JPH05118994A - 繰返しパターンをもつ表面の欠陥検査方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 繰返しパターンをもつ表面の欠陥を精度良く
検査することを可能にする。 【構成】 パターンに刻まれた半導体ウェーハの光学検
査システムは、８度と撮像システムの開口数により定義
された最大角度との間のウェーハの表面に関する入射角
で平行モノクローム光線を適用し、ウェーハの表面にほ
ぼ垂直かつ撮像システムの開口数内で分散される光を平
行にすることにより、ウェーハの暗視野映像を生成す
る。さらに、入射光は、パターンで優勢である矩形ライ
ンに関してウェーハの表面で４５度の角度で入る。暗視
野映像を形成する前に、平行光線がフーリエ変換フィル
タを通過する。このフィルタは、パターンに対応する空
間周波数成分をほぼ減衰するものである。その結果作成
された暗視野映像では、パターン中の欠陥や粒子がパタ
ーンの特徴に比べて強調されることになる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は規則的なパターンをもつ
製品の欠陥を検査する装置と方法に関し、詳細には細か
な繰返しパターンをもつ半導体ウェーハを検査するのに
使用される暗視野撮像技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】パターンが刻まれたウェーハ上の微粒子
や欠陥の検出は半導体産業には重要な問題である。半導
体ウェーハの表面上の汚染粒子はウェーハ上に形成され
た集積回路に望ましくない導通経路を産みだしてしま
う。複数の集積回路を作成するのに使用される写真製版
パターンの欠陥は不良デバイスや基準に達しないデバイ
スを産みだす。欠陥が歩留まりに悪影響を及ぼさないよ
うに様々な処理段階で集積回路の任意の欠陥の形式や特
徴も識別するのが重要である。従来技術では、半導体ウ
ェーハの表面上の欠陥や汚染粒子を発見する方法はたく
さんある。一般には、これらの方法は３つに分類でき
る。空間的に濾過された明視野撮像技術、明視野映像の
分析および低角度暗視野撮像技術である。

【０００３】こうした従来技術は、たとえば、米国特許
第４７７１４６８号に開示されている。この技術の特徴
は、暗視野映像（空間濾過方法なしで）の映像処理を介
して汚染粒子やパターンの欠陥を認識する明視野検査技
術である。そのアルゴリズムの基礎は、回路上のアレイ
要素と対応する画素を比較することである。中心画素が
対応する左右の画素に一致している場合、欠陥はない。
追加処理は、画素がラインのとなりまたは荒い表面上に
あるとき、カメラからの干渉ノイズがあるとき、または
検査中の部品の光学特性のシステム上の変更があるとき
に発生する不安定性を検査するのに使用される。こうし
たシステムにより作成された情報が、本発明の本実施例
により作成された情報とほぼ同じであるときには、参照
特許に記載されたシステムとの重要な相異点は比較的高
額であり（電子映像分析装置のため）速度が遅くなる
（映像分析装置の複雑になるに応じて）ことである。

【０００４】他の従来技術のシステムは、米国特許第４
８０６７７４号に記載されている。この技術は、光学に
関する教旨と半導体ウェーハの検査のために参考のため
に本明細書に統合される。このシステムは、光学軸上に
あるフーリエ変換レンズと逆フーリエ変換レンズを使用
する。このシステムは、離れた映像面に、ウェーハ上の
ある領域の暗視野映像を形成する。このシステムでは、
繰返しパターンに対応する空間周波数が、上記のレンズ
の間にフーリエ変換面の空間フィルタを挿入することで
暗視野映像の中で選択的に減衰される。その結果作成さ
れた映像には、パターンの汚染粒子または欠陥から発生
するような、集積回路の表面上の非規則性が強調されて
いる。

【０００５】しかし、このシステムでは、ウェーハはフ
ーリエ変換レンズを介して照らされる。すなわち、その
レンズにより分散され反射された光が映像に加えられ
て、背景の照明レベルが増大する。さらに、ウェーハか
らの比較的強力な０次の反射光も、追加背景照明をうみ
だすフーリエ変換レンズを通過する。照明されたパター
ンを効果的に妨害するために、このシステムで使用され
たフーリエ空間フィルタは光学的に密である。このた
め、フィルタを通過する光の量が減少する。これらの効
果のすべての組合せにより、欠陥検査システムの感度が
低下する。

【０００６】欠陥検出システムの他の型の例は、米国特
許番号第４７７２１２６号に示してある。これは、光学
機構と半導体ウェーハの検査に関する教旨のために参考
のために本明細書に統合されている。この特許に記載さ
れたシステムでは、半導体ウェーハは、ウェーハ表面の
０度から５度の間の限界見通し角度で照らされる。照射
光は、矩形パターンのラインに関して約４５度の角度で
ウェーハに当たるように向けられる。さらに、その光線
は、走査検流器によりウェーハの表面上で走査される。
ウェーハ表面にほぼ垂直の角度で反射された光は、ウェ
ーハ上のビデオカメラにより集められる。これは従来の
限界見通し角度構成であり、光線はウェーハの表面上に
広がる微粒子を優先的に照らす。これらの微粒子により
反射された光はカメラにより集められる。ウェーハの表
面は、この低角度入射光用のミラーとして動作するので
表面からかなり離れて延在する微粒子にはより高いレベ
ルの照明を受け取る。さらに、この特許は、ビデオカメ
ラにより集められたイメージからの繰返しパターンに対
応する空間周波数を減衰させるフーリエ空間フィルタの
使用を示唆している。

【０００７】このシステムは、ウェーハの表面上の微粒
子を検査するには十分であるが、ウェーハの表面機構に
埋めこまれたり、繰返しパターンのエラーとなるもっと
小さい微粒子の検出には効率的ではない。これらの機構
は、ウェーハの表面またはややそれより低い位置にある
ので、それらは低角度光線により照らされることはない
ので、暗視野映像には現われない。さらに、照明光線が
ウェーハの表面上で走査されるので、空間周波数成分は
フーリエ平面の走査周波数の位置で振動する。その結
果、これらの空間周波数を除去するフーリエフィルタ
は、光線が走査されない場合よりも広い領域で不透明で
なければならない。この種のフィルタは、一方で小さい
粒子や欠陥の間の照明の差を減少させ、他方で背景照明
レベルを減少させる必要がある。この結果、フーリエ空
間フィルタが使用されるときにこの種の欠陥の本装置の
感度が低下する。

【０００８】

【発明の概要】本発明は、繰返しパターンをもつ製品
が、８度と撮像レンズシステムにより決定される最大角
度との間のウェーハ表面に関する侵入角度でモノクロー
ム光線により照らされている暗視野検査システムで具体
化されている。この角度は検査システムが暗視野映像を
生成する制約により制限される。その表面にほぼ垂直の
角度で散乱された光が、レンズシステムにより集められ
る。このレンズシステムは、集められた光を空間的に濾
過して、繰返しパターンに対応する空間周波数構成要素
をほぼ減衰させる。残りの光は、レンズシステムにより
集められて、繰返しパターン内の微粒子や欠陥が強調さ
れる映像を形成する。

【０００９】本発明による検査システムは、暗視野撮像
とフーリエ空間濾過の組合せを利用して、精巧に特徴付
けられた繰返しパターンを示す半導体ウェーハなどの製
品の大小の粒子やパターン欠陥を検出する。フーリエ空
間濾過の原理は、L.S.Watkins の論文「Inspection of
Integrated Circuit Photomasks with Intensity Spati
al Filters」IEEE会報、vol 57, No.9, 9/69に記載され
ている。この論文は参考のため本明細書に組み込まれて
いる。このシステムは半導体ウェーハ検査システムの状
況で記載されるが、半導体デバイスを製造するのに使用
される写真製版マスクなど繰返しパターンをもつ他の製
品を検査するのにも使用できるよう考慮されている。こ
のシステムはさらに、液晶デバイスやカラー陰極線管の
シャドーマスクを検査するのにも使用される。

【００１０】本発明の実施例では、パターンが食刻され
た半導体ウェーハは、レーザ１１などのモノクローム光
源によりウェーハ表面に関して侵入角度θで照らされ
る。この角度は、パターンが検査されるようウェーハを
十分に照らすが、撮像システムからパターンの低空間周
波数成分（すなわち、鏡のように反射された光線に最も
近いもの）を妨げるように選択される。さらに、パター
ン平面の角度φが、パターン特徴（機構）から散乱され
た光の強度をさらに減少させるよう選択される。この角
度φは入射光が、パターンの矩形特徴に関して形成する
角度である。ほぼ矩形の特徴をもつパターンでは、角度
φが４５度のときに、パターン特徴から散乱された光の
強度を最小にすることがわかっている。

【００１１】この垂直散乱光は、暗視野映像を作成する
空間フィルタ１２０を含む光学システムにより集められ
る。すなわち、背景が暗く現われる映像と関連する表面
の特徴が照らされる。空間フィルタは、光学撮像システ
ムに入るパターンから引き起こされる空間周波数成分を
強力に減衰させるよう選択される。フィルタがかけられ
た光は、コンピュータ１３０による分析のためにビデオ
カメラ１２８により捕捉される映像に集められる。コン
ピュータは、欠陥を識別し分析するアルゴリズムを実行
し、その欠陥の特徴と大きさを判定する。

【００１２】これらの異なる光学システムは、本発明の
様々な実施例で例示されている。第１のシステムは、フ
ーリエ空間フィルタと共に標準フーリエ変換と逆フーリ
エ変換レンズを使用し、濾過された映像を生成する。第
２の実施例は、対物レンズとして１：１レンズを使用す
る。このレンズは、フーリエ空間フィルタと結合されて
おり、暗視野映像の空間周波数成分も減衰させる。第３
の実施例は、標準無限大修正顕微鏡対物レンズ、非焦点
リレーレンズ、フーリエフィルタに接続されたチューブ
レンズを使用して、ウェーハから集められた暗視野映像
を拡大するとともにイメージを空間的にフィルターをか
けて、そのパターンの欠陥を強調する。

【００１３】

【実施例】本発明の第１の実施例は図１に示してある。
この図と第２図及び第３図では、散乱光の経路は光線の
こん跡により例示される。光のこんせきは点線として示
してある。これらの線は回折平行光線の経路を表す。こ
れらの線は撮像中の物体の点を表すことはない。この表
示は、光の空間濾過をより明確に示すのに使用される。

【００１４】実施例すべてにおいて、従来のヘリウム−
ネオンレーザ１１０がモノクローム光線の平行光線を作
成し、この光線は、検査される半導体ウェーハの表面に
関して４５度の角度θで表面鏡１１２により反射され
る。そのミラー１１２により反射された光線は、従来の
ビーム拡大器１１４によりより広い平行光線に拡大され
る。拡大器１１４により供給された光線は、偏光フィル
タ１１５により偏光される。その代わりに、フィルタ１
１５は、偏光光線を生成するレーザ１１０が選択される
場合に取り除かれる。

【００１５】このシステムにより供給された光線は、ウ
ェーハ１１６の一部を照らす。光線の主要部分は、実線
により示してあるように映像システムの視野から反射さ
れる。しかし、いくつかの光線は、点線により示された
ように散乱される。ウェーハ表面にほぼ垂直の方向に散
乱される光線はフーリエ変換レンズ１１８により集めら
れ、ウェーハ１１６の頂部表面から１焦点長（ｆ）に位
置づけられている。このレンズは、レンズの背後の１焦
点長に配置された面でウェーハ１１６の面から反射され
た平行な光のフーリエ変換を行なう。この平面は、シス
テムのフーリエ変換面と呼ばれる。

【００１６】フーリエ空間フィルタ１２０は、繰返しパ
ターンに対応する散乱光の空間周波数成分を防ぐようフ
ーリエ変換面に配置されている。フィルタ１２０が図５
に示されている。使用されたフィルタは、検査するパタ
ーンの空間周波数成分に依存している。適切な空間フィ
ルタは、フーリエ平面に非露出の写真フィルムを置いて
レーザ１１０によりサンプルウェーハを照らすことによ
り形成される。フーリエ面の映像のネガは、露出フィル
ムを現像して獲得され、サンプルウェーハに対応するウ
ェーハのフーリエフィルタとして使用できる。代わり
に、空間光変調器は空間フィルタ１２０として使用でき
る。

【００１７】フーリエフィルタ１２０により供給された
空間的にフィルターされた光線は、フィルタ１２０の背
後の１焦点長のところに配置された第２レンズ１２２に
より平行光線に戻される。この光線は、映像面１２４で
ウェーハの照らされた部分の暗視野映像を形成する。拡
大光学機構１２６は映像を拡大し、その映像は通常のビ
デオカメラ１２８により電気信号に変換される。カメラ
１２８からの信号は、ディジタルデータに変換され、コ
ンピュータ１３０に供給される。このコンピュータ１３
０は、データを分析し、ウェーハの表面上のパターンの
不規則性を識別し分類する。

【００１８】追加レンズ要素（図示せず）は、ビデオカ
メラにフーリエ変換面を撮像するのに使用できる。この
映像は空間光変調器に転送されて、それを空間フィルタ
１２０として構成する。代わりに、この映像は、写真用
のフーリエフィルタの適切な整合を決定するのに使用で
きる。図２に示してあるように、ウェーハ１１６は、入
射光線が、パターン表面で支配的な垂直線に関して、ウ
ェーハ表面において、４５度の角度で表面に入るよう位
置づけられている。この角度位置は、パターンによりレ
ンズシステムに散乱された光の強度を最小にするよう選
択されたものである。

【００１９】図１のシステムは、複数の方法でそのパタ
ーンに関するそのパターンの欠陥を拡張する。第１に、
照明は暗視野映像を作成するよう選択され、映像は空間
的にフィルターがかけられる。暗視野撮像技術は、背景
に関するウェーハ上の特徴を強調し、空間濾過により、
繰返しパターンに関する空間周波数をもつ映像成分が減
衰される。第２に、ウェーハは、その表面に関して入射
角度θおよびパターン線に関して傾斜角φで照らされ
る。この技術の効果は図６に示してある。この図では、
繰返しパターンのフーリエ変換のグラフは、ウェーハが
その表面に垂直に照らされるときの直視開口数４１０と
照明が角度θとφにより直交線から外されるときの直視
開口数４１２を表す２つの円に重ねられる。開口数は、
最終映像を生成するためにシステムにより集められる光
を含む。

【００２０】図６に示すように、照明が直交線である
と、直視開口の重要な部分は、パターンの０次のフーリ
エ周波数スペクトルと回折光線の最も強烈な部分に対応
する正確に反射された光線により支配される。映像のこ
れらの構成要素は、上記の米国特許第４８０６７７４号
などの明視野撮像装置で使用されたフーリエフィルタ技
術により防がれている。しかし、このフーリエフィルタ
は、直視開口数の光の多くを防ぎ、比較的低いコントラ
ストをもつ映像を作成する必要がある。逆に、照明源
が、本発明における角度θとφだけ分移動されると、直
視開口は空間周波数スペクトルが比較的空の空間に移動
される。この開口を介して獲得された映像は、それほど
フィルタ動作が必要はなく、繰返しパターンに関連した
人工形を取り除く。このため、映像のコントラストが増
加し、ウェーハの欠陥が、空間フィルタ明視野撮像シス
テムによるものよりこのシステムによるもののほうが強
調される。さらに、レンズシステムを通過するパターン
による照明のパワーが減少すると、レンズシステムの各
要素で発生する散乱も減少する。このため、暗視野映像
の背景光線のレベルが減少する。

【００２１】最後に、ウェーハに当てられた照明が偏光
される。表面の特徴の荒さに応じて、ｐ偏光またはｓ偏
光が、暗視野映像のパターン特徴の可視性をさらに削減
するのが望ましい。多くの場合、ｓ偏光が好ましいの
は、ｓ偏光の電磁表面ゼロにより表面のあらさが抑制さ
れるからである。しかし、ウェーハの中には、ｐ偏光を
使用するのが望ましい。この種のウェーハの例は、窒化
けい素の層を食刻して形成された溝の特徴をもつととも
にシリコン基板上で成長したり堆積された約１／４波長
の厚みをもつウェーハである。

【００２２】図１に示すシステムを用いることで、（約
０．３４ミクロンの）パターンの比較的小さい粒子と欠
陥を識別することができる。しかし、そのシステムは、
比較的高価でアラインメントを保持するのは難しい。図
３と４に示すシステムは、それほど高価ではなく、図１
に示すシステムより使いやすい。

【００２３】図３に示すシステムは、２つのレンズ１１
８と１２２が単一の１：１のレンズ２１０と置換された
ことを除けば図１に示すものと同じである。レンズ２１
０は、検査中の領域を拡大する対物レンズおよびフーリ
エ変換レンズとして使用される。ウェーハがレンズ２１
０から２焦点（２ｆ）の位置に置かれると、ウェーハの
映像は、レンズの後ろ２ｆの位置に置かれた映像平面で
形成される。さらに、フーリエ変換平面は、レンズの後
ろ１焦点距離（ｆ）にある。このシステムの性能は、図
１に示すシステムのそれと等価であるが、光学システム
中の構成要素の数は１つ減っている。

【００２４】図４に示すシステムは、従来の無限大修正
顕微鏡対物レンズ３１０、潜望鏡で通常使用されている
ような無焦点リレーレンズ（３１４と３１６）およびチ
ューブレンズ３１８を使用している。このチューブレン
ズ３１８は、図１のシステムの特注レンズ１１８、レン
ズ１１２および拡大光学機構１２６の代わりに使用され
る。これはシステムの部品を増やすことになるが、価格
は落せる。顕微鏡の対物レンズは特注のフーリエレンズ
１１８ほど高額ではなく、リレーレンズとチューブレン
ズの公差はレンズ１２２や拡大光学機構１２６と比べて
緩い。というのは顕微鏡の対物レンズが半導体ウェーハ
の映像を拡大するからである。フーリエ空間濾過動作を
実行するシステムの顕微鏡対物レンズ３１０を用いるこ
との問題点は、フーリエ平面へのアクセスの獲得である
（すなわち、顕微鏡対物レンズの後部焦点平面３１
４）。おおくの顕微鏡対物レンズでは、この平面は対物
レンズシステム内に配置されている。無焦点リレーレン
ズシステム３１４と３１６はシステムのアクセス可能焦
点平面を備えている。

【００２５】図４に示すように、レンズ３１４は、顕微
鏡対物レンズ３１０のアクセス不可能後部焦点平面から
１焦点距離の位置に置かれている。リレーレンズシステ
ムの第２レンズ３１６は、無焦点リレーレンズシステム
の後から等価の距離のフーリエ平面を形成する。フーリ
エフィルタ１２０はこの位置に置かれている。

【００２６】上記に詳述されたように、顕微鏡対物レン
ズ３１０は無限大修正レンズである。この種のレンズを
使用する光学システムはチューブレンズ３１８を使用し
て、たとえば、１６０ｍｍの標準光学チューブ距離を達
成する。上記に記載のように、図４に示す撮像システム
では、顕微鏡対物レンズ３１０の後のレンズの制約は、
本発明の他の実施例で使用された光学システムに比べて
緩い。たとえば、ウェーハの映像は顕微鏡対物レンズ３
１０により拡大されるので、リレーレンズシステムの解
像力の要求が緩和される（すなわち、リレーレンズ３１
４と３１６は回折が制限される必要はない。さらに、リ
レーレンズシステム３１４と３１６の開口数（ＮＡ）は
対物レンズ１３０のそれのわずか１／Ｍ倍である。ただ
し、Ｍはレンズ１３０の拡大係数である。しかし、これ
らのレンズは、たとえば３５ｍｍカメラで使用されてい
るような高品質撮像レンズのほうがよい。

【００２７】本発明の上記に記載の実施例はすべて平行
光源を採用していたが、映像のフーリエ変換平面を適切
に整合するように光学システムを適切に調整すると、発
散または収束光源が使用できる。さらに、単一光源１１
０の代わりに複数のモノクローム光源が使用できる。こ
れらの複数の光源がフーリエフィルタ１２０上にもっと
多くの不透明領域を作成することになる。他の実施例で
は、照明が、ウェーハ表面の面で、４つの対角方向にウ
ェーハに適用できる。これらの方向はパターン線に関し
て４５度である。

【００２８】上記の実施例の任意のものでは、照明マス
クを、切断領域などウェーハの非繰返し領域を隠すのに
使用することもできる。さらに、照明源１１０とフーリ
エフィルタ１２０が固定位置に保持されているかぎり、
フーリエパターンを変更することなくウェーハを走査で
きる（すなわち、システムの他の部分に相対的に移動で
きる）。この走査技術を使用すると、システムがウェー
ハ全体を検査できる。本発明は３つの実施例の状況で記
載されてきたが、本発明の請求の範囲から逸脱すること
のないかぎり上記に概略されているように実施できる。

【００２９】

【発明の効果】本発明によれば、繰返しパターンをもつ
表面の欠陥を精度良く検査できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例によるウェーハ検査システムの
構成図。

【図２】図１に示す検査システムが半導体ウェーハを照
らす方式を記載するのに有益である透視図。

【図３】本発明の他の実施例によるウェーハ検査システ
ムを示す構成図。

【図４】本発明の他の実施例によるウェーハ検査システ
ムを示す構成図。

【図５】図１、３および４に示すウェーハ検査システム
で使用されるフーリエフィルタの正面図。

【図６】本発明の様々な実施例の動作を記載するのに有
益である半導体ウェーハの空間スペクトルのグラフ図。

【符号の説明】

１１０ ヘリウム−ネオンレーザ １１２ 表面鏡 １１６ ウェーハ １１８ フーリエ変換レンズ １２０ 空間フィルタ

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【手続補正書】

【提出日】平成４年６月５日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０００２

【補正方法】変更

【補正内容】

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】パター
ンが刻まれたウェーハ上の微粒子や欠陥の検出は半導体
産業には重要な問題である。半導体ウェーハの表面上の
汚染粒子はウェーハ上に形成された集積回路に望ましく
ない導通経路を産みだしてしまう。複数の集積回路を作
成するのに使用される写真製版パターンの欠陥は不良デ
バイスや基準に達しないデバイスを産みだす。欠陥が歩
留まりに悪影響を及ぼさないように様々な処理段階で集
積回路の任意の欠陥の形式や特徴も識別するのが重要で
ある。従来技術では、半導体ウェーハの表面上の欠陥や
汚染粒子を発見する方法はたくさんある。一般には、こ
れらの方法は３つに分類できる。空間的に濾過された明
視野撮像技術、明視野映像の分析および低角度暗視野撮
像技術である。

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０００８

【補正方法】変更

【補正内容】

【０００８】

【課題を解決するための手段及び作用】本発明は、繰返
しパターンをもつ製品が、８度と撮像レンズシステムに
より決定される最大角度との間のウェーハ表面に関する
侵入角度でモノクローム光線により照らされている暗視
野検査システムで具体化されている。この角度は検査シ
ステムが暗視野映像を生成する制約により制限される。
その表面にほぼ垂直の角度で散乱された光が、レンズシ
ステムにより集められる。このレンズシステムは、集め
られた光を空間的に濾過して、繰返しパターンに対応す
る空間周波数構成要素をほぼ減衰させる。残りの光は、
レンズシステムにより集められて、繰仮しパターン内の
微粒子や欠陥が強調される映像を形成する。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 マーク、アラン、タウベンブラツト アメリカ合衆国ニユーヨーク州、プレザン トビル、リランド、アベニユ、67

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】繰返しパターンをもつ表面上の欠陥を検査
   する方法において、 ａ）ウェーハの表面に関して８度と所定の最高角度との
   間の入射角でモノクローム光線により前記表面を照らす
   ステップと、 ｂ）前記所定の最大角度より大きい角度で前記表面から
   散乱される光を獲得するステップと、 ｃ）前記欠陥に対応する空間周波数に比べて繰返しパタ
   ーンに対応する空間周波数を減衰するよう捕捉された光
   を空間的に濾過するステップと、 ｄ）空間的に濾過された光を映像に焦点を合わせ、欠陥
   の映像が繰返しパターンの映像に比べて強調されるステ
   ップとを備えていることを特徴とする方法。
2. 【請求項２】前記ステップａ）はモノクローム光線を平
   行化するステップを備えている請求項１記載の方法。
3. 【請求項３】前記ステップａ）はモノクローム光線を偏
   光するステップを備えている請求項１記載の方法。
4. 【請求項４】前記表面は平坦で、繰返しパターンは主要
   な矩形的特徴を含み、前記ステップａ）は、前記表面の
   面内で４５度の角度で表面に関して入射光線を方向づけ
   るステップを備えている請求項１記載の方法。
5. 【請求項５】前記ステップｃ）は、 前記捕捉された光線のフーリエ変換を行なうステップ
   と、 前記フーリエ変換光線を濾過して、繰返し型映像の少な
   くとも１つの空間周波数成分を減衰するステップと、を
   備え、 前記ステップｄ）は、空間濾過光線の逆フーリエ変換を
   実行して、前記映像を作成するステップを備えている請
   求項１記載の方法。
6. 【請求項６】繰返しパターンをもつ表面上の欠陥を検査
   する装置において、 ａ）ウェーハの表面に関して８度と所定の最高角度との
   間の入射角度で少なくとも１つのモノクローム光線によ
   り前記表面を照らす照明手段と、 ｂ）開口数内の角度の表面から散乱される光を捕捉す
   る、前記表面に垂直な光軸と共に位置づけられたレンズ
   手段と、 ｃ）前記欠陥に対応する空間周波数に比べて繰返しパタ
   ーンに対応する空間周波数を減衰するよう前記捕捉され
   た光を空間的に濾過するフィルター手段と、 ｄ）空間的に濾過された光を映像に焦点を合わせ、前記
   の欠陥の映像が繰返しパターンの映像に比べて強調され
   る撮像手段とを備え、 前記レンズ手段の開口数は前記所定の最高角度を定義す
   ることを特徴とする装置。
7. 【請求項７】前記照明手段は、 モノクローム光線を生成する手段と、 前記生成する手段が供給する光線を平行化する手段と、 入射角度で前記表面に平行化光線を方向づける手段とを
   備えている請求項６記載の装置。
8. 【請求項８】前記フィルター手段は、 前記捕捉された光の光学フーリエ変換を表す映像を形成
   するフーリエ変換手段と、 濾過されたフーリエ変換表現を示す前記フーリエ変換表
   現の他の部分と比べて前記繰り返されたパターンに対応
   する前記捕捉光線の複数の部分により示された空間周波
   数に対応する前記フーリエ変換表示の複数の部分を減衰
   するフーリエフィルター手段とを備えている請求項６記
   載の装置。