JPH05150258A - 液晶表示装置 - Google Patents
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- JPH05150258A JPH05150258A JP31421091A JP31421091A JPH05150258A JP H05150258 A JPH05150258 A JP H05150258A JP 31421091 A JP31421091 A JP 31421091A JP 31421091 A JP31421091 A JP 31421091A JP H05150258 A JPH05150258 A JP H05150258A
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- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は液晶表示装置に関するもので、積層
構造を有する金属コンタクト部での断線を軽減し、製造
歩留りの良い液晶表示装置を提供することを目的とす
る。 【構成】 絶縁基板上に第１の金属配線１０１と第１の
絶縁層１０２と第２の金属配線１０４と第２の絶縁層１
０３と第３の金属配線１０５が順に積層されていて、第
１の絶縁層１０２と第２の絶縁層１０３は、それぞれコ
ンタクトホ−ルを有し、第２の絶縁層のコンタクトホ−
ルは第１の絶縁層のコンタクトホ−ルの位置と重なりを
有さない位置にあってかつ第１の金属配線と第２の金属
配線と前記第３の金属配線は電気的に接続されている。
構造を有する金属コンタクト部での断線を軽減し、製造
歩留りの良い液晶表示装置を提供することを目的とす
る。 【構成】 絶縁基板上に第１の金属配線１０１と第１の
絶縁層１０２と第２の金属配線１０４と第２の絶縁層１
０３と第３の金属配線１０５が順に積層されていて、第
１の絶縁層１０２と第２の絶縁層１０３は、それぞれコ
ンタクトホ−ルを有し、第２の絶縁層のコンタクトホ−
ルは第１の絶縁層のコンタクトホ−ルの位置と重なりを
有さない位置にあってかつ第１の金属配線と第２の金属
配線と前記第３の金属配線は電気的に接続されている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示装置に関する
ものである。特に本発明は、周辺の配線部に使用され
る。
ものである。特に本発明は、周辺の配線部に使用され
る。
【０００２】
【従来の技術】近年、液晶表示装置はＣＲＴに代わるデ
ィスプレイとして注目され、より高画質化や大画面化に
向けて改良が進められている。この為新たな材料が利用
され、これにあった製造プロセスや構造が検討されてい
る。
ィスプレイとして注目され、より高画質化や大画面化に
向けて改良が進められている。この為新たな材料が利用
され、これにあった製造プロセスや構造が検討されてい
る。
【０００３】以下図面を参照しながら、上述した従来の
液晶表示装置の一例について説明する。（図３）は，従
来の液晶表示装置の断面図を示すものである．（図３）
において、３０１は第１の金属配線、３０２は第２の金
属配線、３０３は絵素スイッチ素子、３０４は絵素電
極、３０５は透明電極、３０６は第１の絶縁層、３０７
は第２の絶縁層、３０８は絶縁基板、３０９は液晶層、
３１０は対向基板、３１１はシ−ル樹脂である。（たと
えば、映像情報（Ｉ）、１９８９年９月号２３〜３１ペ
−ジ）。
液晶表示装置の一例について説明する。（図３）は，従
来の液晶表示装置の断面図を示すものである．（図３）
において、３０１は第１の金属配線、３０２は第２の金
属配線、３０３は絵素スイッチ素子、３０４は絵素電
極、３０５は透明電極、３０６は第１の絶縁層、３０７
は第２の絶縁層、３０８は絶縁基板、３０９は液晶層、
３１０は対向基板、３１１はシ−ル樹脂である。（たと
えば、映像情報（Ｉ）、１９８９年９月号２３〜３１ペ
−ジ）。
【０００４】本発明に特に関係する配線部の構造を（図
４）に抜き出す。４０１は第１の金属配線、４０２は第
１の絶縁層、４０３は第２の絶縁層、４０４は第２の金
属配線、４０５は絶縁基板である。
４）に抜き出す。４０１は第１の金属配線、４０２は第
１の絶縁層、４０３は第２の絶縁層、４０４は第２の金
属配線、４０５は絶縁基板である。
【０００５】（図３）は、液晶表示装置として最も広く
普及している逆スタッガ−タイプの薄膜トランジスタ−
を用いた例である。この場合第１の金属配線４０１は走
査線（ゲ−ト）である。この第１の金属配線４０１の材
料として今まで最も広く用いられてきたのはクロムであ
るが、近年ディスプレイの高画質化や大画面化に伴いア
ルミニウムが用いられるようになった。
普及している逆スタッガ−タイプの薄膜トランジスタ−
を用いた例である。この場合第１の金属配線４０１は走
査線（ゲ−ト）である。この第１の金属配線４０１の材
料として今まで最も広く用いられてきたのはクロムであ
るが、近年ディスプレイの高画質化や大画面化に伴いア
ルミニウムが用いられるようになった。
【０００６】第１の絶縁層４０２と第２の絶縁層４０３
は絶縁効果を高めるためこのように２層構造をとること
が多く材質も第１の絶縁層４０２と第２の絶縁層４０３
でことなるものにすることが多い。例えば、第１の絶縁
層４０２を酸化タンタル、第２の絶縁層４０３を窒化ケ
イ素など。また最近では第１の絶縁層４０２を第１の金
属配線４０１の陽極酸化によって形成することもある。
例えば第１の金属配線４０１をアルミニウム、第１の絶
縁層４０２を酸化アルミニウムである。
は絶縁効果を高めるためこのように２層構造をとること
が多く材質も第１の絶縁層４０２と第２の絶縁層４０３
でことなるものにすることが多い。例えば、第１の絶縁
層４０２を酸化タンタル、第２の絶縁層４０３を窒化ケ
イ素など。また最近では第１の絶縁層４０２を第１の金
属配線４０１の陽極酸化によって形成することもある。
例えば第１の金属配線４０１をアルミニウム、第１の絶
縁層４０２を酸化アルミニウムである。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記のよ
うな構造では、第１の絶縁層４０２のコンタクトホ−ル
と第２の絶縁層４０３のコンタクトホ−ルがオ−バ−ラ
ップしているためこの重なり部分の第１の金属配線４０
１は、第１の絶縁層４０２のコンタクトホ−ル形成時と
第２の絶縁層４０３のコンタクトホ−ル形成時の２回な
んらかのダメ−ジを受けることとなる。
うな構造では、第１の絶縁層４０２のコンタクトホ−ル
と第２の絶縁層４０３のコンタクトホ−ルがオ−バ−ラ
ップしているためこの重なり部分の第１の金属配線４０
１は、第１の絶縁層４０２のコンタクトホ−ル形成時と
第２の絶縁層４０３のコンタクトホ−ル形成時の２回な
んらかのダメ−ジを受けることとなる。
【０００８】特に近年よく用いられるようになったアル
ミニウムのような薬品に対して弱い材料の場合は特に問
題となり最悪の場合コンタクトホ−ル形成時に第１の金
属配線４０１も消失してしまい第２の金属配線４０４と
の電気的接続が取れなくなってしまい、断線となる。こ
れが走査線あるいは信号線でおきればディスプレイの表
示は線欠陥となる。
ミニウムのような薬品に対して弱い材料の場合は特に問
題となり最悪の場合コンタクトホ−ル形成時に第１の金
属配線４０１も消失してしまい第２の金属配線４０４と
の電気的接続が取れなくなってしまい、断線となる。こ
れが走査線あるいは信号線でおきればディスプレイの表
示は線欠陥となる。
【０００９】本発明は、上記課題に鑑み、対薬品性に劣
った金属材料を用いても安定した電気的接続の得られ、
断線のない液晶表示装置を提供するものである。
った金属材料を用いても安定した電気的接続の得られ、
断線のない液晶表示装置を提供するものである。
【００１０】
【課題を解決する手段】上記課題を解決するために本発
明の液晶表示装置は、第１の絶縁層のコンタクトホ−ル
と第２の絶縁層のコンタクトホ−ルを異なる位置に配置
し、さらに第１の絶縁層と第２の絶縁層との間に新たな
金属配線を配し第１の絶縁層のコンタクトホ−ルと第２
の絶縁層のコンタクトホ−ルを電気的に接続する構造で
あることを特徴とするものである。
明の液晶表示装置は、第１の絶縁層のコンタクトホ−ル
と第２の絶縁層のコンタクトホ−ルを異なる位置に配置
し、さらに第１の絶縁層と第２の絶縁層との間に新たな
金属配線を配し第１の絶縁層のコンタクトホ−ルと第２
の絶縁層のコンタクトホ−ルを電気的に接続する構造で
あることを特徴とするものである。
【００１１】
【作用】本発明は上記した構造によって第１の絶縁層の
コンタクトホ−ル下の第１の金属配線はコンタクトホ−
ル形成プロセスに１度だけしかさらされずダメ−ジが軽
減される。特に前述した様に第１の絶縁層を陽極酸化で
形成することが多くなった現在、第１の絶縁層のコンタ
クトホ−ルは従来のエッチングによる形成ではなく選択
的な陽極酸化により形成することができる。この場合、
第１の絶縁層のコンタクトホ−ルは第１の金属配線に全
くダメ−ジを与えることなく形成できる。
コンタクトホ−ル下の第１の金属配線はコンタクトホ−
ル形成プロセスに１度だけしかさらされずダメ−ジが軽
減される。特に前述した様に第１の絶縁層を陽極酸化で
形成することが多くなった現在、第１の絶縁層のコンタ
クトホ−ルは従来のエッチングによる形成ではなく選択
的な陽極酸化により形成することができる。この場合、
第１の絶縁層のコンタクトホ−ルは第１の金属配線に全
くダメ−ジを与えることなく形成できる。
【００１２】第１の金属配線の材質は薄膜トランジスタ
−の場合、ゲ−トとなる場合が多い。従来は製造の安定
性を考慮して化学的に安定な材料、例えばクロムを使用
することが多かった。しかし近年ディスプレイの大型
化、高精細化に伴いゲ−ト材料の低抵抗化が必要となっ
たため、アルミニウムなどの材料が使用されるようにな
った。しかし、アルミニウムは化学的および熱的に不安
定でディスプレイの製造を極端に難しくしてきた。
−の場合、ゲ−トとなる場合が多い。従来は製造の安定
性を考慮して化学的に安定な材料、例えばクロムを使用
することが多かった。しかし近年ディスプレイの大型
化、高精細化に伴いゲ−ト材料の低抵抗化が必要となっ
たため、アルミニウムなどの材料が使用されるようにな
った。しかし、アルミニウムは化学的および熱的に不安
定でディスプレイの製造を極端に難しくしてきた。
【００１３】本発明の構造では、前述の通り第１の金属
配線に与えるダメ−ジが軽減できるので第１の金属配線
の材料の選択幅が広がる。前述のアルミニウムを使用し
てもディスプレイが容易に製造できる。
配線に与えるダメ−ジが軽減できるので第１の金属配線
の材料の選択幅が広がる。前述のアルミニウムを使用し
てもディスプレイが容易に製造できる。
【００１４】
【実施例】以下本発明の一実施例の液晶表示装置につい
て、図面を参照しながら説明する。（図１）は本発明の
第１の実施例における液晶表示装置の配線部の断面図を
示すものである。１０１は第１の金属配線、１０２は第
１の絶縁層、１０３は第２の絶縁層、１０４は第２の金
属配線、１０５は第３の金属配線、１０６は絶縁基板で
ある。
て、図面を参照しながら説明する。（図１）は本発明の
第１の実施例における液晶表示装置の配線部の断面図を
示すものである。１０１は第１の金属配線、１０２は第
１の絶縁層、１０３は第２の絶縁層、１０４は第２の金
属配線、１０５は第３の金属配線、１０６は絶縁基板で
ある。
【００１５】本実施例の構造は液晶表示装置の配線部で
よく用いられる。金属の材料を変換したい時、例えば第
１の金属配線１０１がアルミニウムで、第３の金属配線
１０５がＩＴＯという構成は、他の素子やフレキシブル
基板との接続部に用いる。また孤立した第１の金属配線
１０１を第３の金属配線１０５を使用して電気的接続を
得るときは本構造を２箇所設けて第１の金属配線−第２
の金属配線−第３の金属配線−第２の金属配線−第１の
金属配線の順に電気的接続をとる。これは、基板周辺部
で電源ラインや断線救済用ラインなど入り組んだ配線を
つなぐときに用いる。
よく用いられる。金属の材料を変換したい時、例えば第
１の金属配線１０１がアルミニウムで、第３の金属配線
１０５がＩＴＯという構成は、他の素子やフレキシブル
基板との接続部に用いる。また孤立した第１の金属配線
１０１を第３の金属配線１０５を使用して電気的接続を
得るときは本構造を２箇所設けて第１の金属配線−第２
の金属配線−第３の金属配線−第２の金属配線−第１の
金属配線の順に電気的接続をとる。これは、基板周辺部
で電源ラインや断線救済用ラインなど入り組んだ配線を
つなぐときに用いる。
【００１６】本構造の製造例を、示す。まず第１の金属
配線１０１（例えばアルミニウムを材料とする）を所定
の形にパタ−ニングした後、その一部をマスキングして
陽極酸化し、第１の絶縁層１０２を形成する。この後第
２の金属配線１０３を成膜、さらに第１の金属配線１０
１と電気的接続をとるような形でパタ−ニングする。こ
の後、第２の絶縁層１０３を成膜（例えば、窒化ケイ素
を材料とする）、さらに第２の金属配線１０４の上で第
１の金属配線１０１の未化成部の上以外のところでコン
タクトホ−ルをエッチングにより形成する。この後、第
３の金属配線１０５を成膜、パタ−ニングすることで第
１の金属配線１０１、第２の金属配線１０４、第３の金
属配線１０５の電気的接続をとる。
配線１０１（例えばアルミニウムを材料とする）を所定
の形にパタ−ニングした後、その一部をマスキングして
陽極酸化し、第１の絶縁層１０２を形成する。この後第
２の金属配線１０３を成膜、さらに第１の金属配線１０
１と電気的接続をとるような形でパタ−ニングする。こ
の後、第２の絶縁層１０３を成膜（例えば、窒化ケイ素
を材料とする）、さらに第２の金属配線１０４の上で第
１の金属配線１０１の未化成部の上以外のところでコン
タクトホ−ルをエッチングにより形成する。この後、第
３の金属配線１０５を成膜、パタ−ニングすることで第
１の金属配線１０１、第２の金属配線１０４、第３の金
属配線１０５の電気的接続をとる。
【００１７】第２の金属配線１０４と第３の金属配線１
０５の材料は必要に応じて選択する。たとえば、クロ
ム、ＩＴＯ、アルミニウム、チタン、モリブデン、タン
タル、タングステン、あるいはこれらのいずれかを主成
分とする合金である。また前述の説明では金属配線はい
ずれも単層であるような表現をしているが単層に限る必
要はなく、多層膜で形成されていてもよい。
０５の材料は必要に応じて選択する。たとえば、クロ
ム、ＩＴＯ、アルミニウム、チタン、モリブデン、タン
タル、タングステン、あるいはこれらのいずれかを主成
分とする合金である。また前述の説明では金属配線はい
ずれも単層であるような表現をしているが単層に限る必
要はなく、多層膜で形成されていてもよい。
【００１８】さらに前述の例では、第１の絶縁層１０２
を陽極酸化法で形成しているがこれに限定するものでな
く、スパッタリング、各種ＣＶＤ法、印刷、コ−ティン
グなどで形成しても良い。この時第１の絶縁層１０２の
コンタクトホ−ルはエッチングで形成される。
を陽極酸化法で形成しているがこれに限定するものでな
く、スパッタリング、各種ＣＶＤ法、印刷、コ−ティン
グなどで形成しても良い。この時第１の絶縁層１０２の
コンタクトホ−ルはエッチングで形成される。
【００１９】第１の絶縁層１０２を、陽極酸化法で形成
する場合は、第１の金属配線１０１の材料は陽極酸化が
可能な材料に限定される。例えば、アルミニウム、タン
タル、チタンあるいはこれらのいずれかを主成分とする
合金である。陽極酸化法を使用しない場合は使用する金
属に制限はなくたとえば、クロム、ＩＴＯ、アルミニウ
ム、チタン、モリブデン、タンタル、タングステン、あ
るいはこれらのいずれかを主成分とする合金が使用でき
る。
する場合は、第１の金属配線１０１の材料は陽極酸化が
可能な材料に限定される。例えば、アルミニウム、タン
タル、チタンあるいはこれらのいずれかを主成分とする
合金である。陽極酸化法を使用しない場合は使用する金
属に制限はなくたとえば、クロム、ＩＴＯ、アルミニウ
ム、チタン、モリブデン、タンタル、タングステン、あ
るいはこれらのいずれかを主成分とする合金が使用でき
る。
【００２０】（図２）は本発明の第２の実施例における
液晶表示装置の配線部の断面図を示すものである。２０
１は第１の金属配線、２０２は第１の絶縁層、２０３は
第２の絶縁層、２０４は第２の金属配線、２０５は第３
の金属配線、２０６は絶縁基板である。
液晶表示装置の配線部の断面図を示すものである。２０
１は第１の金属配線、２０２は第１の絶縁層、２０３は
第２の絶縁層、２０４は第２の金属配線、２０５は第３
の金属配線、２０６は絶縁基板である。
【００２１】この構造は、第２の絶縁層１０３のコンタ
クトホ−ルの下に第１の金属配線２０１がないので第２
の金属配線２０４や第１の絶縁層２０２に多少のピンホ
−ル等の欠陥が生じても第１の金属配線２０１には影響
をあたえない。
クトホ−ルの下に第１の金属配線２０１がないので第２
の金属配線２０４や第１の絶縁層２０２に多少のピンホ
−ル等の欠陥が生じても第１の金属配線２０１には影響
をあたえない。
【００２２】なお、第１および第２の実施例においてコ
ンタクトホ−ルは、穴状である表現を用いているがこれ
に限定することなく、コンタクトを得るために絶縁層を
除去した部分を意味し、形状は、穴状とは限らない。
ンタクトホ−ルは、穴状である表現を用いているがこれ
に限定することなく、コンタクトを得るために絶縁層を
除去した部分を意味し、形状は、穴状とは限らない。
【００２３】
【発明の効果】以上のように本発明は積層で構成される
液晶表示装置であって下層に化学的安定性にかける材料
を使用しても断線が生じず、液晶表示装置の製造の歩留
りを向上させる。
液晶表示装置であって下層に化学的安定性にかける材料
を使用しても断線が生じず、液晶表示装置の製造の歩留
りを向上させる。
【図１】本発明の第１の実施例の断面図である。
【図２】本発明の第２の実施例の断面図である。
【図３】従来の液晶表示装置の断面図である。
【図４】従来の液晶表示装置のコンタクト部の断面図で
ある。
ある。
１０１ 第１の金属配線 １０２ 第１の絶縁層 １０３ 第２の絶縁層 １０４ 第２の金属配線 １０５ 第３の金属配線 １０６ 絶縁基板 ２０１ 第１の金属配線 ２０２ 第１の絶縁層 ２０３ 第２の絶縁層 ２０４ 第２の金属配線 ２０５ 第３の金属配線 ２０６ 絶縁基板 ３０１ 第１の金属配線 ３０２ 第２の金属配線 ３０３ 絵素スイッチ素子 ３０４ 絵素電極 ３０５ 透明電極 ３０６ 第１の絶縁層 ３０７ 第２の絶縁層 ３０８ 絶縁基板 ３０９ 液晶層 ３１０ 対向基板 ３１１ シ−ル樹脂 ４０１ 第１の金属配線 ４０２ 第１の絶縁層 ４０３ 第２の絶縁層 ４０４ 第２の金属配線 ４０５ 絶縁基板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小林 郁典 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内
Claims (4)
- 【請求項１】絶縁基板上に第１の金属配線と第１の絶縁
層と第２の金属配線と第２の絶縁層と第３の金属配線が
順に積層されていて、前記第１の絶縁層と前記第２の絶
縁層は、それぞれコンタクトホ−ルを有していて、前記
第２の絶縁層のコンタクトホ−ルは前記第１の絶縁層の
コンタクトホ−ルと重ならない位置にあってかつ前記第
１の金属配線と前記第２の金属配線と前記第３の金属配
線は電気的に接続されていることを特徴とする液晶表示
装置。 - 【請求項２】絶縁基板上に第１の金属配線と第１の絶縁
層と第２の金属配線と第２の絶縁層と第３の金属配線が
順に積層されていて、前記第１の絶縁層と前記第２の絶
縁層は、それぞれコンタクトホ−ルを有していて、前記
第２の絶縁層のコンタクトホ−ルは前記第１の絶縁層の
コンタクトホ−ルと重ならない位置にあってかつ前記第
２の絶縁層のコンタクトホ−ルの下には前記第１の金属
配線がなくかつ前記第１の金属配線と前記第２の金属配
線と前記第３の金属配線は電気的に接続されていること
を特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項３】第１の金属配線がアルミニウムあるいはア
ルミニウム合金である請求項１または２記載の液晶表示
装置。 - 【請求項４】第２の金属配線がクロムあるいはＩＴＯあ
るいはこれらの合金である請求項１または２記載の液晶
表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31421091A JPH05150258A (ja) | 1991-11-28 | 1991-11-28 | 液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31421091A JPH05150258A (ja) | 1991-11-28 | 1991-11-28 | 液晶表示装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05150258A true JPH05150258A (ja) | 1993-06-18 |
Family
ID=18050609
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31421091A Pending JPH05150258A (ja) | 1991-11-28 | 1991-11-28 | 液晶表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05150258A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0850308A (ja) * | 1994-06-03 | 1996-02-20 | Furontetsuku:Kk | 電気光学素子の製造方法 |
-
1991
- 1991-11-28 JP JP31421091A patent/JPH05150258A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0850308A (ja) * | 1994-06-03 | 1996-02-20 | Furontetsuku:Kk | 電気光学素子の製造方法 |
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