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JPH05135599A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

Info

Publication number
JPH05135599A
JPH05135599A JP4124558A JP12455892A JPH05135599A JP H05135599 A JPH05135599 A JP H05135599A JP 4124558 A JP4124558 A JP 4124558A JP 12455892 A JP12455892 A JP 12455892A JP H05135599 A JPH05135599 A JP H05135599A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
memory cell
decoder
spare
address
normal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP4124558A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2582987B2 (en
Inventor
Hiroshi Iwahashi
弘 岩橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP4124558A priority Critical patent/JP2582987B2/en
Publication of JPH05135599A publication Critical patent/JPH05135599A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2582987B2 publication Critical patent/JP2582987B2/en
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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E60/00Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
    • Y02E60/30Hydrogen technology
    • Y02E60/50Fuel cells

Landscapes

  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Dram (AREA)

Abstract

PURPOSE:To separately output for normal and spare decoder and address data from an address buffer circuit and to supply prescribed control signals to the address buffer circuit from the spare decoder which is in a spare memory cell selection condition so that when a faulty address is inputted, normal decoder address data become the data which make it unable to select a normal memory cell. CONSTITUTION:Buffer stages 51, 52, 21 and 22 are provided for spare and normal memory cells. Between the output terminals of the buffer stages 21 and 22 and a power supply VC, control MOSFET M53 and M54 are correspondingly provided, a control signal E is provided for each gate, control MOSFETM53 and M54 are correspondingly provided between current pull in side MOSFETE4 and E5 of the buffer stages 21 and 22 and a VS power supply and each gate is given the inverse of the control signal E, (in the figure a bar is shown on the top). By each of these control signals, the outputs of the buffer stages 21 and 22 are made in phase when a faulty address is inputted and a normal memory cell is not selected.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は集積回路化された半導体
メモリ装置に係り、特に正規のメモリセルが不具合な場
合に予備のメモリセルに切換設定して救済し得る冗長性
機能を持つメモリ装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device integrated into a circuit, and more particularly to a memory device having a redundancy function which can be set to a spare memory cell and repaired when a normal memory cell is defective. Regarding

【0002】[0002]

【従来の技術】最近、半導体メモリ装置にあっては、正
規のメモリセルと予備のメモリセルを予め形成してお
き、製造時に正規のメモリセル内に不具合があった場合
には、この不良メモリセル部分を予備のメモリセルに置
き換えて使用するように設定可能な冗長性機能を持った
ものが多くなっている。これは、正規のメモリセル内に
わずか1ビットの不良セルがあってもメモリ全体として
は不具合であり、このようなメモリ装置は不良品として
捨てられている。
2. Description of the Related Art Recently, in a semiconductor memory device, a normal memory cell and a spare memory cell are formed in advance, and if a defect occurs in the normal memory cell at the time of manufacture, this defective memory cell Many have a redundancy function that can be set so that the cell portion is replaced with a spare memory cell for use. This is a problem for the entire memory even if there is a defective cell of only 1 bit in a regular memory cell, and such a memory device is discarded as a defective product.

【0003】しかし、メモリ容量が増大するのに伴な
い、不良セルが発生する確率は高くなってきており、不
良が発生しているメモリ装置を捨ててしまうのでは製品
のコストが極めて高価なものとなってしまう。したがっ
て、全体の歩留りの向上のために、予備のメモリセルを
形成しておき、正規のメモリセルの一部が不良の場合
に、これを予備のメモリセルに切換えて使うように設定
しておく方法が採用されてきたのである。
However, as the memory capacity increases, the probability of defective cells is increasing, and the cost of the product is extremely high if the defective memory device is discarded. Will be. Therefore, in order to improve the overall yield, a spare memory cell is formed, and if a part of the normal memory cell is defective, it is set to be used by switching to the spare memory cell. The method has been adopted.

【0004】図5は、上述したように正規のメモリセル
1および予備のメモリセル2が形成された半導体メモリ
装置の主要部を示している。3はアドレスデータ入力a
i (i=0〜n)が与えられるアドレスバッファであ
り、このアドレスバッファ3からは前記アドレスデータ
入力ai と同相および逆相(反転レベル)の一対のアド
レスデータAi,Ai- (図では真上にバーがある)が
出力されて正規のデコーダ4および予備のデコーダ5に
与えられる。
FIG. 5 shows a main part of a semiconductor memory device in which the regular memory cell 1 and the spare memory cell 2 are formed as described above. 3 is address data input a
i (i = 0 to n) is applied to the address buffer 3. From the address buffer 3, a pair of address data Ai and Ai- having the same phase and opposite phase (inversion level) to the address data input ai (directly above Is output to the regular decoder 4 and the spare decoder 5.

【0005】上記正規のデコーダ4のデコード出力は前
記正規のメモリセル1に与えられ、このデコード出力に
より正規のメモリセル1内の1つのメモリセル(1ビッ
ト出力タイプのメモリ装置の場合)あるいは複数のメモ
リセル(たとえば8ビット出力タイプのメモリ装置の場
合)が選択され、こののち上記選択されたメモリセルに
データが記憶されたり、あるいはデータが読み出された
りする。また、上記正規のデコーダ4は、予備のデコー
ダ5からの出力によって、そのデコード動作が制御され
る(禁止される)ようになっている。
The decode output of the normal decoder 4 is given to the normal memory cell 1, and by this decode output, one memory cell in the normal memory cell 1 (in the case of a 1-bit output type memory device) or a plurality of memory cells is provided. Memory cell (for example, in the case of an 8-bit output type memory device) is selected, and then data is stored in or read from the selected memory cell. Further, the decoding operation of the regular decoder 4 is controlled (inhibited) by the output from the spare decoder 5.

【0006】予備のデコーダ5のデコード出力は予備の
メモリセル2に与えられ、このデコード出力によって予
備のメモリセル2内のメモリセルが選択され、こののち
上記選択されたメモリセルにデータが記憶されたり読み
出されたりする。また、上記予備のデコーダ5の出力
は、前述したように正規のデコーダ4のデコード動作を
制御するための信号として与えられる。
The decode output of the spare decoder 5 is applied to the spare memory cell 2, the memory cell in the spare memory cell 2 is selected by this decode output, and then the data is stored in the selected memory cell. Or read. The output of the spare decoder 5 is given as a signal for controlling the decoding operation of the regular decoder 4 as described above.

【0007】すなわち、上述したような構成の半導体メ
モリ装置において、正規のメモリセル1に不良ビットが
なければ、正規のデコーダ4のみが動作して正規のメモ
リセル1内のメモリセルがアクセスされる。一方、正規
のメモリセル1内に不良ビットがあるときは、この不良
ビットを含む行の行アドレスあるいは列アドレスに相当
するデコード出力が得られるように予め予備のデコーダ
5をプログラムしておく。
That is, in the semiconductor memory device having the above-mentioned structure, if the normal memory cell 1 has no defective bit, only the normal decoder 4 operates to access the memory cell in the normal memory cell 1. .. On the other hand, when there is a defective bit in the normal memory cell 1, the spare decoder 5 is programmed in advance so that the decoded output corresponding to the row address or the column address of the row including the defective bit is obtained.

【0008】したがって、いまアドレスバッファ3で正
規のメモリセル1の不良ビットを含む行アドレスあるい
は列アドレスに対応する出力が得られると、予備のデコ
ーダ5によって予備のメモリセル2内のメモリセルが選
択される。さらに、このときの予備のデコーダ5のデコ
ード出力によって正規のデコーダ4のデコード動作が停
止され、正規のメモリセル1はアクセスされない。この
ような操作によって、正規のメモリセル1内の不良部分
が予備のメモリセル2と交換される。
Therefore, when the output corresponding to the row address or the column address including the defective bit of the normal memory cell 1 is obtained in the address buffer 3, the spare decoder 5 selects the memory cell in the spare memory cell 2. To be done. Further, the decoding output of the spare decoder 5 at this time stops the decoding operation of the normal decoder 4, and the normal memory cell 1 is not accessed. By such an operation, the defective portion in the regular memory cell 1 is replaced with the spare memory cell 2.

【0009】図6は、図5のアドレスバッファ3の一例
を示す回路であり、このような回路がアドレスデータ入
力ai の数だけ設けられる。M1 〜M5 ,D1 〜D3
1〜E6 はそれぞれたとえばNチャンネルのMOS FET
(絶縁ゲート型電界効果トランジスタ)であり、このう
ち、M1 〜M5 はしきい値電圧が0v付近であるもの、
1 〜D3 はデプレッション(D)型、E1 〜E6 はエ
ンハンスメント(E)型のものである。そして、MOS FE
T M4 ,E4 はバッファ段21,MOS FET M5,E5
バッファ段22となっている。
FIG. 6 is a circuit showing an example of the address buffer 3 of FIG. 5, and such circuits are provided as many as the number of address data inputs ai. M 1 to M 5 , D 1 to D 3 ,
E 1 to E 6 are, for example, N-channel MOS FETs, respectively.
(Insulated gate field effect transistor), of which M 1 to M 5 have a threshold voltage near 0 v,
D 1 to D 3 are depletion (D) types, and E 1 to E 6 are enhancement (E) types. And MOS FE
T M 4 and E 4 form a buffer stage 21, and MOS FETs M 5 and E 5 form a buffer stage 22.

【0010】また、Vc およびVs は電源でそれぞれた
とえば+5v,0v、信号CEおよびその反転信号CE
- (図では真上にバーがある)は半導体メモリチップの
選択制御を行なうもので、それぞれ対応して“1”,
“0”レベルのときチップの選択指令となり、“0”,
“1”レベルのときにチップの非選択指令となる。
Further, Vc and Vs are power sources, for example, + 5v, 0v, a signal CE and its inverted signal CE, respectively.
-(There is a bar right above in the figure) controls the selection of semiconductor memory chips.
When it is at “0” level, it becomes a chip selection command and “0”,
When the level is "1", the chip is not selected.

【0011】したがって、チップが選択状態のときには
回路が動作状態になり、アドレスデータ入力ai に基い
てai と同相、逆相の一対のアドレスデータAi,Ai
- が生成され、正規のデコーダおよび予備のデコーダへ
それぞれ上記一対のデコーダAi,Ai- が出力され
る。これに対してチップが非選択状態のときには回路が
非動作状態になり、回路に流れる電流を低減させる働き
をする。
Therefore, when the chip is in the selected state, the circuit is in the operating state, and based on the address data input ai, a pair of address data Ai, Ai in-phase and in anti-phase with ai.
-Is generated, and the pair of decoders Ai and Ai- are output to the regular decoder and the spare decoder, respectively. On the other hand, when the chip is in the non-selected state, the circuit is in the non-operating state and serves to reduce the current flowing through the circuit.

【0012】図7は図5の予備のデコーダ5の一例を示
すもので、30iは不良アドレスを記憶させるための不
良アドレス記憶回路、31は予備デコーダ回路、32は
予備デコーダ使用の可否(デコード動作の可否)を制御
する予備デコーダ制御回路である。
FIG. 7 shows an example of the spare decoder 5 of FIG. 5, in which 30i is a defective address storage circuit for storing a defective address, 31 is a spare decoder circuit, and 32 is availability of a spare decoder (decoding operation). This is a preliminary decoder control circuit for controlling whether or not).

【0013】上記記憶回路30iは、1組のアドレスデ
ータAi,Ai- の対数(iの数)だけ設けられ、E7
〜E10はE型、D4 はD型のNチャンネルMOS FET 、F
1 はポリシリコンヒューズ(以下ポリヒューズと略称す
る)であり、出力信号Ciは予備デコーダ回路31のア
ドレス入力となる。
The memory circuit 30i is provided by the logarithm (the number of i) of a set of address data Ai, Ai-, and E 7
~ E 10 is E type, D 4 is D type N channel MOS FET, F
Reference numeral 1 is a polysilicon fuse (hereinafter abbreviated as poly fuse), and the output signal Ci serves as an address input of the preliminary decoder circuit 31.

【0014】いま、アドレスデータ入力ai =“1”が
不良アドレスを表わすときにAi=“1”,Ai- =
“0”が入力する記憶回路30i(“1”)について
は、そのポリヒューズF1 を予めレーザ光等により溶断
しておく。
When the address data input ai = "1" represents a defective address, Ai = "1", Ai- =
Regarding the memory circuit 30i (“1”) to which “0” is input, the polyfuse F 1 is blown in advance by laser light or the like.

【0015】このようにすれば、使用時に電源Vc が投
入されてもMOS FET E8 およびE9はゲート電位が上昇
しないのでカットオフのままであり、MOS FET E10はゲ
ート電位がVc まで上昇してオンになってAi- 入力が
信号Ciとして出力する。
In this way, even if the power supply Vc is turned on during use, the gate potentials of the MOS FETs E 8 and E 9 do not rise, so they remain cut off, and the gate potential of the MOS FET E 10 rises to Vc. Then, it is turned on and the Ai- input outputs as the signal Ci.

【0016】従って、ai 入力が不良アドレスになると
Ai=“0”,つまりCi=“0”が出力し、ai 入力
が不良アドレス以外のときにはAiは“1”であり、C
iは“1”となる。
Therefore, when the ai input becomes a defective address, Ai = "0", that is, Ci = "0" is output. When the ai input is other than the defective address, Ai is "1" and C
i becomes "1".

【0017】これに対し、アドレスデータai =“0”
が不良アドレスを表わすときにAi=“0”,Ai- =
“1”が入力する記憶回路30i(“0”)について
は、そのポリヒューズF1 を切断することなくそのまま
にしておく。
On the other hand, the address data ai = "0"
Indicates a defective address, Ai = "0", Ai- =
The memory circuit 30i (“0”) to which “1” is input is left as it is without cutting the poly fuse F 1 .

【0018】このようにすれば、使用時に電源Vc が投
入されるとMOS FET E8 およびE9はオンになり、MOS F
ET E10はオフになり、Ai入力が信号Ciとして出力
する。従って、ai 入力が不良アドレスになるとAi=
“0”、つまりCi=“0”が出力し、ai 入力が不良
アドレス以外のときにはAiは“1”であり、Ciは
“1”となる。
In this way, when the power supply Vc is turned on during use, the MOS FETs E 8 and E 9 are turned on, and the MOS F E
ETE 10 is turned off and the Ai input outputs as signal Ci. Therefore, if the ai input becomes a defective address, Ai =
When "0", that is, Ci = "0" is output and the ai input is other than the defective address, Ai is "1" and Ci is "1".

【0019】つまり、上記のように記憶回路30iのポ
リヒューズF1 を切断するか否かを定めて不良アドレス
データを書き込んでおくと、アドレスデータ入力ai が
不良アドレスのときに出力信号Ciの全てが“0”にな
り、不良アドレス以外のときには記憶回路30iの少な
くとも1個でCi=“1”になる。
In other words, if defective address data is written by determining whether or not to disconnect the poly fuse F 1 of the memory circuit 30i as described above, all the output signals Ci when the address data input ai is a defective address. Becomes "0", and at other than the defective address, at least one of the memory circuits 30i becomes Ci = "1".

【0020】一方、予備デコーダ制御回路32は、それ
ぞれNチャンネルのE型のMOS FETE11〜E13およびD
型のMOS FET D5 ,D6 およびポリヒューズF2 からな
り、正規のメモリセル内に不良セルがなくて予備のメモ
リセルを使用しない場合にはポリヒューズF2 を切断せ
ず、不良セルがあって予備のメモリセルを使用する場合
には予めポリヒューズF2 を切断しておくものである。
On the other hand, the preliminary decoder control circuit 32 includes N-channel E-type MOS FETs E 11 to E 13 and D, respectively.
Type MOS FETs D 5 and D 6 and a poly fuse F 2. When there is no defective cell in the regular memory cell and the spare memory cell is not used, the poly fuse F 2 is not cut and the defective cell is Therefore, when the spare memory cell is used, the poly fuse F 2 is cut beforehand.

【0021】したがって、ポリヒューズF2 を切断して
おけば、使用時に電源Vc が投入されると、MOS FET E
12はオフ、MOS FET E13およびE11はオンになって制御
信号Pとして“0”が出力する。
Therefore, if the poly fuse F 2 is cut off, when the power supply Vc is turned on during use, the MOS FET E
12 is turned off, and the MOS FETs E 13 and E 11 are turned on and "0" is output as the control signal P.

【0022】これに対して、ポリヒューズF2 を切断し
ないでおけば、使用時に電源Vc が投入されると、MOS
FET E12はオン、MOS FET E13およびE11はオフになっ
て制御信号Pは“1”になる。
On the other hand, if the polyfuse F 2 is not cut off, when the power source Vc is turned on during use, the MOS is turned on.
The FET E 12 is turned on, the MOS FETs E 13 and E 11 are turned off, and the control signal P becomes "1".

【0023】一方、予備デコーダ回路31は、それぞれ
NチャンネルのE型MOS FET E14〜E17,Eiと、D型
のMOS FET D7 ,D8 と、しきい値電圧0v付近のMOS
FETM6 ,M7 とからなり、上記MOS FET Eiの各ゲー
トに前記記憶回路30iから入力する信号Ciをデコー
ドするようになっている。この場合、デコード動作を制
御するために前記制御信号Pが入力し、また前記チップ
選択信号CE,CE-が入力しており、前記Ciが全て
“0”,P=“0”,CE=“1”,CE- =“0”の
ときにデコードされ、最終出力段のMOS FET M7 ,E17
よりなる駆動回路33の出力信号Rが“1”となり、上
記以外の入力時には上記出力信号Rは“0”となる。
On the other hand, the spare decoder circuit 31 includes N-channel E-type MOS FETs E 14 to E 17 , Ei, D-type MOS FETs D 7 and D 8, and a MOS near the threshold voltage 0v.
Consists FET M 6, M 7 Prefecture, adapted to decode the signals Ci input from the memory circuit 30i to the gates of the MOS FET Ei. In this case, the control signal P is input to control the decoding operation, and the chip selection signals CE and CE- are input, and the Cis are all "0", P = "0", CE = "". 1 ", CE- =" 0 "is decoded at the time of, MOS FET M 7 of the final output stage, E 17
The output signal R of the driving circuit 33 is "1", and the output signal R is "0" at the time of input other than the above.

【0024】即ち、メモリチップの選択状態(CE=
“1”,CE- =“0”)において、制御信号Pが
“1”のときにはCi入力に関係なく出力信号Rは
“0”になり、このとき予備のメモリセルが選択される
ことはなく、後述するように正規のデコーダにより正規
のメモリセルが選択される。
That is, the selected state of the memory chip (CE =
In "1", CE- = "0"), when the control signal P is "1", the output signal R becomes "0" regardless of the Ci input, and at this time, the spare memory cell is not selected. As will be described later, a regular decoder selects a regular memory cell.

【0025】これに対して、上記チップの選択状態にお
いて制御信号Pが“0”のときには、Ciの各信号レベ
ルの組合せによって出力信号Rが定まるものであり、C
iの全てが“0”のとき(アドレスデータ入力ai が不
良アドレスのとき)のみ出力信号Rが“1”になり、こ
のとき予備のメモリセルが選択されると共に、上記信号
R=“1”によって後述するように正規のデコーダのデ
コード動作が禁止制御されて、そのデコード出力が
“0”になるので正規のメモリセルは選択されなくな
る。
On the other hand, when the control signal P is "0" in the selected state of the chip, the output signal R is determined by the combination of the signal levels of Ci, and C
The output signal R becomes "1" only when all of i are "0" (when the address data input ai is a defective address), and at this time, a spare memory cell is selected and the signal R = "1". As described later, the decoding operation of the regular decoder is prohibited and the decoded output becomes "0", so that the regular memory cell is not selected.

【0026】図8は図5の正規のデコーダ4の一例につ
いてその一部を示すもので、E18〜E21,EAiはE
型、D9 ,D10はD型、M8 ,M9 はしきい値電圧が0
v付近のNチャンネルMOS FET である。上記MOS FET E
Aiの各ゲートには、アドレスデータAi,Ai- 入力
の全ての組合せがデコード入力として与えられ、図8の
正規のデコーダ4はこの組み合わせの数だけ存在する。
デコード入力に対するデコード動作を禁止制御するため
のMOS FET E18のゲートに前記予備のデコーダからの制
御信号Rが入力している。なお、最終出力段のMOS FET
9 ,E21は正規のメモリセルを選択駆動する回路41
を形成している。
FIG. 8 shows a part of an example of the regular decoder 4 of FIG. 5, where E 18 to E 21 and EAi are E.
Type, D 9 and D 10 are D type, and M 8 and M 9 have a threshold voltage of 0.
It is an N channel MOS FET near v. MOS FET E above
To each gate of Ai, all combinations of address data Ai and Ai-inputs are given as decode inputs, and there are as many regular decoders 4 of FIG. 8 as this combination.
The control signal R from the spare decoder is input to the gate of the MOS FET E 18 for inhibiting the decoding operation for the decoding input. In addition, the final output stage MOS FET
M 9 and E 21 are circuits 41 for selectively driving regular memory cells
Is formed.

【0027】したがって、チップの選択状態(CE=
“1”,CE- =“0”)であって上記デコード入力の
全てが“0”になるとき、制御信号Rが“0”であれば
デコード動作が通常通り行なわれ、駆動回路41の出力
が“1”となって正規のメモリセルを選択するようにな
る。
Therefore, the selected state of the chip (CE =
When "1", CE- = "0") and all of the decode inputs are "0", if the control signal R is "0", the decode operation is performed normally, and the output of the drive circuit 41 is output. Becomes "1" and a regular memory cell is selected.

【0028】これに対して、上記場合にアドレスデータ
入力ai が不良アドレスであって、前述したように制御
信号Rが“1”になると、前記デコード動作禁止制御用
MOSFET E18がオンになってデコード動作が停止され、
駆動回路41の出力は“0”になるので正規のメモリセ
ルは選択されなくなる。
On the other hand, in the above case, when the address data input ai is a defective address and the control signal R becomes "1" as described above, the decoding operation inhibition control is performed.
The MOSFET E 18 is turned on and the decoding operation is stopped,
Since the output of the drive circuit 41 becomes "0", a regular memory cell cannot be selected.

【0029】ところで、上述したような従来の正規のデ
コーダにあっては、予備のデコーダからの制御信号Rに
よってデコード動作の禁止制御を行なうためのMOS FET
(図8のE18)が必要である。この正規のデコーダは正
規のメモリセルの各行あるいは各列に対応して必要であ
るため、上記MOS FET E18の数も正規のメモリセルが配
列されている行の数あるいは列の数だけ必要となる。
By the way, in the conventional regular decoder as described above, the MOS FET for controlling the inhibition of the decoding operation by the control signal R from the spare decoder is used.
(E 18 in FIG. 8) is required. Since this regular decoder is required for each row or each column of regular memory cells, the number of MOS FETs E 18 is as many as the number of rows or columns in which regular memory cells are arranged. Become.

【0030】また、前記制御信号Rを正規のデコーダ上
に通すための配線も必要となってくる。このため、正規
のデコーダを形成するために必要なチップ上の面積も余
分に必要となる。
Further, wiring for passing the control signal R on the regular decoder is also required. Therefore, an extra area on the chip necessary to form a regular decoder is required.

【0031】しかも、予備のデコーダの最終出力段MOS
FET (図7のM7 ,E17)の負荷として、予備のメモリ
セルの負荷容量の上にさらに前述したように正規のメモ
リセルの行あるいは列の数だけ設けられた前記MOS FET
18の負荷容量も追加される。このため、予備のデコー
ダの最終出力段MOS FET の駆動能力を正規のデコーダの
最終出力段MOS FET に比べて大きなものにしなければな
らず、それに伴なってチップ上の占有面積が大きくな
る。
Moreover, the final output stage MOS of the spare decoder is
As the load of the FETs (M 7 and E 17 in FIG. 7), the MOS FETs provided in the number of rows or columns of regular memory cells are further provided on the load capacity of the spare memory cells as described above.
Load capacity of the E 18 is also added. Therefore, the drive capability of the final output stage MOS FET of the spare decoder must be made larger than that of the normal decoder final output stage MOS FET, and the occupied area on the chip increases accordingly.

【0032】[0032]

【発明が解決しようとする課題】このように、従来では
デコード動作の禁止制御を行なうための回路に関わる占
有面積が大きいという欠点がある。
As described above, the conventional technique has a drawback that the occupied area of the circuit for inhibiting the decoding operation is large.

【0033】この発明は上記のような事情を考慮してな
されたものであり、その目的は、正規のデコーダのデコ
ード動作禁止制御入力用素子およびその入力配線が不要
となって正規のデコーダの占有面積を小さくでき、また
予備のデコーダの最終出力段素子の駆動能力を正規のデ
コーダのそれと同等に形成できて予備のデコーダの占有
面積も小さくし得る半導体メモリ装置を提供することに
ある。
The present invention has been made in consideration of the above circumstances, and an object thereof is to occupy a regular decoder because a decoding operation prohibition control input element of the regular decoder and its input wiring are unnecessary. It is an object of the present invention to provide a semiconductor memory device which can reduce the area, can form the drive capability of the final output stage element of the spare decoder to be equal to that of the normal decoder, and can reduce the occupied area of the spare decoder.

【0034】[0034]

【課題を解決するための手段】この発明の半導体メモリ
装置は、正規のメモリセルと、この正規のメモリセル内
に不良のメモリセルがある場合に救済するための予備の
メモリセルと、前記正規のメモリセルに接続されアドレ
ス入力に対応した前記メモリセルを選択するための正規
のデコーダと、前記予備のメモリセルの使用時に前記ア
ドレス入力に対応した前記予備のメモリセルを選択する
ための予備のデコーダと、前記正規のデコーダへの入力
信号を供給する第1の信号伝達経路と、この第1の信号
経路上の前記正規のデコーダへの入力信号と電気的に等
価であり前記予備のデコーダの入力信号として供給する
第2の信号伝達経路と、前記予備のメモリセルが選択さ
れるアドレスが入力された時、前記第1の信号伝達経路
中の前記正規のデコーダへ供給される前記入力信号の少
なくとも1つを前記正規のデコーダにより前記正規のメ
モリセルが選択されない論理レベルに設定するための制
御信号を前記予備のデコーダから出力することにより、
前記予備のメモリセルが選択され、前記正規のメモリセ
ルが選択されないようする制御手段とを具備することを
特徴とする。
A semiconductor memory device of the present invention includes a normal memory cell, a spare memory cell for relieving a defective memory cell in the normal memory cell, and the normal memory cell. A regular decoder connected to the memory cell for selecting the memory cell corresponding to the address input, and a spare decoder for selecting the spare memory cell corresponding to the address input when the spare memory cell is used. A decoder, a first signal transmission path for supplying an input signal to the regular decoder, and an input signal to the regular decoder on the first signal path, which is electrically equivalent to When a second signal transmission path supplied as an input signal and an address for selecting the spare memory cell are input, the normal data transmission path in the first signal transmission path is input. By outputting a control signal for setting at least one of the input signals supplied to the over da to a logic level which the memory cells of the normal is not selected by the regular decoder from said spare decoder,
And a control unit for preventing the normal memory cell from being selected while the spare memory cell is selected.

【0035】[0035]

【作用】この発明では、予備のメモリセルの非選択時に
は正規のデコーダが通常通り正規のメモリセルを選択す
るが、予備のメモリセルの非選択時には正規のデコーダ
へ供給する信号が正規のメモリセル選択不可能な論理レ
ベルに設定される制御手段を設けたことにより、正規の
デコーダのデコード動作禁止制御入力用の素子及びこれ
への配線が不要になるので正規のデコーダの占有面積が
小さくて済む。
According to the present invention, when the spare memory cell is not selected, the normal decoder normally selects the normal memory cell, but when the spare memory cell is not selected, the signal supplied to the normal decoder is the normal memory cell. By providing the control means for setting the logic level which cannot be selected, the element for the decoding operation prohibition control input of the regular decoder and the wiring to the element are not required, so that the occupied area of the regular decoder can be small. ..

【0036】また、上記デコード動作禁止制御入力用MO
S FET の数は、正規のデコーダの数、つまりメモリセル
の行あるいは列の数だけ存在するため、その負荷容量は
非常に大きく、予備のデコーダが上記デコード動作禁止
制御入力用MOS FET を駆動しなくてもよくなるため、そ
の駆動能力は正規のデコーダのそれと同等でよく、その
占有面積は小さくて済む。
The decoding operation prohibition control input MO is also provided.
Since the number of S FETs is the same as the number of regular decoders, that is, the number of rows or columns of memory cells, the load capacitance is very large, and a spare decoder drives the above-mentioned decoding operation inhibition control input MOS FETs. Since it does not need to be provided, its driving capability may be equivalent to that of a regular decoder, and its occupied area may be small.

【0037】[0037]

【実施例】以下、図面を参照してこの発明を実施例によ
り説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.

【0038】図1乃至図4は本発明の半導体メモリ装置
の一実施例において形成されているアドレスバッファ、
予備のデコーダおよび正規のデコーダの一部を示してい
る。図1のアドレスバッファは、図6を参照して前述し
たアドレスバッファに対して、NチャンネルのE型のMO
S FET E51及びしきい値電圧が0v付近のMOS FET M51
よりなるバッファ段51と、E型MOS FET E52及びしき
い値電圧が0v付近であるMOS FET M52よりなるバッフ
ァ段52とを付加し、これを従来と同様の2個のバッフ
ァ段21,22と共通に駆動し、1組のバッファ段5
1,52のアドレスデータAi′,Ai′- (図では真
上にバーがある)出力を予備のメモリセル(図5の2)
に入力させ、残りの1組のバッファ段21,22のアド
レスデータAi,Ai- (図では真上にバーがある)出
力を正規のメモリセル(図5の1)に入力させ、さらに
上記正規のメモリセル用のバッファ段21,22の各出
力端と電源Vc との間にNチャンネルで、しきい値電圧
が0v付近の制御用MOS FETM53,M54を各対応して設
け、このMOS FET M53,M54の各ゲートに制御信号Eを
与え、さらに上記バッファ段21,22の電流吸い込み
側MOS FET E4 ,E5とVs 電源との間に、Nチャンネ
ルエンハンスメント型の制御用MOS FET E53,E54を各
対応して設け、このMOS FET E53,E54の各ゲートに前
記制御信号Eの反転信号である制御信号E- (図では真
上にバーがある)を与えたものである。その他の図1
中、図6と同一部分には同一符号を付してその説明を省
略する。
1 to 4 are address buffers formed in one embodiment of the semiconductor memory device of the present invention.
A portion of the spare and regular decoders are shown. The address buffer of FIG. 1 is different from the address buffer described above with reference to FIG. 6 in N channel E-type MO.
S FET E 51 and MOS FET M 51 whose threshold voltage is near 0v
And a buffer stage 52 composed of an E-type MOS FET E 52 and a MOS FET M 52 having a threshold voltage near 0 v are added to the buffer stage 51. 22 and one set of buffer stages 5
The output of the address data Ai ', Ai'- of 1,52 (the bar right above in the figure) is a spare memory cell (2 in FIG. 5).
To the normal memory cell (1 in FIG. 5), and the address data Ai, Ai- (the bar right above in the figure) of the remaining one set of buffer stages 21 and 22 is input to the normal memory cell. The control MOS FETs M 53 and M 54 having an N channel and a threshold voltage near 0 V are provided between the output terminals of the memory cell buffer stages 21 and 22 and the power supply Vc, respectively. A control signal E is applied to the gates of the FETs M 53 and M 54 , and an N-channel enhancement type control MOS is provided between the current-sink-side MOS FETs E 4 and E 5 of the buffer stages 21 and 22 and the Vs power supply. FETs E 53 and E 54 are provided correspondingly, and a control signal E- (a bar right above in the figure) which is an inverted signal of the control signal E is given to each gate of the MOS FETs E 53 and E 54 . It is a thing. Other Figure 1
In FIG. 6, those parts which are the same as those corresponding parts in FIG. 6 are designated by the same reference numerals, and a description thereof will be omitted.

【0039】図2の予備のデコーダは、図7を参照して
前述した予備のデコーダに比べて、NチャンネルのE型
のMOS FET E61及びしきい値電圧が0v付近のMOS FET
61よりなるバッファ段61と、E型のMOS FET E62
びしきい値電圧が0v付近のMOS FET M62よりなるバッ
ファ段62とを付加し、これらバッファ段61,62を
MOS FET E16の入力信号及び出力信号により互いに逆相
で駆動して前記制御信号E,E- 出力を得るようにし、
最終出力段(バッファ)のMOS FET M9 ,E21の駆動能
力を正規のデコーダのそれと同等にした点が異なり、そ
の他の図2中、図7と同一部分には同一符号を付してそ
の説明を省略する。
The spare decoder of FIG. 2 is different from the spare decoder described with reference to FIG. 7 in that the N-channel E-type MOS FET E 61 and the MOS FET having a threshold voltage near 0 v are provided.
A buffer stage 61 made up of M 61 and a buffer stage 62 made up of an E-type MOS FET E 62 and a MOS FET M 62 whose threshold voltage is near 0 v are added, and these buffer stages 61, 62 are connected.
The input signals and the output signal of the MOS FET E 16 are driven in opposite phases to obtain the control signals E and E-output,
The difference is that the driving capability of the final output stage (buffer) of the MOS FETs M 9 and E 21 is made equal to that of a regular decoder, and other parts in FIG. The description is omitted.

【0040】図3にその一部を示す正規のデコーダは、
図8を参照して前述した正規のデコーダに比べて、デコ
ード動作禁止制御用MOS FET E18が省略され、これに伴
ってその入力配線が省略された点が異なり、その他の図
3中、図8と同一部分には同一符号を付してその説明を
省略する。
The regular decoder, a portion of which is shown in FIG.
Compared with the regular decoder described above with reference to FIG. 8, the decoding operation inhibition control MOS FET E 18 is omitted, and accordingly, its input wiring is omitted. The same parts as 8 are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.

【0041】次に、上記構成の相異に基づく本発明メモ
リの動作の特徴部分について説明する。通常、予備のデ
コーダの制御信号E,E- 出力は“0”,“1”になっ
ており、アドレスバッファのバッファ段21,22は、
MOS FET E53,E54がオンになっているため通常通りア
ドレスデータAi,Ai- を出力し、正規のデコーダに
より正規のメモリセルが選択されている。
Next, the characteristic part of the operation of the memory of the present invention based on the difference in the above configuration will be described. Normally, the control signals E and E- outputs of the spare decoder are "0" and "1", and the buffer stages 21 and 22 of the address buffer are
Since the MOS FETs E 53 and E 54 are turned on, the address data Ai and Ai- are output as usual, and the normal memory cell is selected by the normal decoder.

【0042】これに対して、アドレスデータ入力ai が
不良アドレスになると、予備のデコーダでデコードが行
なわれ、そのバッファ段61,62の制御信号E,E-
出力は“1”,“0”になり、これによって、アドレス
バッファのバッファ段21,22はMOS FET E53,E54
がオフになり、MOS FET M53,M54は完全にオンになる
からAi,Ai- は共に“1”で同相になる。このた
め、正規のデコーダのデコード入力が全て“0”のデコ
ード成立条件を満足しなくなり、正規のメモリセルが選
択されなくなる。
On the other hand, when the address data input ai becomes a defective address, it is decoded by the spare decoder and the control signals E, E- of its buffer stages 61, 62 are inputted.
The outputs are "1" and "0", which causes the buffer stages 21 and 22 of the address buffer to have MOS FETs E 53 and E 54.
Is turned off and the MOS FETs M 53 and M 54 are completely turned on, so that both Ai and Ai- are in phase with "1". Therefore, the decode inputs of the regular decoders do not all satisfy the decoding satisfaction condition of "0", and the regular memory cells are not selected.

【0043】なお、図4は図1のアドレスバッファの変
形例を示しており、図6と同様のバッファ段21の出力
端と電源Vc との間にNチャンネルでしきい値電圧が0
v付近の制御用MOS FET M81,M82を直列に設け、同様
にバッファ段22の出力端と電源Vc との間にMOS FET
83,M84を直列に設け、一方のMOS FET M81,M83
ゲートに制御信号E- を、他方のMOS FET M82,M84
ゲートに制御信号Eを与え、これらのMOS FET M81,M
82の接続点およびM83,M84の接続点からアドレスデー
タAi,Ai- を取り出すようにしたものであり、その
他の図4中、図1と同一部分には同一符号を付してその
説明を省略する。上記図4のアドレスバッファにおいて
も、前述したアドレスバッファの構成と同様に制御信号
E,E-入力が“0”,“1”のときは通常通りの動作
を行ない、制御信号E,E-入力が“1”,“0”のと
きはAi,Ai- 出力が共に“1”で同相になる。
FIG. 4 shows a modification of the address buffer of FIG. 1, in which the threshold voltage is 0 in the N channel between the output terminal of the buffer stage 21 and the power supply Vc, which is similar to that of FIG.
Control MOS FETs M 81 and M 82 near v are provided in series, and a MOS FET is similarly provided between the output end of the buffer stage 22 and the power supply Vc.
M 83 and M 84 are provided in series, and the control signal E- is given to the gates of one of the MOS FETs M 81 and M 83 , and the control signal E is given to the gates of the other MOS FETs M 82 and M 84. M 81 , M
The address data Ai and Ai- are taken out from the connection point 82 and the connection points M 83 and M 84. In FIG. 4, the same parts as in FIG. Is omitted. In the address buffer of FIG. 4 as well, similar to the configuration of the address buffer described above, when the control signals E and E-inputs are "0" and "1", the normal operation is performed and the control signal E and E-inputs are input. When is "1" or "0", both Ai and Ai- outputs are in phase with "1".

【0044】すなわち、上述した半導体メモリ装置は、
アドレスバッファ回路から正規のデコーダ用のアドレス
データAi,Ai- および予備のデコーダ用のアドレス
データAi′,Ai- ′を別々に出力させ、予備メモリ
セル選択状態で予備のデコーダに不良アドレスが入力す
ると、予備のデコーダから予備メモリセル駆動信号とは
別にアドレスバッファ制御信号E,E- を出力させ、前
記アドレスバッファ回路から出力する正規のデコーダ用
のアドレスデータAi,Ai- を互いに同相とするよう
に前記アドレスバッファ制御信号E,E- により制御し
ている。
That is, the semiconductor memory device described above is
When the address buffer circuit outputs the normal decoder address data Ai, Ai- and the spare decoder address data Ai ', Ai-' separately, and the defective address is input to the spare decoder in the spare memory cell selected state. , The spare decoder outputs the address buffer control signals E and E- separately from the spare memory cell drive signal so that the normal decoder address data Ai and Ai- output from the address buffer circuit are in phase with each other. It is controlled by the address buffer control signals E and E-.

【0045】したがって、予備のメモリセルの非選択時
には正規のデコーダが通常通り正規のメモリセルを選択
するが、予備のメモリセルの選択時には正規のデコーダ
に同相のアドレスデータAi,Ai- の組合せが入力す
るのでデコードが行なわれなくなり、正規のメモリセル
が選択されなくなる。
Therefore, when the spare memory cell is not selected, the normal decoder normally selects the normal memory cell. However, when the spare memory cell is selected, the combination of the in-phase address data Ai and Ai- is supplied to the normal decoder. Since it is input, decoding is not performed and a regular memory cell is not selected.

【0046】これによって、正規のデコーダのデコード
動作禁止制御入力用MOS FET およびこれへの配線が不要
になるので正規のデコーダの占有面積が小さくて済む。
また、予備のデコーダの最終出力段MOS FET は、上記デ
コード動作禁止制御入力用MOS FET を駆動しなくて済
み、その駆動能力は正規のデコーダの最終出力段MOS FE
T のそれと同等でよく、その占有面積は小さくて済む。
As a result, the decode operation prohibition control input MOS FET of the regular decoder and the wiring to it are not required, so that the area occupied by the regular decoder can be reduced.
Moreover, the final output stage MOS FET of the spare decoder does not have to drive the above-mentioned decoding operation prohibition control input MOS FET, and its drive capability is the final output stage MOS FET of the regular decoder.
It can be similar to that of T, and it occupies a small area.

【0047】[0047]

【発明の効果】以上説明したようにこの発明によれば、
正規のデコーダのデコード動作禁止制御入力用素子およ
びその入力配線が不要となって正規のデコーダの占有面
積を小さくでき、また予備のデコーダの最終出力素子の
駆動能力を正規のデコーダのそれと同等に形成できて予
備のデコーダの占有面積も小さくすることができる半導
体メモリ装置が提供できる。
As described above, according to the present invention,
The decoding operation prohibition control input element of the regular decoder and its input wiring are not required, and the occupied area of the regular decoder can be reduced, and the drive capacity of the final output element of the spare decoder is made equal to that of the regular decoder. It is possible to provide a semiconductor memory device in which the area occupied by the spare decoder can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の要部のアドレスバッファの構成を示
す回路図。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of an address buffer which is a main part of the present invention.

【図2】この発明の要部の予備のデコーダの構成を示す
回路図。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration of a spare decoder which is a main part of the present invention.

【図3】この発明の要部の正規のデコーダの一部の構成
を示す回路図。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a partial configuration of a regular decoder which is a main part of the present invention.

【図4】図1の変形例の構成を示す回路図。FIG. 4 is a circuit diagram showing a configuration of a modified example of FIG.

【図5】従来の冗長性機能を持つ半導体メモリ装置の主
要部を示すブロック図。
FIG. 5 is a block diagram showing a main part of a conventional semiconductor memory device having a redundancy function.

【図6】図5のアドレスバッファを取り出してその一例
を示す回路図。
FIG. 6 is a circuit diagram showing an example of the address buffer of FIG. 5 taken out.

【図7】図5の予備のデコーダを取り出してその一例を
示す回路図。
FIG. 7 is a circuit diagram showing an example of the spare decoder of FIG. 5 taken out.

【図8】図5の正規のデコーダを取り出してその一例を
示す回路図。
FIG. 8 is a circuit diagram showing an example of the regular decoder of FIG. 5 taken out.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…正規のメモリセル、2…予備のメモリセル、3…ア
ドレスバッファ、4…正規のデコーダ、5…予備のデコ
ーダ、51,52.61,62,…バッファ段、M53
54,E53,E54,M81〜M84…制御用MOS FET 。
1 ... Regular memory cell, 2 ... Spare memory cell, 3 ... Address buffer, 4 ... Regular decoder, 5 ... Spare decoder, 51, 52.61, 62, ... Buffer stage, M 53 ,
M 54 , E 53 , E 54 , M 81 to M 84 ... Control MOS FET.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 正規のメモリセルと、この正規のメモリ
セル内に不良のメモリセルがある場合に救済するための
予備のメモリセルと、前記正規のメモリセルに接続され
アドレス入力に対応した前記メモリセルを選択するため
の正規のデコーダと、前記予備のメモリセルの使用時に
前記アドレス入力に対応した前記予備のメモリセルを選
択するための予備のデコーダと、前記正規のデコーダへ
の入力信号を供給する第1の信号伝達経路と、この第1
の信号経路上の前記正規のデコーダへの入力信号と電気
的に等価であり前記予備のデコーダの入力信号として供
給する第2の信号伝達経路と、前記予備のメモリセルが
選択されるアドレスが入力された時、前記第1の信号伝
達経路中の前記正規のデコーダへ供給される前記入力信
号の少なくとも1つを前記正規のデコーダにより前記正
規のメモリセルが選択されない論理レベルに設定するた
めの制御信号を前記予備のデコーダから出力することに
より、前記予備のメモリセルが選択され、前記正規のメ
モリセルが選択されないようする制御手段とを具備する
ことを特徴とする半導体メモリ装置。
1. A normal memory cell, a spare memory cell for relieving a defective memory cell in the normal memory cell, and the memory cell connected to the normal memory cell and corresponding to an address input. A normal decoder for selecting a memory cell, a spare decoder for selecting the spare memory cell corresponding to the address input when the spare memory cell is used, and an input signal to the normal decoder are provided. A first signal transmission path for supplying the first signal transmission path;
The second signal transmission path electrically equivalent to the input signal to the regular decoder on the signal path and supplied as the input signal of the spare decoder, and the address to which the spare memory cell is selected are input. A control for setting at least one of the input signals supplied to the regular decoder in the first signal transmission path to a logic level at which the regular memory cell is not selected by the regular decoder. A semiconductor memory device comprising: a control unit configured to select the spare memory cell and prevent the normal memory cell from being selected by outputting a signal from the spare decoder.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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