-change optical recording media change the recording layer from crystalline to amorphous or from amorphous to crystalline by irradiating laser light. Then, the change in the reflectance of the recording layer due to such a change in state is detected. The phase-change type optical recording medium drive device has a simpler optical system configuration than that of a magneto-optical recording medium.
【0003】相変化型の光記録媒体には、結晶状態と非
晶質状態とで反射率の差が大きいこと、非晶質状態の安
定度が比較的高いことなどから、TeおよびGeを主成
分とする記録層が通常用いられている。In the phase change type optical recording medium, Te and Ge are mainly used because the difference in reflectance between the crystalline state and the amorphous state is large and the stability of the amorphous state is relatively high. A recording layer as a component is usually used.
【0004】相変化型光記録媒体の記録層の改良につい
ては、以下に示すような提案が行なわれている。The following proposals have been made for improving the recording layer of the phase change type optical recording medium.
【0005】例えば、特開昭63−63141号公報の
特許請求の範囲第二項には、For example, in claim 2 of JP-A-63-63141,
【0006】「薄膜の組成を示す一般式を、 (Tey Ge100-y )100-x Mx M:(Al,Ga,In,Zn,Ni)の中から選ばれ
た、少なくとも1種以上の元素。 x:薄膜中のMの原子数% y:(TeとGe)中のTeの原子数% と表わした場合、xとyの範囲がそれぞれ2≦x≦2
0、30≦y≦70であることを特徴とする情報記録媒
体」"A general formula representing the composition of a thin film is defined as at least one selected from (Te y Ge 100-y ) 100-x M x M: (Al, Ga, In, Zn, Ni). X is the atomic number of M in the thin film, y is the atomic number of Te in (Te and Ge)%, and the ranges of x and y are 2 ≦ x ≦ 2, respectively.
Information recording medium characterized in that 0, 30 ≦ y ≦ 70 ”
【0007】が開示されている。この情報記録媒体の薄
膜(記録層)では、通常、非晶質から結晶質への変化に
より記録がなされる。そして、同公報には、読み出し光
による吸収熱で薄膜が結晶化する(記録状態となる)こ
とを防止するために、上記組成により薄膜の結晶化転移
温度を上昇させた旨が開示されている。同公報の実施例
では、原子数比50%のTeGe合金を薄膜の原料とし
て用いている。Are disclosed. In the thin film (recording layer) of this information recording medium, recording is usually performed by changing from amorphous to crystalline. Then, the publication discloses that the crystallization transition temperature of the thin film is raised by the above composition in order to prevent the thin film from being crystallized (in a recording state) by the absorption heat of the reading light. .. In the example of the publication, a TeGe alloy with an atomic ratio of 50% is used as a raw material for the thin film.
【0008】また、特開平3−15591号公報では、
上記特開昭63−63141号公報に開示されている記
録層組成ではC/Nおよび耐久性が不十分であるとし
て、Further, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-15591,
According to the recording layer composition disclosed in JP-A-63-63141, C / N and durability are insufficient.
【0009】「記録層に含まれるTe、GeおよびZn
の原子数比を、(Tex Ge100-x)100-y Zny の
x、yで表わした場合に、20≦x≦90および20<
y≦70」"Te, Ge and Zn contained in the recording layer
When the atomic ratio of is represented by x and y of (Te x Ge 100-x ) 100-y Zn y , 20 ≦ x ≦ 90 and 20 <
y ≦ 70 ”
【0010】とし、記録層の結晶化温度を高めている。
同公報の第6ページ左上欄には、「レーザ光が照射され
ない部分では非晶質であり、レーザ光が照射された部分
が徐冷されて部分的に結晶化されることにより情報の記
録が可能になっている」と記載されている。The crystallization temperature of the recording layer is increased.
In the upper left column on page 6 of the publication, "a portion not irradiated with laser light is amorphous, and a portion irradiated with laser light is gradually cooled and partially crystallized to record information. It is possible. ”
【0011】一方、結晶状態から非結晶状態への変化に
よって記録がなされる光記録媒体については、例えば特
開平1−165047号公報に開示されている。同公報
記載の光記録媒体は、GeとTeの1:1の化合物であ
るGeTeに、Ni、Co、Cu、Fe、V、Cr、T
i、Mn、Zn、Y、Mo、Pd、Pt、Ag、Au、
Rhの少なくとも一つを10%以下添加した光記録材料
層を有する。GeTe薄膜では、記録時の結晶状態から
非結晶状態への変化速度(ディスク周速10m/s 以下に
相当)に比べ、消去時の非結晶状態から結晶状態への変
化速度(ディスク周速2m/s 以下に相当)が遅いため
に、ディスクの周速を高められなかったが、同公報記載
の光記録媒体では、結晶化速度を高めることができたの
で、ディスクの周速を速くすることができ、これにより
データ転送速度が向上できた旨が同公報に記載されてい
る。On the other hand, an optical recording medium in which recording is performed by changing from a crystalline state to an amorphous state is disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-165047. The optical recording medium described in the above publication uses GeTe, which is a 1: 1 compound of Ge and Te, and Ni, Co, Cu, Fe, V, Cr, and T.
i, Mn, Zn, Y, Mo, Pd, Pt, Ag, Au,
It has an optical recording material layer containing 10% or less of at least one of Rh. In the GeTe thin film, compared with the change speed from the crystalline state to the amorphous state at the time of recording (corresponding to a disk peripheral speed of 10 m / s or less), the change speed from the amorphous state to the crystalline state at the time of erasing (disk peripheral speed 2 m / s (equivalent to s or less), it was not possible to increase the peripheral speed of the disk, but the optical recording medium described in this publication was able to increase the crystallization speed, so it was possible to increase the peripheral speed of the disk. The publication discloses that the data transfer rate can be improved by this.
【0012】ところで、最近、コンパクトディスク(C
D)と同じ線速度で記録・再生が可能な光記録ディスク
が、光学系を追加ないし変更するだけでCDと駆動装置
を共用できるために注目されている。このような光記録
ディスクとしては、例えば、記録層に有機色素を用いた
追記型の光記録ディスクや光磁気記録ディスクなどが開
発されている。相変化型の光記録ディスクは書き換えが
可能であり、しかも光磁気記録ディスクに比べ駆動装置
の光学系の構成が単純なので、このような用途に好適で
あると考えられる。By the way, recently, a compact disc (C
An optical recording disk capable of recording / reproducing at the same linear velocity as in D) is drawing attention because it can be used as a CD and a driving device by simply adding or changing an optical system. As such an optical recording disc, for example, a write-once type optical recording disc and a magneto-optical recording disc using an organic dye in a recording layer have been developed. The phase-change type optical recording disk is rewritable, and the optical system of the driving device has a simpler structure than the magneto-optical recording disk. Therefore, it is considered suitable for such an application.
【0013】しかし、上記した特開平1−165047
号公報に記載されているような、結晶状態から非晶質状
態へ変化させることにより記録を行なう相変化型の光記
録ディスクでは、CDと同等の線速度で使用すると良好
なC/Nが得られない。CDでは、線速度が1.4m/s
以下であり、これは従来の相変化型光記録ディスクに比
べ極端に遅い。このため、CDと同等の線速度で相変化
型光記録ディスクを使用すると、レーザービームによる
熱の影響が照射領域外にまで及ぶことになる。信号記録
部は、レーザービームにより加熱された領域が急速に冷
却されて非晶質状態となったところであるが、信号記録
部が長い場合、例えば11T信号などの記録部では、照
射終了領域が隣接する照射部の影響を受けて引き続き僅
かに加熱されるため、徐冷状態となってしまい良好な非
晶質化を行なうことができない。このため、良好なC/
Nが得られなくなる。However, the above-mentioned Japanese Patent Laid-Open No. 1-165047.
In a phase-change type optical recording disk for recording by changing from a crystalline state to an amorphous state, as described in Japanese Patent Publication No. JP-A-2003-264, a good C / N is obtained when used at a linear velocity equivalent to that of a CD. I can't. For CD, the linear velocity is 1.4m / s
Below, this is extremely slow compared to conventional phase change optical recording disks. Therefore, when a phase change type optical recording disk is used at a linear velocity equivalent to that of a CD, the influence of heat from the laser beam extends outside the irradiation area. In the signal recording part, the region heated by the laser beam is rapidly cooled and becomes an amorphous state. However, when the signal recording part is long, for example, in the recording part such as 11T signal, the irradiation end regions are adjacent to each other. Since it is slightly heated by the influence of the irradiation part, the state of gradual cooling cannot be achieved and good amorphization cannot be performed. Therefore, good C /
N cannot be obtained.
【0014】このような問題を解決するためには、記録
層の結晶化速度を遅くして非晶質化が可能な冷却速度の
範囲を広げることが必要とされる。しかし、上記したよ
うに高密度記録のための結晶化速度向上の提案はなされ
ているが、結晶化速度を低下させる提案はなされていな
かった。In order to solve such a problem, it is necessary to slow down the crystallization rate of the recording layer to widen the range of cooling rate at which the recording layer can be made amorphous. However, as described above, although proposals for improving the crystallization rate for high-density recording have been made, proposals for decreasing the crystallization rate have not been made.
【0015】[0015]
【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような事
情からなされたものであり、相変化型の光記録媒体にお
いて、記録層の結晶化速度を低下させることにより、光
ビームに対する記録層の相対速度が低い場合に良好なC
/Nを実現することを目的とする。The present invention has been made under such circumstances, and in a phase change type optical recording medium, the crystallization speed of the recording layer is reduced to thereby form a recording layer against a light beam. Good C when relative speed is low
/ N is realized.
【0016】[0016]
【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
(1)〜(3)の本発明により達成される。The above objects are achieved by the present invention described in (1) to (3) below.
【0017】(1)基板上に記録層を有し、光ビーム照
射により前記記録層の結晶状態が変化して記録が行なわ
れる光記録媒体であって、前記記録層がTe、Geおよ
びM(Mは、Tiおよび/またはZnである。)を含有
し、前記記録層中におけるTe、GeおよびMの原子比
が下記式で表わされることを特徴とする光記録媒体。 式 (Gex Te1-x )100-y My (上記式において、 0.05≦x≦0.20、 0<y≦10 である。)(1) An optical recording medium having a recording layer on a substrate, wherein recording is performed by changing the crystalline state of the recording layer by irradiation with a light beam, wherein the recording layer is Te, Ge and M ( M is Ti and / or Zn), and the atomic ratio of Te, Ge and M in the recording layer is represented by the following formula. Formula (Ge x Te 1-x ) 100-y M y (In the above formula, 0.05 ≦ x ≦ 0.20 and 0 <y ≦ 10.)
【0018】(2)前記記録層において、信号未記録部
が結晶質であり、信号記録部が非晶質である上記(1)
に記載の光記録媒体。(2) In the recording layer, the signal non-recorded portion is crystalline and the signal recorded portion is amorphous.
The optical recording medium according to 1.
【0019】(3)光ビームに対する記録層の相対速度
が1.2〜2.8m/s で使用される上記(1)または
(2)に記載の光記録媒体。(3) The optical recording medium as described in (1) or (2) above, wherein the relative velocity of the recording layer with respect to the light beam is 1.2 to 2.8 m / s.
【0020】[0020]
【作用】本発明の光記録媒体では、TeおよびGeに加
え、Tiおよび/またはZnを添加して記録層を構成す
る。Teが上記範囲含まれる記録層に上記範囲のTiお
よび/またはZnを添加したとき、記録層の結晶化速度
は低下する。このため、線速度の低い光記録ディスクに
本発明を適用した場合に良好なC/Nが得られる。In the optical recording medium of the present invention, the recording layer is formed by adding Ti and / or Zn in addition to Te and Ge. When Ti and / or Zn in the above range is added to the recording layer containing Te in the above range, the crystallization rate of the recording layer decreases. Therefore, good C / N can be obtained when the present invention is applied to an optical recording disk having a low linear velocity.
【0021】[0021]
【具体的構成】以下、本発明の具体的構成について詳細
に説明する。[Specific Structure] The specific structure of the present invention will be described in detail below.
【0022】本発明の光記録媒体は、基板上に記録層を
有し、光ビーム照射により前記記録層の結晶状態が変化
して記録が行なわれる光記録媒体であり、The optical recording medium of the present invention is an optical recording medium having a recording layer on a substrate, and recording is performed by changing the crystal state of the recording layer by irradiation of a light beam.
【0023】前記記録層がTe、GeおよびM(Mは、
Tiおよび/またはZnである。)を含有し、前記記録
層中におけるTe、GeおよびMの原子比が下記式で表
わされることを特徴とする。The recording layer is Te, Ge and M (M is
Ti and / or Zn. ), And the atomic ratio of Te, Ge and M in the recording layer is represented by the following formula.
【0024】式 (Gex Te1-x )100-yMy 上記式において、0.05≦x、好ましくは0.10≦
xであり、x≦0.20、好ましくはx≦0.15であ
る。また、0<y≦10、好ましくは5≦y≦8であ
る。Formula (Ge x Te 1-x ) 100-y M y In the above formula, 0.05 ≦ x, preferably 0.10 ≦
x, and x ≦ 0.20, preferably x ≦ 0.15. Further, 0 <y ≦ 10, preferably 5 ≦ y ≦ 8.
【0025】xが前記範囲を超えると、すなわちGeに
対するTeの含有量が不十分となると、結晶化速度が高
くなりすぎて、信号長の長い11T信号などを非晶質状
態として固定できず、良好なC/Nが得られなくなる。
また、結晶状態と非晶質状態との反射率の差が不十分と
なる。xが前記範囲未満となると、すなわちGeに対す
るTeの含有量が多すぎると、Te同士の結合が増加し
て非晶質状態が不安定となり、記録後まもなく結晶化が
生じてしまう。If x exceeds the above range, that is, if the content of Te with respect to Ge is insufficient, the crystallization rate becomes too high, and the 11T signal having a long signal length cannot be fixed as an amorphous state. Good C / N cannot be obtained.
In addition, the difference in reflectance between the crystalline state and the amorphous state becomes insufficient. If x is less than the above range, that is, if the content of Te with respect to Ge is too large, the bonding between Tes increases, the amorphous state becomes unstable, and crystallization occurs soon after recording.
【0026】TeおよびGeの含有量を前記範囲とした
上で、Mの含有量を前記範囲内とすれば、記録層の結晶
化速度を低下させることができる。このため、記録用光
ビームに対する記録層の相対速度が低い場合、すなわち
線速度の低い記録において良好なC/Nが得られる。M
の含有量を表わすyが前記範囲未満であるとC/N向上
効果が実現せず、前記範囲を超えると、結晶状態と非晶
質状態との反射率の差が不十分となる。When the Te and Ge contents are within the above ranges and the M content is within the above ranges, the crystallization rate of the recording layer can be lowered. Therefore, when the relative velocity of the recording layer with respect to the recording light beam is low, that is, in the recording with a low linear velocity, good C / N is obtained. M
If y representing the content of is less than the above range, the C / N improving effect cannot be realized, and if it exceeds the above range, the difference in reflectance between the crystalline state and the amorphous state becomes insufficient.
【0027】なお、TiはZnに比べて結晶化転移温度
を高める作用が強いため、信頼性向上の点で有利であ
る。Since Ti has a stronger effect of increasing the crystallization transition temperature than Zn, it is advantageous in improving reliability.
【0028】記録層の厚さは特に限定されないが、通
常、100〜2000A、特に150〜1500A とす
ることが好ましい。Although the thickness of the recording layer is not particularly limited, it is usually 100 to 2000 A, preferably 150 to 1500 A.
【0029】記録層の形成方法は特に限定されず、スパ
ッタ法や蒸着法などから適宜選択すればよい。The method of forming the recording layer is not particularly limited and may be appropriately selected from the sputtering method, the vapor deposition method and the like.
【0030】本発明の光記録媒体では、基板を通して記
録層に記録光および再生光が照射される構成とすること
が好ましいので、基板はこれらの光に対して実質的に透
明である材質、例えば、樹脂やガラスなどから構成する
ことが好ましい。これらのうち、取り扱いが容易で安価
であることから、基板の材質としては樹脂が好ましい。
具体的には、アクリル樹脂、ポリカーボネート、エポキ
シ樹脂、ポリオレフィン等の各種樹脂を用いればよい。In the optical recording medium of the present invention, it is preferable that the recording layer is irradiated with the recording light and the reproducing light through the substrate. Therefore, the substrate is made of a material which is substantially transparent to these lights, for example, Preferably, it is made of resin, glass, or the like. Of these, resin is preferable as the material of the substrate because it is easy to handle and inexpensive.
Specifically, various resins such as acrylic resin, polycarbonate, epoxy resin and polyolefin may be used.
【0031】基板の形状および寸法は特に限定されない
が、通常、ディスク状であり、その厚さは、通常、0.
5〜3mm程度、直径は50〜360mm程度である。基板
の表面には、トラッキング用やアドレス用等のために、
グルーブ等の所定のパターンが必要に応じて設けられ
る。The shape and dimensions of the substrate are not particularly limited, but they are usually disk-shaped, and their thickness is usually 0.
The diameter is about 5 to 3 mm and the diameter is about 50 to 360 mm. On the surface of the board, for tracking and address,
A predetermined pattern such as a groove is provided as needed.
【0032】記録層と基板との間および記録層上には、
誘電体薄膜を設けることが好ましい。用いる誘電体は特
に限定されず、例えば、SiO2 等の酸化ケイ素やSi
3 N4 等の窒化ケイ素、あるいはこれらの他、透明な各
種セラミックスや各種ガラスなどを用いてもよく、例え
ば、La、Si、OおよびNを含有する所謂LaSiONや、
Si、Al、OおよびNを含有する所謂SiAlON、あるい
はYを含有するSiAlON等を好ましく用いることができ
る。Between the recording layer and the substrate and on the recording layer,
It is preferable to provide a dielectric thin film. The dielectric used is not particularly limited, and examples thereof include silicon oxide such as SiO 2 and Si.
Other than these, silicon nitride such as 3 N 4 or various transparent ceramics or various glasses may be used. For example, so-called LaSiON containing La, Si, O and N,
So-called SiAlON containing Si, Al, O and N, or SiAlON containing Y can be preferably used.
【0033】このような誘電体薄膜は、記録層の保護作
用を有する他、記録後、記録層に残った熱を熱伝導によ
り速やかに放出する作用も有する。Such a dielectric thin film has a function of protecting the recording layer, and also has a function of promptly releasing the heat remaining in the recording layer after recording by heat conduction.
【0034】誘電体薄膜の厚さは500〜2000A 程
度とすることが好ましく、また、誘電体薄膜はスパッタ
法や蒸着法等の気相成長法により形成することが好まし
い。The thickness of the dielectric thin film is preferably about 500 to 2000 A, and the dielectric thin film is preferably formed by a vapor phase growth method such as a sputtering method or a vapor deposition method.
【0035】記録層の上あるいは必要に応じて記録層上
に設けられる誘電体薄膜上には、必要に応じて反射薄膜
を設けてもよい。反射薄膜の材質は特に限定されない
が、通常、Al、Au、Pt、Cu等の高反射率金属か
ら構成すればよい。反射薄膜の厚さは、300〜150
0A とすることが好ましい。厚さが前記範囲未満である
と十分な反射率が得にくくなる。また、前記範囲を超え
ても反射率の向上は小さく、コスト的に不利になる。反
射薄膜は、スパッタ法や蒸着法等の気相成長法により形
成されることが好ましい。If necessary, a reflective thin film may be provided on the recording layer or on the dielectric thin film provided on the recording layer as required. Although the material of the reflective thin film is not particularly limited, it may be usually composed of a high reflectance metal such as Al, Au, Pt, or Cu. The thickness of the reflective thin film is 300 to 150.
It is preferably 0A. When the thickness is less than the above range, it becomes difficult to obtain sufficient reflectance. Further, even if it exceeds the above range, the improvement in reflectance is small, which is disadvantageous in cost. The reflective thin film is preferably formed by a vapor phase growth method such as a sputtering method or a vapor deposition method.
【0036】誘電体薄膜あるいは反射薄膜上には、耐擦
傷性や耐食性の向上のために、必要に応じて保護膜を設
けてもよい。この保護膜は、種々の有機系の物質から構
成されることが好ましいが、特に、放射線硬化型化合物
やその組成物を、電子線、紫外線等の放射線により硬化
させた物質から構成されることが好ましい。保護膜の厚
さは、通常、0.1〜100μm 程度であり、スピンコ
ート、グラビア塗布、スプレーコート、ディッピング
等、通常の方法により形成すればよい。If necessary, a protective film may be provided on the dielectric thin film or the reflective thin film in order to improve scratch resistance and corrosion resistance. This protective film is preferably composed of various organic substances, but in particular, it is composed of a substance obtained by curing a radiation-curable compound or a composition thereof with radiation such as electron beams or ultraviolet rays. preferable. The thickness of the protective film is usually about 0.1 to 100 μm, and may be formed by a usual method such as spin coating, gravure coating, spray coating, dipping or the like.
【0037】本発明の光記録媒体では、記録および再生
は以下のようにして行なわれる。With the optical recording medium of the present invention, recording and reproduction are performed as follows.
【0038】本発明の光記録媒体は、初期化された状態
では記録層全面が結晶化している。結晶化状態の記録層
に記録用光ビーム(レーザー光ビーム)を照射すること
により、照射部位は溶融する。そして、記録用光ビーム
通過後に前記部位の温度は急速に下がるので前記部位は
実質的に非晶質化し、信号記録部となる。本発明の光記
録媒体では記録層の結晶化速度が低いので、記録層に対
する記録用光ビームの相対速度が低く照射部位の冷却速
度が比較的低くなる場合でも、良好な非晶質化がなさ
れ、高いC/Nが得られる。In the optical recording medium of the present invention, the entire recording layer is crystallized in the initialized state. By irradiating the recording layer in the crystallized state with the recording light beam (laser light beam), the irradiated portion is melted. Then, since the temperature of the portion is rapidly lowered after passing through the recording light beam, the portion becomes substantially amorphous and becomes a signal recording portion. In the optical recording medium of the present invention, the crystallization rate of the recording layer is low, so that even if the relative speed of the recording light beam to the recording layer is low and the cooling rate of the irradiated portion is relatively low, good amorphization is achieved. , High C / N is obtained.
【0039】一方、記録情報を書き換えるときには、新
たに書き込む信号の記録部位において記録用光ビームを
照射し、その他の部位では消去用光ビームを照射する。
消去用光ビームは記録用光ビームに比べ低パワーであ
り、照射部位は結晶化温度以上まで昇温されるが到達温
度は比較的低いため、冷却速度が結晶化速度以下となっ
て照射部位は結晶化する。書き換えの際には、照射前の
状態が結晶質であっても非晶質であっても、記録用光ビ
ーム照射部位は全て非晶質となり、また、消去用光ビー
ム照射部位は全て結晶質となる。On the other hand, when the recorded information is rewritten, the recording light beam for the newly written signal is irradiated with the recording light beam, and the other portion is irradiated with the erasing light beam.
The light beam for erasing has lower power than the light beam for recording, and the irradiated portion is heated up to the crystallization temperature or higher, but the reached temperature is relatively low, so the cooling rate is lower than the crystallization speed and the irradiated portion is Crystallize. At the time of rewriting, regardless of whether the state before irradiation is crystalline or amorphous, all the recording light beam irradiation site becomes amorphous, and all the erasing light beam irradiation site is crystalline. Becomes
【0040】なお、記録層の結晶化温度は80〜120
℃程度なので、耐熱性の低い樹脂製基板を用いた場合で
も、光記録媒体全体を恒温槽中で熱処理して記録層全面
を初期化することが可能である。The crystallization temperature of the recording layer is 80 to 120.
Since the temperature is on the order of ° C, even if a resin substrate having low heat resistance is used, the entire optical recording medium can be heat-treated in a thermostatic chamber to initialize the entire recording layer.
【0041】再生用光ビームは、記録層の結晶状態に影
響を与えない低パワーの光ビームである。なお、非晶質
の信号記録部は、結晶質の未記録部に比べ反射率が低下
する。The reproducing light beam is a low power light beam that does not affect the crystalline state of the recording layer. The reflectance of the amorphous signal recorded portion is lower than that of the crystalline unrecorded portion.
【0042】本発明の光記録媒体では、上記各光ビーム
に対する記録層の相対速度を1.2〜2.8m/s 程度、
特に、CDの線速度と同等の1.2〜1.4m/s とする
ことが好ましい。この範囲の線速において良好なC/N
が得られる。In the optical recording medium of the present invention, the relative velocity of the recording layer with respect to each of the above light beams is about 1.2 to 2.8 m / s,
In particular, it is preferable to set it to 1.2 to 1.4 m / s, which is equivalent to the linear velocity of CD. Good C / N at linear velocity in this range
Is obtained.
【0043】[0043]
【実施例】以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明
をさらに詳細に説明する。EXAMPLES The present invention will be described in more detail below by showing specific examples of the present invention.
【0044】基板の表面に、第一の誘電体薄膜、記録
層、第二の誘電体薄膜および保護膜を形成し、表1に示
される光記録ディスクサンプルを作製した。基板には、
射出成形によりグルーブを同時形成した直径133mm、
厚さ1.2mmのディスク状ポリカーボネートを用いた。
第一および第二の誘電体薄膜は、SiO2 をターゲット
としてスパッタ法により1500A の厚さに形成した。
記録層はRFスパッタ法により形成した。ターゲットに
は、Ge−Te合金表面にTiチップおよび/またはZ
nチップを貼ったものを用いた。記録層の厚さは100
0A とした。記録層の組成を下記表1に示す。保護膜
は、紫外線硬化型樹脂をスピンコート法により塗布後、
紫外線照射により硬化して形成した。硬化後の保護膜厚
さは5μm であった。On the surface of the substrate, a first dielectric thin film, a recording layer, a second dielectric thin film and a protective film were formed, and the optical recording disk samples shown in Table 1 were prepared. On the board
133mm diameter with simultaneous groove formation by injection molding,
A disc-shaped polycarbonate having a thickness of 1.2 mm was used.
The first and second dielectric thin films were formed to a thickness of 1500 A by sputtering with SiO 2 as a target.
The recording layer was formed by the RF sputtering method. The target is a Ti-chip and / or Z on the surface of the Ge-Te alloy.
The one with an n-chip attached was used. The thickness of the recording layer is 100
It was set to 0A. The composition of the recording layer is shown in Table 1 below. The protective film, after applying a UV curable resin by spin coating,
It was formed by curing with UV irradiation. The protective film thickness after curing was 5 μm.
【0045】各サンプルを恒温槽中に入れ、100℃ま
で昇温した後、槽外に出して自然冷却し、記録層の全領
域を結晶化させて初期化した。記録層が結晶化されてい
ることは、X線回折により確認した。Each sample was placed in a constant temperature bath, heated to 100 ° C., then taken out of the bath and naturally cooled to crystallize the entire region of the recording layer for initialization. It was confirmed by X-ray diffraction that the recording layer was crystallized.
【0046】次いで、各サンプルをCDと同等の線速度
(1.4m/s )で回転させながら、CD信号{11T信
号(196kHz )}を記録した。また、その後、さらに
上記CD信号の書き換えを行なった。なお、記録用光ビ
ームのパワーは6mWとし、消去用光ビームのパワーは3
mWとした。これらの光ビームの波長は、780nmとし
た。Then, a CD signal {11T signal (196 kHz)} was recorded while rotating each sample at a linear velocity (1.4 m / s) equivalent to that of a CD. After that, the CD signal was further rewritten. The power of the recording light beam is 6 mW and the power of the erasing light beam is 3 mW.
mW. The wavelength of these light beams was 780 nm.
【0047】これらの信号を、0.7mWの光ビームを照
射して再生し、C/Nを測定した。結果を表1に示す。These signals were reproduced by irradiating a light beam of 0.7 mW and C / N was measured. The results are shown in Table 1.
【0048】[0048]
【表1】 [Table 1]
【0049】表1に示される結果から、本発明の効果が
明らかである。すなわち、TeとGeの比率およびMの
含有量が本発明の範囲内であるサンプルNo.1〜5で
は、良好なC/Nが得られている。From the results shown in Table 1, the effect of the present invention is clear. That is, in samples Nos. 1 to 5 in which the ratio of Te and Ge and the content of M are within the range of the present invention, good C / N is obtained.
【0050】一方、Mが含まれないサンプルNo. 6およ
び8、Mの含有量が本発明範囲を超えているサンプルN
o. 7および9、Teの比率が本発明の範囲を下回るサ
ンプルNo. 10〜13は、C/Nが著しく低い。On the other hand, sample Nos. 6 and 8 not containing M, and sample N having an M content exceeding the range of the present invention
Sample Nos. 10 to 13 in which the ratios of o. 7 and 9 and Te are below the range of the present invention have remarkably low C / N.
【0051】[0051]
【発明の効果】本発明によれば、CDと同等の低い線速
度で記録を行なった場合でも、極めて良好なC/Nが得
られる相変化型光記録媒体が実現する。According to the present invention, it is possible to realize a phase change type optical recording medium capable of obtaining a very good C / N even when recording is performed at a low linear velocity equivalent to that of a CD.
Claims (3)
より前記記録層の結晶状態が変化して記録が行なわれる
光記録媒体であって、 前記記録層がTe、GeおよびM(Mは、Tiおよび/
またはZnである。)を含有し、前記記録層中における
Te、GeおよびMの原子比が下記式で表わされること
を特徴とする光記録媒体。 式 (Gex Te1-x )100-y My (上記式において、 0.05≦x≦0.20、 0<y≦10 である。)1. An optical recording medium having a recording layer on a substrate, wherein recording is performed by changing a crystal state of the recording layer by irradiation with a light beam, wherein the recording layer is Te, Ge and M (M Is Ti and /
Or Zn. ), And the atomic ratio of Te, Ge and M in the recording layer is represented by the following formula. Formula (Ge x Te 1-x ) 100-y M y (In the above formula, 0.05 ≦ x ≦ 0.20 and 0 <y ≦ 10.)
晶質であり、信号記録部が非晶質である請求項1に記載
の光記録媒体。2. The optical recording medium according to claim 1, wherein in the recording layer, the signal unrecorded portion is crystalline and the signal recorded portion is amorphous.
1.2〜2.8m/s で使用される請求項1または2に記
載の光記録媒体。3. The optical recording medium according to claim 1, wherein the relative velocity of the recording layer with respect to the light beam is 1.2 to 2.8 m / s.
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP03352007A JP3075816B2 (en) | 1991-12-13 | 1991-12-13 | Optical recording medium |
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---|---|---|---|
JP03352007A JP3075816B2 (en) | 1991-12-13 | 1991-12-13 | Optical recording medium |
Publications (2)
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JPH05162451A true JPH05162451A (en) | 1993-06-29 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP3075816B2 (en) |
-
1991
- 1991-12-13 JP JP03352007A patent/JP3075816B2/en not_active Expired - Fee Related
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