JPH0511600B2 - - Google Patents
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- JPH0511600B2 JPH0511600B2 JP13494785A JP13494785A JPH0511600B2 JP H0511600 B2 JPH0511600 B2 JP H0511600B2 JP 13494785 A JP13494785 A JP 13494785A JP 13494785 A JP13494785 A JP 13494785A JP H0511600 B2 JPH0511600 B2 JP H0511600B2
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- lens
- ray
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- curved
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 28
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、X線顕微鏡等の対物レンズと接眼レ
ンズに使用して最適なX線光学系に関する。
ンズに使用して最適なX線光学系に関する。
[従来技術]
X線を集光する光学系としては、幾多のものが
考えられているが、その中で、回転体反射鏡を用
いるものが注目されている。この光学系は、例え
ば、回転双曲面体と回転楕円面体との内側表面を
X線の全反射面とし、該内側表面によつてX線を
全反射させて該X線を集光するように構成してい
る。この集光されたX線を試料に照射し、該試料
によつて回折されたX線を回転楕円面体と回転双
曲面体とより成る対物レンズと、同じく回転楕円
面体と回転双曲面体とより成る接眼レンズとより
構成されるX線光学系によつて結像すれば、試料
のX線像を得ることができる。
考えられているが、その中で、回転体反射鏡を用
いるものが注目されている。この光学系は、例え
ば、回転双曲面体と回転楕円面体との内側表面を
X線の全反射面とし、該内側表面によつてX線を
全反射させて該X線を集光するように構成してい
る。この集光されたX線を試料に照射し、該試料
によつて回折されたX線を回転楕円面体と回転双
曲面体とより成る対物レンズと、同じく回転楕円
面体と回転双曲面体とより成る接眼レンズとより
構成されるX線光学系によつて結像すれば、試料
のX線像を得ることができる。
[発明が解決しようとする問題点]
上述したX線光学系は、多数の2焦点回転曲面
体を使用し、各曲面体の焦点を直線上の光軸上に
配置しなければならないため、像の結像方向も限
られた方向となる。又、回転曲面体の内側のX線
反射面は、高い精度の加工が要求されるが、回転
面であるがためにその工作は、極めて困難であ
る。
体を使用し、各曲面体の焦点を直線上の光軸上に
配置しなければならないため、像の結像方向も限
られた方向となる。又、回転曲面体の内側のX線
反射面は、高い精度の加工が要求されるが、回転
面であるがためにその工作は、極めて困難であ
る。
本発明は、上述した点に鑑みてなされたもの
で、像の結像方向を任意に設定できると共に、レ
ンズの加工も容易なX線光学系を提供することを
目的としている。
で、像の結像方向を任意に設定できると共に、レ
ンズの加工も容易なX線光学系を提供することを
目的としている。
[問題点を解決するための手段]
本発明に基づくX線光学系は、2焦点回転曲面
体を有し、物点からのX線を該曲面体の内面にお
いて全反射させて集光する第1のレンズと、2焦
点曲面体を有し、該第1のレンズによつて集光さ
れたX線を該曲面体の内面において全反射させて
結像する第2のレンズとを備えており、該第1と
第2のレンズの光軸は、該第1のレンズの集光点
において交差するように傾けて配置され、該第2
のレンズを構成する2焦点曲面体は、回転体の一
部が切り欠かれている形状に形成されていること
を特徴としている。
体を有し、物点からのX線を該曲面体の内面にお
いて全反射させて集光する第1のレンズと、2焦
点曲面体を有し、該第1のレンズによつて集光さ
れたX線を該曲面体の内面において全反射させて
結像する第2のレンズとを備えており、該第1と
第2のレンズの光軸は、該第1のレンズの集光点
において交差するように傾けて配置され、該第2
のレンズを構成する2焦点曲面体は、回転体の一
部が切り欠かれている形状に形成されていること
を特徴としている。
[作用]
X線源からのX線は集光されて試料に照射され
る。該試料からのX線は2焦点回転曲面体より成
る第1のX線レンズによつて集光される。該集光
されたX線は2焦点曲面体より成る第2のX線レ
ンズによつて結像されるが、該第1のレンズを構
成する2焦点回転曲面体の2焦点を結ぶ光軸に対
し、該第2のレンズを構成する2焦点曲面体の2
焦点を結ぶ光軸は、所定の角度傾けられて配置さ
れ、該第2のレンズの曲面体の一方の焦点が該第
1のレンズによるX線の集光点と一致して配置さ
れている。更に、該第2のX線レンズを構成する
曲面体の一部は該光軸を傾けることによつてX線
が入射しなくなるため、該曲面体は、その部分が
切り欠かれた形状とされている。この結果、X線
の結像方向は該第2のレンズの光軸の方向に応じ
て変えることができ、又、部分的に切り欠かれた
曲面体の高精度の研磨等の加工は容易となる。
る。該試料からのX線は2焦点回転曲面体より成
る第1のX線レンズによつて集光される。該集光
されたX線は2焦点曲面体より成る第2のX線レ
ンズによつて結像されるが、該第1のレンズを構
成する2焦点回転曲面体の2焦点を結ぶ光軸に対
し、該第2のレンズを構成する2焦点曲面体の2
焦点を結ぶ光軸は、所定の角度傾けられて配置さ
れ、該第2のレンズの曲面体の一方の焦点が該第
1のレンズによるX線の集光点と一致して配置さ
れている。更に、該第2のX線レンズを構成する
曲面体の一部は該光軸を傾けることによつてX線
が入射しなくなるため、該曲面体は、その部分が
切り欠かれた形状とされている。この結果、X線
の結像方向は該第2のレンズの光軸の方向に応じ
て変えることができ、又、部分的に切り欠かれた
曲面体の高精度の研磨等の加工は容易となる。
[実施例]
以下本発明の一実施例を添付図面に基づき詳述
する。
する。
第1図は本発明を実施したX線顕微鏡を示して
おり、1は、例えば、回転対陰極型のX線源であ
り、該X線源から発生したX線の内、特定方向に
進むX線は第1のX線反射鏡2によつて全反射さ
せられる。該第1の反射鏡によつて全反射させら
れたX線は、第2のX線反射鏡3によつて全反射
させられ、光軸01に平行なX線とされる。該第
1及び第2のX線反射鏡2,3は夫々回転体で、
一体加工されており、例えば、該第1の反射鏡2
は回転双曲面鏡、第2の反射鏡3は回転放物面鏡
である。該光軸に平行とされたX線は、第3及び
第4のX線反射鏡4,5によつて試料6上に集光
される。尚、本実施例において、該第3の反射鏡
4は回転放物面鏡であり、第4の反射鏡5は回転
双曲面鏡である。ここで、7は第1と第2の反射
鏡2,3によつて全反射されるX線以外のX線を
遮蔽するためのX線遮蔽部材、8は第1〜第4の
X線反射鏡より成るX線集光系の焦平面に配置さ
れた絞り板であり、該絞り板8にはリング状のス
リツトが設けられている。該試料6へのX線の照
射により、該試料6から回折されたX線は、第5
と第6の反射鏡10,11によつて全反射される
が、該第5の反射鏡10は回転双曲面鏡であり、
該第6の反射鏡11は回転楕円面鏡であり、この
第5と第6の反射鏡は試料6から回折されたX線
の対物レンズを構成している。該対物レンズによ
つて試料6から回折されたX線は光軸01上の回
転楕円面鏡11の一方の焦点F1に集光される。
該焦点F1に集光されたX線は、更に第7と第8
の反射鏡12,13によつて全反射されるが、該
第7の反射鏡12は回転双曲面鏡であり、該第8
の反射鏡13は回転楕円面鏡であり、この第7と
第8の反射鏡は接眼レンズを構成している。該第
7と第8の反射鏡12,13の各焦点は該光軸0
1と焦点F1で交差する光軸02上に配置されて
いる。該第7と第8の反射鏡12,13は、回転
体の一部が切り欠かれた形状であるが、焦点F1
からのX線が入射する部分は少なくとも反射面が
形成されている。14は該結像系によるX線像の
結像位置、すなわち、第8の反射鏡の一方の焦点
位置F2に配置された撮像管であり、該撮像管1
4によつて検出された信号は、増幅器15に供給
されて増幅され、陰極線管の如き表示手段16に
供給される。尚、各反射鏡として、表面に多層膜
が設けられた反射鏡を使用すれば、集光するX線
の量を増加できる。
おり、1は、例えば、回転対陰極型のX線源であ
り、該X線源から発生したX線の内、特定方向に
進むX線は第1のX線反射鏡2によつて全反射さ
せられる。該第1の反射鏡によつて全反射させら
れたX線は、第2のX線反射鏡3によつて全反射
させられ、光軸01に平行なX線とされる。該第
1及び第2のX線反射鏡2,3は夫々回転体で、
一体加工されており、例えば、該第1の反射鏡2
は回転双曲面鏡、第2の反射鏡3は回転放物面鏡
である。該光軸に平行とされたX線は、第3及び
第4のX線反射鏡4,5によつて試料6上に集光
される。尚、本実施例において、該第3の反射鏡
4は回転放物面鏡であり、第4の反射鏡5は回転
双曲面鏡である。ここで、7は第1と第2の反射
鏡2,3によつて全反射されるX線以外のX線を
遮蔽するためのX線遮蔽部材、8は第1〜第4の
X線反射鏡より成るX線集光系の焦平面に配置さ
れた絞り板であり、該絞り板8にはリング状のス
リツトが設けられている。該試料6へのX線の照
射により、該試料6から回折されたX線は、第5
と第6の反射鏡10,11によつて全反射される
が、該第5の反射鏡10は回転双曲面鏡であり、
該第6の反射鏡11は回転楕円面鏡であり、この
第5と第6の反射鏡は試料6から回折されたX線
の対物レンズを構成している。該対物レンズによ
つて試料6から回折されたX線は光軸01上の回
転楕円面鏡11の一方の焦点F1に集光される。
該焦点F1に集光されたX線は、更に第7と第8
の反射鏡12,13によつて全反射されるが、該
第7の反射鏡12は回転双曲面鏡であり、該第8
の反射鏡13は回転楕円面鏡であり、この第7と
第8の反射鏡は接眼レンズを構成している。該第
7と第8の反射鏡12,13の各焦点は該光軸0
1と焦点F1で交差する光軸02上に配置されて
いる。該第7と第8の反射鏡12,13は、回転
体の一部が切り欠かれた形状であるが、焦点F1
からのX線が入射する部分は少なくとも反射面が
形成されている。14は該結像系によるX線像の
結像位置、すなわち、第8の反射鏡の一方の焦点
位置F2に配置された撮像管であり、該撮像管1
4によつて検出された信号は、増幅器15に供給
されて増幅され、陰極線管の如き表示手段16に
供給される。尚、各反射鏡として、表面に多層膜
が設けられた反射鏡を使用すれば、集光するX線
の量を増加できる。
上述した如き構成において、X線源1から発生
したX線の内、特定方向に放射されたX線は、第
1と第2のX線反射鏡2,3によつて全反射させ
られて光軸01と平行なX線とされ、更に、それ
以外のX線はX線遮蔽板7によつて遮蔽されるた
め、絞り板8上にはリング状のX線が照射される
ことになる。該リング状のX線は、該絞り板8の
スリツトを通過することによつて整形され、該整
形されたX線のみが試料6上の微小点に第3と第
4の反射鏡4,5によつて集光されることにな
る。該試料6に照射されたX線は該試料の厚さ、
あるいは、構成成分の違いに応じて回折される。
該回折光は対物レンズを構成する第5と第6の反
射鏡10,11により全反射させられ、回転楕円
体である反射鏡11の一方の焦点F1に集光され
る。該集光されたX線は、接眼レンズによつて結
像されるが、該接眼レンズを構成する双曲面反射
鏡12の一方の焦点は、前記集光点F1と一致さ
れ、他方の焦点は楕円面反射鏡13の一方の焦点
と共通に配置されている。そして、該楕円面反射
鏡13の他方の焦点F2には、前記したように撮
像管14が配置されている。この結果、該焦点F
1からのX線は、双曲面反射鏡12によつて全反
射された後、楕円面反射鏡13によつて全反射さ
れ、焦点F2に結像される。ここで、該接眼レン
ズを構成する双曲面反射鏡12と楕円面反射鏡1
3の各焦点は、光軸01と集光点F2において交
差する光軸02上に配置されているが、両光軸が
ずれていても、集光されたX線全てが双曲面12
によつて全反射されるように該光軸が傾けられて
いるため、X線の結像には何等の支障もない。更
に、このように光軸を傾けたので、双曲面反射鏡
12と楕円面反射鏡13は完全な回転体である必
要はなく、X線が入射する部分のみ全反射面が存
在すれば良い。従つて、該反射鏡12,13とし
ては、X線が入射しない回転体の一部分を切り欠
いた形状の反射鏡を用いることができる。このよ
うに、部分的に回転体となつている反射鏡は、反
射面の研磨、反射面への多層膜の蒸着等を完全な
回転体に比べて簡単に行うことができ、その製作
が容易となる。
したX線の内、特定方向に放射されたX線は、第
1と第2のX線反射鏡2,3によつて全反射させ
られて光軸01と平行なX線とされ、更に、それ
以外のX線はX線遮蔽板7によつて遮蔽されるた
め、絞り板8上にはリング状のX線が照射される
ことになる。該リング状のX線は、該絞り板8の
スリツトを通過することによつて整形され、該整
形されたX線のみが試料6上の微小点に第3と第
4の反射鏡4,5によつて集光されることにな
る。該試料6に照射されたX線は該試料の厚さ、
あるいは、構成成分の違いに応じて回折される。
該回折光は対物レンズを構成する第5と第6の反
射鏡10,11により全反射させられ、回転楕円
体である反射鏡11の一方の焦点F1に集光され
る。該集光されたX線は、接眼レンズによつて結
像されるが、該接眼レンズを構成する双曲面反射
鏡12の一方の焦点は、前記集光点F1と一致さ
れ、他方の焦点は楕円面反射鏡13の一方の焦点
と共通に配置されている。そして、該楕円面反射
鏡13の他方の焦点F2には、前記したように撮
像管14が配置されている。この結果、該焦点F
1からのX線は、双曲面反射鏡12によつて全反
射された後、楕円面反射鏡13によつて全反射さ
れ、焦点F2に結像される。ここで、該接眼レン
ズを構成する双曲面反射鏡12と楕円面反射鏡1
3の各焦点は、光軸01と集光点F2において交
差する光軸02上に配置されているが、両光軸が
ずれていても、集光されたX線全てが双曲面12
によつて全反射されるように該光軸が傾けられて
いるため、X線の結像には何等の支障もない。更
に、このように光軸を傾けたので、双曲面反射鏡
12と楕円面反射鏡13は完全な回転体である必
要はなく、X線が入射する部分のみ全反射面が存
在すれば良い。従つて、該反射鏡12,13とし
ては、X線が入射しない回転体の一部分を切り欠
いた形状の反射鏡を用いることができる。このよ
うに、部分的に回転体となつている反射鏡は、反
射面の研磨、反射面への多層膜の蒸着等を完全な
回転体に比べて簡単に行うことができ、その製作
が容易となる。
以上、本発明の一実施例を詳述したが、本発明
はこの実施例に限定されず、幾多の変形が可能で
ある。例えば、対物レンズあるいは接眼レンズと
して、2種の曲面体を組合せたレンズ系を用いた
が、各レンズ共、単一の曲面体によつて構成して
も良く、逆に、3種以上の曲面体を組合せたレン
ズ系を用いても良い。
はこの実施例に限定されず、幾多の変形が可能で
ある。例えば、対物レンズあるいは接眼レンズと
して、2種の曲面体を組合せたレンズ系を用いた
が、各レンズ共、単一の曲面体によつて構成して
も良く、逆に、3種以上の曲面体を組合せたレン
ズ系を用いても良い。
[効果]
以上詳述した如く、本発明は、対物レンズ等の
第1のレンズの光軸に対して、接眼レンズ等の第
2のレンズの光軸を傾けて配置するようにしたた
め、X線像の結像方向を所望の方向に変えること
ができる。又、該第2のレンズの光軸を傾けたた
め、第2のレンズを構成する曲面体を回転体の一
部の形状とすることができ、該レンズの製作を簡
単に行うことができる。
第1のレンズの光軸に対して、接眼レンズ等の第
2のレンズの光軸を傾けて配置するようにしたた
め、X線像の結像方向を所望の方向に変えること
ができる。又、該第2のレンズの光軸を傾けたた
め、第2のレンズを構成する曲面体を回転体の一
部の形状とすることができ、該レンズの製作を簡
単に行うことができる。
添附図面は本発明の一実施例であるX線顕微鏡
を示す図である。 1…X線源、2,3,4,5…X線反射鏡、6
…試料、、7…X線遮蔽板、8…絞り板、9…ス
リツト、10,11,12,13…X線反射鏡、
14…撮像管、15…増幅器、16…表示手段。
を示す図である。 1…X線源、2,3,4,5…X線反射鏡、6
…試料、、7…X線遮蔽板、8…絞り板、9…ス
リツト、10,11,12,13…X線反射鏡、
14…撮像管、15…増幅器、16…表示手段。
Claims (1)
- 1 2焦点回転曲面体を有し、物点からのX線を
該曲面体の内面において全反射させて集光する第
1のレンズと、2焦点曲面体を有し、該第1のレ
ンズによつて集光されたX線を該曲面体の内面に
おいて全反射させて結像する第2のレンズとを備
えており、該第1と第2のレンズの光軸は、該第
1のレンズの集光点において交差するように傾け
て配置され、該第2のレンズを構成する2焦点曲
面体は、回転体の一部が切り欠かれている形状に
形成されていることを特徴とするX線光学系。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13494785A JPS61292600A (ja) | 1985-06-20 | 1985-06-20 | X線光学系 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13494785A JPS61292600A (ja) | 1985-06-20 | 1985-06-20 | X線光学系 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61292600A JPS61292600A (ja) | 1986-12-23 |
JPH0511600B2 true JPH0511600B2 (ja) | 1993-02-15 |
Family
ID=15140280
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13494785A Granted JPS61292600A (ja) | 1985-06-20 | 1985-06-20 | X線光学系 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61292600A (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01117252A (ja) * | 1987-10-30 | 1989-05-10 | Hamamatsu Photonics Kk | X線像観察装置 |
JP2842879B2 (ja) * | 1989-01-06 | 1999-01-06 | 株式会社日立製作所 | 表面分析方法および装置 |
US5291339A (en) * | 1990-11-30 | 1994-03-01 | Olympus Optical Co., Ltd. | Schwarzschild optical system |
JPH04328500A (ja) * | 1991-04-26 | 1992-11-17 | Olympus Optical Co Ltd | コンデンサ |
JP2005115108A (ja) * | 2003-10-09 | 2005-04-28 | Sony Corp | 表示装置および方法、並びに撮像装置および方法 |
JP5759257B2 (ja) * | 2011-05-17 | 2015-08-05 | 浜松ホトニクス株式会社 | X線装置 |
-
1985
- 1985-06-20 JP JP13494785A patent/JPS61292600A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61292600A (ja) | 1986-12-23 |
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