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JPH0447588A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

Info

Publication number
JPH0447588A
JPH0447588A JP2155036A JP15503690A JPH0447588A JP H0447588 A JPH0447588 A JP H0447588A JP 2155036 A JP2155036 A JP 2155036A JP 15503690 A JP15503690 A JP 15503690A JP H0447588 A JPH0447588 A JP H0447588A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bit line
signal
word line
bli
sense amplifier
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2155036A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideki Ito
英樹 伊東
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Oki Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Oki Electric Industry Co Ltd filed Critical Oki Electric Industry Co Ltd
Priority to JP2155036A priority Critical patent/JPH0447588A/en
Publication of JPH0447588A publication Critical patent/JPH0447588A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To suppress the occurrence of a defective product due to the excess of specification value of power consumption in standby time by activating a pre-charge signal synchronizing with a control signal for a constant period before activating a word line. CONSTITUTION:Such constitution that the pre-charge signal EQ2 is activated synchronizing with the control signal for the constant period before performing the activation of the word line WL is employed, thereby, a period to activate the pre-charge signal can be reduced. Therefore, when short-circuit between the word line WL and bit lines BL, the inverse of BL occurs, a current that flows from reference potential VR to a ground potential Vss side in the activating period of the pre-charge signal can be remarkably reduced. Thereby, it is possible to precisely prevent the defective product manufactured due to the excess of the specification value of the power consumption in the standby time even when the short-circuit occurs between the word line WL and the bit lines BL, the inverse of BL.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、ダイナミックRAM (ランダム・アクセス
・メモリ〉等の半導体記憶装置、特にワード線とビット
線間のショート(短絡)によって生じるスタンバイ時(
時期時)の消費電力量の増大を抑制する半導体記憶装置
に関するものである。
Detailed Description of the Invention (Field of Industrial Application) The present invention is applicable to semiconductor storage devices such as dynamic RAM (random access memory), especially during standby (short circuit) caused by short circuits between word lines and bit lines.
The present invention relates to a semiconductor memory device that suppresses an increase in power consumption during a period of time.

(従来の技術) 従来、この種の半導体記憶装置としては、例えば第2図
のようなものがあった。以下、その構成を図を用いて説
明する。
(Prior Art) Conventionally, as this type of semiconductor memory device, there has been one as shown in FIG. 2, for example. The configuration will be explained below using figures.

第2図は、従来の半導体記憶装置、例えばダイナミック
RAMの一構成例を示す要部の回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram of a main part showing an example of the configuration of a conventional semiconductor memory device, for example, a dynamic RAM.

この半導体記憶装置は、ロウ・アドレス・ストローブ信
号のような制御信号■λ丁に基づき活性化される複数の
ワード線WLI、WL2.・・・と、それらに交差配置
された複数対のビット線対BL1 、 r、・・・とを
有し、それらの各交差箇所には複数のメモリセル1−1
.1−2.・・・がそれぞれ接続されている。
This semiconductor memory device includes a plurality of word lines WLI, WL2 . ... and a plurality of pairs of bit lines BL1, r, ... arranged to intersect therewith, and a plurality of memory cells 1-1 at each intersection point.
.. 1-2. ... are connected to each other.

ワード線WLI、WL2.・・・には、ワード線駆動回
路10がそれぞれ接続されている。例えば、ワード線W
LIに接続されたワード線駆動回路10において、その
ワード線WL1が、Nチャネル型MO8)−ランジスタ
(以下、NMO3という)11を介して電源電位VCC
に接続されると共に、NMO312を介して接地電位V
SSに接続されている。NMO3IIのゲートは、行ア
ドレスデコーダの出力である選択信号XDに接続される
と共に、信号反転用のインバータ13を介してNM08
12のゲートに接続されている。
Word lines WLI, WL2. . . . are connected to word line drive circuits 10, respectively. For example, word line W
In the word line drive circuit 10 connected to LI, the word line WL1 is connected to the power supply potential VCC via an N-channel type MO8)-transistor (hereinafter referred to as NMO3) 11.
is connected to the ground potential V through the NMO312.
Connected to SS. The gate of NMO3II is connected to the selection signal XD which is the output of the row address decoder, and the gate of NMO3II is connected to the selection signal
Connected to 12 gates.

各ビット線対BLI、BLI、・・・には、センスアン
プ活性化信号SAN、SAPにより活性化(動作)する
複数のセンスアンプ回路20.・・・が接続されると共
に、プリチャージ信号EQにより各ピッド線対BLI、
BL1.・・・をそれぞれ基準電位VRにプリチャージ
する複数のプリチャージ回路21がそれぞれ接続されて
いる。
Each bit line pair BLI, BLI, . . . has a plurality of sense amplifier circuits 20. activated (operated) by sense amplifier activation signals SAN, SAP. ... are connected, and each pit line pair BLI,
BL1. A plurality of precharge circuits 21 are connected to precharge each of . . . to a reference potential VR.

また、各ピッド線対BLI、BLI、・・・は、列アド
レスデコーダの出力である選択信号YDによりオン、オ
フ動作するトランスファ回路(転送回路)22を介して
、相補的なデータ線DB、D百にそれぞれ接続されてい
る。
Further, each pit line pair BLI, BLI, . . . is connected to complementary data lines DB, D Each one is connected to a hundred.

第3図は第2図の動作波形図であり、この図を参照しつ
つ、第2図に示す半導体記憶装置の動作を説明する。
FIG. 3 is an operational waveform diagram of FIG. 2, and the operation of the semiconductor memory device shown in FIG. 2 will be explained with reference to this diagram.

例えば、メモリセル1−1に記憶されたデータ“1′°
の読出し動作について、以下説明する。
For example, data “1′° stored in memory cell 1-1
The read operation will be explained below.

制御信号RASが立下がると、プリチャージ信号EQが
立下がってプリチャージ回r420がオフ状態となり、
ビット線対BL1.BLIが基準電位VRから切り離さ
れる。さらに、制御信号πXKの立下がりにより、行ア
ドレスデコーダの選択信号XDにより、NMO812が
オフ状態となると共に、NMO3IIがオン状態となっ
てワード線WLIが電源電位■CCに接続され、該ワー
ド線WLIが立上がる。すると、メモリセル1−1のデ
ータ゛1パにより、ビット線対BLI、”[Tに微小な
電位差が生じる。
When the control signal RAS falls, the precharge signal EQ falls and the precharge circuit r420 turns off.
Bit line pair BL1. BLI is disconnected from reference potential VR. Furthermore, with the fall of the control signal πXK, the selection signal XD of the row address decoder turns off the NMO812, turns on the NMO3II, and connects the word line WLI to the power supply potential ■CC, so that the word line WLI stands up. Then, a small potential difference is generated between the bit line pair BLI and "[T" due to the data buffer of the memory cell 1-1.

次に、センスアンプ活性化信号SANが“Lパレベルに
なると共に、センスアンプ活性化信号SAPが“H″レ
ベルなると、センスアンプ回路20が活性化され、その
センスアンプ回路20によってビット線対BLI、[ゴ
゛の微小な電位差が検知・増幅される。その後、列アド
レスデコーダの選択信号YDによってトランスファ回路
22がオン状態となり、ビット線対BL1. 百πT上
の増幅された電位差が、データ線DB、[)百に出力さ
れ、メモリセル1−1のデータの読出しが行われる。
Next, when the sense amplifier activation signal SAN goes to "L" level and the sense amplifier activation signal SAP goes to "H" level, the sense amplifier circuit 20 is activated, and the sense amplifier circuit 20 activates the bit line pair BLI, Then, the transfer circuit 22 is turned on by the selection signal YD of the column address decoder, and the amplified potential difference on the bit line pair BL1. , [)100, and the data of the memory cell 1-1 is read.

(発明が解決しようとする課題) しかしながら、上記構成の装置では、次のような課題が
あった。
(Problems to be Solved by the Invention) However, the apparatus with the above configuration has the following problems.

制御信号RASがH”レベルのスタンバイ状態では、プ
リチャージ信号EQが“H″レベルなり、プリチャージ
回路21によってビット線対BLI、BLI、・・・が
基準電位VRになっている。
In the standby state where the control signal RAS is at the H level, the precharge signal EQ is at the H level, and the precharge circuit 21 sets the bit line pairs BLI, BLI, . . . to the reference potential VR.

そのため、例えばワード線WLIとビット線BL1間が
ショートした場合、第2図の破線で示すように、基準電
位VR→プリチャージ回路21→ビット線BL1→ワー
ド線WL1 →NMO812−接地電位VSSという経
路で、基準電位VRから接地電位■SSへ電流Iが流れ
、スタンバイ時における消費電力が増大してしまう。
Therefore, for example, if a short circuit occurs between the word line WLI and the bit line BL1, as shown by the broken line in FIG. Then, a current I flows from the reference potential VR to the ground potential SS, increasing power consumption during standby.

このようなビット線BLI及びワード線WLI間のショ
ートが発生すると、それに接続されたメモリセル1−1
.・・・が不良メモリセルとなって正確なデータのアク
セスができなくなる。そこで、通常はこのような不良メ
モリセルを救済するため、予め複数の冗長メモリセルを
設けておき、その不良メモリセル1−1.・・・が選択
される時には、それに代えて冗長メモリセルを選択する
ことにより、正確なデータの読出し及び書込みを可能に
する冗長救済回路を設けている。
When such a short circuit occurs between the bit line BLI and the word line WLI, the memory cell 1-1 connected to it
.. ... becomes a defective memory cell, making it impossible to access accurate data. Therefore, in order to relieve such defective memory cells, usually a plurality of redundant memory cells are provided in advance, and the defective memory cells 1-1 . When .

ところが、ビット線及びワード線間のショートが生じる
と、通常、200μA〜1mA程度の消費電力の増加を
引き起こすため、そのショート箇所が複数個発生すると
、スタンバイ時における消費電流の規格値(例えば、約
1mA>を超えてしまい、半導体記憶装置そのものが不
良品となってしまう。このような不良救済のために前記
のような冗長救済回路を設けて不良メモリセルの救済措
置をとったとしても、電流■の経路が残っている。
However, when a short circuit occurs between a bit line and a word line, it usually causes an increase in power consumption of about 200 μA to 1 mA, so if multiple short points occur, the standard value of current consumption during standby (for example, about 1 mA>, and the semiconductor memory device itself becomes a defective product.Even if a redundant relief circuit as described above is provided to relieve the defective memory cell, the current ■Route remains.

そのため、冗長救済回路により不良メモリセルの救済措
置がとられてメモリセル自体の不良とはならなくとも、
ショートにより、消費電流が規格値オーバーとなって半
導体記憶装置そのものが不良品扱いとなってしまう。
Therefore, even if a defective memory cell is rescued by a redundant rescue circuit and the memory cell itself does not become defective,
Due to the short circuit, the current consumption exceeds the standard value, and the semiconductor memory device itself is treated as a defective product.

本発明は、前記従来技術が持っていた課題として、ビッ
ト線及びワード線間のショートに起因する消費電力増大
の点について解決した半導体記憶装置を提供するもので
ある。
The present invention provides a semiconductor memory device that solves the problem of the prior art, which is increased power consumption due to short-circuits between bit lines and word lines.

(課題を解決するための手段) 本発明は前記課題を解決するために、制御信号に基づき
活性化される複数のワード線と、前記ワード線に交差配
置された複数対のビット線対と、前記各ワード線及びビ
ット線対の交差箇所にそれぞれ接続された複数のメモリ
セルと、前記各ビット線対に接続されセンスアンプ活性
化信号により前記各ビット線対の電位差をそれぞれ検知
・増幅する複数のセンスアンプ回路と、プリチャージ信
号により前記各ビット線対をそれぞれ基準電位にプリチ
ャージする複数のプリチャージ回路とを、備えた半導体
記憶装置において、前記ワード線の活性化前の一定期間
、前記制御信号に同期して前記プリチャージ信号を活性
化する構成にしたものである。
(Means for Solving the Problems) In order to solve the above problems, the present invention includes a plurality of word lines activated based on a control signal, a plurality of bit line pairs arranged to cross the word lines, A plurality of memory cells connected to the intersections of each of the word lines and bit line pairs, and a plurality of memory cells connected to each of the bit line pairs and detecting and amplifying the potential difference between the bit line pairs using a sense amplifier activation signal. a sense amplifier circuit; and a plurality of precharge circuits that precharge each of the bit line pairs to a reference potential using a precharge signal. The precharge signal is activated in synchronization with a control signal.

(作用) 本発明によれば、以上のように半導体記憶装置を構成し
たので、メモリセルのデータ読出し時において、制御信
号に同期してプリチャージ信号が活性化すると、プリチ
ャージ回路が動作してビット線対が基準電位から切り離
される。その後、ワード線が活性化してそのワード線に
接続されたメモリセルのデータにより、該ワード線に交
差するビット線上に、微小電位差が生じる。すると、こ
の微小電位差は、センスアンプ活性化信号により動作す
るセンスアンプ回路によって検知・増幅され、トランス
ファゲート等を介してデータ線へと出力される。
(Function) According to the present invention, since the semiconductor memory device is configured as described above, when the precharge signal is activated in synchronization with the control signal when reading data from a memory cell, the precharge circuit is activated. The bit line pair is disconnected from the reference potential. Thereafter, the word line is activated and data in the memory cells connected to the word line generates a minute potential difference on the bit line crossing the word line. Then, this minute potential difference is detected and amplified by a sense amplifier circuit operated by a sense amplifier activation signal, and output to a data line via a transfer gate or the like.

ここで、ビット線を活性化する以前に、プリチャージ信
号を一定期間のみ活性化するようにしたので、基準電位
からプリチャージ回路、ビット線、及びワード線を介し
て接地電位側へ流れる電流経路が常に存在せず、つまり
前記の一定期間のみ電流経路が生じるので、スタンバイ
時の消費電力規格値オーバーによる不良品の発生が抑制
され、歩留まりの向上が図れる。従って、前記課題を解
決できるのである。
Here, since the precharge signal is activated for a certain period of time before activating the bit line, the current path flows from the reference potential to the ground potential side via the precharge circuit, bit line, and word line. Since the current path does not always exist, that is, the current path occurs only during the above-mentioned fixed period, the occurrence of defective products due to exceeding the power consumption standard value during standby is suppressed, and the yield can be improved. Therefore, the above problem can be solved.

(実施例) 第1図は、本発明の実施例を示す半導体記憶装置、例え
ばダイナミックRAMの要部の回路図である。
(Embodiment) FIG. 1 is a circuit diagram of a main part of a semiconductor memory device, for example, a dynamic RAM, showing an embodiment of the present invention.

この半導体記憶装置は、複数のワード線WLI。This semiconductor memory device includes a plurality of word lines WLI.

WL2.・・・と、それと交差配置された複数対のビッ
ト線対BLI、百L1.・・・とを有し、その各交差箇
所には、例えば1トランジスタ型のメモリセル40−1
.40−2.・・・がそれぞれ接続されている。各メモ
リセル40−1.40−2.・・・は、ドレインまたは
ソースとゲートがビット線対BL1、BLl、・・・及
びワード線WLI、WL2.・・・に接続されたNMO
341と、そf7)NMO841のソースまたはドレイ
ンと基準電位VR(例えば、1/2・VCC)に接続さ
れたキャパシタ42とで、それぞれ構成されている。
WL2. . . . and a plurality of bit line pairs BLI, 100L1 . . . . and at each intersection point there is, for example, a one-transistor type memory cell 40-1.
.. 40-2. ... are connected to each other. Each memory cell 40-1.40-2. ... have drains or sources and gates connected to bit line pairs BL1, BL1, ... and word lines WLI, WL2, . NMO connected to...
341 and f7) a capacitor 42 connected to the source or drain of the NMO 841 and a reference potential VR (for example, 1/2·VCC).

各ワード線WLI、WL2.・・・には、ワード線駆動
図850がそれぞれ接続されている。ワード線駆動回路
50は、制御信号RASの例えば立下がりに基づき動作
する行アドレスデコーダの選択信号XDにより、各ワー
ド線WLI、WL2.・・・をそれぞれ活性化する回路
である。例えば、ワード線WLIに接続されたワード線
駆動図I@50は、該ワード線WLIと電源電位VCC
との間に接続されたNMO351と、該ワード線WLI
と接地電位VSSとの間に接続されたNMO852とを
有している。そしてNMO351のゲートは、選択信号
XDに接続されると共に、信号反転用のインバータ53
を介してNMO852のゲートに接続されている。
Each word line WLI, WL2 . . . are connected to word line drive diagrams 850, respectively. The word line drive circuit 50 controls each word line WLI, WL2 . ...is a circuit that activates each. For example, the word line drive diagram I@50 connected to the word line WLI is connected to the word line WLI and the power supply potential VCC.
NMO351 connected between the word line WLI
and a ground potential VSS. The gate of the NMO 351 is connected to the selection signal XD and is also connected to the inverter 53 for signal inversion.
It is connected to the gate of NMO852 via.

各ビット線対BLI、BL1.・・・には、そのビット
線対上の電位差を検知・増幅するセンスアンプ回路60
がそれぞれ接続されている。例えば、ビット線対BLI
、BLIに接続されたセンスアンプ回路60は、NMO
861,62及びPチャネル型MOSトランジスタ(以
下、PMO8という>63.64を有しティる。NMO
361はビット線BLIとノードN1との間に接続され
ると共に、そのノードN1とビット線BLIとの間にN
MO862が接続されている。同様に、ビット線BLI
とノードN2との間にはPMO363が接続されると共
に、そのノードN2とビット線百Llとの間にPMO3
64が接続されている。NMO361のゲートは、PM
O863のゲート及びビット線BLIに接続され、さら
にNMO362のゲートが、PMO864のゲート及び
ビット線BLIに接続されている。
Each bit line pair BLI, BL1 . . . . includes a sense amplifier circuit 60 that detects and amplifies the potential difference on the bit line pair.
are connected to each other. For example, bit line pair BLI
, BLI, the sense amplifier circuit 60 connected to NMO
861, 62 and a P-channel MOS transistor (hereinafter referred to as PMO8 with >63.64.NMO
361 is connected between bit line BLI and node N1, and N is connected between node N1 and bit line BLI.
MO862 is connected. Similarly, bit line BLI
A PMO363 is connected between the node N2 and the bit line 10L1, and a PMO363 is connected between the node N2 and the bit line 10L1.
64 are connected. The gate of NMO361 is PM
The gate of the NMO 362 is connected to the gate of the O863 and the bit line BLI, and the gate of the NMO 362 is connected to the gate of the PMO 864 and the bit line BLI.

ノードN1は、NMO865を介してセンスアンプ活性
化信号SANに接続されると共に、NMO866を介し
て基準電位VR(例えば、1/2・VCC)に接続され
ている。同様に、ノードN2は、NMO367を介して
センスアンプ活性化信号SAPに接続されると共に、N
MO368を介して基準電位VRに接続されている。N
MO365及び67の各ゲートは共通接続され、インバ
ータ69を介してプリチャージ信号EQ2に接続されて
いる。そのプリチャージ信号EQ2は、8MO366及
び68の各ゲートに共通接続されている。
The node N1 is connected to the sense amplifier activation signal SAN via the NMO 865 and to the reference potential VR (for example, 1/2·VCC) via the NMO 866. Similarly, node N2 is connected to sense amplifier activation signal SAP via NMO367, and
It is connected to the reference potential VR via MO368. N
The gates of MOs 365 and 67 are commonly connected and connected to precharge signal EQ2 via inverter 69. The precharge signal EQ2 is commonly connected to each gate of 8MO366 and 8MO68.

各ビット線対BLI、BL1.・・・には、イコライズ
信号EQ1によりオン、オフ動作するイコライズ(均等
化)用のNMO370がそれぞれ接続されている。また
、各ビット線対BL1.liゴー。
Each bit line pair BLI, BL1 . . . . are connected to NMOs 370 for equalization, which are turned on and off by the equalization signal EQ1. Furthermore, each bit line pair BL1. li go.

・・・には、プリチャージ信号EQ2により活性化され
て該ビット線対BLI、BL1.・・・を基準電位VR
に充電するプリチャージ回路80が、それぞれ接続され
ている。例えば、ビット線対BLI。
. . are activated by the precharge signal EQ2, and the corresponding bit line pair BLI, BL1 . ... as the reference potential VR
A precharge circuit 80 is connected to each of them. For example, bit line pair BLI.

■r丁に接続されたプリチャージ回路80は、ノードN
1とビット線BLIとの間に接続された8MO381と
、そのノードN1とビット線百ダミとの間に接続された
NMO882とで構成され、該NMO881,82がプ
リチャージ信号EQ2によりオン。オフ動作する構成に
なっている。
■The precharge circuit 80 connected to the node N
1 and the bit line BLI, and an NMO 882 connected between the node N1 and the bit line BLI, and the NMOs 881 and 82 are turned on by the precharge signal EQ2. It is configured to operate off.

各ビット線対BLI、BL1.・・・は、トランスファ
回路90を介して相補的なデータ線DB、[)百にそれ
ぞれ接続されている。例えば、ピッド線対BLI、BL
Iに接続されたトランスファ回路90は、ビット線BL
Iとデータ線DBとの間に接続されたNMO891と、
ビット線BLIとデータ線■との間に接続されたNMO
892とを有し、そのNMO891,92が列アドレス
デコーダの選択信号YDにより、オン、オフ動作するよ
うになっている。
Each bit line pair BLI, BL1 . ... are connected to complementary data lines DB, [)100, respectively, via a transfer circuit 90. For example, pit line pair BLI, BL
The transfer circuit 90 connected to the bit line BL
NMO891 connected between I and data line DB,
NMO connected between bit line BLI and data line ■
892, whose NMOs 891 and 92 are turned on and off by a selection signal YD of a column address decoder.

第4図は第1図の動作波形図であり、この図を参照しつ
つ、第1図に示す半導体記憶装置の動作を説明する。
FIG. 4 is an operational waveform diagram of FIG. 1, and the operation of the semiconductor memory device shown in FIG. 1 will be explained with reference to this diagram.

例えば、メモリセル40−1にデータ″1”が記憶され
ており、そのデータ゛1°゛の読出し動作について以下
説明する。
For example, data "1" is stored in the memory cell 40-1, and the read operation of the data "1" will be described below.

スタンバイ時において、制御信号πAsがII HII
レベルの時、イコライズ信号EQIが“H1+レベルと
なっている。そのため、イコライズ用NMO870がオ
ン状態となり、ビット線BLIと「Tとが導通状態とな
ってほぼ基準電位VRに維持されている。
During standby, the control signal πAs is II HII
When the equalization signal EQI is at the "H1+ level", the equalization NMO 870 is turned on, and the bit lines BLI and "T are in a conductive state and maintained at approximately the reference potential VR.

制御信号RASが立下がると、その立下がりに同期して
プリチャージ信号EQ2が短時間“H”レベルになると
共に、図示しない行アドレスデコーダが動作する。プリ
チャージ信号EQ2が11 HI+レベルとなると、N
MO865,67がオフ状態になると共に、NMO86
6,68がオン状態となってノードNl、N2が基準電
位VRに接続される。すると、ビット線BLI、BLI
に基準電位VRが印加され、該ビット線対BLI、百T
丁が初期状態に設定される。
When the control signal RAS falls, the precharge signal EQ2 becomes "H" level for a short time in synchronization with the fall, and a row address decoder (not shown) operates. When precharge signal EQ2 reaches 11 HI+ level, N
As MO865 and 67 turn off, NMO86
6 and 68 are turned on, and nodes Nl and N2 are connected to reference potential VR. Then, the bit lines BLI, BLI
A reference potential VR is applied to the bit line pair BLI, 10T
D is set to the initial state.

この初期設定を行う理由は、イコライズ信号EQ1をH
”レベルにしてイコライズ用NMO870をオン状態と
するのみでは、ビット線BLIと百Tゴーの電位が等し
くなっても、寄生容量等によってそのビット線電位が基
準電位VRからずれる場合があるなめ、プリチャージ信
号EQ2により基準電位VRを印加してそのずれを補正
するようにしている。
The reason for this initial setting is that the equalize signal EQ1 is
” level and turn on the equalizing NMO 870, the bit line potential may deviate from the reference potential VR due to parasitic capacitance etc. A reference potential VR is applied using a charge signal EQ2 to correct the deviation.

また、プリチャージ信号EQ2によってノードNl、N
2に基準電位VRが印加されると、センスアンプ回路6
0が非活性化し、該センスアンプ回路60の誤動作が防
止される。
In addition, nodes Nl and N
When the reference potential VR is applied to the sense amplifier circuit 6
0 is inactivated, and malfunction of the sense amplifier circuit 60 is prevented.

プリチャージ信号EQ2が11 L I+レベルに立下
がると、イコライズ信号EQIが°゛L′°L′°レベ
ルり、イコライズ用NMO370がオフ状態となってピ
ッド線BLIとrとが切り離される。その後、図示しな
い行アドレスデコーダの選択信号XDにより、ワード線
駆動回路50内のNMO851がオン状態になると共に
、NMO852がオフ状態となり、ワード線WLIが1
1 H11レベルに立上がる。
When the precharge signal EQ2 falls to the 11 L I+ level, the equalizing signal EQI goes to the °L'°L'° level, the equalizing NMO 370 is turned off, and the pit lines BLI and r are separated. Thereafter, by the selection signal XD of the row address decoder (not shown), the NMO 851 in the word line drive circuit 50 is turned on, the NMO 852 is turned off, and the word line WLI is set to 1.
1 Rise to H11 level.

ワード線WLIが立上がると、そのワード線WL1に接
続されたメモリセル40−1.・・・内のNMO341
がオン状態となり、キャパシタ42に記憶されたデータ
II I IIがビット線BL1.・・・上に出力され
、ビット線対BLI、百Tゴー、・・・に微小電位差が
生じる。この時、11 L I+レベルのプリチャージ
信号EQ2により、インバータ69を介してNMO36
5,67がオン状態となっている。
When word line WLI rises, memory cells 40-1 . ...NMO341 within
turns on, and the data II II stored in the capacitor 42 is transferred to the bit line BL1. . . , and a minute potential difference is generated between the bit line pairs BLI, 100T go, . At this time, the precharge signal EQ2 at the 11 L I+ level causes the NMO36 to
5 and 67 are in the on state.

そのため、センスアンプ活性化信号SANがII L 
I+レベルに立下がると、NMO865を介してノード
N1も“Lllレベルに立下がり、センスアンプ回路6
0内のNMO862を介してビット線BLI、・・・の
電位が引き下げられる。そして、センスアンプ活性化信
号SAPが°“HITレベルに立上がると、NMO36
7を介してノードN2の電位が引き上げられ、センスア
ンプ回路60内のPMO363を介してビット線BLI
、・・・の電位も引き上げられる。
Therefore, the sense amplifier activation signal SAN is
When the I+ level falls, the node N1 also falls to the "Lll" level via the NMO 865, and the sense amplifier circuit 6
The potential of the bit lines BLI, . . . is lowered through the NMO 862 in 0. Then, when the sense amplifier activation signal SAP rises to the HIT level, the NMO36
7, the potential of node N2 is pulled up via PMO 363 in sense amplifier circuit 60, and bit line BLI
, ... are also raised.

このようなセンスアンプ回路60の増幅動作により、ビ
ット線対B L 1 、 ■「T、・・・の電位差が増
幅されると、制御信号(コロム・アドレス・ストローブ
信号)CASの立下がりにより、図示しない列アドレス
デコーダが動作し、そのアドレスデコーダの選択信号Y
Dが“H゛°°レベルる。
Due to such amplification operation of the sense amplifier circuit 60, when the potential difference between the bit line pair B L 1 , T, . A column address decoder (not shown) operates, and the selection signal Y of the address decoder
D is at “H゛°° level.

すると、トランスファ回路90内のNMO891゜92
がオン状態となり、ビット線対BL1. 百πT上の増
幅された電位差が、データ線DB、万百へ出力され、デ
ータの読出しが行われる。
Then, the NMO 891°92 in the transfer circuit 90
turns on, bit line pair BL1. The amplified potential difference over 100πT is output to the data lines DB and 100,000, and data is read out.

その後、イコライズ信号EQIが゛H°ルベルとなって
NMO870がオン状態となり、ビット線BLIと77
丁が接続されて同電位となる。この時、NMO370を
オン状態とするのみでは、ビット線BLIとBLIとの
電位が等しくなっても、基準電位VRからずれる場合が
ある。そこで、そのずれを補正するために、イコライズ
信号EQ1の立上がりに同期してプリチャージ信号EQ
2も短時間II HI+レベルになり、ビット線BLI
After that, the equalize signal EQI becomes the "H° level" and the NMO870 is turned on, and the bit line BLI and the 77
The two terminals are connected and have the same potential. At this time, if only the NMO 370 is turned on, even if the potentials of the bit lines BLI and BLI become equal, they may deviate from the reference potential VR. Therefore, in order to correct this deviation, the precharge signal EQ is synchronized with the rise of the equalize signal EQ1.
2 also goes to II HI+ level for a short time, and the bit line BLI
.

百Tゴーに基準電位VRが印加される。A reference potential VR is applied to the 100T go.

第1図において、例えばワード線WLIとピッド線BL
Iとがショートした場合を考える。
In FIG. 1, for example, word line WLI and pit line BL
Consider the case where there is a short circuit between I and I.

ワード線WLIとビット線BLIがショートした場合、
スタンバイ時において、プリチャージ信号EQ2が“H
”レベルになると、第1図の破線で示すように、基準電
位VR−NMO866→ノードN1→NMO381→ビ
ット線BLI→ワード線WLI→NMO352→接地電
位VSSという経路で、基準電位VRから接地電位■S
Sへ電流Iaが流れる。ところが、プリチャージ信号E
Q2が“HT+レベルとなる期間は、ワード線WL1が
“Hlルベルとなる以前の一定の短い期間(例えば、従
来に比べて1/10以下)に限られる。
If word line WLI and bit line BLI are short-circuited,
During standby, precharge signal EQ2 is “H”.
" level, as shown by the broken line in FIG. S
A current Ia flows to S. However, the precharge signal E
The period during which Q2 is at the "HT+ level" is limited to a certain short period (eg, 1/10 or less compared to the conventional one) before the word line WL1 reaches the "H1 level."

そのため、本実施例では、従来に比べてワード線及びビ
ット線間ショートに起因する消費電力量の増大が極めて
少なくなる。従って、ワード線・ビット線間ショートが
複数個発生しても、従来のように消費電力量の規格値を
超えることがなく、それによって不良品の発生が少なく
なって歩留まりの向上が図れる。特に、プリチャージ信
号EQ2が゛Hパレベルとなる期間が思いほど、ワード
線・ビット線間ショートに起因する消費電力量が少なく
なるので、許容できるワード線・ビット線間ショートの
数が多くなり、歩留まりがより向上する。
Therefore, in this embodiment, the increase in power consumption due to short-circuits between word lines and bit lines is extremely small compared to the conventional case. Therefore, even if a plurality of word line/bit line short circuits occur, the power consumption does not exceed the standard value as in the prior art, thereby reducing the number of defective products and improving yield. In particular, the longer the period in which the precharge signal EQ2 is at the HIGH level, the less power consumption is caused by word line/bit line shorts, which increases the number of word line/bit line shorts that can be tolerated. Yield is further improved.

なお、本発明は、図示の実施例に限定されず、種々の変
形が可能である。その変形例としては、例えば次のよう
なものがある。
Note that the present invention is not limited to the illustrated embodiment, and various modifications are possible. Examples of such modifications include the following.

(a>  プリチャージ信号EQ2によりオン、オフ動
作するプリチャージ回路80は、他のトランジスタを用
いて構成しても良い。また、このプリチャージ信号EQ
2を用いて、センスアンプ駆動用のNMO365〜68
のオン、オフ制御を行っているが、プリチャージ信号E
Q2とは別個の信号を用いてセンスアンプ回路60のオ
ン、オフ動作を行うようにしても良い。
(a> The precharge circuit 80, which is turned on and off by the precharge signal EQ2, may be configured using other transistors.
2, use NMO365 to 68 for driving the sense amplifier.
On/off control is performed, but the precharge signal E
The sense amplifier circuit 60 may be turned on and off using a signal separate from Q2.

(b)  上記実施例では、イコライズ信号EQIによ
ってイコライズ用NMO870をオン、オフ動作させる
ことにより、ビット線BLIと百Tゴーを同電位にする
ことにより、初期設定を行っている。このようなイコラ
イズ手段を設けた場合、第4図に示すように、イコライ
ズ信号EQIのL′。
(b) In the embodiment described above, initial setting is performed by turning on and off the equalizing NMO 870 using the equalizing signal EQI to bring the bit lines BLI and 100Tgo to the same potential. When such equalizing means is provided, as shown in FIG. 4, the equalizing signal EQI is L'.

レベルからI Hl“レベルへの立上がり時において、
プリチャージ信号EQ2を短時間“′Hパレベルに必ず
しもする必要がない。
At the time of rising from the level to the I Hl level,
It is not necessary to set the precharge signal EQ2 to the "H" level for a short period of time.

即ち、プリチャージ信号EQ2を″H“レベルに立上げ
ない場合、イコライズ信号EQIによってビット線BL
Iと百Llの電位が等しくなり、その電位が例え基準電
位VRからずれたとしても、次の読出し動作時等におい
て、制御信号■Wミの立下がりに同期してプリチャージ
信号EQ2が短時間の間、II HI+レベルとなるの
で、その“H”レベルによって基準電位VRからのずれ
を補正できる。そのため、読出し動作時の後段において
、プリチャージ信号EQ2を必ずしも短時間の間、“H
パレベルにする必要がない。
That is, if the precharge signal EQ2 is not raised to the "H" level, the bit line BL is
Even if the potentials of I and 100Ll become equal and the potential deviates from the reference potential VR, the precharge signal EQ2 will be activated for a short time in synchronization with the fall of the control signal ■Wmi during the next read operation, etc. During this period, it is at IIHI+ level, so that the deviation from the reference potential VR can be corrected by the "H" level. Therefore, in the latter stage of the read operation, the precharge signal EQ2 is not necessarily set to "H" for a short period of time.
There is no need to make it a par level.

また、イコライズ信号EQIによってビット線BL1.
U”t7間を同電位にした後、プリチャージ信号EQ2
によって基準電位VRを印加する構成であるため、ビッ
ト線B L 1 、 iT、・・・の寄生容量等を小さ
くできれば、イコライズ用NMO870を省略すること
も可能である。
Further, bit line BL1.
After setting the potential between U”t7 to the same potential, precharge signal EQ2
Since the configuration is such that the reference potential VR is applied by , the equalizing NMO 870 can be omitted if the parasitic capacitance of the bit lines B L 1 , iT, . . . can be reduced.

(C)  メモリセル40−1.40−2.・・・は、
1トランジスタ型のセルで構成したが、これは2トラン
ジスタ型等の他の回路で構成しても良く、さらにセンス
アンプ回路60も他のトランジスタ構成に変形すること
が可能である。また、センスアンプ回#160とメモリ
セル40−1.40−2゜・・・どの間のビット線対B
LI、BLI、 11.に、スイッチ手段を設け、その
スイッチ手段によってセンスアンプ回路60をメモリセ
ル側から切り離すことにより、該センスアンプ回路60
におけるセンス動作の高速化を図るようなことも可能で
ある。
(C) Memory cell 40-1.40-2. ···teeth,
Although the cell is a one-transistor type, it may be configured with other circuits such as a two-transistor type, and the sense amplifier circuit 60 can also be modified to other transistor configurations. Also, bit line pair B between sense amplifier circuit #160 and memory cell 40-1.40-2°...
LI, BLI, 11. By providing a switch means and separating the sense amplifier circuit 60 from the memory cell side by the switch means, the sense amplifier circuit 60 is disconnected from the memory cell side.
It is also possible to speed up the sensing operation.

(発明の効果) 以上詳細に説明したように、本発明によれば、ワード線
を活性化する前の一定期間、制御信号に同期してプリチ
ャージ信号を活性化する構成にした。そのため、プリチ
ャージ信号を活性化する期間を短くすることにより、ワ
ード線とビット線がショートした時に、そのプリチャー
ジ信号の活性化期間に基準電位から接地電位側へ流れる
電流を大幅に減少させることができる。従って、従来の
ようにワード線とビット線間にショートが発生したとし
ても、スタンバイ時における消費電力量が規格値をオー
バーして不良となることを、的確に防止でき、不良品の
発生を抑えた歩留まりの高い半導体記憶装置を提供でき
る。
(Effects of the Invention) As described above in detail, according to the present invention, the precharge signal is activated in synchronization with the control signal for a certain period before activating the word line. Therefore, by shortening the activation period of the precharge signal, when the word line and bit line are shorted, the current flowing from the reference potential to the ground potential side during the activation period of the precharge signal can be significantly reduced. I can do it. Therefore, even if a short occurs between the word line and the bit line as in the past, it is possible to accurately prevent the power consumption during standby from exceeding the standard value and resulting in a defect, thereby suppressing the occurrence of defective products. A semiconductor memory device with high yield can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の実施例を示す半導体記憶装置の要部の
回路図、第2図は従来の半導体記憶装置を示す要部の回
路図、第3図は第2図の動作波形図、第4図は第1図の
動作波形図である。 40−1.40−2・・・・・・メモリセル、50・・
・・・・ワード線駆動回路、60・・・・・・センスア
ンプ回路、70・・・・・・イコライズ用NMO8,8
0・・・・・・プリチャージ回路、BLI、BLI・・
・・・・ビット線、EQl・・・・・・イコライズ信号
、EQ2・・・・・・プリチャージ信号、SAN、SA
P・・・・・・センスアンプ活性化信号、■CC・・・
・・・電源電位、VR・・・・・・基準電位、■SS・
・・・・・接地電位、WLI、WL2・・・・・・ワー
ド線。
FIG. 1 is a circuit diagram of a main part of a semiconductor memory device showing an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a circuit diagram of a main part of a conventional semiconductor memory device, and FIG. 3 is an operation waveform diagram of FIG. FIG. 4 is an operational waveform diagram of FIG. 1. 40-1.40-2...Memory cell, 50...
...Word line drive circuit, 60...Sense amplifier circuit, 70...NMO8, 8 for equalization
0...Precharge circuit, BLI, BLI...
...Bit line, EQl...Equalize signal, EQ2...Precharge signal, SAN, SA
P...Sense amplifier activation signal, ■CC...
...Power supply potential, VR...Reference potential, ■SS・
...Ground potential, WLI, WL2...Word line.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 制御信号に基づき活性化される複数のワード線と、前記
ワード線に交差配置された複数対のビット線対と、前記
各ワード線及びビット線対の交差箇所にそれぞれ接続さ
れた複数のメモリセルと、前記各ビット線対に接続され
センスアンプ活性化信号により前記各ビット線対の電位
差をそれぞれ検知・増幅する複数のセンスアンプ回路と
、プリチャージ信号により前記各ビット線対をそれぞれ
基準電位にプリチャージする複数のプリチャージ回路と
を、備えた半導体記憶装置において、前記ワード線の活
性化前の一定期間、前記制御信号に同期して前記プリチ
ャージ信号を活性化する構成にしたことを特徴とする半
導体記憶装置。
A plurality of word lines activated based on a control signal, a plurality of bit line pairs arranged to intersect with the word lines, and a plurality of memory cells respectively connected to the intersections of the word lines and the bit line pairs. , a plurality of sense amplifier circuits connected to each of the bit line pairs, each detecting and amplifying the potential difference between each of the bit line pairs using a sense amplifier activation signal; A semiconductor memory device comprising a plurality of precharge circuits for precharging, characterized in that the precharge signal is activated in synchronization with the control signal for a certain period of time before activation of the word line. A semiconductor storage device.
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