JPH0453016B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光学的に情報の記録、再生、または
消去を行う再生専用、追加記録用または書き換え
可能な光情報記録媒体用基板（以下、「媒体用基
板」という。）の製造方法に関する。

〔従来の技術〕 一般に用いられているこの種の媒体用基板の一
例を第４図に示す。同図において、、媒体用基板
１がガラスからなり、中央に円柱状の中心孔１ａ
を有する円板状で、主表面２に記録層が形成され
るが、この主表面２は、エツチングにより形成さ
れた情報の記録再生を行う光のトラツキングを容
易にする同心状や案内溝３（以下、「プレグルー
プ」という。）や、トラツク番号、セクターおよ
びセクター番号等の示すための同心状の小陥部４
（以下、「プレピツト」という。）を有している。
なお、プレグループまたはプレピツトの総称とし
て、以下、情報用溝という。

このような情報用溝を有する媒体用基板は、次
のようにして従来製造していた。まず、ガラス基
板の主表面上に被着したパターン形成用薄膜にホ
トリソグラフイおよびエツチングを施し、情報用
溝を形成するためのパターンを有する基準板とな
るマスクを形成する。一方、媒体用基板用のガラ
スからなる原板の主表面上に塗布したレジスト膜
を、上記マスクを介して露光して当該レジスト膜
の上記パターンを転写し、現像を行つた後、この
パターン化したレジスト膜をマスクとしてガラス
原板の表面をエツチングすることにより情報用溝
を形成する。

次に前述したレジスト膜を除去した後、情報用
溝を反射形の顕微鏡により、情報用溝が形成され
た原板を一枚ずつ目視しその位置を測定し、これ
を基準として中心の位置を決定し、中心孔１ａを
設けるとともに外形を円板状に加工し、媒体用基
板を製造していた。

〔発明が解決しようとする問題点〕

上述した方法において、情報用溝を形成した
後、中央に中央孔を有する円板状に形状加工する
際に、情報用溝のパターンの回転中心と円板状の
媒体用基板の中心孔の中心との位置関係を、でき
るだけ精度良く決定することが望まれる。

ところが、そもそもガラスからなる原板の光反
射率自体が裏面からの反射率を考慮に入れて８％
程度と低いこと、さらに、そのような原板におい
て、情報用溝部分と他の部分とで光反射率の差が
少ないことから、正確に情報用溝の位置を測定す
ることは非常な努力を必要とし、そのため複数の
原板の中心孔の位置を正確に決めることは困難で
あり、原板間において中心孔の位置がばらついて
しまう問題点があつた。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は前記した問題点を除去するためになさ
れたもので、その特徴は、主表面が長方形の板状
物で、前記板状物の隣接する二側面の直角度及び
平面度が、それぞれ所望する値以下に規定してあ
る二枚以上の光情報記録媒体用基板の原板の被エ
ツチング層上に塗布された、それぞれのレジスト
膜に情報用溝を形成するためのパターンを形成
し、前記レジスト膜を現像し、前記被エツチング
層をエツチングして情報用溝を形成し、次に前記
情報用溝を形成した原板の一枚を予備原板とし
て、前記予備原板の中心近傍に、原板の位置決め
をするホルダを備えた孔形成用装置により、中心
孔を形成し、次に前記予備原板の情報用溝と中心
孔との偏心量を求めて前記孔形成用装置を補正
し、二枚目以後の前記原板に、前記補正された孔
形成用装置を用いて中心孔を形成し、原板を円板
状に加工することを特徴とする光情報記録媒体用
基板の製造方法である。

なお、前述した主表面の形状の長方形は、正方
形も含むものである。また、直角度とは、平面部
分と平面部分との組合せにおいて、それらのうち
の一方を基準として、この基準平面に対して直角
な幾何学的平面からの他方の平面部分の狂いの大
きさをいい、平面度とは、平面部分の幾何学的平
面からの狂いの大きさをいう。

〔作用〕

本発明によれば、情報用溝が形成された、複数
の原板に中心孔を設けるとき、原板の隣接する二
側面の直角度及び平面度が、それぞれ所望する値
以下に規定され、かつ原板のうち一枚を予備原板
として中心孔を設け、この中心孔と予備原板の情
報用溝との偏心量を求めた後、残りの原板に中心
孔を形成していることから、中心孔を、ばらつき
の発生を防止して正確に形成することができ、ま
た情報用溝の位置も予備原板に中心孔を形成した
後にのみ測定すればよい。

〔実施例〕

本発明の媒体用基板の製造方法の一実施例につ
いて、第１図〜第３図に基づき詳述する。なお、
第１図は工程を示す断面図、第２図は孔形成用装
置のホルダーに当接された、情報用溝を形成した
予備原板を示す平面図及び第３図は中心孔を形成
した前記予備原板の平面図である。

先ず、主表面が６インチ角の正方形であり、厚
さが2.3mm、一対の隣接する二側面がなす直角度
が43秒であり、この二側面のそれぞれの平面度が
8.1μｍ及び9.3μｍであるアルミノシリケートガラ
スからなる基板１０の一主表面上に、スパツタリ
ング法で厚さ700Åのクロム膜を積層する。次に、
このクロム膜上に厚さ1000Åのポジ型フオトレジ
スト（ヘキスト社製AZ−1350）を回転塗布し、
次に、Arレーザにより間隔2μｍで巾1μｍのパタ
ーンを後記する方法でクロム膜に形成すべく、フ
オトレジストに露光する。次に、このフオトレジ
ストをAZ専用デベロツパで現像し、レジストパ
ターンを形成し、このレジストパターンをマスク
として、硝酸第２セリウムアンモンと過塩素酸と
の混合液を用い、クロム膜をエツチングし、次に
レジストパターンを硫酸で除去し、巾1μｍの凹
部１１を形成したクロム膜パターン１２を有する
基準板１３を製作する（第１図ａ）。

次に、主表面が６インチ角の正方形であり、厚
さが1.2mm、一対の隣接する二側面がなす直角度
が35〜45秒及びこの二側面のそれぞれの平面度が
６〜10μｍの範囲にあるソーダライムガラスから
なる原板用基板１４を20枚用意する。次に、この
基板１４の一主表面上に、電子ビーム蒸着法によ
り、厚さ1500Åのシリコン酸化物膜１５（被エツ
チング層）を積層して、媒体用基板の原板１６を
製作する。次に、このシリコン酸化物膜１５上に
前述したと同様のフオトレジスト１７（膜厚6000
Å）を回転塗布する。なお、シリコン酸化物膜１
５とフオトレジスト１７との間には、シリコン酸
化物膜１５とフオトレジスト１７との付着力を強
化するためのヘキサメチルジシラザンの薄膜（図
示せず。）が介在している。次に、前述した基準
板１３及び原板１６を、露光装置のそれぞれのホ
ルダーに固定する。なお、原板１６の前述した隣
接する二側面が当接する、原板用ホルダーの二側
面は、直角度が36秒であり、ホルダーの二側面の
平面度はそれぞれ、7.3μｍ及び9.3μｍである。次
に、基準板１３を通して、紫外光１８により原板
１６上のフオトレジスト１７を露光し、基準板１
３のクロム膜パターン１２を転写する（同図ｂ）。
この工程は20枚の原板１６についてそれぞれ行
う。次に、フオトレジスト１７をAZ専用デベロ
ツパで現像してレジストパターンを形成し、この
レジストパターン付の原板１６を容量型ドライエ
ツチング装置に収容し、CF₄ガスをこの装置内に
導入してシルコン酸化物膜１７をドライエツチン
グし、レジストパターンをO₂ガスを用いて灰化
処理することにより除去し、間隔2μｍで巾1μｍ
の同心状の情報用溝１９を形成したシリコン酸化
物膜パターン２０を有するパターン付原板２１を
製作する（同図ｃ）。この工程も20枚の原板１６
についてそれぞれ行う。

次に、第２図に示すように、パターン付原板２
１の中心孔を形成するため孔形成用装置の移動ス
テージ２３上に設けられた平面視Ｌ字状の原板位
置決め用ホルダー２２の内側面２２ａ，２２ｂ
に、前述した20枚のパターン付原板２１の内の一
枚（これを予備原板とする。）の隣接する二側面
２１ａ，２１ｂを当接し、移動ステージ２３に形
成されている真空吸着用穴２３ａ〜２３ｄを介し
て、移動ステージ２３に予備原板を吸着する。な
お、ホルダー２２の内側面２２ａと内側面２２ｂ
との直角度は42秒であり、それぞれの内側面２２
ａ，２２ｂの平面度は9.1μｍ及び7.8μｍである。
また、この内側面２２ａ，２２ｂに当接するパタ
ーン付原板２１の二側面２１ａ，２１ｂは、前述
した直角度と平面度を有している面である。次
に、真空吸着された予備原板の中心近傍にコアド
リルを用いて直径15mmの中心孔２４を形成し、中
心孔２４を設けた予備原板２５を製作する（第１
図ｄ）。

次に、第３図に示すように、予備原板２５の中
心孔２４と、この予備原板２５の最も内側の情報
用溝１９との距離を、1μｍ単位の位置移動が可
能な光学顕微鏡により測定し、中心孔２４と情報
用溝１９との偏心量を求める。すなわち、情報用
溝１９の直径Ｘを測定し、Ｘ／２を情報用溝１９
の半径 r₁（中心Ｏ）とし、次に、中心孔２４と情報用溝
１９との距離Ｙ及びこの距離に中心孔２４の直径
を加えた距離Ｚを測定する。そして、中心孔２４
の半径r₂は（Ｚ−Ｙ）／２となることから、中心
孔２４の中心O₁と情報用溝１９の中心Ｏとの偏
心量は、変形r₁と、距離Ｙ及び半径r₂との差とな
る。この偏心量は、先ず予備原板２５の任意の一
方向、例えば第３図で示すα方向の偏心量Ａを求
め、次にその方向と直交する方向β方向の偏心量
Ｂを求めて、α方向及びβ方向の偏心量Ａ，Ｂか
ら予備原板２５の偏心量を√²＋²から求めた。
これにより、中心孔２４を設けた予備原板２５の
偏心量は、1.7mmであつたので、二枚目以後のパ
ターン付原板２１の中心位置に中心孔を設けるた
めに、前述したホルダー２２を有する移動ステー
ジ２３を、コアドリルに対して、その位置を補正
移動し、二枚目以後のパターン付原板２１の19枚
に直径15mmの中心孔２６を設けたパターン付原板
２７を製作した（第１図ｅ）。この19枚のパター
ン付原板２７の偏心量は、６〜14μｍの範囲に抑
えることができた。その後、中心孔２６に芯棒を
通し、回転研削により、前記19枚の中心孔２６を
設けたパターン付原板２７を外径130mmの円板状
に形成し、媒体用基板を製作した。

このようにして製作した媒体用基板は、その
後、例えば情報用溝を形成した主表面に追記形の
記録材料としてTeからなる記録層を300Åの厚さ
に被着し、同様の媒体用基板を２枚、記録層を対
向させて同心的に配置し、その外周部及び中心孔
近傍に0.5mmの厚みのニツケル合金製のリング状
スペーサを介在させ、両基板及びスペーサ間をエ
ポキシ系の接着剤で封止して、内部に空隙を有す
るサンドイツチ状の光情報記録媒体（光メモリー
デイスク）を製作した。

以上のとおり、本例によれば、媒体用基板の原
板の隣接する二側面の直角度及び平面度が、所望
する値に規定され、かつ予備原板により孔形成用
装置を補正し、原板の中心孔の形成位置を正確に
規定するようにしていることから、情報用溝に対
する中心孔の偏心量を小さい値に抑えることがで
き、さらに、複数の媒体用基板間の偏心量のばら
つきも抑えることができる。その結果、本例の媒
体用基板を有する光情報記録媒体は安定した高速
回転が可能となり、また、高速回転時の情報用溝
に対する光学ヘツドの追従性に優れた光情報記録
媒体を製作できる。なお、本例の基準板と、直角
度及び平面度を規定していない従来の原板（直角
度37〜93秒、平面度９〜65μｍ）及び製造方法に
よつて製作された媒体用基板の19枚は、偏心量が
50〜750μｍとなつてしまつている。

本発明は、前記実施例に限らず下記に示すとお
りであつてもよい。すなわち、情報用溝はエツチ
ングされたところを情報用溝としたが、逆にエツ
チングされないところを情報用溝にしてもよい。
また、孔形成用装置のホルダー及び露光装置のホ
ルダーの直角度及び平面度は前記実施例に限らず
適宜決定できるが、望ましくは、各ホルダーの直
角度及び平面度の影響を受けずに中心孔を設ける
ために原板の直角度及び平面度以下がよい。ま
た、前記実施例では、密着露光法により情報用溝
を形成するためのパターンを形成したが、これに
限らずプロキシミテイ露光法、電子線描画法及び
レーザ光による直接描面法等であつてもよい。し
かし、望ましくは、パターン形成時間が短い密着
露光法やプロキシミテイ露光法等の基準板を用い
てパターンを形成する方法がよい。また、前記実
施例では、レジストを塗布した、所望する数量の
原板（前記実施例では19枚）を全て露光した後に
中心孔を設けたが、先ず予備原板により孔形成用
装置を補正したのち、原板１枚毎に露光・現像・
エツチングし、中心孔を設けてもよい。また、前
記実施例の原板は、原板用基板と、シリコン酸化
物膜の被エツチング層とからなるが、他のエツチ
ング層、例えば族、族、族、族の各元素
やそれらの化合物並びにそれらの酸化物や窒化物
等であつてもよい。また、被エツチング層を原板
用基板の表層部として、原板用基板と被エツチン
グ層とを同一材質にしてもよい。また、本発明の
媒体用基板上に積層される記録層は、Te等の追
記型のものに限らず、書き換え型のGdFe等の材
料でもよい。また、再生専用の光情報記録媒体の
媒体用基板としては、前記実施例の被エツチング
層に再生用の情報を凹凸状にして記録しておき、
この被エツチング層上にアルミニウム等の反射膜
を積層したものであつてもよい。また、予備原板
として、前記実施例では、予備原板の被エツチン
グ層と、正確に中心孔を設けるための原板の被エ
ツチング層とを同一の膜としたが、これに限ら
ず、異なる膜例えば、予備原板の被エツチング層
をAlやCrとしてもよい。さらに、原板を円板状
に加工する方法としては、ダイヤモンドカツト法
やレーザ加工法等を用いてもよい。

〔発明の効果〕

以上のとおり、本発明によれば、媒体用基板の
情報用溝に対するパターンの中心に正確に中心孔
を設けることができることから、情報用溝と中心
孔の偏心量を低く抑えることができた。さらに、
中心孔の位置を各々の原板について定める作業を
必要としないため、媒体用基板の生産性を向上さ
せることができた。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第３図は、本発明の一実施例を示す図
であり、第１図は工程を示す断面図、第２図は孔
形成用装置のホルダーに当接された、情報用溝を
形成した予備原板を示す平面図及び第３図は中心
孔を形成した前記予備原板の平面図である。第４
図は情報用溝を設けた一般的な媒体用基板を示す
斜視図である。 １１……凹部、１２……クロム膜パターン、１
３……基準板、１４……原板用基板、１５……シ
リコン酸化物膜、１６……原板、１９……情報用
溝、２０……シリコン酸化物膜パターン、２１…
…パターン付原板、２４……中心孔、２５……中
心孔を設けたパターン付の予備原板、２６……中
心孔、２７……中心孔を設けたパターン付原板。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 主表面が長方形の板状物で、前記板状物の隣
   接する二側面の直角度及び平面度が、それぞれ所
   望する値以下に規定してある二枚以上の光情報記
   録媒体用基板の原板の被エツチング層上に塗布さ
   れた、それぞれのレジスト膜に情報用溝を形成す
   るためのパターンを形成し、前記レジスト膜を現
   像し、前記被エツチング層をエツチングして情報
   用溝を形成し、次に前記情報用溝を形成した原板
   の一枚を予備原板として、前記予備原板の中心近
   傍に、原板の位置決めをするホルダを備えた孔形
   成用装置により、中心孔を形成し、次に前記予備
   原板の情報用溝と中心孔との偏心量を求めて前記
   孔形成用装置を補正し、二枚目以後の前記原板
   に、前記補正された孔形成用装置を用いて中心孔
   を形成し、原板を円板状に加工することを特徴と
   する光情報記録媒体用基板の製造方法。 ２ 原板の主表面が正方形であることを特徴とす
   る特許請求の範囲第１項記載の光情報記録媒体用
   基板の製造方法。