JPH045281A - 不飽和基含有オキサゾリン化合物、これを用いた樹脂組成物、ソルダーレジスト樹脂組成物及びそれらの硬化物 - Google Patents
不飽和基含有オキサゾリン化合物、これを用いた樹脂組成物、ソルダーレジスト樹脂組成物及びそれらの硬化物Info
- Publication number
- JPH045281A JPH045281A JP10532090A JP10532090A JPH045281A JP H045281 A JPH045281 A JP H045281A JP 10532090 A JP10532090 A JP 10532090A JP 10532090 A JP10532090 A JP 10532090A JP H045281 A JPH045281 A JP H045281A
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- resin composition
- compound
- unsaturated group
- solder resist
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- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、新規な不飽和基含有オキ丈ゾυノ化合物、こ
れを用いた特にソルダーレジストとして有用な樹脂組成
物及びその硬化物に関し、さらに詳しくは、新規な不飽
和基含有オキサゾリン化合物、該不飽和基含有オキサシ
リ/化合物と不飽和基含有カルボン酸化合物及び/又は
カルボキシル基を有する熱可塑性高分子結合剤と光重合
開始剤及び希釈剤とを必須成分として含有してなる、元
硬化性、耐熱性、耐溶剤性、耐酸性等に優れ、特に民生
用プリント配線板や産業用プリント配線基板などの製造
に適した弱アルカリ水溶液で現像可能なソルダーレジス
ト樹脂組成物として有用な樹脂組成物及びその硬化物に
関する。
れを用いた特にソルダーレジストとして有用な樹脂組成
物及びその硬化物に関し、さらに詳しくは、新規な不飽
和基含有オキサゾリン化合物、該不飽和基含有オキサシ
リ/化合物と不飽和基含有カルボン酸化合物及び/又は
カルボキシル基を有する熱可塑性高分子結合剤と光重合
開始剤及び希釈剤とを必須成分として含有してなる、元
硬化性、耐熱性、耐溶剤性、耐酸性等に優れ、特に民生
用プリント配線板や産業用プリント配線基板などの製造
に適した弱アルカリ水溶液で現像可能なソルダーレジス
ト樹脂組成物として有用な樹脂組成物及びその硬化物に
関する。
(従来の技術)
近年、各種分野において、省資源、省エネルギー、作業
性向上、生産性向上などの理由により紫外線硬化型組成
物が多用されてきている。
性向上、生産性向上などの理由により紫外線硬化型組成
物が多用されてきている。
プリント配線基板加工分野においても同様の理由により
ソルダーレジストインキ、マーキングインキなど種々の
インキが従来の熱硬化型組成物から紫外線硬化型組成物
へと移行してきている。ソルダーレジストインキは、い
ち早く紫外線硬化型組成物へと移行した。
ソルダーレジストインキ、マーキングインキなど種々の
インキが従来の熱硬化型組成物から紫外線硬化型組成物
へと移行してきている。ソルダーレジストインキは、い
ち早く紫外線硬化型組成物へと移行した。
(発明が解決しようとする課題)
プリント配線基板のレジストパターン形成の際にはスク
リーン印刷法が多く用いられてきたが、かかるスクリー
ン印刷法によると、多(の場合、印刷時のブリード、に
じみ、あるいはダレといった現象が発生し、これがため
に最近のプリメト配線板の高密度化に対応しきれな(な
ってきている。
リーン印刷法が多く用いられてきたが、かかるスクリー
ン印刷法によると、多(の場合、印刷時のブリード、に
じみ、あるいはダレといった現象が発生し、これがため
に最近のプリメト配線板の高密度化に対応しきれな(な
ってきている。
こうした問題点を解決するために、ドライフィルム型の
フォトレジストや、液状の現像可能なし・シストインキ
が市販されているが、ドライフィルム型のフォトレジス
トの場合、熱圧着の際に気泡を生じ易く、耐熱性や密着
性にも不安があり、また高価格であるなどの問題がある
。
フォトレジストや、液状の現像可能なし・シストインキ
が市販されているが、ドライフィルム型のフォトレジス
トの場合、熱圧着の際に気泡を生じ易く、耐熱性や密着
性にも不安があり、また高価格であるなどの問題がある
。
又、液状レジストで現在市販されているものは、有機溶
剤を現像液として使用するものや、希アルカリ水溶液で
現像するもの等があるが、有機溶剤を使用する場合は、
大気汚染の問題の他に、一般に溶剤が高価なうえ、耐溶
剤性、耐酸性にも問題がある。又、希アルカリ水溶液で
現像出来るものは、その硬化物が耐熱性、耐薬品性、金
メツキ耐性等の点で不十分であり、問題がある。
剤を現像液として使用するものや、希アルカリ水溶液で
現像するもの等があるが、有機溶剤を使用する場合は、
大気汚染の問題の他に、一般に溶剤が高価なうえ、耐溶
剤性、耐酸性にも問題がある。又、希アルカリ水溶液で
現像出来るものは、その硬化物が耐熱性、耐薬品性、金
メツキ耐性等の点で不十分であり、問題がある。
(課題を解決するための手段)
本発明者らは、前記の問題を解決するため鋭意研死した
結果、貯蔵安定性が良好で、予備乾燥時の熱安定性に優
れ、感光性に優れ、その硬化皮膜はアルカリ水溶液で現
像が可能であり、又、その硬化皮膜が密着性、電気絶縁
性、半田耐熱性、耐薬品性、金メツキ耐性等に優れたソ
ルダーレジストに適するアルカリ現像型感光性熱硬化性
樹脂組成物を提供することに成功し、本発明を完成した
。
結果、貯蔵安定性が良好で、予備乾燥時の熱安定性に優
れ、感光性に優れ、その硬化皮膜はアルカリ水溶液で現
像が可能であり、又、その硬化皮膜が密着性、電気絶縁
性、半田耐熱性、耐薬品性、金メツキ耐性等に優れたソ
ルダーレジストに適するアルカリ現像型感光性熱硬化性
樹脂組成物を提供することに成功し、本発明を完成した
。
すなわち、本発明は、
1)式〔I〕
凸
(式中、RはH又はCH3である。)
で表される不飽和基含有オキサゾリン化合物、2)上記
1)記載の不飽和基含有オキサゾリン化合動因と不飽和
基含有カルボン酸化合物及び/又はカルボキシル基を有
する熱可塑性高分子結合剤B)と光重合開始剤(C)及
び希釈剤0を含有する樹脂組成物又はソルダーレジスト
樹脂組成物、 3)上記2)記載の樹脂組成物の硬化物、に関する。
1)記載の不飽和基含有オキサゾリン化合動因と不飽和
基含有カルボン酸化合物及び/又はカルボキシル基を有
する熱可塑性高分子結合剤B)と光重合開始剤(C)及
び希釈剤0を含有する樹脂組成物又はソルダーレジスト
樹脂組成物、 3)上記2)記載の樹脂組成物の硬化物、に関する。
本発明の不飽和基含有オキサゾリン化合物は、13−ビ
ス(2−オキサゾリン−2−イルノペノゼンと(メタ〕
アクリル酸を反応させることによって得ることができる
。13−ビス(2−オキサゾリン−2−イル)ベンゼン
と(メタ)アクリル酸を反応させる際、前記オキサシリ
/化合物1七ル当り、(メタ)アクリル酸を0.9〜1
,2モル使用するのが好ましく、特に0.95〜1.0
5モル使用するのが好ましい。反応温度は、50〜13
0°Cが好ましく、特に70〜110°Cが好ましい。
ス(2−オキサゾリン−2−イルノペノゼンと(メタ〕
アクリル酸を反応させることによって得ることができる
。13−ビス(2−オキサゾリン−2−イル)ベンゼン
と(メタ)アクリル酸を反応させる際、前記オキサシリ
/化合物1七ル当り、(メタ)アクリル酸を0.9〜1
,2モル使用するのが好ましく、特に0.95〜1.0
5モル使用するのが好ましい。反応温度は、50〜13
0°Cが好ましく、特に70〜110°Cが好ましい。
反応時間は3〜24時間が好ましく、竹に5〜15時間
が好ましい。反応中の重合を防止するために、公知の重
合禁止剤(例えば、メトキノン、ハイドロキノン、メチ
ルハイドロキノン、フェッチアジア等)を使用するのが
好ましい。
が好ましい。反応中の重合を防止するために、公知の重
合禁止剤(例えば、メトキノン、ハイドロキノン、メチ
ルハイドロキノン、フェッチアジア等)を使用するのが
好ましい。
本発明の樹脂組成物及びソルダーレジスト樹脂組成物に
おける^成分の好ましい使用割合は、不飽和基含有カル
ボン酸化合物及び/又はカルボキシル基を有する熱可塑
性高分子結合剤FB+のカルボキシル基の1化学当量あ
たりiAl成分のオキサゾリン基が0.1〜1.1化学
当量となる割合であり、特に好ましくは0.4〜1.0
化学当量となる割合である。
おける^成分の好ましい使用割合は、不飽和基含有カル
ボン酸化合物及び/又はカルボキシル基を有する熱可塑
性高分子結合剤FB+のカルボキシル基の1化学当量あ
たりiAl成分のオキサゾリン基が0.1〜1.1化学
当量となる割合であり、特に好ましくは0.4〜1.0
化学当量となる割合である。
本発明の樹脂組成物及びソルダーレジスト樹脂組成物の
(Bl成分である不飽和基含有カルボン酸化合物の具体
例としては、エポキシ樹脂(例えば、フェノールノボラ
ック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ
樹脂、トリスフェノールメタントリグリシジルエーテル
、ビスフェノールA型エポキシ樹脂等)と(メタ)アク
リル酸との反応物を更に無水マレイン酸、無水コハク酸
、無水フタル酸、無水テトラクロロフタル酸、無水テト
ラブロモフタル酸、無水エンドメチレンテトラヒドロフ
タル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水へキサヒドロ
フタル酸、無水トリメリット酸等の多塩基性カルボン酸
無水物と反応させて得られる化合物、スチレンあるいは
インブチレンと無水マレイン酸の共重合物(例えば、A
RCO社製、SMA−1000゜SMA−2000,S
MA−3000等、■クラレ社製、クラレイソバン、イ
ソバ/ 10 + イソバ/−06、イソパン−0
4等)とヒドロキシル基含有(メタノアクリレートとの
反応物、及び前記多塩基性カルボン酸無水物とヒドロキ
シル基含有(メタ)アクリレートとの反応物等を挙げる
ことができる。ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレー
トの具体例としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)ア
クリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレ
ート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート及び
ε−カプロラクトン変性2−ヒドロキシエチル(メタ)
アクリレート等を挙げることができる。
(Bl成分である不飽和基含有カルボン酸化合物の具体
例としては、エポキシ樹脂(例えば、フェノールノボラ
ック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ
樹脂、トリスフェノールメタントリグリシジルエーテル
、ビスフェノールA型エポキシ樹脂等)と(メタ)アク
リル酸との反応物を更に無水マレイン酸、無水コハク酸
、無水フタル酸、無水テトラクロロフタル酸、無水テト
ラブロモフタル酸、無水エンドメチレンテトラヒドロフ
タル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水へキサヒドロ
フタル酸、無水トリメリット酸等の多塩基性カルボン酸
無水物と反応させて得られる化合物、スチレンあるいは
インブチレンと無水マレイン酸の共重合物(例えば、A
RCO社製、SMA−1000゜SMA−2000,S
MA−3000等、■クラレ社製、クラレイソバン、イ
ソバ/ 10 + イソバ/−06、イソパン−0
4等)とヒドロキシル基含有(メタノアクリレートとの
反応物、及び前記多塩基性カルボン酸無水物とヒドロキ
シル基含有(メタ)アクリレートとの反応物等を挙げる
ことができる。ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレー
トの具体例としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)ア
クリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレ
ート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート及び
ε−カプロラクトン変性2−ヒドロキシエチル(メタ)
アクリレート等を挙げることができる。
又、(Bl成分であるカルボキシル基を有スる熱可塑性
高分子結合剤の具体例としては、不飽和基を1個有する
カルボ/酸又は酸無水物、例えば、アクリル酸、メタク
リル酸、フマル酸、ケイ皮酸、クロトン酸、プロピオー
ル酸、イタコン酸、マレイン酸、マレインes水物、マ
レイン酸半エステルなどと、メチルアクリレート、メチ
ルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタク
リレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート
、2−エチルへキシルアクリレート、2−エチルへキシ
ルメタクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ビ
ニルアルコールのエーテル類、例えば、ビニル−〇ブチ
ルエーテル、α−位又は芳香族環において1換されてい
る重合可能なスチレン誘導体又はスチレン等の1種以上
とを共重合させて得られるもの等が挙げられる。
高分子結合剤の具体例としては、不飽和基を1個有する
カルボ/酸又は酸無水物、例えば、アクリル酸、メタク
リル酸、フマル酸、ケイ皮酸、クロトン酸、プロピオー
ル酸、イタコン酸、マレイン酸、マレインes水物、マ
レイン酸半エステルなどと、メチルアクリレート、メチ
ルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタク
リレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート
、2−エチルへキシルアクリレート、2−エチルへキシ
ルメタクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ビ
ニルアルコールのエーテル類、例えば、ビニル−〇ブチ
ルエーテル、α−位又は芳香族環において1換されてい
る重合可能なスチレン誘導体又はスチレン等の1種以上
とを共重合させて得られるもの等が挙げられる。
これら、不飽和基含有カルボン酸化合物及び/又はカル
ボキシル基を有する熱可塑性高分子/gである。
ボキシル基を有する熱可塑性高分子/gである。
光重合開始剤(qの代表的なものとしては、ベンゾイン
、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテ
ル、べ/ジインイソプロビルエーテルなどのベンシイ/
とそのアルキルエーテル類;アセトフェノ/、2,2−
ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジ
ェトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1.1−シク
ロロアセトフエノノなどのアセトフェノン類;2−メチ
ルアントラキノン、2−エチルアノトラキノン、2−タ
ーシャリ−ブチルアノトラキノン、1−クロロアントラ
キノン、2−アミノアノトラキノ7などのアントラキノ
ル類;2,4−ジメチルチオキサノド/、2,4−ジエ
チルチオキサント/、2−クロロチオキサント/、2.
4−ジイソプロピルチオキサントンなどのチオキサ7ト
7類;アセトフェノンジメチルケタル類;べ/シフエノ
ンなどのベンゾフェノ7類などがある。かかる光重合開
始剤(C)は、安息香酸系又は第三級アミンなどの公知
慣用の光重合促進剤の1種又は2種以上と組み合わせて
用いることができる。本発明の樹脂組成物及びソルダー
レジスト樹脂組成物における光重合開始剤(C)の使用
量の好適な範囲は、前記(Bl成分の100重量部に対
して0.2〜30重量部、特に好ましくは2〜20重量
部である。
、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテ
ル、べ/ジインイソプロビルエーテルなどのベンシイ/
とそのアルキルエーテル類;アセトフェノ/、2,2−
ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジ
ェトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1.1−シク
ロロアセトフエノノなどのアセトフェノン類;2−メチ
ルアントラキノン、2−エチルアノトラキノン、2−タ
ーシャリ−ブチルアノトラキノン、1−クロロアントラ
キノン、2−アミノアノトラキノ7などのアントラキノ
ル類;2,4−ジメチルチオキサノド/、2,4−ジエ
チルチオキサント/、2−クロロチオキサント/、2.
4−ジイソプロピルチオキサントンなどのチオキサ7ト
7類;アセトフェノンジメチルケタル類;べ/シフエノ
ンなどのベンゾフェノ7類などがある。かかる光重合開
始剤(C)は、安息香酸系又は第三級アミンなどの公知
慣用の光重合促進剤の1種又は2種以上と組み合わせて
用いることができる。本発明の樹脂組成物及びソルダー
レジスト樹脂組成物における光重合開始剤(C)の使用
量の好適な範囲は、前記(Bl成分の100重量部に対
して0.2〜30重量部、特に好ましくは2〜20重量
部である。
希釈剤FD+としては、反応性単量体及び/又は有機溶
剤が使用できる。反応性単量体の代表的なものとしては
、前記のヒドロキシル基含有(メタ)アクリレート類、
とドロキシエチル(メタ)アクリレートのす/酸エステ
ル、N−ビニルピロリドン、アクリロイルモルホリン、
メトキシテトラエチレングリコール(メタ)アクリレー
ト、メトキシポリエチレングI/コール(メタ)アクリ
レート、ポリエチレ7グリコールジ(メタ)アクリレー
ト、N、N−ジメチルアクリルアミド、トリプロビレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、フェノキシエチル
(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ
)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート
、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、
トリメチロールプロパノトリプロポキシトリ(メタ)ア
クリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリ
レート、ジペンタエリスリトールペンタ(又はヘキサ)
(メタ)アクリレート、トリス(ヒドロキシエチル)イ
ンシアヌレートトリ(メタ)アクリレート等がある。有
機溶剤の代表的なものとしては、メチルエチルケト/、
シクロヘキサツノナトのケトン類、トルエ/、キシレン
などの芳香族炭化水素類、セロソルブ、ブチルセロソル
ブなどのセロソルブ類、カルピトール、ブチルカルピト
ールなどのカルピトール類、酢酸ブチル、セロソルダア
セテート、ブチルセロソルブアセテート、カルピトール
アセテート、ブチルカルピトールアセテートなどの酢酸
エステル類などがある。これらは単独でまたは2種以上
組合せて用いられる。本発明の樹脂組成物及びソルダー
レジスト樹脂組成物における希釈剤(Dの使用量の好適
な範囲は、前記(Bl g分100重量部に対して、3
0〜400重量部、特に好ましくは50〜300重量部
である。
剤が使用できる。反応性単量体の代表的なものとしては
、前記のヒドロキシル基含有(メタ)アクリレート類、
とドロキシエチル(メタ)アクリレートのす/酸エステ
ル、N−ビニルピロリドン、アクリロイルモルホリン、
メトキシテトラエチレングリコール(メタ)アクリレー
ト、メトキシポリエチレングI/コール(メタ)アクリ
レート、ポリエチレ7グリコールジ(メタ)アクリレー
ト、N、N−ジメチルアクリルアミド、トリプロビレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、フェノキシエチル
(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ
)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート
、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、
トリメチロールプロパノトリプロポキシトリ(メタ)ア
クリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリ
レート、ジペンタエリスリトールペンタ(又はヘキサ)
(メタ)アクリレート、トリス(ヒドロキシエチル)イ
ンシアヌレートトリ(メタ)アクリレート等がある。有
機溶剤の代表的なものとしては、メチルエチルケト/、
シクロヘキサツノナトのケトン類、トルエ/、キシレン
などの芳香族炭化水素類、セロソルブ、ブチルセロソル
ブなどのセロソルブ類、カルピトール、ブチルカルピト
ールなどのカルピトール類、酢酸ブチル、セロソルダア
セテート、ブチルセロソルブアセテート、カルピトール
アセテート、ブチルカルピトールアセテートなどの酢酸
エステル類などがある。これらは単独でまたは2種以上
組合せて用いられる。本発明の樹脂組成物及びソルダー
レジスト樹脂組成物における希釈剤(Dの使用量の好適
な範囲は、前記(Bl g分100重量部に対して、3
0〜400重量部、特に好ましくは50〜300重量部
である。
本発明の樹脂組成物及びソルダーレジスト樹脂組成物に
は、必要に応じて、更に、エポキシ樹脂(例えば、フェ
ノール・ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール型
エポキシ樹脂、トリスフェノールメタントリグリシジル
エーテル等)と(メタ)アクリル酸の反応物や、上記エ
ポキシ樹脂と、アミ/化合物類、イミダゾール類、フェ
ノール類等などのエポキシ硬化剤等を加えることもでき
る。又、硫酸バリウム、酸化珪素、タルク、クレー 炭
酸カルシウム、酸化アルミなどの公知慣用の充填剤、フ
タロシアニアブルー フタロシアニングリーン、酸化チ
タン、カーボンブラックなどの公知慣用の着色用顔料、
消泡剤、密着性付与剤またはレベリング剤などの各種添
加剤類、あるいは、ハイドロキノン、ハイドロキノンモ
ノメチルエーテル、ピロガロール、フェッチアジアなど
の公知慣用の重合禁止剤類を加えてもよい。
は、必要に応じて、更に、エポキシ樹脂(例えば、フェ
ノール・ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール型
エポキシ樹脂、トリスフェノールメタントリグリシジル
エーテル等)と(メタ)アクリル酸の反応物や、上記エ
ポキシ樹脂と、アミ/化合物類、イミダゾール類、フェ
ノール類等などのエポキシ硬化剤等を加えることもでき
る。又、硫酸バリウム、酸化珪素、タルク、クレー 炭
酸カルシウム、酸化アルミなどの公知慣用の充填剤、フ
タロシアニアブルー フタロシアニングリーン、酸化チ
タン、カーボンブラックなどの公知慣用の着色用顔料、
消泡剤、密着性付与剤またはレベリング剤などの各種添
加剤類、あるいは、ハイドロキノン、ハイドロキノンモ
ノメチルエーテル、ピロガロール、フェッチアジアなど
の公知慣用の重合禁止剤類を加えてもよい。
本発明の樹脂組成物及びソルダーレジスト樹脂組成物は
、各成分を均一に混合することにより碍ることか出来る
。
、各成分を均一に混合することにより碍ることか出来る
。
本発明の樹脂組成物及びソルダーレジスト樹脂組成物は
、常法により紫外線を照射し更に加熱処理することによ
り硬化することができる。
、常法により紫外線を照射し更に加熱処理することによ
り硬化することができる。
紫外線の照射光源としては、低圧、中圧、高圧及び超高
圧水銀灯、キセノ7う/グまたはメタルハライドランプ
などが適当である。加熱は熱風により行なうことが出来
、加熱温度は100〜200°Cが好ましい。本発明の
樹脂組成物は、特にソルダーレジスト樹脂組成物として
有用であるが、その他にも絶縁材料、含浸材、表面被覆
材、塗料、接着剤等としても使用できる。
圧水銀灯、キセノ7う/グまたはメタルハライドランプ
などが適当である。加熱は熱風により行なうことが出来
、加熱温度は100〜200°Cが好ましい。本発明の
樹脂組成物は、特にソルダーレジスト樹脂組成物として
有用であるが、その他にも絶縁材料、含浸材、表面被覆
材、塗料、接着剤等としても使用できる。
(実施例)
以下、本発明を実施例により具体的に説明する。なお実
施例中の「部」は「重量部」である。
施例中の「部」は「重量部」である。
〔不飽和基含有オキサゾリン化合物穴の合成の実施例1
〜2〕 実施例1゜ 1.3−ビス(2−オキサゾリン−2−イル)ベンゼン
216部、アクリル酸76部及びメトキノン0.146
部を仕込み、次いで80°Cで15時間反応を行なうと
、酸価4 mgKOH/g、粘度(60°C)140ボ
イズの生成物が碍もれた。
〜2〕 実施例1゜ 1.3−ビス(2−オキサゾリン−2−イル)ベンゼン
216部、アクリル酸76部及びメトキノン0.146
部を仕込み、次いで80°Cで15時間反応を行なうと
、酸価4 mgKOH/g、粘度(60°C)140ボ
イズの生成物が碍もれた。
得られた生成物の高分解能核磁気共鳴(NMR)による
測定結果を下記に示す。
測定結果を下記に示す。
% 吸収周波数(Hz) Nu 吸収周波数
(Hz)1 2509.765 11 18
98,4372 2500.000 12 1
886.7183 2464.843 13
1191.4064 2021.484 14
1160,1565 1976.562 15
1126 9536 1968.750 1
6 1017,5787 1958.984
17 951.1718 1955.078
18 826.1719 1935.54盛
19 593,75010 1923.82
8 20 0.000なお、上記の測定は
、基準物質としてテトラメチルシランを用い、溶媒は重
クロロホルムを用いてプロトンデカップリング法で行な
った。
(Hz)1 2509.765 11 18
98,4372 2500.000 12 1
886.7183 2464.843 13
1191.4064 2021.484 14
1160,1565 1976.562 15
1126 9536 1968.750 1
6 1017,5787 1958.984
17 951.1718 1955.078
18 826.1719 1935.54盛
19 593,75010 1923.82
8 20 0.000なお、上記の測定は
、基準物質としてテトラメチルシランを用い、溶媒は重
クロロホルムを用いてプロトンデカップリング法で行な
った。
実施例2
1.3−ビス(2−オキサゾリン−2−イル)べ797
216部、メタクリル酸90部及びメトキノン0.15
部を仕込み、次いで80 ’Cで15時間反応を行なう
と、酸価2mgKOH/g、粘度(60°C)55ボイ
ズの生成物が碍られた。
216部、メタクリル酸90部及びメトキノン0.15
部を仕込み、次いで80 ’Cで15時間反応を行なう
と、酸価2mgKOH/g、粘度(60°C)55ボイ
ズの生成物が碍られた。
実施例1と同様に行ったN M Rの測定結果を次に示
す。
す。
% 吸収周波数(Hz ) 聾 吸収周波
数(Hz)1 2519.531 11 1
886,7182 2509.7.65 12
1191.4063 2464.843
13 1158.2034 2042.96
8 14 1126.9535 2023
.437 15 1017.5786 1
968.750 16 951.1717
1955.078 17 826,1718
1935.546 18 593.75
09 1923.828 19 275.
39010 1896.484 20
0.000〔不飽和基含有カルボ/酸化合物fB)の
合成例1〜2〕 合成例1 フェノールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量1
80)1800部、アクリル酸720部、トリフェニル
・スチビン26部、ハイドロキノン1.3部及びブチル
・セロソルブアセテート1407部を仕込み、次いで、
95°Cで24時間反応後、無水へキサヒドロフタル酸
740.6部を仕込み、900Cで24時間反応し、酸
価86mgKOH/g(プチルセロツルブアセテートヲ
のぞいたもの)を有する化合物を得た。
数(Hz)1 2519.531 11 1
886,7182 2509.7.65 12
1191.4063 2464.843
13 1158.2034 2042.96
8 14 1126.9535 2023
.437 15 1017.5786 1
968.750 16 951.1717
1955.078 17 826,1718
1935.546 18 593.75
09 1923.828 19 275.
39010 1896.484 20
0.000〔不飽和基含有カルボ/酸化合物fB)の
合成例1〜2〕 合成例1 フェノールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量1
80)1800部、アクリル酸720部、トリフェニル
・スチビン26部、ハイドロキノン1.3部及びブチル
・セロソルブアセテート1407部を仕込み、次いで、
95°Cで24時間反応後、無水へキサヒドロフタル酸
740.6部を仕込み、900Cで24時間反応し、酸
価86mgKOH/g(プチルセロツルブアセテートヲ
のぞいたもの)を有する化合物を得た。
合成例2
スチレンと無水マレイン酸の共重合物(ARCO社製、
SMA 1000)50 ON、2−にニド0キシ工
チルアクリレート521部、ハイドロキノン0.5部及
びプチルセロソルブアセテート436部を仕込み、90
0Cで24時間反応し、酸価235 mgKOH/g
(ブチルセロソルブアセテートをのぞいたもの)を有す
る化合物を得た。
SMA 1000)50 ON、2−にニド0キシ工
チルアクリレート521部、ハイドロキノン0.5部及
びプチルセロソルブアセテート436部を仕込み、90
0Cで24時間反応し、酸価235 mgKOH/g
(ブチルセロソルブアセテートをのぞいたもの)を有す
る化合物を得た。
〔カルボキシル基を有する熱可塑性高分子結合剤(B)
の合成例3〕 合成例3 A液 メタクリル酸 250部メタクリル酸メ
チル 350部フェノキシエチルアクリレート
450部B液 α、α′−アゾビスーイソーブチロニトリル 5部エ
チルセロソルブアセテ−) 250gA液及びB
液を入れた滴下漏斗と還流冷却管、窒素導入管、撹拌棒
をとりつげたセパラブルフラスコにブチルセロソルブ1
650部を加え、75°CK加熱した。次に3時間かけ
てA、Bの両液を滴下し更に8時間75°Cに保ったま
ま攪拌を続けると、透明な酸価155 mgKOH/g
(溶剤をのぞいたもの)の樹脂溶液が得られた。
の合成例3〕 合成例3 A液 メタクリル酸 250部メタクリル酸メ
チル 350部フェノキシエチルアクリレート
450部B液 α、α′−アゾビスーイソーブチロニトリル 5部エ
チルセロソルブアセテ−) 250gA液及びB
液を入れた滴下漏斗と還流冷却管、窒素導入管、撹拌棒
をとりつげたセパラブルフラスコにブチルセロソルブ1
650部を加え、75°CK加熱した。次に3時間かけ
てA、Bの両液を滴下し更に8時間75°Cに保ったま
ま攪拌を続けると、透明な酸価155 mgKOH/g
(溶剤をのぞいたもの)の樹脂溶液が得られた。
実施例3〜7、比較例1〜2
第1表に示す配合組成に従ってソルダーレジスト樹脂組
成物を配合し、銅スルホールプリント配線板にスラリー
/印刷法にて25μの膜厚で塗布した後、塗膜を70°
Cで60分間乾燥し、ネガフィルムを塗膜に直接接触さ
せない様にして当てる。次いで、5KW超高圧水銀灯を
使用して紫外線を照射し、次いで1.5%Na、、CO
3水溶液で塗腓の未照射部分を溶解除去し、現像性につ
いて溶解速度が速いものは○、溶解しないか又はきわめ
て遅いものは×として評価した。その後、熱風乾燥器で
150°C130分間加熱硬化を行い、得られたそれぞ
れの供試体(硬化皮膜)につき、各種の性能試験を行な
い、ハンダ耐熱性、耐溶剤性、耐酸性、耐アルカリ土類
金メツキ性、密着性、鉛筆硬度、絶縁抵抗(Ω)につい
て評価した。その試験方法と評価のしかたは次に示す通
りである。結果は第1表に示した。
成物を配合し、銅スルホールプリント配線板にスラリー
/印刷法にて25μの膜厚で塗布した後、塗膜を70°
Cで60分間乾燥し、ネガフィルムを塗膜に直接接触さ
せない様にして当てる。次いで、5KW超高圧水銀灯を
使用して紫外線を照射し、次いで1.5%Na、、CO
3水溶液で塗腓の未照射部分を溶解除去し、現像性につ
いて溶解速度が速いものは○、溶解しないか又はきわめ
て遅いものは×として評価した。その後、熱風乾燥器で
150°C130分間加熱硬化を行い、得られたそれぞ
れの供試体(硬化皮膜)につき、各種の性能試験を行な
い、ハンダ耐熱性、耐溶剤性、耐酸性、耐アルカリ土類
金メツキ性、密着性、鉛筆硬度、絶縁抵抗(Ω)につい
て評価した。その試験方法と評価のしかたは次に示す通
りである。結果は第1表に示した。
(・・ノダ耐熱性)
260 ’Cの溶融ハンダに2分間浸漬した後の硬化皮
膜の状態について判定した。
膜の状態について判定した。
O・・・・・・・・・硬化皮膜の外観異状なし。
×・・・・・・・・・硬化皮膜のふくれ、溶融、剥離が
認められる。
認められる。
(耐溶剤性)
塩化メチレン中K 20 ’Cで1時間浸漬させたのち
の硬化皮膜の状態と密着性とを総合的に判定評価した。
の硬化皮膜の状態と密着性とを総合的に判定評価した。
認められる。
(密着性)
硬化皮膜にl X l mmの大きさのゴノ;ン目を1
00個刻み、セロハンテープで剥離した後に剥離しない
で残ったゴバ/目の数によって密着性を評価した。
00個刻み、セロハンテープで剥離した後に剥離しない
で残ったゴバ/目の数によって密着性を評価した。
(鉛筆硬度)
JIS K−5400の試験法に従って鉛筆硬度試験機
を用いて荷重IKgを掛けたさいの硬化皮膜にキズが付
かない最も高い硬度を以って表示した。
を用いて荷重IKgを掛けたさいの硬化皮膜にキズが付
かない最も高い硬度を以って表示した。
(耐酸性)
10重量%の塩酸水溶液中に、20°Cで30分間浸漬
させたのちの硬化皮膜の状態と密着性とを総合的に判定
し評価した。
させたのちの硬化皮膜の状態と密着性とを総合的に判定
し評価した。
○・・・・・・・・・硬化皮膜に全く変化なし。
Hし
×・・・・・・・ 硬化皮膜の検温、脱落が認められる
。
。
(耐アルカリ性)
10重量%の水酸化ナトリウム水溶液に2500.15
分間浸漬し、耐酸性試験と同様に判定し評価した。
分間浸漬し、耐酸性試験と同様に判定し評価した。
(耐金メツキ性)
セルレックス社製、オートロネクスCI(メツキ液)を
使用して、L A / dm2の電流苦度で15分間、
金メツキを行った後、硬化皮膜のII離テストをセロテ
ープを用(・て行なった。
使用して、L A / dm2の電流苦度で15分間、
金メツキを行った後、硬化皮膜のII離テストをセロテ
ープを用(・て行なった。
○・・・・・・・・・全く剥れない。
×・・・・・・・・硬化皮膜の一部又は全部が剥れた。
(絶縁抵抗)
JIS Z−3197に従って、80°C295%RH
の雰囲気中に240時間放置し、その硬イヒ皮膜の絶縁
抵抗を測定した。
の雰囲気中に240時間放置し、その硬イヒ皮膜の絶縁
抵抗を測定した。
※■SMA−17352 : ARCO社表、スチ
レンと無水マレイン酸の共重合物の飽和 脂肪族アルコールとの反応物 ※■DETX : 日本化薬■製、光重合開始剤、ン ジエチルチオキ杓ン ※■DPHA :日本化薬■製、反応性モノマシヘン
タエリスリトールヘキサ (及びペンタ)アクリレート ※■ EPA : 日本化薬■製、光重合促進剤、
N、N−ジメチル安息香酸エチルエステル ※■エポキシアクリレート:フェノールノポランク型エ
ポキシ樹脂(日本化薬(株制、EPPN−201)とア
クリル酸の反応物のブチル・セロソルブアセテート20 チ希釈品。
レンと無水マレイン酸の共重合物の飽和 脂肪族アルコールとの反応物 ※■DETX : 日本化薬■製、光重合開始剤、ン ジエチルチオキ杓ン ※■DPHA :日本化薬■製、反応性モノマシヘン
タエリスリトールヘキサ (及びペンタ)アクリレート ※■ EPA : 日本化薬■製、光重合促進剤、
N、N−ジメチル安息香酸エチルエステル ※■エポキシアクリレート:フェノールノポランク型エ
ポキシ樹脂(日本化薬(株制、EPPN−201)とア
クリル酸の反応物のブチル・セロソルブアセテート20 チ希釈品。
本発明の化合物を含む本発明の樹脂組成物は、希アルカ
リ水溶液で現像可能で、耐熱性、密着性、耐溶剤性、耐
酸性、耐メツキ性及び電気特性等に優れた硬化物を得る
ことが出来、ソルダレジスト樹脂組成物に適する。
リ水溶液で現像可能で、耐熱性、密着性、耐溶剤性、耐
酸性、耐メツキ性及び電気特性等に優れた硬化物を得る
ことが出来、ソルダレジスト樹脂組成物に適する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、RはH又はCH_3である。) で表される不飽和基含有オキサゾリン化合物。 2、請求項1記載の不飽和基含有オキサゾリン化合物(
A)と不飽和基含有カルボン酸化合物及び/又はカルボ
キシル基を有する熱可塑性高分子結合剤(B)と光重合
開始剤(C)及び希釈剤(D)を含有する樹脂組成物。 3、請求項1記載の樹脂組成物からなるソルダーレジス
ト樹脂組成物。 4、請求項2又は3に記載の樹脂組成物の硬化物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10532090A JPH045281A (ja) | 1990-04-23 | 1990-04-23 | 不飽和基含有オキサゾリン化合物、これを用いた樹脂組成物、ソルダーレジスト樹脂組成物及びそれらの硬化物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10532090A JPH045281A (ja) | 1990-04-23 | 1990-04-23 | 不飽和基含有オキサゾリン化合物、これを用いた樹脂組成物、ソルダーレジスト樹脂組成物及びそれらの硬化物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH045281A true JPH045281A (ja) | 1992-01-09 |
Family
ID=14404420
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10532090A Pending JPH045281A (ja) | 1990-04-23 | 1990-04-23 | 不飽和基含有オキサゾリン化合物、これを用いた樹脂組成物、ソルダーレジスト樹脂組成物及びそれらの硬化物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH045281A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0749045A2 (en) * | 1995-05-17 | 1996-12-18 | Sun Chemical Corporation | Photosensitive compositions and their use in lithographic plates |
AT511707A4 (de) * | 2011-09-13 | 2013-02-15 | Austria Tech & System Tech | Fotolack |
JP6084716B1 (ja) * | 2016-01-12 | 2017-02-22 | 株式会社フジクラ | レジスト組成物 |
JP2019167315A (ja) * | 2018-03-26 | 2019-10-03 | オイケム合同会社 | オキサゾリン化合物、架橋剤および樹脂組成物 |
WO2023085390A1 (ja) * | 2021-11-12 | 2023-05-19 | 日産化学株式会社 | 液晶配向剤、液晶配向膜、及び液晶表示素子 |
-
1990
- 1990-04-23 JP JP10532090A patent/JPH045281A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0749045A2 (en) * | 1995-05-17 | 1996-12-18 | Sun Chemical Corporation | Photosensitive compositions and their use in lithographic plates |
EP0749045A3 (en) * | 1995-05-17 | 1997-11-12 | Sun Chemical Corporation | Photosensitive compositions and their use in lithographic plates |
AT511707A4 (de) * | 2011-09-13 | 2013-02-15 | Austria Tech & System Tech | Fotolack |
AT511707B1 (de) * | 2011-09-13 | 2013-02-15 | Austria Tech & System Tech | Fotolack |
JP6084716B1 (ja) * | 2016-01-12 | 2017-02-22 | 株式会社フジクラ | レジスト組成物 |
JP2017125099A (ja) * | 2016-01-12 | 2017-07-20 | 株式会社フジクラ | レジスト組成物 |
JP2019167315A (ja) * | 2018-03-26 | 2019-10-03 | オイケム合同会社 | オキサゾリン化合物、架橋剤および樹脂組成物 |
WO2023085390A1 (ja) * | 2021-11-12 | 2023-05-19 | 日産化学株式会社 | 液晶配向剤、液晶配向膜、及び液晶表示素子 |
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