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JPH04502786A - Protection of lead-containing anodes during chrome electroplating - Google Patents

Protection of lead-containing anodes during chrome electroplating

Info

Publication number
JPH04502786A
JPH04502786A JP3500497A JP50049791A JPH04502786A JP H04502786 A JPH04502786 A JP H04502786A JP 3500497 A JP3500497 A JP 3500497A JP 50049791 A JP50049791 A JP 50049791A JP H04502786 A JPH04502786 A JP H04502786A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
bath
amount
chromium
ranges
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP3500497A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
ニュービー,ケネス ラス
Original Assignee
アトフィナ・ケミカルズ・インコーポレイテッド
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=23714188&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JPH04502786(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by アトフィナ・ケミカルズ・インコーポレイテッド filed Critical アトフィナ・ケミカルズ・インコーポレイテッド
Publication of JPH04502786A publication Critical patent/JPH04502786A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D21/00Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
    • C25D21/12Process control or regulation
    • C25D21/14Controlled addition of electrolyte components
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/04Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium

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Abstract

The present invention provides a process for electroplating chromium using lead anodes while achieving the advantages of using methanesulfonic acid without suffering the excessive anode-corrosion characteristics associated with that acid. Accordingly, chromium is electrodeposited from a bath containing chromic acid, sulfate and an alkylpolysulfonic acid containing from one to about three carbon atoms. The invention also provides a plating process for chromium electrodeposition, a plating bath for use in the inventive process, and a replenishment composition for existing plating baths.

Description

【発明の詳細な説明】 クロム電気めっき中の鉛含有陽極の保護発明の背景 関連出願への参照 本願は、1989年11月6日付けで出願された本件出願人 に係る、現在出願中の米国特許出願番号431,963号の部分継続出願である 。[Detailed description of the invention] Protection of lead-containing anodes during chromium electroplating Background of the invention Reference to related applications This application was filed on November 6, 1989 by the applicant. is a continuation-in-part of currently pending U.S. Patent Application No. 431,963. .

発明の分野 本発明は、金属電気めっき工程中粉陽極を腐食から保護するための 技術分野のものである。特には、本発明は、鉛或いは金粉陽極を使用して、密着 した光沢あるクロム電着物を高い効率で生成する条件の下でクロムを電気めっき するための方法及び組成物を提供するものであり、この場合陰極低電流密度エツ チングが既存の高効率触媒システムと比較して実質上低減される。FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a method for protecting powder anodes from corrosion during metal electroplating processes. It is in the technical field. In particular, the present invention uses lead or gold powder anodes to Electroplating of chromium under conditions that produce highly efficient shiny chrome electrodeposit The present invention provides methods and compositions for conducting cathode low current density etching. ting is substantially reduced compared to existing high efficiency catalyst systems.

本発明は更に、陽極腐食を低減しつつ消耗したすなわち有効成分のな(なった浴 の補給のための組成物を提供する。The present invention further provides for reducing anodic corrosion while eliminating depleted or active ingredients. Provides a composition for supplementation of.

先行技術の記述 クロム電気めっきにおける成る種の短鎖のアルキルスルホン酸 の幾つかの利点が装飾及び機能めっき系両方に対して記述されている。チェツシ ン(Chessin )に付与されそして本件と同一出願人に譲渡された米国特 許第3,745,097号は、めっき物品に光沢のある玉虫色のクロム表面を生 成するために成る種のカルボン酸と組合わせて、アルキルスルホン酸或いはハロ アルキルスルホン酸を含む装飾用電気めっき浴を開示する。米国特許第4,58 8,481号において、チェシン等は更に、1/3以上の硫黄対炭素の比率を有 するが、カルボン酸を含まないアルキルスルホン酸を使用する機能性クロム電気 めっき方法を開示し、この方法は、陰極低電流密度エツチングを生じることなく 昇温下でそして高い効率で生成される硬質の密着したクロム電着物をもたらす。Description of the prior art: Species of short-chain alkyl sulfonic acids in chromium electroplating Several advantages have been described for both decorative and functional plating systems. Chetushi United States patent granted to Chessin and assigned to the same applicant as this case. No. 3,745,097 creates a shiny iridescent chrome surface on plated articles. Alkyl sulfonic acids or halo A decorative electroplating bath containing an alkyl sulfonic acid is disclosed. U.S. Patent No. 4,58 No. 8,481, Chasin et al. However, functional chromium electricity using alkyl sulfonic acids that do not contain carboxylic acids Discloses a plating method that does not result in cathodic low current density etching. It results in hard, adherent chromium electrodeposits produced at elevated temperatures and with high efficiency.

しかし、この米国特許第4,588゜481号により教示されたクロムめっき浴 は、そこでの開示に記載された高い効率のメッキをもたらしはしたが、反面陽極 上へのスケールの蓄積並びに陽極のエツチングと腐食という苛酷な問題を生じた 。この米国特許第4.588,481号の開示は、メタン−スルホン酸(MSA )、エタン−スルホン酸(ESA) 、メタンジスルホン酸(MDSA)、及び 1.2−エタンジスルホン酸(EDSA)を含めて様々のスルホン酸を特定的に 挙げている。一般に、経済的な理由のために、MSAが、スケール累積及び陽極 腐食を発生したけれども、市場に出現したクロムめっきに対する多数の工業的な 実用例のうちで特に有用視された試剤となった。However, the chromium plating bath taught by U.S. Pat. produced the high efficiency plating described in the disclosure therein, but on the other hand, the anode This created severe problems with scale build-up on top and etching and corrosion of the anode. . The disclosure of this U.S. Pat. No. 4,588,481 is that methane-sulfonic acid (MSA) ), ethane-sulfonic acid (ESA), methanedisulfonic acid (MDSA), and 1.Specific analysis of various sulfonic acids, including 2-ethanedisulfonic acid (EDSA) listed. Generally, for economic reasons, MSA is limited to scale accumulation and anode Numerous industrial applications against chrome plating that have appeared on the market It was a reagent that was considered particularly useful in practical applications.

上に述べたように、MSAを使用するクロムめっきプロセスが工業的に定着化し そして利用されるとき、鉛或いは従来からの鉛合金陽極を使用する機能性めっき において障害が生じた。米国特許第4,588,481号の発行に続いての陽極 腐食問題への研究の結果、めっき浴におけるMSAが一般に長期操作後従来から のめっきプロセスにおいて観察される腐食に比較して陽極の過剰の腐食をもたら すことが判明した。As mentioned above, the chrome plating process using MSA has become established in industry. and functional plating using lead or conventional lead alloy anodes when utilized. A failure occurred in Anode following publication of U.S. Patent No. 4,588,481 Research into corrosion issues has shown that MSA in plating baths is generally less than conventional after long-term operation. resulting in excessive corrosion of the anode compared to the corrosion observed in the plating process. It turned out that

[従来からのめっきプロセス」或いは「従来型式の浴」とはここでは、必須成分 としてクロム酸及び硫酸塩イオンを含んでなるめっき浴を使用して実施されるも のとして定義され、この場合硫酸塩イオンは一般に硫酸或いは硫酸ナトリウムに より与えられるが、但しこれらは限定的な源ではなく、必要要件は可溶の硫酸塩 が提供されればよいことだけである。MSAを含有する浴を使用して機能性クロ ム電気めっきを行なうに当たり鉛陽極が反復的に使用されると、陽極が従来型式 の浴におけるより一層急速に崩壊し、従って類似的な従来型式の浴における陽極 よりも格段に早く交換せねばならないことが見出された。本明細書において、用 語「鉛陽極Jとは、鉛或いは錫乃至アンチモンを単独で或いは他の金属と組み合 わせて様々の比率で含有する鉛合金から形成されためっき浴用陽極を定義するこ とを意図するものである。そうした材料は当業者によく知られており従ってそう した意味で本発明の一部を構成するものではない。[Conventional plating process] or "conventional bath" means that the essential ingredients are It is also carried out using a plating bath comprising chromic acid and sulfate ions as In this case, the sulfate ion is generally sulfuric acid or sodium sulfate. provided by soluble sulfate, but these are not the limiting source and the requirement is All that is required is that it be provided. Functional cloning using a bath containing MSA Repeated use of lead anodes in electroplating may cause the anodes to anodes in similar conventional baths. It was discovered that it had to be replaced much sooner. In this specification, the use The term “lead anode J” refers to lead, tin, or antimony used alone or in combination with other metals. It is also possible to define anodes for plating baths formed from lead alloys containing lead in various proportions. It is intended that Such materials are well known to those skilled in the art and therefore It does not constitute a part of the present invention in that sense.

本発明者による米国特許第4,786,378号において、陽極腐食を低減する 試みにおいてMSAを使用する浴にビスマス、砒素或いはアンチモンイオンが浴 中に導入された。その後、電気めっきプロセスにおいてスルホン酸の使用を記載 する米国特許第4,810.337号において、本発明者は、MSAの使用と関 連してここで記載される陽極腐食問題の一つの対策を開示した。その特許におい て、本発明者は、MSAを使用するめっきプロセスにおいて厚いスケールの付着 物が発生することを認識しそして観察されたスケール累積とそれに随伴する腐食 を低減するためにめっきプロセスに先立って両電極間に比較的高い電圧を印加し た。In US Pat. No. 4,786,378 by the inventor, reducing anodic corrosion In trials, baths using MSA were exposed to bismuth, arsenic, or antimony ions. introduced inside. Later, the use of sulfonic acids in the electroplating process was described In U.S. Pat. No. 4,810.337, the inventor describes the use of MSA In addition, one countermeasure for the anodic corrosion problem described herein has been disclosed. That patent smell Therefore, the present inventor has discovered that thick scale adhesion can be prevented in the plating process using MSA. scale accumulation and accompanying corrosion observed. A relatively high voltage is applied between both electrodes prior to the plating process to reduce Ta.

この問題に対するまた別の試みられた解決策は、MSAを含有する浴組成物によ る侵食に耐性のある材料を追求することであった6例えば、1986年、7月2 5日に出願された西独特許出願3,625.187A号において、約9重量%ま でのアンチモン或いは約1重量%までのパラジウムを含み、少量の錫及び/或い はセレンを伴うか或いは伴わない、鉛から成る陽極が55℃においてそして30 〜32 A / dm” (a、s、d、)の範囲内の陰極電流密度及び25〜 30 a、s、d、の陽極電流密度を使用して実施される機能性電気クロム電気 メッキにおいて使用されるとき「良好な結果」を示すものとして報告されて本発 明者はまた、MSAに伴う不純物がこの問題に少なくとも部分的に関与している かもしれないとの仮定において、陽極腐食についてのMSAの純度の影響を研究 した。以下に示す表IIと関連して認識されるように、これは該当しないことが 見出された。Another attempted solution to this problem is through bath compositions containing MSA. For example, on July 2, 1986, In West German patent application No. 3,625.187A filed on the 5th, approximately 9% by weight up to about 1% by weight of palladium, with small amounts of tin and/or Anodes consisting of lead with or without selenium were tested at 55°C and 30°C. Cathode current density within the range of ~32 A/dm" (a, s, d,) and 25 ~ Functional electrochromic electrolysis carried out using anodic current densities of 30 a, s, d. This product has been reported to show "good results" when used in plating. The authors also believe that impurities associated with MSA are at least partially responsible for this problem. Study the effect of MSA purity on anodic corrosion, assuming that did. As recognized in connection with Table II below, this may not be the case. discovered.

以上の刊行物や実験研究は、少なくとも部分的に、めっきに際しての陽極スケー ル及び腐食の影響の大きさ並びにその解決への様々の方策を示している。しかし ながら、本発明の基礎となる知見に至るまでは、クロムめっき業界の研究者は、 めっき用触媒として使用されるアルキルポリスルホン酸がめつき効率を改善しそ して同時に陽極腐食を低減しうろことを認識しなかった。These publications and experimental studies are at least partially related to the anodic scaling during plating. It shows the magnitude of the effects of corrosion and corrosion, as well as various strategies for solving them. but However, until the knowledge that formed the basis of the present invention was reached, researchers in the chrome plating industry had Alkyl polysulfonic acids used as plating catalysts may improve plating efficiency. I didn't realize that it would reduce anodic corrosion at the same time.

MSAおよびESAは一般には、機能性クロムめっきプロセス用のめっき浴にお いて有用な添加剤として認知されている。しかしながら、上に論議したように、 関連文献は、MSA (工業基準)を含有するめっき浴において鉛陽極を使用し て長期間クロムが機能性電気めっきされるとき苛酷な陽極腐食の問題を示した。MSA and ESA are commonly used in plating baths for functional chrome plating processes. It is recognized as a useful additive. However, as discussed above, Related literature describes the use of lead anodes in plating baths containing MSA (industrial standard). showed severe anodic corrosion problems when chromium was functionally electroplated for long periods of time.

特筆すべきこにすることなく、この問題に対する経済的な解決への特定の手段を 何ら示唆或いは開示していない。Without giving too much attention to it, I would like to suggest a specific means to an economical solution to this problem. Nothing is suggested or disclosed.

発明の概要 本発明は、長期使用後めっき浴により陽極の過剰腐食を実質上低減もしくは排除 する条件の下で鉛陽極を使用して基材金属陰極上に高効率でエツチングを生じな いめっき浴からクロムを機能性電気めっきする方法及び組成物を提供する。本発 明方法は、基材金に陰極と鉛陽極とをクロムの有用な電着物を得るに充分量のク ロム酸及び硫酸塩イオンと、1からほぼ3炭素原子数を有する、少な(とも1種 のアルキルポリスルホン酸、ハロゲン化アルキルポリスルホン酸或いはその塩と から実質土酸るめっき浴と接触し、そして少なくとも20%の陰極効率において 、少なく共約30 a、s、d、の電流密度及び約45〜70℃のめっき温度に おいて所望の機能性クロム電着物を得るに充分の時間、しかも最小限の低電流密 度エツチングしか生じないように腐食をもたらしやすいモノスルホン酸の実質上 不存在下でクロムを電着することを包含する。本明細書で使用するものとして、 「腐食をもたらすモノスルホン酸の実質上不存在下で」という用語は、めっき浴 中に1種以上のモノスルホン酸乃至塩を、浴に添加されるにせよその場で生成さ れるにせよ、従来型式のめっき浴において遭遇した水準を超える陽極腐食をもた らすに不十分量しか含まないことを意味するのに使用される。Summary of the invention The present invention substantially reduces or eliminates excessive corrosion of the anode by plating bath after long-term use. Using a lead anode under conditions of high efficiency and no etching on the base metal cathode. A method and composition for functional electroplating of chromium from a silver plating bath are provided. Main departure The method involves adding a cathode and a lead anode to a gold substrate in sufficient quantity to obtain a useful electrodeposit of chromium. romic acid and sulfate ions, and a small number of (both one type of alkyl polysulfonic acids, halogenated alkyl polysulfonic acids or salts thereof. in contact with a plating bath containing a substantial amount of soil, and at a cathode efficiency of at least 20%. , at a current density of at least about 30 a, s, d, and a plating temperature of about 45 to 70 °C. for a sufficient period of time to obtain the desired functional chromium electrodeposit, but at a minimum low current density. Virtually no monosulfonic acid, which is prone to corrosion, can only cause etching. Including electrodepositing chromium in its absence. As used herein: The term "in the substantial absence of corrosive monosulfonic acids" refers to One or more monosulfonic acids or salts are added to the bath or are generated in situ. However, the anodic corrosion exceeds the levels encountered in conventional plating baths. used to mean that it contains an insufficient amount of water.

好ましい具体例の記述 本発明の好ましい具体例は、腐食をもたらしつる量のモノスルホン酸の実質上不 存在下で鉛陽極を使用して基材金属陰極上にエツチングのない高効率めっき浴か らクロムが電気めっきされることを保証する組成物であり、この組成物は、クロ ムの所望の電着物を得るに充分量のクロム酸及び硫酸塩イオンと、1からほぼ3 炭素原子数を有する、少なくとも1種のアルキルポリスルホン酸、ハロゲン化ア ルキルポリスルホン酸或いはその塩とを含む。本発明方法は、基材金属陰極と鉛 陽極とを、クロムの有用な電着物を得るに充分量のクロム酸及び硫酸塩イオンと 、1からほぼ3炭素数を有する、少なくとも1種のアルキルポリスルホン酸、ハ ロゲン化アルキルポリスルホン酸或いはその塩とから実質上成るめっき浴と接触 し、そして少なくとも20%の陰極効率において、約11〜約230 a、s、 d、の電流密度においてそして約45〜約70℃のめっき温度において所望の光 沢のある密着したクロム電着物を得るに充分の時間クロムを電着することを包含 する。Description of preferred embodiments Preferred embodiments of the invention include substantially free of corrosive amounts of monosulfonic acid. A high-efficiency plating bath with no etching on the base metal cathode using a lead anode in the presence of This composition ensures that chromium is electroplated. chromate and sulfate ions in sufficient amounts to obtain the desired electrodeposit of 1 to approximately 3 At least one alkyl polysulfonic acid, halogenated atom, having a number of carbon atoms Contains rukyl polysulfonic acid or its salt. The method of the present invention uses a base metal cathode and a lead metal cathode. the anode with sufficient amounts of chromate and sulfate ions to obtain useful deposits of chromium. , at least one alkyl polysulfonic acid having from 1 to approximately 3 carbon atoms; Contact with a plating bath consisting essentially of rogogenated alkyl polysulfonic acid or its salt and at a cathode efficiency of at least 20%, from about 11 to about 230 a, s, d, and at a plating temperature of about 45 to about 70°C. Involves electrodepositing chromium for a sufficient period of time to obtain a dense and adherent chromium electrodeposit. do.

クロムめっきプロセスにおける陽極腐食を低減せんとする試みの過程において、 驚くべきことに、鉛陽極と共に使用のためのクロム電気めっき浴において成る種 のアルキルポリスルホン酸によるMSAの実質量の置換がめつき効率或いはクロ ム密着性を犠牲にすることなく陽極腐食量を劇的に減少することが見いだされた 。すなわち、本発明に従うアルキルポリスルホン酸或いはその塩の使用は、有用 なりロムめっき物品、即ちその特性が先行技術の高効率浴使用において得られた 特性と少な(とも同程度に良好であるような物品の製造を可能ならしめる。In an attempt to reduce anodic corrosion in the chrome plating process, Surprisingly, the species consisting in chromium electroplating baths for use with lead anodes Substitution of a substantial amount of MSA by alkyl polysulfonic acid increases plating efficiency or chromatography. It was found that the amount of anodic corrosion can be dramatically reduced without sacrificing adhesiveness. . That is, the use of alkyl polysulfonic acid or its salt according to the present invention is useful. ROM-plated articles, i.e., whose properties were obtained in the use of high-efficiency baths of the prior art. This makes it possible to manufacture articles with similar properties.

本発明の利益は、めっき浴において、lからほぼ3炭素原子数を有するアルキル ポリスルホン酸、ハロゲン化アルキルポリスルホン酸並びにこうした酸及びハロ ゲン化酸の塩(これら酸及び塩もlからほぼ3の炭素原子を含む)から成る群か ら選択される少なくとも1種の物質の使用により実現されつる。ハロゲン化酸は 、炭素原子と結合した弗素、塩素、臭素及び沃素を含むものである。弗素及び塩 素置換誘導体が好ましい。代表的な酸及び塩としては、MDSA、モノ−及びジ クロロ−メタンジスルホン酸、1.1−エタンジスルホン酸及びモノクロロー或 いは1.2−ジクロロエタンジスルホン酸並びにそれらの塩が挙げられる。但し 、その塩の添加により生じたクロム或いは硫酸塩成分の沈殿が存在してはならな い。好ましい陽イオンはアルカリ金属から選択される。ナトリウム及びカリウム 塩が特に好ましい0本発明におけるアルキルポリスルホン酸或いは塩は次の式を 有する: R,−[C,−(So□OH)、] 。An advantage of the present invention is that in a plating bath, an alkyl having from 1 to approximately 3 carbon atoms Polysulfonic acids, halogenated alkyl polysulfonic acids and such acids and halogenated The group consisting of salts of genic acids (these acids and salts also contain from 1 to approximately 3 carbon atoms) This is achieved by using at least one substance selected from the following. halogenated acid is , fluorine, chlorine, bromine and iodine combined with carbon atoms. Fluorine and salt Elementary substituted derivatives are preferred. Typical acids and salts include MDSA, mono- and di- Chloro-methane disulfonic acid, 1,1-ethane disulfonic acid and monochloro Examples include 1,2-dichloroethanedisulfonic acid and salts thereof. however There shall be no precipitation of chromium or sulfate components resulting from the addition of the salt. stomach. Preferred cations are selected from alkali metals. sodium and potassium Salts are particularly preferred. The alkyl polysulfonic acid or salt in the present invention has the following formula: Has: R, -[C, -(So□OH), ].

Xよ ここで、a及びbは独立してO〜2の範囲をとり、nは1〜3の範囲にあり、m 及びyは独立して1〜3の範囲をとるが、但し分子におけるスルホン基の総数は 2以上であり、Xはハロゲン或いは酸素であり、Rは非置換低級アルキル或いは 置換低級アルキルであり、この場合Rにおける置換基はハロゲン或いは酸素であ り、そして水素は水素が存在しない場合でも炭素或いは酸素に占有されない任意 の位置、すなわち炭素或いは酸素の満たされていない原子価を満足する任意の位 置を占める。当業者は、本発明の塩が例えばナトリウム、カリウム等のような金 属によるスルホン基の不安定な水素の置換により形成されうることを認識しよう 。It's X Here, a and b independently range from O to 2, n ranges from 1 to 3, and m and y independently range from 1 to 3, provided that the total number of sulfone groups in the molecule is 2 or more, X is halogen or oxygen, and R is unsubstituted lower alkyl or Substituted lower alkyl, in which case the substituent in R is halogen or oxygen. and hydrogen is any carbon or oxygen not occupied even when hydrogen is not present. position, that is, any position that satisfies the unfilled valence of carbon or oxygen. occupies a place. Those skilled in the art will appreciate that the salts of the present invention may include metal salts such as sodium, potassium, etc. Let us recognize that it can be formed by substitution of a labile hydrogen of a sulfonic group by the genus .

上の式に呈示したように、本発明のアルキルポリスルホン酸は炭素原子と結合し た少な(とも2つのスルホン酸基を含有し、そして成る一つの炭素原子は3つま でのスルホン酸基をそこに付属せしめることができる。As presented in the above formula, the alkyl polysulfonic acid of the present invention is bonded to a carbon atom. one carbon atom consists of three A sulfonic acid group can be attached thereto.

本発明の実施において、ポリスルホン酸或いはその塩は、機能性クロムめっき浴 に実質上触媒量において含められる。本発明の範囲及び精神内において、そして めっき条件に依存して、この量は、約0.25〜約40グラム/リツトル(g/ l) 、好ましくは約1〜12g/lのアルキルポリスルホン酸、ハロゲン化ア ルキルポリスルホン酸或いはその塩として決定された。特に好ましい量は、2〜 8g/lの範囲である。好ましい具体例において、アルキルポリスルホン酸はM DSAである。In the practice of the present invention, polysulfonic acid or its salt is used in a functional chromium plating bath. in substantially catalytic amounts. Within the scope and spirit of the invention, and Depending on the plating conditions, this amount ranges from about 0.25 to about 40 grams per liter (g/liter). l), preferably about 1 to 12 g/l of alkyl polysulfonic acid, halogenated atom It was determined to be lucyl polysulfonic acid or its salt. A particularly preferable amount is 2 to It is in the range of 8g/l. In a preferred embodiment, the alkyl polysulfonic acid is M It is DSA.

本明細書において使用されるものとして、「過剰の腐食Jとは、従来からのめっ きプロセスにおいて観察される腐食を認めつるほどに超える腐食量である。「長 期J使用とは、従来からのシステムにおける鉛陽極のその認知可能な腐食を結果 的にもたらす使用量である。As used herein, "excessive corrosion J" refers to The amount of corrosion appreciably exceeds the corrosion observed in the conventional process. "Long Period J use results in no discernible corrosion of the lead anode in conventional systems. This is the amount of usage that results in

本発明は更に、鉛陽極と、基材金属陰極と、効率的な機能性電着を得るに充分量 のクロム酸及び硫酸塩イオンと、1からほぼ3炭素原子数を有する、少なくとも 1種のアルキルポリスルホン酸、ハロゲン化アルキルポリスルホン酸或いはその 塩とから実質上成るめっき浴とを包含する機能性クロムめっきシステムを提供し 、本発明浴は、モノスルホン酸の不存在下で陰極低電流密度エツチングを最小限 に維持したまま、光沢のある密着したクロム電着物を生成することができる。[ 効率的な機能性電着」は、例えば、少なくとも20%の陰極効率において且つ約 30 a、s、d、及び約55℃において行われる。添加される浴物質の「腐食 抑制量」とは、電極における電解作用的或いは化学的侵食を回避しつつ従来型式 のめつき浴を超える向上せるめっき効率を与える量である。The present invention further provides a lead anode, a base metal cathode, and a lead anode in a sufficient amount to provide efficient functional electrodeposition. of chromate and sulfate ions and having from 1 to approximately 3 carbon atoms, at least One type of alkyl polysulfonic acid, halogenated alkyl polysulfonic acid or and a plating bath consisting essentially of salt. , the inventive bath minimizes cathodic low current density etching in the absence of monosulfonic acids. It is possible to produce a shiny and adherent chromium electrodeposit while maintaining the chromium electrodeposit. [ "Efficient functional electrodeposition" is, for example, at a cathode efficiency of at least 20% and about 30 a, s, d and at about 55°C. "Corrosion" of added bath substances ``Suppression amount'' means that the conventional type This is the amount that gives improved plating efficiency over the plating bath.

本発明は、高効率で光沢のある密着したクロム電着物を生成するのに有用であり しかもMSAを含有する工業浴に固有の過剰の陽極腐食を実質上回避する機能性 クロム電気めっき浴を提供し、本発明浴は、効率的な機能性電着を得るに充分量 の、クロム酸及び硫酸塩と、■からほぼ3炭素原子数を有する、少なくとも1種 のアルキルポリスルホン酸、ハロゲン化アルキルポリスルホン酸或いはその塩と から実質上成りそしてモノスルホン酸を実質上含まない。ここで使用するものと しての用語「実質上含まないJとは、モノスルホン酸に対して用いられるとき、 有用なりロム電着物を得るに充分の量におけるクロム酸及び硫酸塩イオンから実 質上なる従来型式のめつき浴において見られるより高い検知しつるほどの腐食率 をもたらさない程に十分に低いモノスルホン酸の濃度を意味するものとして選択 される。The present invention is useful for producing highly efficient, shiny, and adherent chromium electrodeposits. Moreover, the functionality virtually avoids the excessive anodic corrosion inherent in industrial baths containing MSA. The present invention provides a chromium electroplating bath in which a chromium electroplating bath is provided in a sufficient amount to obtain efficient functional electrodeposition. , chromic acid and sulfate, and at least one species having approximately 3 carbon atoms from ■ alkyl polysulfonic acids, halogenated alkyl polysulfonic acids or salts thereof. and is substantially free of monosulfonic acids. What we use here and The term "substantially free", when used for monosulfonic acids, refers to produced from chromate and sulfate ions in sufficient quantities to obtain useful ROM electrodeposits. Detectable corrosion rates higher than those found in high quality conventional plating baths selected to mean a concentration of monosulfonic acid low enough to not result in be done.

本発明の機能性クロム電気めっき浴は、クロム酸と、硫酸塩イオンと、少なくと も1種のアルキルポリスルホン酸、ハロゲン化アルキルポリスルホン酸或いはそ の塩とから実質土酸る。有用なりロム酸量は約100〜約450 g/lであり 、好ましい範囲は約200〜約300g/lである。硫酸塩イオンは約1〜約5 g/lの範囲で、好ましくは約1.5〜約3.5g/lの範囲の量で含められる 。The functional chromium electroplating bath of the present invention contains chromic acid, sulfate ions, and at least Also, one kind of alkyl polysulfonic acid, halogenated alkyl polysulfonic acid or the like. The salt and the real soil are acidified. The useful amount of romic acid is about 100 to about 450 g/l. , the preferred range is about 200 to about 300 g/l. Sulfate ion is about 1 to about 5 g/l, preferably in an amount ranging from about 1.5 to about 3.5 g/l .

電気めっき浴は、ネガティブな態様でプロセス効率。Electroplating baths affect process efficiency in a negative manner.

クロム密着性或いは光沢に実質上悪影響を与えない他の種成分を含有することが できろ、そうした添加剤は、例えば煙霧抑制剤、光沢剤等のように浴の取扱い性 を改善するのに含有されつる。May contain other seed components that do not substantially adversely affect chrome adhesion or gloss. Yes, such additives may improve bath handling properties, such as fume suppressants, brighteners, etc. Contains vine to improve.

機能性電気めっきプロセスは、代表的に40℃を超えるめっき1度において実施 される。好ましい具体例において、電流密度は、約45〜約70℃のめつき温度 において約50〜約100 a、s、d、の範囲である。約11〜約230 a 、s、d、の電流密度が本発明方法において適当であり、中でも約50〜l O Oa、s、d、の密度が好ましい。少なくとも20%のめっき効率が容易に実現 され、そして約22〜約28%の値が記載した最も好ましい条件下で代表的であ る。Functional electroplating processes are typically performed in one plating process at temperatures above 40°C. be done. In a preferred embodiment, the current density is at a plating temperature of about 45 to about 70°C. in the range of about 50 to about 100 a, s, d. Approximately 11 to approximately 230a , s, d, are suitable in the method of the invention, among them about 50 to 1 O Densities of Oa, s, d are preferred. Plating efficiencies of at least 20% are easily achieved and values of about 22% to about 28% are typical under the most preferred conditions described. Ru.

本発明の機能性クロム電気めっきシステムは、鉛陽極と、一般にめっきのための 被加工物である陰極と、上述したようなりロム電気めっき浴とを含む。代表的な 陰極物品としては、クランクシャフト、ピストンリング等が含まれる。すでに記 載したように、代表的な陽極材料は実質上純な鉛を含むが、より一般的には錫、 アンチモン、テルル並びに様々の他の種元素を単独で或いは複合して組み合わせ た鉛含有合金である。ここでの例の表現において、rPb−7%SnJのような 用語は、主として鉛でありそして合金化用金属として約7重量%錫を有する錫− 鉛合金組成物である。そうした組成物において、微量の他の種元素も更に存在し つる。The functional chromium electroplating system of the present invention uses a lead anode and a It includes a cathode, which is a workpiece, and a ROM electroplating bath as described above. representative Cathode articles include crankshafts, piston rings, and the like. Already written down As mentioned above, typical anode materials include substantially pure lead, but more commonly tin, Combination of antimony, tellurium and various other elements singly or in combination It is a lead-containing alloy. In the example expression here, such as rPb-7%SnJ The term refers to tin-- which is primarily lead and has about 7% tin by weight as the alloying metal. It is a lead alloy composition. In such compositions, trace amounts of other seed elements may also be present. Vine.

本発明の有用性を、限定を意図するものでなく、例示的なものである次の例によ り示す。The utility of the present invention is illustrated by the following example, which is illustrative and not intended to be limiting. Show.

例1 以下に記載するような幾つかの異なったクロムめっき浴においてあらかじめ重量 を計量しておいたPb−7%Sn陽極を使用して促進陽極腐食試験を行った:( a)従来型式のクロムめっき浴(100:1のクロム酸対硫酸塩イオン比率); (b)クロム酸、硫酸塩及びMSAを含有する類似の浴;(c)MSAの代わり に代表的なジスルホン酸としてMDSAを含有する本発明に従う浴。Example 1 Pre-weighted in several different chromium plating baths as described below. An accelerated anodic corrosion test was carried out using a weighed Pb-7%Sn anode: ( a) Conventional chromium plating bath (100:1 chromate to sulfate ion ratio); (b) similar baths containing chromic acid, sulfate and MSA; (c) alternative to MSA; A bath according to the invention containing MDSA as a typical disulfonic acid.

長期の浴使用を0.5a、s、d、の陽極電流密度で30分間60℃でめっきし 、続いて30分間非めっき状態とすることにより模擬した。このプロセスを約8 時間行いそして電源を一晩切り、その間浴を冷却せしめた。これら段階を数週間 の期間にわたり繰り返した。陽極を途中で取り出し、乾燥し、計量しモして後浴 に再挿入した。結果を表1に呈示する。Long-term bath use plating at 60 °C for 30 min at an anodic current density of 0.5 a, s, d. , followed by a non-plating state for 30 minutes. This process takes about 8 The bath was allowed to cool for an hour and the power was turned off overnight while the bath was allowed to cool. these stages for several weeks repeated over a period of Take out the anode halfway, dry it, weigh it, and wash it after bathing. was reinserted. The results are presented in Table 1.

表I 陽極重量損失(g) 電気めっき浴 600A−Hr l 605A−Hr本発明方法において使用の ためのここに呈示したようなMDSAを含有する浴(c)において、陽極腐食は 従来型式のクロムめっき浴(a)の水準に実質土留まっており、他方メッキ改善 媒体としてMSAを使用する浴(b)は相当に高い速度での腐食をもたらしてい る。浴(b)においては、陽極において重大な界面侵食の形跡が存在し、他方従 来型式浴(a)及び本発明浴(c)においては、陽極の外観はメッキプロセスに より実質上影響を受けない。本発明浴を使用して得られた電着物の品質は、従来 からの市販めっき浴或いはMSAを含有する浴いずれをも使用して実現されるめ っきと少なくとも同程度に良好であり、そして場合によってはそれよりも幾分硬 い。Table I Anode weight loss (g) Electroplating bath 600A-Hr 605A-Hr used in the method of the present invention In a bath (c) containing MDSA as presented here for The level of the conventional chromium plating bath (a) remains virtually unchanged, and on the other hand, the plating has improved. Bath (b) using MSA as the medium resulted in corrosion at a significantly higher rate. Ru. In bath (b) there is evidence of significant interfacial erosion at the anode, while the In the conventional bath (a) and the bath of the present invention (c), the appearance of the anode depends on the plating process. virtually unaffected. The quality of the electrodeposit obtained using the bath of the present invention was The plating method can be achieved using either a commercially available plating bath or a bath containing MSA. at least as good as the original, and in some cases somewhat harder. stomach.

例2 第2の型式の促進試験において、意図的にクロム酸濃度において低く且つMSA 或いはMDSA濃度において高く維持された浴溶液において測定下の直流をPb −7%Sn陽極に適用した。可溶性生成物を形成した電流の%(腐食につながる 電流の%)を実際の陽極損失を測定しそしてその値をファラデーの法則により指 定される重量損失により割ることにより測定した。この計算は重量損失のすべて が腐食反応Pb−Pb(II)からもたらされると仮定している。結果を表II に呈示する。Example 2 In a second type of accelerated test, the concentration of chromic acid was intentionally low and the MSA Alternatively, the direct current under measurement in a bath solution maintained high in MDSA concentration −7% Sn anode. % of current that formed soluble products (leading to corrosion) % of current) to measure the actual anode loss and calculate that value using Faraday's law. It was determined by dividing the weight loss by the specified weight loss. This calculation is all about weight loss is assumed to result from the corrosion reaction Pb-Pb(II). The results are shown in Table II. to be presented.

上の表の考察から、米国特許第4.588.481号におけるチェツシン等の1 /3の硫黄対酸素比率の教示は実際上あまりにも広すぎたことが観察されよう。From consideration of the above table, it can be seen that the one of Chetsushin et al. in U.S. Pat. No. 4,588,481 It will be observed that the teaching of a sulfur to oxygen ratio of /3 was in fact too broad.

エタン−及びプロパンスルホン酸は両方とも、適正なめっき触媒がチャッシン等 の開示した制限内にきちんと入っているが、クロ、ムめっき浴において許容し得 ない水準の腐食をやはり促進する。Both ethane and propane sulfonic acids are suitable plating catalysts such as Chassin. is well within the limits disclosed by It also promotes corrosion at an undesirable level.

これら結果はまた、MDSAの存在下での陽極の腐食が従来型式の浴と同じであ り、他方MSAの存在は実質上増大せる陽極腐食をもたらすことを実証する。These results also indicate that the corrosion of the anode in the presence of MDSA is the same as in conventional baths. On the other hand, we demonstrate that the presence of MSA results in substantially increased anodic corrosion.

本発明は更に、既存のめっき操作に対する補給組成物としての有用性を有する。The invention further has utility as a replenishment composition for existing plating operations.

すなわち、めっき少消費した量を補充するに十分量のクロム酸と、少なくとも1 種のアルキルポリスルホン酸、ハロゲン化アルキルポリスルホン酸或いはその塩 から実質上なる組成物は、既存の設備が先行技術の浴を使用して操作されている 場合でさえも、陽極腐食における減少を伴ってめっき効率を改善するべく機能性 クロムめっき設備への添加物として有用である。That is, sufficient amount of chromic acid to replenish the amount consumed by plating and at least 1 Species alkyl polysulfonic acids, halogenated alkyl polysulfonic acids or salts thereof Existing equipment is operated using prior art baths. Functionality to improve plating efficiency with reduction in anodic corrosion even when Useful as an additive to chrome plating equipment.

詳しくは、本発明に従う有用性は、補給組成物のCrO3単位kg当たり約1〜 約40g、好ましくは約2〜約25 g / k gの量における、クロム酸と 、少なくとも1種のアルキルポリスルホン酸、ハロゲン化アルキルポリスルホン 酸或いはその塩を有するクロムめっき浴用補給組成物に見いだされた。この組成 物は、固体混合物或いは溶液いずれでもありうる。当業者は、クロムが酸化物、 酸或いは塩として存在しうることそしてクロムの量が存在するクロム含有物質の 正確な性状に関わりなく便宜上Cr O3として計算されそして表しうることを 認識しよう。Specifically, the utility according to the present invention is from about 1 to 1 kg CrO3 unit of the supplemental composition. chromic acid in an amount of about 40 g, preferably about 2 to about 25 g/kg. , at least one alkyl polysulfonic acid, halogenated alkyl polysulfone Found in replenishment compositions for chrome plating baths containing acids or salts thereof. This composition The substance can be either a solid mixture or a solution. Those skilled in the art understand that chromium is an oxide, Chromium-containing substances that may exist as acids or salts and the amount of chromium present Regardless of its exact properties, it can be conveniently calculated and expressed as CrO3. Let's recognize it.

ここに開示しそして記載した本発明の好ましい形態への修正及び改善がこの原理 及び教示を理解した当業者にには為し得よう。従って、本願に基づいて登録され るべき特許権の範囲は、ここに呈示した本発明の具体例にのみ限定されるべきで はなく、本発明が達成した技術の進歩の範囲によってのみ制限されるべきである 。Modifications and improvements to the preferred forms of the invention disclosed and described herein are based on this principle. and could be done by one of ordinary skill in the art after understanding the teachings. Therefore, it is registered based on this application. The scope of patent rights to be claimed should be limited only to the specific examples of the invention presented herein. and should be limited only by the scope of the advances in technology achieved by this invention. .

国際調査報告international search report

Claims (48)

【特許請求の範囲】[Claims] 1. 腐食をもたらすモノスルホン酸の実質上不存在下で鉛陽極を使用して基材 金属陰極上に高効率でエッチングを生じないめっき浴からクロムを電気めっきす る方法であって、前記基材金属陰極と鉛陽極とを、クロムの所望の電着物を得る に充分量のクロム酸及び硫酸塩イオンと、1からほぼ3炭素原子数を有する、少 なくとも1種のアルキルポリスルホン酸、ハロゲン化アルキルポリスルホン酸或 いはその塩とから実質上成るめっき浴と接触し、そして少なくとも20%の陰極 効率において、少なくとも約30a.s.d.の電流密度においてそして約45 〜約70℃のめっき温度において光沢のある密着したクロム電着物を得るに充分 の時間クロムを電着することを包含するクロム電気めっき方法。1. Substrate using a lead anode in the virtual absence of monosulfonic acids that cause corrosion Electroplating of chromium on metal cathodes from a highly efficient, non-etching plating bath A method for obtaining a desired electrodeposit of chromium by combining the base metal cathode and the lead anode. a small amount of chromate and sulfate ions having from 1 to approximately 3 carbon atoms. At least one alkyl polysulfonic acid, halogenated alkyl polysulfonic acid, or or a salt thereof, and at least 20% of the cathode Efficiency of at least about 30a. s. d. at a current density of and about 45 Sufficient to obtain glossy, adherent chromium electrodeposit at plating temperatures of ~70°C A chromium electroplating method comprising electrodepositing chromium for a period of time. 2. めっき温度が約50〜約60℃の範囲にある請求項1に従う方法。2. A method according to claim 1, wherein the plating temperature is in the range of about 50 to about 60°C. 3. 陰極効率が約22〜約28%の範囲でありそして電流密度が約45〜約9 0a.s.d.の範囲である請求項1に従う方法。3. The cathode efficiency is in the range of about 22 to about 28% and the current density is in the range of about 45 to about 9 0a. s. d. A method according to claim 1, wherein the method is within the scope of claim 1. 4. めっき浴中のクロム酸の量が約100〜約450g/lの範囲である請求 項1に従う方法。4. A claim in which the amount of chromic acid in the plating bath is in the range of about 100 to about 450 g/l Method according to section 1. 5. クロム酸の量が約200〜約300g/lの範囲である請求項4に従う方 法。5. The method according to claim 4, wherein the amount of chromic acid is in the range of about 200 to about 300 g/l. Law. 6. アルキルポリスルホン酸或いは塩が、メタンジスルホン酸、モノ−及びジ クロロエタン1,2−ジスルホン酸、1,1−エタンジスルホン酸並びにモノ− 及びジクロロメタンジスルホン酸並びにその塩から成る群から選択される請求項 1に従う方法。6. Alkyl polysulfonic acid or salt is methanedisulfonic acid, mono- and di- Chloroethane 1,2-disulfonic acid, 1,1-ethanedisulfonic acid and mono- and dichloromethane disulfonic acid and its salts. Method according to 1. 7. アルキルジスルホン酸或いは塩が約0.5〜約20g/lの範囲の量で浴 中に存在する請求項6に従う方法。7. Alkyl disulfonic acid or salt is added to the bath in an amount ranging from about 0.5 to about 20 g/l. A method according to claim 6 residing in. 8. その量が約1〜約12g/lの範囲である請求項7に従う方法。8. 8. A method according to claim 7, wherein the amount ranges from about 1 to about 12 g/l. 9. その量が約2〜約8g/lの範囲である請求項8に従う方法。9. A method according to claim 8, wherein the amount ranges from about 2 to about 8 g/l. 10.アルキルポリスルホン酸がメタンジスルホン酸である請求項6に従う方法 。10. The method according to claim 6, wherein the alkyl polysulfonic acid is methanedisulfonic acid. . 11.メタンジスルホン酸が約2〜約8g/lの範囲の量で存在する請求項10 に従う方法。11. 10. The methanedisulfonic acid is present in an amount ranging from about 2 to about 8 g/l. How to follow. 12.硫酸塩の量が約1〜約5g/lの範囲である請求項1に従う方法。12. A method according to claim 1, wherein the amount of sulphate ranges from about 1 to about 5 g/l. 13.硫酸塩の量が約1.5〜約3.5g/lの範囲である請求項12に従う方 法。13. 13. The method according to claim 12, wherein the amount of sulphate is in the range of about 1.5 to about 3.5 g/l. Law. 14.電流密度が約15〜100a.s.d.の範囲である請求項1に従う方法 。14. When the current density is about 15 to 100 a. s. d. The method according to claim 1, which is within the scope of . 15.鉛陽極と、基材金属陰極と、腐食をもたらすモノスルホン酸の実質上不存 在下で効率的な機能性電着を得るに充分量のクロム酸及び硫酸塩、及び式▲数式 、化学式、表等があります▼ (ここで、a及びbは独立して0〜2の範囲をとり、nは1〜3の範囲にあり、 m及びyは独立して1〜3の範囲をとるが、但し分子におけるスルホン基の総数 は2以上であり、Xはハロゲン或いは酸素であり、Rは非置換低級アルキル或い は置換低級アルキルであり、この場合Rにおける置換基はハロゲン或いは酸素で あり、そして水素は水素が存在しない場合でも炭素或いは酸素に占有されない任 意の位置を占める。)を有する少なくとも1種のアルキルポリスルホン酸或いは 塩から実質上なるめっき浴であって、光沢のある密着したクロム電着物を生成す るめっき浴とを使用するクロムめっき方法。15. Lead anode, base metal cathode, and virtually no corrosive monosulfonic acids Sufficient amounts of chromic acid and sulfate to obtain efficient functional electrodeposition in the presence of the formula ▲ , chemical formulas, tables, etc.▼ (Here, a and b independently range from 0 to 2, and n range from 1 to 3, m and y independently range from 1 to 3, provided that the total number of sulfone groups in the molecule is 2 or more, X is halogen or oxygen, and R is unsubstituted lower alkyl or is substituted lower alkyl, in which case the substituent in R is halogen or oxygen. Yes, and hydrogen is a carbon or occupy the position of intention. ) or at least one alkyl polysulfonic acid having A plating bath consisting essentially of salt that produces a shiny, adherent chromium electrodeposit. A chrome plating method that uses a chromium plating bath. 16.めっき浴中のクロム酸の量が約100〜約450g/lの範囲である請求 項15に従う方法。16. A claim in which the amount of chromic acid in the plating bath ranges from about 100 to about 450 g/l. Method according to section 15. 17.クロム酸の量が約200〜約300g/lの範囲である請求項16に従う 方法。17. According to claim 16, the amount of chromic acid ranges from about 200 to about 300 g/l. Method. 18.アルキルポリスルホン酸或いは塩が、メタンジスルホン酸、モノ−或いは ジクロロメタンジスルホン酸、1,1−エタンジスルホン酸、モノ−或いはジク ロロエタンジスルホン酸並びにそのアルカリ金属塩から成る群がら選択される請 求項15に従う方法。18. The alkyl polysulfonic acid or salt is methanedisulfonic acid, mono- or Dichloromethane disulfonic acid, 1,1-ethane disulfonic acid, mono- or dichloromethane disulfonic acid A material selected from the group consisting of loloethanedisulfonic acid and its alkali metal salts. A method according to claim 15. 19.アルキルポリスルホン酸或いは塩が約0.5〜約20g/lの範囲の量で 浴中に存在する請求項18に従う方法。19. the alkyl polysulfonic acid or salt in an amount ranging from about 0.5 to about 20 g/l; 19. A method according to claim 18, wherein the method is present in a bath. 20.その量が約1〜約12g/lの範囲である請求項19に従う方法。20. 20. A method according to claim 19, wherein the amount ranges from about 1 to about 12 g/l. 21.その量が約2〜約8g/lの範囲である請求項20に従う方法。21. 21. A method according to claim 20, wherein the amount ranges from about 2 to about 8 g/l. 22.アルキルポリスルホン酸がメタンジスルホン酸である請求項18に従う方 法。22. The person according to claim 18, wherein the alkyl polysulfonic acid is methanedisulfonic acid. Law. 23.その量が約2〜約8g/lの範囲である請求項22に従う方法。23. 23. A method according to claim 22, wherein the amount ranges from about 2 to about 8 g/l. 24.硫酸塩の量が約1〜約5g/lの範囲である請求項15に従う方法。24. 16. A method according to claim 15, wherein the amount of sulphate ranges from about 1 to about 5 g/l. 25.硫酸塩の量が約1.5〜約3.5g/lの範囲である請求項24に従う方 法。25. 25. A method according to claim 24, wherein the amount of sulphate ranges from about 1.5 to about 3.5 g/l. Law. 26.約30〜100a.s.d.の範囲の電流密度を有する請求項15に従う 方法。26. Approximately 30-100a. s. d. according to claim 15, having a current density in the range of Method. 27.鉛陽極と共に使用するための腐食を低減しうるクロム電気めっき浴であっ て、腐食をもたらすモノスルホン酸の実質上不存在下でクロムの電着物を得るに 充分量のクロム酸及び硫酸塩イオンと、1からほぼ3炭素原子数を有する、少な くとも1種のポリスルホン酸、ハロゲン化アルキルポリスルホン酸或いはその塩 とから実質上成り、そして光沢のある密着したクロム電着物を生成することので きるクロム電気めっき浴。27. A chromium electroplating bath that can reduce corrosion for use with lead anodes. to obtain chromium electrodeposit in the substantial absence of corrosive monosulfonic acids. a sufficient amount of chromate and sulfate ions and a small number of carbon atoms having from 1 to approximately 3 carbon atoms. At least one type of polysulfonic acid, halogenated alkyl polysulfonic acid or salt thereof and produces a shiny, adherent chromium electrodeposit. Chromium electroplating bath. 28.クロム酸の量が約100〜約450g/lの範囲である請求項27に従う 浴。28. According to claim 27, the amount of chromic acid ranges from about 100 to about 450 g/l. bath. 29.クロム酸の量が約200〜約300g/lの範囲である請求項28に従う 浴。29. According to claim 28, the amount of chromic acid ranges from about 200 to about 300 g/l. bath. 30.アルキルポリスルホン酸或いは塩が、メタンジスルホン酸、モノ−或いは ジクロロメタンジスルホン酸、1,1−エタンジスルホン酸、モノ−或いはジク ロロエタンジスルホン酸並びにそのアルカリ金属塩から成る群がら選択される請 求項27に従う浴。30. The alkyl polysulfonic acid or salt is methanedisulfonic acid, mono- or Dichloromethane disulfonic acid, 1,1-ethane disulfonic acid, mono- or dichloromethane disulfonic acid A material selected from the group consisting of loloethanedisulfonic acid and its alkali metal salts. A bath according to claim 27. 31.アルキルポリスルホン酸或いは塩が約0.5〜約20g/lの範囲の量で 浴中に存在する請求項30に従う浴。31. the alkyl polysulfonic acid or salt in an amount ranging from about 0.5 to about 20 g/l; 31. A bath according to claim 30 present in a bath. 32.その量が約1〜約12g/lの範囲である請求項31に従う浴。32. 32. A bath according to claim 31, wherein the amount ranges from about 1 to about 12 g/l. 33.その量が約2〜約8g/lの範囲である請求項32に従う浴。33. 33. A bath according to claim 32, wherein the amount ranges from about 2 to about 8 g/l. 34.アルキルポリスルホン酸がメタンジスルホン酸である請求項30に従う浴 。34. A bath according to claim 30, wherein the alkyl polysulfonic acid is methanedisulfonic acid. . 35.酸が約2〜約8g/lの範囲の量で浴中に存在する請求項34に従う浴。35. 35. A bath according to claim 34, wherein the acid is present in the bath in an amount ranging from about 2 to about 8 g/l. 36.硫酸塩の量が約1〜約5g/lの範囲である請求項27に従う浴。36. 28. A bath according to claim 27, wherein the amount of sulphate ranges from about 1 to about 5 g/l. 37.硫酸塩の量が約1.5〜約3.5g/lの範囲である請求項36に従う浴 。37. 37. A bath according to claim 36, wherein the amount of sulphate ranges from about 1.5 to about 3.5 g/l. . 38.電流密度が約30〜約100a.s.d.の範囲である請求項27に従う 浴。38. When the current density is about 30 to about 100 a. s. d. According to claim 27, which is within the scope of bath. 39.腐食をもたらすモノスルホン酸の実質上不存在下で鉛陽極を使用するクロ ムめっき浴において使用される補給組成物であって、クロム酸と、1からほぼ3 炭素原子数を有する、少なくとも1種のアルキルポリスルホン酸、ハロゲン化ア ルキルポリスルホン酸或いはその塩とから実質上成り、そして光沢のある密着し たクロム付着物を生成するようめっき浴を補給することのできる補給組成物。39. Chromatography using lead anodes in the virtual absence of corrosive monosulfonic acids. A replenishing composition used in a chromic plating bath comprising chromic acid and 1 to about 3 chromic acid. At least one alkyl polysulfonic acid, halogenated atom, having a number of carbon atoms It consists essentially of lucyl polysulfonic acid or its salt, and has a glossy, close-fitting finish. A replenishment composition capable of replenishing a plating bath to produce chromium deposits. 40.アルキルポリスルホン酸がCrO3単位kg当たり約1〜約40gの範囲 にある請求項39に従う組成物。40. Alkyl polysulfonic acid ranges from about 1 to about 40 g per kg CrO3 40. A composition according to claim 39. 41.アルキルポリスルホン酸がCr03単位kg当たり約2〜約25gの範囲 にある請求項39に従う組成物。41. Alkyl polysulfonic acid ranges from about 2 to about 25 g per kg of Cr03 40. A composition according to claim 39. 42.アルキルポリスルホン酸或いは塩が、メタンジスルホン酸、モノ−或いは ジクロロメタンジスルホン酸、1,1−エタンジスルホン酸並びにモノ−或いは ジクロロメタンジスルホン酸並びにそのアルカリ金属塩から成る群から選択され る請求項39に従う組成物。42. The alkyl polysulfonic acid or salt is methanedisulfonic acid, mono- or dichloromethanedisulfonic acid, 1,1-ethanedisulfonic acid and mono- or selected from the group consisting of dichloromethane disulfonic acid and its alkali metal salts; 40. A composition according to claim 39. 43.請求項39に従う固体組成物。43. A solid composition according to claim 39. 44.請求項39に従う液体組成物。44. A liquid composition according to claim 39. 45.アルキルポリスルホン酸が液体として存在しそしてCrO3が固体として 存在する請求項39に従う組成物。45. The alkyl polysulfonic acid is present as a liquid and CrO3 is as a solid. A composition according to present claim 39. 46.アルキルポリスルホン酸がメタンジスルホン酸である請求項39に従う組 成物。46. A set according to claim 39, wherein the alkyl polysulfonic acid is methanedisulfonic acid. A product. 47.アルキルポリスルホン酸がエタンジスルホン酸である請求項39に従う組 成物。47. A set according to claim 39, wherein the alkyl polysulfonic acid is ethanedisulfonic acid. A product. 48.クロムめっき浴が高効率のエッチングを生じない浴である請求項39に従 う組成物。48. According to claim 39, the chromium plating bath is a highly efficient etching-free bath. composition.
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