JPH0494881A - Laser marking device - Google Patents
Laser marking deviceInfo
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- JPH0494881A JPH0494881A JP2211146A JP21114690A JPH0494881A JP H0494881 A JPH0494881 A JP H0494881A JP 2211146 A JP2211146 A JP 2211146A JP 21114690 A JP21114690 A JP 21114690A JP H0494881 A JPH0494881 A JP H0494881A
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- marking
- laser
- line width
- laser beam
- mirror
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- Pending
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- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明はレーザマーキング装置に関し、特にレーザ光に
よる被加工物へのマーキング方法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Technical Field The present invention relates to a laser marking device, and more particularly to a method of marking a workpiece with a laser beam.
従来技術
従来、この種のマーキング方法においては、1本のレー
ザビームを走査して被加工物へのマーキングを行ってい
た。BACKGROUND ART Conventionally, in this type of marking method, a workpiece was marked by scanning a single laser beam.
このような従来のマーキング方法では、1本のレーザビ
ームを走査して被加工物へのマーキングを行っていたの
で、マーキングの線幅がレーザビームのスポット径によ
って決まるために、その線幅が非常に細かった。In such conventional marking methods, the workpiece was marked by scanning a single laser beam, so the line width of the marking was determined by the spot diameter of the laser beam, so the line width could be very short. It was thin.
マーキングの寸法が小さいときには細い線幅でもコント
ラストがでるが、マーキングの1J法が大きくなると、
細い線幅ではコントラストが悪くなる。When the dimension of the marking is small, contrast can be obtained even with a thin line width, but when the 1J method of the marking becomes large,
Contrast deteriorates with thin line widths.
よって、マーキングの線幅を太くするためにマキングの
回数を増やしてマーキングの線を重ね合わせる必要があ
り、処理時間が長くなるという問題がある。Therefore, in order to increase the line width of the marking, it is necessary to increase the number of times of masking and overlap the marking lines, which poses a problem of increasing processing time.
また、第4図に示すように、レーザビームを渦巻状に走
査してマーキングの線幅を太くする方法もあるが、この
場合にはマーキングの処理時間が長くなるとともに、レ
ーザビームを渦巻状に走査するための専用回路が必要に
なるという問題がある。Alternatively, as shown in Figure 4, there is a method of scanning the laser beam in a spiral to increase the line width of the marking, but in this case, the marking processing time becomes longer and the laser beam is scanned in a spiral. There is a problem in that a dedicated circuit for scanning is required.
発明の目的
本発明は上記のような従来のものの問題点を除去すべく
なされたもので、専用回路を必要とすることなく、マー
キングの線幅を太くすることができ、処理時間を大幅に
短縮することができるレーザマーキング装置の提供を目
的とする。Purpose of the Invention The present invention was made in order to eliminate the problems of the conventional ones as described above, and it is possible to increase the line width of the marking without the need for a dedicated circuit, thereby significantly shortening the processing time. The purpose of the present invention is to provide a laser marking device that can perform
発明の構成
本発明によるレーザマーキング装置は、レーザ光源から
のレーザ光により被加工物へのマーキングを行うレーザ
マーキング装置であって、前記レーザ光源からのレーザ
光を第1および第2のレーザ光に分割する分割手段と、
前記分割手段により分割された前記第1および第2のレ
ーザ光を互いに平行光とする手段と、互いに平行光とさ
れた前記第1および第2のレーザ光を前記被加工物上に
集光する集光手段とを有することを特徴とする。Structure of the Invention A laser marking device according to the present invention is a laser marking device that marks a workpiece with a laser beam from a laser light source, and the laser marking device divides the laser beam from the laser light source into first and second laser beams. a dividing means for dividing;
means for collimating the first and second laser beams separated by the dividing means; and condensing the first and second laser beams, which have been parallelized, onto the workpiece. It is characterized by having a light condensing means.
実施例
次に、本発明の一実施例について図面を参照して説明す
る。Embodiment Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
第1図は本発明の一実施例を示す構成図であり、第2図
は本発明の一実施例の部分拡大図である。FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a partially enlarged view of the embodiment of the present invention.
これらの図において、制御部2の制御によりYAGレー
ザ発振器3からレーザビーム100が出射されると、こ
のレーザビーム100は光学部1の50%透過50%反
射型ハーフミラ−(以下ハーフミラ−とする)10でレ
ーザビーム101,102に2分割される。In these figures, when a laser beam 100 is emitted from a YAG laser oscillator 3 under the control of a control unit 2, this laser beam 100 is transmitted through a 50% transmitting 50% reflecting half mirror (hereinafter referred to as a half mirror) of an optical unit 1. 10, it is divided into two laser beams 101 and 102.
ハーフミラ−10で反射されたレーザビーム102は全
反射ミラー11により90°垂直方向に反射され、ハー
フミラ−10を透過したレーザビーム101の光路と平
行となるように全反射ミラー12により90°反射され
る。The laser beam 102 reflected by the half mirror 10 is reflected by the total reflection mirror 11 at 90° in the vertical direction, and is reflected by the total reflection mirror 12 at 90° so as to be parallel to the optical path of the laser beam 101 that has passed through the half mirror 10. Ru.
これにより、レーザビーム101の光路とレーザビーム
102の光路との間には高低差が設けられる。Thereby, a height difference is provided between the optical path of the laser beam 101 and the optical path of the laser beam 102.
レーザビーム101はハーフミラ−1oを透過した後に
エキスパンダ13に入射され、レーザビーム102は全
反射ミラー12により90″反射された後にエキスパン
ダ14に入射される(第2図参照)。The laser beam 101 is incident on the expander 13 after passing through the half mirror 1o, and the laser beam 102 is reflected by the total reflection mirror 12 by 90'' and then incident on the expander 14 (see FIG. 2).
レーザビーム101.102はエキスパンダ13.14
を出ると、夫々X軸スキャナミラー15およびY軸スキ
ャナミラー17によって走査され、fθレンズ19で集
光された後に全反射ミラー20により被加工物4の加工
面に導かれる。Laser beams 101.102 are connected to expanders 13.14
Upon exiting, the light is scanned by an X-axis scanner mirror 15 and a Y-axis scanner mirror 17, and after being focused by an fθ lens 19, it is guided to the processing surface of the workpiece 4 by a total reflection mirror 20.
ここで、X軸スキャナミラー15およびY軸スキャナミ
ラー17は夫々X軸ガルバノメータ16およびY軸ガル
バノメーター8により回動され、その回動によりレーザ
ビームlot、102の走査が行われる。Here, the X-axis scanner mirror 15 and the Y-axis scanner mirror 17 are rotated by the X-axis galvanometer 16 and the Y-axis galvanometer 8, respectively, and the laser beams 102 are scanned by the rotation.
よって、被加工物4の加工面には同時に走査される2本
のレーザビーム101.102より同一マークが描かれ
ることになる。Therefore, the same mark is drawn on the processing surface of the workpiece 4 by the two simultaneously scanned laser beams 101 and 102.
たとえば、被加工物4の加工面に「1」をマーキングす
る場合には、第3図に示すように、2本のレーザビーム
101,102によって「1」が同時にマーキングされ
るので、マーキングの回数を増やすことなく、マーキン
グの線幅を2倍に太くすることが可能になるとともに、
マーキングの線幅を太くするときの処理時間を大幅に短
縮することができる。For example, when marking "1" on the processing surface of the workpiece 4, as shown in FIG. 3, two laser beams 101 and 102 mark "1" simultaneously, so the number of markings It is now possible to double the marking line width without increasing the
Processing time when increasing the line width of markings can be significantly reduced.
このように、YAGレーザ発振器3からのレザビーム1
00をハーフミラ−10により2分割した後に、それら
2本のレーザビーム101,102を全反射ミラー11
.12により互いに平行光とし、X軸スキャナミラー1
5およびY軸スキャナミラー17で同時に走査して被加
工物4の加工面に照射するようにすることによって、ス
ポット径そのものは変わらないが、スポット数が増える
ので、マーキングの回数を増やすことなく、マーキング
の線幅を2倍に太くすることができ、マーキングの線幅
を太くするときの処理時間を大幅に短縮することができ
る。In this way, the laser beam 1 from the YAG laser oscillator 3
00 is divided into two by the half mirror 10, and then the two laser beams 101 and 102 are transferred to the total reflection mirror 11.
.. 12 to make the beams parallel to each other, and the X-axis scanner mirror 1
5 and Y-axis scanner mirror 17 to simultaneously scan and irradiate the processing surface of the workpiece 4, the spot diameter itself does not change, but the number of spots increases, so the number of marking operations can be done without increasing the number of markings. The line width of the marking can be made twice as thick, and the processing time when making the line width of the marking thick can be significantly reduced.
また、マーキングの線幅を太くするときに、従来のよう
なレーザビームを渦巻状にするための専用回路は必要な
くなる。Further, when increasing the line width of the marking, there is no need for a dedicated circuit for making the laser beam spiral as in the past.
尚、本発明の一実施例ではレーザビーム100をハーフ
ミラ−10により2分割する場合について述べたが、光
学系の組合わせにより3分割することも可能であり、こ
れに限定されない。In one embodiment of the present invention, a case has been described in which the laser beam 100 is divided into two by the half mirror 10, but it is also possible to divide the laser beam into three by combining optical systems, and the invention is not limited to this.
発明の詳細
な説明したように本発明によれば、レーザ光源からのレ
ーザ光を分割したのちに、それら分割したレーザ光を互
いに平行光としてから同一光学系を用いて被加工物上に
集光するようにすることによって、専用回路を必要とす
ることなく、マキングの線幅を太くすることができ、処
理時間を大幅に短縮することができるという効果がある
。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION According to the present invention, a laser beam from a laser light source is divided, the divided laser beams are made parallel to each other, and then focused onto a workpiece using the same optical system. By doing so, the line width of the masking can be increased without requiring a dedicated circuit, and the processing time can be significantly shortened.
第1図は本発明の一実施例を示す構成図、第2図は本発
明の一実施例の部分拡大図、第3図は本発明の一実施例
によるマーキング例を示す図、第4図は従来のマーキン
グ例を示す図である。
主要部分の符号の説明
1・・・・・・光学部
3・・・・・・YAGレーザ発振器
4・・・・・・被加工物
10・・・・50%透過50%反射型
ハーフミラ
1.1.12
20・・・・・・全反射ミラー
13.14・・・・・・エキスパンダ
15・・・・・・X軸スキャナミラー
17・・・・・・Y軸スキャナミラ
19・・・・・・fθレンズFIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a partially enlarged view of an embodiment of the present invention, FIG. 3 is a diagram showing an example of marking according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a diagram showing an example of conventional marking. Explanation of symbols of main parts 1... Optical section 3... YAG laser oscillator 4... Workpiece 10... 50% transmission 50% reflection half mirror 1. 1.12 20... Total reflection mirror 13.14... Expander 15... X-axis scanner mirror 17... Y-axis scanner mirror 19...・・・fθ lens
Claims (1)
ーキングを行うレーザマーキング装置であって、前記レ
ーザ光源からのレーザ光を第1および第2のレーザ光に
分割する分割手段と、前記分割手段により分割された前
記第1および第2のレーザ光を互いに平行光とする手段
と、互いに平行光とされた前記第1および第2のレーザ
光を前記被加工物上に集光する集光手段とを有すること
を特徴とするレーザマーキング装置。(1) A laser marking device that marks a workpiece with a laser beam from a laser light source, comprising a dividing means for dividing the laser beam from the laser light source into first and second laser beams; means for collimating the first and second laser beams separated by the means; and condensing means for condensing the first and second laser beams, which have been parallelized to each other, onto the workpiece. A laser marking device comprising: means.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2211146A JPH0494881A (en) | 1990-08-08 | 1990-08-08 | Laser marking device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2211146A JPH0494881A (en) | 1990-08-08 | 1990-08-08 | Laser marking device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0494881A true JPH0494881A (en) | 1992-03-26 |
Family
ID=16601145
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2211146A Pending JPH0494881A (en) | 1990-08-08 | 1990-08-08 | Laser marking device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0494881A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1994012309A1 (en) * | 1992-11-25 | 1994-06-09 | Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho | Laser marking apparatus |
EP1101561A3 (en) * | 1999-11-15 | 2003-04-23 | Praxair S.T. Technology, Inc. | Method and apparatus for engraving solid articles with laser beams and the articles produced |
CN104096965A (en) * | 2013-04-10 | 2014-10-15 | 比亚迪股份有限公司 | Laser processing device and laser processing method |
-
1990
- 1990-08-08 JP JP2211146A patent/JPH0494881A/en active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1994012309A1 (en) * | 1992-11-25 | 1994-06-09 | Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho | Laser marking apparatus |
US5587094A (en) * | 1992-11-25 | 1996-12-24 | Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho | Laser marking apparatus |
EP1101561A3 (en) * | 1999-11-15 | 2003-04-23 | Praxair S.T. Technology, Inc. | Method and apparatus for engraving solid articles with laser beams and the articles produced |
CN104096965A (en) * | 2013-04-10 | 2014-10-15 | 比亚迪股份有限公司 | Laser processing device and laser processing method |
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