JPH0443359A - 平版印刷版の製造方法 - Google Patents
平版印刷版の製造方法Info
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- JPH0443359A JPH0443359A JP15185890A JP15185890A JPH0443359A JP H0443359 A JPH0443359 A JP H0443359A JP 15185890 A JP15185890 A JP 15185890A JP 15185890 A JP15185890 A JP 15185890A JP H0443359 A JPH0443359 A JP H0443359A
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- Japan
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- group
- acid
- photosensitive
- printing plate
- ether
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は印刷版の製造方法に関し、特に現像時の画像部
の強度、耐刷性、汚れにくさの優れた平版印刷版の製造
方法に関する。
の強度、耐刷性、汚れにくさの優れた平版印刷版の製造
方法に関する。
平版印刷は、平版印刷版に水とインキを用いて、画像部
にインキ、非画像部に水を供給して印刷する方式であり
、現像時の画像部の強度を高め、多数の印刷物を得・る
ために、画像部と支持体との接着性を強くする必要があ
る。一方非画像部では、現像後に十分な親水性を保って
いて、印刷工程において汚れが生じない事が必要である
。
にインキ、非画像部に水を供給して印刷する方式であり
、現像時の画像部の強度を高め、多数の印刷物を得・る
ために、画像部と支持体との接着性を強くする必要があ
る。一方非画像部では、現像後に十分な親水性を保って
いて、印刷工程において汚れが生じない事が必要である
。
このように画像部と支持体との接着性を強くする試みと
して、例えば特開昭59−192250号、特開平2−
4250号、特開平2−4259号にみられるように、
支持体と感光層との間にシランカップリング剤及び/又
はチタンカップリング剤を含有する非感光性中間層を設
ける事が提案されているが、接着性が不十分なばかりで
なく、シランカップリング剤やチタンカップリング剤が
支持体表面に付着した部位がミクロに見れば有機物過剰
となり、汚れの点でも満足のいくものではなかった。ま
た、特開平2−23347号、同2−23348号には
金属の化合物のゾルで表面処理した支持体上に、感光性
樹脂組成物層を設ける事が記載されているが、これらは
、支持体として鉄材を用いる場合に、その表面の親水性
を向上させる事を目的としており、本発明のように有機
官能基を含有させて積極的に画像部と支持体との接着性
を高めようというものではないばかりではなく、ゾルと
下地材との間の密着性が特定の電解析出条件下でしか得
られないという問題点がある。
して、例えば特開昭59−192250号、特開平2−
4250号、特開平2−4259号にみられるように、
支持体と感光層との間にシランカップリング剤及び/又
はチタンカップリング剤を含有する非感光性中間層を設
ける事が提案されているが、接着性が不十分なばかりで
なく、シランカップリング剤やチタンカップリング剤が
支持体表面に付着した部位がミクロに見れば有機物過剰
となり、汚れの点でも満足のいくものではなかった。ま
た、特開平2−23347号、同2−23348号には
金属の化合物のゾルで表面処理した支持体上に、感光性
樹脂組成物層を設ける事が記載されているが、これらは
、支持体として鉄材を用いる場合に、その表面の親水性
を向上させる事を目的としており、本発明のように有機
官能基を含有させて積極的に画像部と支持体との接着性
を高めようというものではないばかりではなく、ゾルと
下地材との間の密着性が特定の電解析出条件下でしか得
られないという問題点がある。
本発明の目的は、画像部と支持体との接着性が強く、従
って現像時の画像部強度や印刷性に優れ、しかも地汚れ
の発生する事のない平版印刷版の製造方法を提供する事
にある。
って現像時の画像部強度や印刷性に優れ、しかも地汚れ
の発生する事のない平版印刷版の製造方法を提供する事
にある。
本発明者らは、鋭意検討の結果
有機官能基と、加水分解につづいて重縮合する基とを有
する有機金属化合物を液中で加水分解及び重縮合させて
得られる無機高分子を含む液状組成物を、金属表面に塗
布した後、その上に感光性樹脂層を設けた感光性平版印
刷版を、露光、現像する平版印刷版の製造方法において
、該現像に用いる現像剤が、ケイ酸塩を含有する事を特
徴とする平版印刷版の製造方法 によって上記目的が達成される事を見出した。
する有機金属化合物を液中で加水分解及び重縮合させて
得られる無機高分子を含む液状組成物を、金属表面に塗
布した後、その上に感光性樹脂層を設けた感光性平版印
刷版を、露光、現像する平版印刷版の製造方法において
、該現像に用いる現像剤が、ケイ酸塩を含有する事を特
徴とする平版印刷版の製造方法 によって上記目的が達成される事を見出した。
以下本発明について詳述する。
本発明に使用することのできる有機金属化合物の具体例
は、下記の一般式(1)で表わされる。
は、下記の一般式(1)で表わされる。
AヨM(OR)、 (1)
式中、Mは金属を表わし、
Aは有機官能基を表わし、
Rは水素、アルキル基又は液中、好ましくは有機溶媒中
でアルキル基と置換し 得る官能基を表わし、 mSnは正の整数で2≦m+n≦6を表わし、そして mXnが2以上の場合は、A、Rは同 種のものとすることも、異種のものが 混じったものとすることもできる。
でアルキル基と置換し 得る官能基を表わし、 mSnは正の整数で2≦m+n≦6を表わし、そして mXnが2以上の場合は、A、Rは同 種のものとすることも、異種のものが 混じったものとすることもできる。
−設入(1)で表わされる有機金属化合物は1種類のみ
で使用してもよく、また数種類のものを混合して用いて
もよし)。また、有機官能基Aを有さない下記式(2)
の有機金属化合物と混合してもよい。
で使用してもよく、また数種類のものを混合して用いて
もよし)。また、有機官能基Aを有さない下記式(2)
の有機金属化合物と混合してもよい。
M(OR) 、、(2)
式中、M、Rは式(1)と同じ意味を有し、nは正の整
数で1≦n≦6を満す。
数で1≦n≦6を満す。
一般式(1)及び(2)において、ORの一部もしくは
全部がハロゲン原子に置きかわったものも、本発明に従
う組成物を調製するための有機金属化合物として好適に
使用することができる。更に詳しく述べれば、水、アル
コール類などの作用によって、−設入(1)及び(2)
で示される化合物を生成し得る、前駆体有機金属化合物
も全て使用できる。ハロゲン原子の代表例はF、CA、
Br及Iである。
全部がハロゲン原子に置きかわったものも、本発明に従
う組成物を調製するための有機金属化合物として好適に
使用することができる。更に詳しく述べれば、水、アル
コール類などの作用によって、−設入(1)及び(2)
で示される化合物を生成し得る、前駆体有機金属化合物
も全て使用できる。ハロゲン原子の代表例はF、CA、
Br及Iである。
また、−設入(1)及び(2)において、ORの一部も
しくは全部が加水分解及び重縮合反応を起して、分子中
に金属−酸素−金属結合を有するに至った有機金属化合
物も、本発明において使用することができる。
しくは全部が加水分解及び重縮合反応を起して、分子中
に金属−酸素−金属結合を有するに至った有機金属化合
物も、本発明において使用することができる。
一般式(1)及び(2)の有機金属化合物を混合して、
加水分解及び重縮合反応を行なわせて、金属−酸素−金
属の結合を含む高分子又はコロイド状重合体を形成させ
、この液状組成物を用いて金属表面を処理した場合には
、化合物(1)由来の官能基Aのほかに、化合物(2)
由来のOH基、又は場合により化合物(1)由来のOH
基と化合物(2)由来のOH基とが、金属表面に植えつ
けられる。このOH基は、−設入(2)中又は−設入(
1)と−設入(2)中のOR基が加水分解してOH基に
なったものに他ならなし゛。
加水分解及び重縮合反応を行なわせて、金属−酸素−金
属の結合を含む高分子又はコロイド状重合体を形成させ
、この液状組成物を用いて金属表面を処理した場合には
、化合物(1)由来の官能基Aのほかに、化合物(2)
由来のOH基、又は場合により化合物(1)由来のOH
基と化合物(2)由来のOH基とが、金属表面に植えつ
けられる。このOH基は、−設入(2)中又は−設入(
1)と−設入(2)中のOR基が加水分解してOH基に
なったものに他ならなし゛。
処理済表面上の有機官能基Aの密度は、本発明に従う液
状組成物の濃度を変化させるほか、化合物(1)及び(
2)の相対量を変化させることによっても制御し得る。
状組成物の濃度を変化させるほか、化合物(1)及び(
2)の相対量を変化させることによっても制御し得る。
一般式(1)及び(2)において、金属Mは、Ll、N
a。
a。
K、 Rb、 Cs、 Be、 Mg、 Ca、 Sr
、 Ba、 Sc、 Y、希土類金属、 Ti、 V
、 Cr、 Mn、 Fe、 [:o、 Ni
、 口u、 2n。
、 Ba、 Sc、 Y、希土類金属、 Ti、 V
、 Cr、 Mn、 Fe、 [:o、 Ni
、 口u、 2n。
Zr、 Nb、 Mo、 Hf、 Ta5WSRuSR
hSPdSIr、 Pt。
hSPdSIr、 Pt。
BS AI、Ga、 In5T1%5iSGeSSn
SPbSP。
SPbSP。
^s、 Sb、 Biの何れでもよく、AI、5iST
iが原料入手性の点で好ましい。
iが原料入手性の点で好ましい。
また、Aは処理済表面に共有結合的に固定される官能基
であり、式(1)の形で安定に存在するものであればい
かなるものでもよい。処理済表面の化学反応性はAの種
類と量によって制御することができる。
であり、式(1)の形で安定に存在するものであればい
かなるものでもよい。処理済表面の化学反応性はAの種
類と量によって制御することができる。
Aの代表例としては、アルキル基、アリール基、基、ア
ルケニル基、プロパルギル基、アルコキシ基、エポキシ
アルキル基が挙げられ、これらのものは、目的に応じて
例えば以下に示す様な1個もしくは複数の官能基により
、置換されていてもよい。ハロゲン基、アルキル基、ア
リール基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アル
コキシカルボニルオキシ基、アシルオキシ基、アシル基
、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、カルボキ
シ基、アルケニル基、プロパルギル基、アミノ基、アル
キルアミノ基、アシルアミノ基、ウレイド基、カルバメ
ート基、ジアゾニオ基、ジアゾ基、アゾ基、メルカプト
基、アルキルチオ基、スルホニル基、スルホ基、シアノ
基、イソシアナト基、チオイソシアナト基、スルファモ
イル基、ニトロ基、シリル基、シロキシ基。
ルケニル基、プロパルギル基、アルコキシ基、エポキシ
アルキル基が挙げられ、これらのものは、目的に応じて
例えば以下に示す様な1個もしくは複数の官能基により
、置換されていてもよい。ハロゲン基、アルキル基、ア
リール基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アル
コキシカルボニルオキシ基、アシルオキシ基、アシル基
、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、カルボキ
シ基、アルケニル基、プロパルギル基、アミノ基、アル
キルアミノ基、アシルアミノ基、ウレイド基、カルバメ
ート基、ジアゾニオ基、ジアゾ基、アゾ基、メルカプト
基、アルキルチオ基、スルホニル基、スルホ基、シアノ
基、イソシアナト基、チオイソシアナト基、スルファモ
イル基、ニトロ基、シリル基、シロキシ基。
以下にAのより具体的な例を示す。
CH3−1C2H5−1n−CJt 、1−Ca)h
、n−CeH+を−n−C+J2S−1n−Cl
s H37−1CH,CA−1CFfCF汁スCL”C
(CL)CD[H−CLh、 CH2=CHC=CL
、■ H3CL−1)IS−(−CHrh−、ll2N[:H
2−112N+CII#r−1H2ト十CHTh−1H
,N−(CH計NH+CH什丁、ドCイCH丹丁、NC
+CH什r10CN+CHrh−1OCN+CH=−)
y、HD−CH2−C= C−1CH3CO−3−CH
2−1CH3CO−0−CI12−1(CHT+TC−
1口f CH2CH25CH,−、(口II−)2CH
O−1HD[:H2C112S[l:H2−、H2NC
II、口H2NHCH2NC3CH23+CI(汁「、 CH,=CIICH,0→CHr)y S C)I 2
−1NC3CH2CH2CH,−5(CH5)2N−C
3−5CL−1(CH3) 2CHNHCH2−1C)
1.CH2C0−C= C−1 CF+CD−ト十CHdy、 NC3C)I2− CHz=CH3+CHyh−。
、n−CeH+を−n−C+J2S−1n−Cl
s H37−1CH,CA−1CFfCF汁スCL”C
(CL)CD[H−CLh、 CH2=CHC=CL
、■ H3CL−1)IS−(−CHrh−、ll2N[:H
2−112N+CII#r−1H2ト十CHTh−1H
,N−(CH計NH+CH什丁、ドCイCH丹丁、NC
+CH什r10CN+CHrh−1OCN+CH=−)
y、HD−CH2−C= C−1CH3CO−3−CH
2−1CH3CO−0−CI12−1(CHT+TC−
1口f CH2CH25CH,−、(口II−)2CH
O−1HD[:H2C112S[l:H2−、H2NC
II、口H2NHCH2NC3CH23+CI(汁「、 CH,=CIICH,0→CHr)y S C)I 2
−1NC3CH2CH2CH,−5(CH5)2N−C
3−5CL−1(CH3) 2CHNHCH2−1C)
1.CH2C0−C= C−1 CF+CD−ト十CHdy、 NC3C)I2− CHz=CH3+CHyh−。
CH,NHCO−0+ CHrh−1
HOOC−+CH什「。
(C2H5) aPSCl(aCH2−HJ−←CHf
+rS+ CH7升丁、(C7H6O) 2P−CH2
Cl2.−5−CH。
+rS+ CH7升丁、(C7H6O) 2P−CH2
Cl2.−5−CH。
H,N−←CHTh−NH−+ CRT)7 NH−←
C1(→ゴーrρ ([)13)30−C1−[、トN汁イロH丁ナコー、
(CH,) 、[1,−0−Co−0(CH子h−1し
I3 し! 一般式(1)及び(2)に現れるRは、水素、アルキル
基又は有機溶媒中でアルキル基と置換し得る官能基を表
わし、単一のものでもいくつかのものが併存するもので
もよい。アルキル基は直鎮状、分枝状、環状等いずれの
ものとすることもでき、その代表例は、CH3−、C2
H5−、n−CJl、1−CJt、有機溶媒中でアルキ
ル基と置換し得る官能基Rの例は、CA、Brなどのハ
ロゲン原子、有機酸残基などである。有機酸残基として
は−C[1CH3が用いやすいが、炭素数の多いものも
使用できる。官能基R&アルキル基との置換には、Rと
アルキル基とがそのままで置換するものの他、−ORが
一〇−アルキル基と置換するものも含まれる。
C1(→ゴーrρ ([)13)30−C1−[、トN汁イロH丁ナコー、
(CH,) 、[1,−0−Co−0(CH子h−1し
I3 し! 一般式(1)及び(2)に現れるRは、水素、アルキル
基又は有機溶媒中でアルキル基と置換し得る官能基を表
わし、単一のものでもいくつかのものが併存するもので
もよい。アルキル基は直鎮状、分枝状、環状等いずれの
ものとすることもでき、その代表例は、CH3−、C2
H5−、n−CJl、1−CJt、有機溶媒中でアルキ
ル基と置換し得る官能基Rの例は、CA、Brなどのハ
ロゲン原子、有機酸残基などである。有機酸残基として
は−C[1CH3が用いやすいが、炭素数の多いものも
使用できる。官能基R&アルキル基との置換には、Rと
アルキル基とがそのままで置換するものの他、−ORが
一〇−アルキル基と置換するものも含まれる。
また、−ORは一座配位型のものに限定されず、ジオー
ル、トリオールなどの多座アルコキシド、シュウ酸、コ
ハク酸などの多座有機酸残基とすることもできる。
ル、トリオールなどの多座アルコキシド、シュウ酸、コ
ハク酸などの多座有機酸残基とすることもできる。
一般式(1)で表わされる化合物の具体例としては以下
のようなものがある。
のようなものがある。
82N ((1:H−) 2NH(C)I2) 3−5
l (OCH3) 3CH2=C)I−3i (OC
OCH3) 3CH2=CH−3i (OC2L) 3
HJ(CL)s−3i(OC2Hs)30CNCH,C
H2CH,−3i (OCL) 5CH3SiH(OC
H,) 2 Hsl(OCH3) 2 CLCA Sl (OCH3) 3 CH3S+ (O[:I3) ! H3CH23i (DC)13) 3 CL−CH5+ (CH3) 20CH3CH2=CH
3i (OCH3) = CL=CHCH,Si (0[1:2H5) 3)IS
CH2CH2CH2Si (OCH3)3CH,・CH
−3+ ([1:I3) (OCOCH3) 20H2
=CH−5+ (CH3)(DC2Hs)−(CH2=
CH) 2Sl (QC2Hs) 2H2N(CH2)
3SI (口H3)(OC2H5)282N (CH2
) 3NH(CH2) 3S1 (CH:l) (O[
I3) 2NC(CH2) 2Sl (口C2H1)3
CH7−CHCH20CJsS1 ([]CH3) −
\。/ cH2=CIICH,NH(CH2) 、Si (OC
H3)3(C,H5謬昌CH2)2S、(OCH3)。
l (OCH3) 3CH2=C)I−3i (OC
OCH3) 3CH2=CH−3i (OC2L) 3
HJ(CL)s−3i(OC2Hs)30CNCH,C
H2CH,−3i (OCL) 5CH3SiH(OC
H,) 2 Hsl(OCH3) 2 CLCA Sl (OCH3) 3 CH3S+ (O[:I3) ! H3CH23i (DC)13) 3 CL−CH5+ (CH3) 20CH3CH2=CH
3i (OCH3) = CL=CHCH,Si (0[1:2H5) 3)IS
CH2CH2CH2Si (OCH3)3CH,・CH
−3+ ([1:I3) (OCOCH3) 20H2
=CH−5+ (CH3)(DC2Hs)−(CH2=
CH) 2Sl (QC2Hs) 2H2N(CH2)
3SI (口H3)(OC2H5)282N (CH2
) 3NH(CH2) 3S1 (CH:l) (O[
I3) 2NC(CH2) 2Sl (口C2H1)3
CH7−CHCH20CJsS1 ([]CH3) −
\。/ cH2=CIICH,NH(CH2) 、Si (OC
H3)3(C,H5謬昌CH2)2S、(OCH3)。
CH2=C(CH−)CO[l([:L)−3l(DC
)l−> 3[:L”[: ([:)I−) COD
(CH2) psi (CH3) (OCH3) 2C
L:CHCOO(CH2) 3Sl (OCH3) 3
CH2=CHCOO(CH=) 3Si (CH3)
(OCH3) 2NH,’JNH(CH2)ssi (
OC2H5)3(:H= C5i (OC2H5) 3
CH2=CH3l (OCOCH3) 3(C5H70
2) 2Tl (0”3+(7) 2(C5H702)
2V (QC3H,) 。
)l−> 3[:L”[: ([:)I−) COD
(CH2) psi (CH3) (OCH3) 2C
L:CHCOO(CH2) 3Sl (OCH3) 3
CH2=CHCOO(CH=) 3Si (CH3)
(OCH3) 2NH,’JNH(CH2)ssi (
OC2H5)3(:H= C5i (OC2H5) 3
CH2=CH3l (OCOCH3) 3(C5H70
2) 2Tl (0”3+(7) 2(C5H702)
2V (QC3H,) 。
(Cs8.02) 2日a (OC211s) 2−設
入(2)で表わされる化合物の具体例としては以下のも
のが挙げられる。
入(2)で表わされる化合物の具体例としては以下のも
のが挙げられる。
Si (OCH3) 4
S+ ([]C2Hs) 4
Si (O[:OCH,) 4
S+ (0[:scd −
3+ (QC4Cs) 4
Tl (OC3H7) 4
Ti(OC,H=)=
2r(口C3L)。
V(QC,H5)。
W(DCJsL
一般式(1)及び〔2〕で表わされる有機金属化合物を
加水分解とともに重縮合させるための有機溶媒の例は以
下のものである。
加水分解とともに重縮合させるための有機溶媒の例は以
下のものである。
メタノール、エタノール、n−及び】−プロパツール、
1−及び2−ブタノール、イソブチルアルコール、アミ
ルアルコール、ペンタノール、フーゼル油、ヘキサノー
ル、ヘプタツール、オクタツール、シクロヘキサノール
、ベンジルアルコール、フルフリルアルコール、テトラ
ヒドロフルフリルアルコール、ヘキサン、ヘプタン、オ
クタン、デカン、石油エーテル、石油ベンジン、リグロ
イン、ガソリン、溶油、シクロヘキサン、ベンゼン、ト
ルエン、o−lm−及びp−キシレン、スチレン、クレ
ゾール、テトラリン、デカリン、テレピン油、クロロホ
ルム、四塩化炭素、塩化メチレン、塩化エチレン、塩化
エチリデン、トリクロルエタン、テトラクロルエタン、
トリクロルエチレン、テトラクロルエチレン、トリクロ
ルプロパン、塩化イソプロピル、ジクロルプロパン、塩
化ブfJLi、塩化アミル、塩化ヘキシル、臭化エチレ
ン、テトラブロムエタン、クロルベンゼン、0−ジクロ
ルベンゼン、トリクロルベンゼン、ブロムベンゼン、ク
ロルトルエン、ジエチルエーテル、イソプロピルエーテ
ル、ジブチルエーテル、ジイソアミルエーテル、ヘキシ
ルエーテル、メチルフェニルエーテル、エチルフェニル
エーテル、ブチルフェニルエーテル、エチルベンジルエ
ーテル、1.4−ジオキサン、2−メチルフラン、テト
ラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、2−エトキシテ
トラヒドロピラン、シネオール、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン
、メチルイソブチルケトン、メチルアミルケトン、メチ
ルへキシルケトン、ジエチルケトン、エチルブチルケト
ン、ジプロピルケトン、ジプロピルケトン、ジアセトン
アルコール、ホロン、イソホロン、シクロヘキサノン、
メチルシクロヘキサノン、アセトフェノン、ギ酸エチル
、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、ギ酸イソブチル、ギ酸了
ミル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イ
ソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸第ニブ
チル、酢酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸メチルイソア
ミル、酢酸メトキシブチル、酢酸2−エチルブチル、酢
酸ヘキシル、酢酸シクロヘキシル、酢酸ベンジル、プロ
ピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブ
チル、プロピオン酸アミル、酪酸メチル、酪酸エチル、
酪酸ブチル、酪酸アミル、酪酸イソアミル、アセト酢酸
メチル、アセト酢酸エチル、イソ吉草酸イソアミル、乳
酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、乳酸アミル、安息
香酸メチル、シュウ酸ジエチル、エチレングリコール、
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコ
ールジメチルエーテル、エチレングリコールモノエチル
エーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチ
レングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレ
ングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコー
ルモノブチルエーテル、エチレングリコールモノイソブ
チルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、
エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エ
チレングリコールイソアミルエーテル、エチレングリコ
ールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノフ
ェニルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエー
テルアセテート、エチレングリコールベンジルエーテル
、メトキシメトキシエタノール、エチレングリコールモ
ノアセテート、エチレングリコールジアセテート、エチ
レングリコール酪酸モノエステル、エチレングリコール
プロピオン酸ジエステル、エチレングリコール酪酸ジエ
ステル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコール
千ツメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチル
エーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルア
セテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルア
セテート、ジエチレンクリコールモノイソプロビルエー
テル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエ
チレングリコールモノイソブチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレン
グリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジ
エチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエ
ーテル、ジエチレングリコールアセテート、ジエチレン
グリコールジブチルエーテル、ブワピレングリコール、
プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレン
グリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコール
モノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコール
プロビルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエ
ーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエ
ーテル、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコ
ールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ
エチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエー
テル、ジプロピレングリコールメチルエチルエーテル、
ジプロピレングリコールジエチルエーテル、トリメチレ
ングリコール、トリエチレングリコールジメチルエーテ
ル、ブタンジオール、ベンタンジオール、ヘキシレング
リコール、3−メトキシ−3〜メトキシブタノール、ギ
酸、酢酸、無水酢酸、プロピオン酸、無水プロピオン酸
、酪酸、吉草酸、乳酸、ピリジン、ピコリン、キノリン
、イソキノリン、ジメチルスルホキシド、リン酸トリエ
チル、ジメチルホルムアミド、γ−ブチロラクトン、T
−バレロラクトン、6−ヘキサノラクトン、サリチル酸
メチル、サリチル酸エチル、サリチル酸ブチル、アジピ
ン酸ジエチル、炭酸エチル、硫化ブチル、アセチルアセ
トン、アセトニルアセトン、モノ−、ジーおよびトリエ
タノールアミン、N、N−ジメチルホルムアミド、グリ
セ・リン。
1−及び2−ブタノール、イソブチルアルコール、アミ
ルアルコール、ペンタノール、フーゼル油、ヘキサノー
ル、ヘプタツール、オクタツール、シクロヘキサノール
、ベンジルアルコール、フルフリルアルコール、テトラ
ヒドロフルフリルアルコール、ヘキサン、ヘプタン、オ
クタン、デカン、石油エーテル、石油ベンジン、リグロ
イン、ガソリン、溶油、シクロヘキサン、ベンゼン、ト
ルエン、o−lm−及びp−キシレン、スチレン、クレ
ゾール、テトラリン、デカリン、テレピン油、クロロホ
ルム、四塩化炭素、塩化メチレン、塩化エチレン、塩化
エチリデン、トリクロルエタン、テトラクロルエタン、
トリクロルエチレン、テトラクロルエチレン、トリクロ
ルプロパン、塩化イソプロピル、ジクロルプロパン、塩
化ブfJLi、塩化アミル、塩化ヘキシル、臭化エチレ
ン、テトラブロムエタン、クロルベンゼン、0−ジクロ
ルベンゼン、トリクロルベンゼン、ブロムベンゼン、ク
ロルトルエン、ジエチルエーテル、イソプロピルエーテ
ル、ジブチルエーテル、ジイソアミルエーテル、ヘキシ
ルエーテル、メチルフェニルエーテル、エチルフェニル
エーテル、ブチルフェニルエーテル、エチルベンジルエ
ーテル、1.4−ジオキサン、2−メチルフラン、テト
ラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、2−エトキシテ
トラヒドロピラン、シネオール、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン
、メチルイソブチルケトン、メチルアミルケトン、メチ
ルへキシルケトン、ジエチルケトン、エチルブチルケト
ン、ジプロピルケトン、ジプロピルケトン、ジアセトン
アルコール、ホロン、イソホロン、シクロヘキサノン、
メチルシクロヘキサノン、アセトフェノン、ギ酸エチル
、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、ギ酸イソブチル、ギ酸了
ミル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イ
ソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸第ニブ
チル、酢酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸メチルイソア
ミル、酢酸メトキシブチル、酢酸2−エチルブチル、酢
酸ヘキシル、酢酸シクロヘキシル、酢酸ベンジル、プロ
ピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブ
チル、プロピオン酸アミル、酪酸メチル、酪酸エチル、
酪酸ブチル、酪酸アミル、酪酸イソアミル、アセト酢酸
メチル、アセト酢酸エチル、イソ吉草酸イソアミル、乳
酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、乳酸アミル、安息
香酸メチル、シュウ酸ジエチル、エチレングリコール、
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコ
ールジメチルエーテル、エチレングリコールモノエチル
エーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチ
レングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレ
ングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコー
ルモノブチルエーテル、エチレングリコールモノイソブ
チルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、
エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エ
チレングリコールイソアミルエーテル、エチレングリコ
ールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノフ
ェニルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエー
テルアセテート、エチレングリコールベンジルエーテル
、メトキシメトキシエタノール、エチレングリコールモ
ノアセテート、エチレングリコールジアセテート、エチ
レングリコール酪酸モノエステル、エチレングリコール
プロピオン酸ジエステル、エチレングリコール酪酸ジエ
ステル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコール
千ツメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチル
エーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルア
セテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルア
セテート、ジエチレンクリコールモノイソプロビルエー
テル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエ
チレングリコールモノイソブチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレン
グリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジ
エチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエ
ーテル、ジエチレングリコールアセテート、ジエチレン
グリコールジブチルエーテル、ブワピレングリコール、
プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレン
グリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコール
モノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコール
プロビルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエ
ーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエ
ーテル、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコ
ールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ
エチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエー
テル、ジプロピレングリコールメチルエチルエーテル、
ジプロピレングリコールジエチルエーテル、トリメチレ
ングリコール、トリエチレングリコールジメチルエーテ
ル、ブタンジオール、ベンタンジオール、ヘキシレング
リコール、3−メトキシ−3〜メトキシブタノール、ギ
酸、酢酸、無水酢酸、プロピオン酸、無水プロピオン酸
、酪酸、吉草酸、乳酸、ピリジン、ピコリン、キノリン
、イソキノリン、ジメチルスルホキシド、リン酸トリエ
チル、ジメチルホルムアミド、γ−ブチロラクトン、T
−バレロラクトン、6−ヘキサノラクトン、サリチル酸
メチル、サリチル酸エチル、サリチル酸ブチル、アジピ
ン酸ジエチル、炭酸エチル、硫化ブチル、アセチルアセ
トン、アセトニルアセトン、モノ−、ジーおよびトリエ
タノールアミン、N、N−ジメチルホルムアミド、グリ
セ・リン。
特に好ましいものは、メタノール、エタノール、i−プ
ロパツール、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、ト
ルエン、1.4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、メ
チルエチルケトン、エチレングリコールジメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテル、アセチルアセトン、N、N−ジメチ
ルホルムアミドおよびモノエタノールアミンである。
ロパツール、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、ト
ルエン、1.4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、メ
チルエチルケトン、エチレングリコールジメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテル、アセチルアセトン、N、N−ジメチ
ルホルムアミドおよびモノエタノールアミンである。
有機溶媒は単独で使用してもよく、或いは2種以上のも
のを混合して使用してもよい。
のを混合して使用してもよい。
一般式(1)及び(2)で表わされる有機金属化合物を
有機溶媒中で加水分解する場合、有機溶媒中に残留して
含有されている水をそのまま加水分解剤として用いるこ
とも可能であるが、本発明に従う液状組成物の調製をあ
る時間内で終了させるように制御するためには、一般に
有機金属化合物1モル当り、0.5乃至1.000モル
の水を加えるのが好ましい。水の量がこの範囲より少な
い時は、加水分解とそれに続く重縮合反応の進行が非常
に遅くなり、金属表面処理が可能となるまでに数日を要
することがある。一方、水の量がこの範囲より多すぎる
場合は、生成組成物を金属表面に塗設しても密着不良を
おこすほか、組成物の経時安定性が悪く、すぐゲル化し
てしまうことが多いたt、塗布作業を安定して行ないに
くくなる。
有機溶媒中で加水分解する場合、有機溶媒中に残留して
含有されている水をそのまま加水分解剤として用いるこ
とも可能であるが、本発明に従う液状組成物の調製をあ
る時間内で終了させるように制御するためには、一般に
有機金属化合物1モル当り、0.5乃至1.000モル
の水を加えるのが好ましい。水の量がこの範囲より少な
い時は、加水分解とそれに続く重縮合反応の進行が非常
に遅くなり、金属表面処理が可能となるまでに数日を要
することがある。一方、水の量がこの範囲より多すぎる
場合は、生成組成物を金属表面に塗設しても密着不良を
おこすほか、組成物の経時安定性が悪く、すぐゲル化し
てしまうことが多いたt、塗布作業を安定して行ないに
くくなる。
水は、加水分解のための反応物質として作用するほかに
、本発明の処理液の溶媒としての役割をも併せ有するこ
とができる。一般式(1)及び(2)で表わされる化合
物の加水分解速度が十分遅くて容易にゲル化しない条件
下では、本発明の方法に従う液状組成物を水系媒質中で
調製することができる。
、本発明の処理液の溶媒としての役割をも併せ有するこ
とができる。一般式(1)及び(2)で表わされる化合
物の加水分解速度が十分遅くて容易にゲル化しない条件
下では、本発明の方法に従う液状組成物を水系媒質中で
調製することができる。
反応温度は室温〜100℃程度が常用されるが、還流冷
却器を付設することによって、溶媒の沸点よりも高い温
度で反応させることもできる。
却器を付設することによって、溶媒の沸点よりも高い温
度で反応させることもできる。
反応温度は、加水分解及び重縮合反応に要する時間を決
定する。常温で数日かかる反応であれば、80℃では数
時間で終了するので、目的に応じて適当に設定する。
定する。常温で数日かかる反応であれば、80℃では数
時間で終了するので、目的に応じて適当に設定する。
必要に応じて使用される触媒としては、塩酸、酢酸など
の酸、又はアンモニア、テトラメチルアンモニウムヒド
ロキシドなどの塩基が使用できる。
の酸、又はアンモニア、テトラメチルアンモニウムヒド
ロキシドなどの塩基が使用できる。
触媒の添加量は、一般に一般式(1)及び(2)で表わ
される有機金属化合物1モル当り0.01モルないし0
.1モル程度である。ただし、0.1モル以上の方が好
適な場合もある。触媒添加量は多くても1モルが適当で
あり、添加しすぎて無駄になるのを避けることができる
。
される有機金属化合物1モル当り0.01モルないし0
.1モル程度である。ただし、0.1モル以上の方が好
適な場合もある。触媒添加量は多くても1モルが適当で
あり、添加しすぎて無駄になるのを避けることができる
。
触媒の添加は、触媒そのものを単体で加える方法のほか
、触媒溶液を加える方法によっても行なうことができる
。例えば、塩酸をそのまま加える代わりに、塩酸の無水
メタノール溶液を加えてもよい。また、テトラメチルア
ンモニウムヒドロキシドも、例えば水溶液やエタノール
溶液として使用することができる。
、触媒溶液を加える方法によっても行なうことができる
。例えば、塩酸をそのまま加える代わりに、塩酸の無水
メタノール溶液を加えてもよい。また、テトラメチルア
ンモニウムヒドロキシドも、例えば水溶液やエタノール
溶液として使用することができる。
一般式(1)及び必要により(2)で表わされる1種も
しくはそれ以上の有機金属化合物、有機溶媒、水、及び
場合により触媒からなる組成物を、適当な反応温度、反
応時間、及び場合により適当な撹拌条件を選んで反応さ
せると、加水分解とともに重縮合反応がおこり、金属−
酸素−金属の結合を含む高分子又はコロイド状高分子が
生成し、液状組成物の粘度が上昇し、ゾル化する。
しくはそれ以上の有機金属化合物、有機溶媒、水、及び
場合により触媒からなる組成物を、適当な反応温度、反
応時間、及び場合により適当な撹拌条件を選んで反応さ
せると、加水分解とともに重縮合反応がおこり、金属−
酸素−金属の結合を含む高分子又はコロイド状高分子が
生成し、液状組成物の粘度が上昇し、ゾル化する。
本発明において用いられるゾル液もしくは液状組成物は
、金属表面に塗設後、風乾ないし加熱乾燥させると、金
属−酸素−金属結合からなる無機高分子がゲル化すると
同時に金属表面と密着する。
、金属表面に塗設後、風乾ないし加熱乾燥させると、金
属−酸素−金属結合からなる無機高分子がゲル化すると
同時に金属表面と密着する。
乾燥は溶媒、残留水及び場合により触媒を揮散させるた
めに行なうものであるが、場合によって工程を省くこと
もできる。本発明に従う液状組成物中の無機高分子部分
と被処理金属表面との間の密着性を高めるため、積極的
に温度をかけることもできる。この場合の乾燥工程は、
溶媒、水等の揮散後も、継続して実施し得る。最高乾燥
温度は、金属表面に植えつけられた有機官能基((1)
式のA)の分解温度より低くしなければならない。通常
、室温〜200℃、好ましくは室温〜150℃までの温
度が使用される。
めに行なうものであるが、場合によって工程を省くこと
もできる。本発明に従う液状組成物中の無機高分子部分
と被処理金属表面との間の密着性を高めるため、積極的
に温度をかけることもできる。この場合の乾燥工程は、
溶媒、水等の揮散後も、継続して実施し得る。最高乾燥
温度は、金属表面に植えつけられた有機官能基((1)
式のA)の分解温度より低くしなければならない。通常
、室温〜200℃、好ましくは室温〜150℃までの温
度が使用される。
本発明において用いられる液状組成物(ゾル液)の施工
方法は、ハケ塗り、浸漬塗布、アトマイジング、スピン
コーティング、ドクターブレード塗布、バーコーター塗
布等、何れのものも使用することができ、必要とする処
理膜厚等を勘案して決められる。
方法は、ハケ塗り、浸漬塗布、アトマイジング、スピン
コーティング、ドクターブレード塗布、バーコーター塗
布等、何れのものも使用することができ、必要とする処
理膜厚等を勘案して決められる。
本発明の液状組成物(ゾル液)の塗布量は、乾燥重量で
0.01 mg/ m’〜1 g / m’、好ましく
は0.1mg/m”〜500mg/m’、更に好ましく
は0.5mg/m’〜100mg/m″である。塗布量
が少なすぎても多すぎても密着力が低下し、また塗布量
が多すぎると地汚れを発生させ易くなることがある。
0.01 mg/ m’〜1 g / m’、好ましく
は0.1mg/m”〜500mg/m’、更に好ましく
は0.5mg/m’〜100mg/m″である。塗布量
が少なすぎても多すぎても密着力が低下し、また塗布量
が多すぎると地汚れを発生させ易くなることがある。
本発明に従って使用される液状組成物は、−設入(1)
及び必要により式(2)で表わされる1種もしくはそれ
以上の有機金属化合物、有機溶媒、水、及び必要により
一使用される触媒からなる組成物を、適当な反応温度、
反応時間、及び場合により適当な撹拌条件を選んで反応
させた結果得られるものであるが、金属表面上に施工し
て無機高分子がその金属表面と密着し、有機官能基が固
定されるという効果をあげられる状態まで加水分解及び
重縮合反応が進行していれば、どの液状組成物でもよい
。
及び必要により式(2)で表わされる1種もしくはそれ
以上の有機金属化合物、有機溶媒、水、及び必要により
一使用される触媒からなる組成物を、適当な反応温度、
反応時間、及び場合により適当な撹拌条件を選んで反応
させた結果得られるものであるが、金属表面上に施工し
て無機高分子がその金属表面と密着し、有機官能基が固
定されるという効果をあげられる状態まで加水分解及び
重縮合反応が進行していれば、どの液状組成物でもよい
。
液状組成物が本発明の目的を実現するものであるかどう
かは、実際に液状組成物を金属表面上に塗設して、反射
赤外吸収スペクトル、ラマンスペクトル等を測定して表
面官能基の存在を確認し、乾燥後のテープ剥離試験で無
機高分子層と金属表面との密着性を確認すれば判断でき
る。
かは、実際に液状組成物を金属表面上に塗設して、反射
赤外吸収スペクトル、ラマンスペクトル等を測定して表
面官能基の存在を確認し、乾燥後のテープ剥離試験で無
機高分子層と金属表面との密着性を確認すれば判断でき
る。
加水分解反応と重縮合反応とを分光学的に確S忍して反
応の進行度を知ることもできる。加水分解の進行につい
ては、例えば赤外吸収スペクトル法を使用すると、−設
入(1)中の−ORに基づく振動吸収スペクトルが減少
し、−OHに基づく振動吸収スペクトルが強くなってい
くことで判断できる。
応の進行度を知ることもできる。加水分解の進行につい
ては、例えば赤外吸収スペクトル法を使用すると、−設
入(1)中の−ORに基づく振動吸収スペクトルが減少
し、−OHに基づく振動吸収スペクトルが強くなってい
くことで判断できる。
それに続く重縮合反応は、例えば、赤外吸収スペクトル
に金属−酸素−金属結合に由来する振動吸収ピークが出
現し、だんだん強くなることから確認できるわまた、N
MRスペクトルを測定すれば一般式(1)中のAのスペ
クトル幅が重縮合の進行によって広がるのが観測され、
このことからも反応の確認が可能である。
に金属−酸素−金属結合に由来する振動吸収ピークが出
現し、だんだん強くなることから確認できるわまた、N
MRスペクトルを測定すれば一般式(1)中のAのスペ
クトル幅が重縮合の進行によって広がるのが観測され、
このことからも反応の確認が可能である。
本発明で用いられる液状組成物は、こうしたスペクトル
情報のどれか一つが確認されると、本発明の目的を達成
するのに好適に使用し得る。
情報のどれか一つが確認されると、本発明の目的を達成
するのに好適に使用し得る。
更に簡便には、液状組成物の調液時の粘度を測定してお
き、反応開始前の粘度に比べて有意な粘度上昇が観測さ
れたら、その時点で本発明に従う液状組成物ができたと
判断できる。
き、反応開始前の粘度に比べて有意な粘度上昇が観測さ
れたら、その時点で本発明に従う液状組成物ができたと
判断できる。
組成や反応条件によっても異なるが、調液時の粘度(2
5℃)は0.2センチポイズから10ポイズ程度までが
好ましい。粘度が低すぎると重合の進行のモニタリング
が困難となり、粘度が高すぎると金属上に塗布しにくい
ばかりでなく、乾燥後に膜が剥離することがあり、好ま
しくない。液状組成物を被処理金属表面に塗布する際は
、適当な溶媒、水等の液体で希釈して使用することがで
きる。或いは、調液時に使用した溶媒の一部を揮散させ
て濃縮して使用することもできる。塗布方法、目的とす
る塗布膜厚等によっても異なるが、塗布時の液粘度は、
0.2センチポイズから10ポイズ程度までが用いやす
い。
5℃)は0.2センチポイズから10ポイズ程度までが
好ましい。粘度が低すぎると重合の進行のモニタリング
が困難となり、粘度が高すぎると金属上に塗布しにくい
ばかりでなく、乾燥後に膜が剥離することがあり、好ま
しくない。液状組成物を被処理金属表面に塗布する際は
、適当な溶媒、水等の液体で希釈して使用することがで
きる。或いは、調液時に使用した溶媒の一部を揮散させ
て濃縮して使用することもできる。塗布方法、目的とす
る塗布膜厚等によっても異なるが、塗布時の液粘度は、
0.2センチポイズから10ポイズ程度までが用いやす
い。
液状組成物中の無機高分子の分子量で判断するとすれば
、トリメチルシリル化処理で反応を止めた液状組成物を
ベンゼン溶液とし、その凝固点降下から数平均分子量を
求める方法があり、結果が1、000から数万のオーダ
ーであることを確認すればよい。
、トリメチルシリル化処理で反応を止めた液状組成物を
ベンゼン溶液とし、その凝固点降下から数平均分子量を
求める方法があり、結果が1、000から数万のオーダ
ーであることを確認すればよい。
本発明に用いる感光性樹脂層としては、露光の前後で現
像液に対する溶解性又は膨潤性が変化するものであれば
いずれも使用できる。
像液に対する溶解性又は膨潤性が変化するものであれば
いずれも使用できる。
以下にその代表例を挙げる。
(1)ジアゾ樹脂とバインダーとからなる感光性樹脂層
: ネガ作用型感光性ジアゾ化合物としては米国特許第2.
063.631号及び同第2.667、415号の各明
細書に開示されているジアゾニウム塩とアルドールやア
セタールのような反応性カルボニル基を含有する有機縮
合剤との反応生成物であるジフェニルアミン−p−ジア
ゾニウム塩とホルムアルデヒドとの縮合生成物(所謂、
感光性ジアゾ樹脂)が好適に用いられる。この他の有用
な縮合ジアゾ化合物は特公昭49−48001号、同4
9−45322号、同49−45323号の各公報等に
開示されている。これらの型の感光性ジアゾ化合物は通
常水溶性無機塩の形で得られ、従って水溶液から塗布す
ることができる。又、これらの水溶性ジアゾ化合物を特
公昭47−1167号公報に開示された方法により1個
又はそれ以上のフェノール性水酸基、スルホン酸基又は
その両者を有する芳香族又は脂肪族化合物と反応させ、
その反応生成物である実質的に水不溶性の感光性ジアゾ
樹脂を使用することもできる。
: ネガ作用型感光性ジアゾ化合物としては米国特許第2.
063.631号及び同第2.667、415号の各明
細書に開示されているジアゾニウム塩とアルドールやア
セタールのような反応性カルボニル基を含有する有機縮
合剤との反応生成物であるジフェニルアミン−p−ジア
ゾニウム塩とホルムアルデヒドとの縮合生成物(所謂、
感光性ジアゾ樹脂)が好適に用いられる。この他の有用
な縮合ジアゾ化合物は特公昭49−48001号、同4
9−45322号、同49−45323号の各公報等に
開示されている。これらの型の感光性ジアゾ化合物は通
常水溶性無機塩の形で得られ、従って水溶液から塗布す
ることができる。又、これらの水溶性ジアゾ化合物を特
公昭47−1167号公報に開示された方法により1個
又はそれ以上のフェノール性水酸基、スルホン酸基又は
その両者を有する芳香族又は脂肪族化合物と反応させ、
その反応生成物である実質的に水不溶性の感光性ジアゾ
樹脂を使用することもできる。
また、特開昭56−121031号公報に記載されてい
るようにヘキサフルオロ燐酸塩又は、テトラフルオロ硼
酸塩との反応生成物として使用することもできる。
るようにヘキサフルオロ燐酸塩又は、テトラフルオロ硼
酸塩との反応生成物として使用することもできる。
フェノール性水酸基を有する反応物の例としては、ヒド
ロキシベンゾフェノン、4.4−ビス(4′−ヒドロキ
シフェニル)ペンタン酸、レゾルシノール、又はジレゾ
ルシノールのようなジフェノール酸であって、これらは
更に置換基を有していてもよい。ヒドロキシベンゾフェ
ノンには2゜4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒ
ドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2.2’ −
ジヒドロキシ−4,4′−ジメトキシベンゾフェノン又
は2.2’、4.4’ −テトラヒドロキシベンゾフェ
ノンが含まれる。好ましいスルホン酸としては、例えば
ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタリン、フェノー
ル、ナフトール及びベンゾフェノン等のスルホン酸のよ
うな芳香族スルホン酸、又はそれ等の可溶性塩類、例え
ば、アンモニウム及びアルカリ金属塩が例示できる。ス
ルホン酸基含有化合物は、一般に低級アルキル基、ニト
ロ基、ハロゲン、及び/又はもう一つのスルホン酸基で
置換されていてもよい。このような化合物の好ましいも
のとしては、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸
、ドデシルベンゼンスルホン酸、ナフタリンスルホン酸
、2.5−ジメチルベンゼンスルホン酸、メシチレンス
ルホン酸ナトリウム、ナフタリン−2−スルホン酸、l
−ナフトール−2(又は4)−スルホン酸、2,4−ジ
ニトロ−1−ナフトール−7−スルホン酸、2−ヒドロ
キシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸
m (p/−アニリノフェニルアゾ)ベンゼンスルホ
ン酸ナトリウム、了りf’Jンスルホン酸、o−トルイ
ジン−m−スルホン酸及びエタンスルホン酸及びこれら
のアンモニウム塩、アルカリ金属塩等があげられる。ア
ルコ−・ルのスルホン酸エステルとその塩類も又有用で
ある。このような化合物は通常アニオン性界面活悸剤と
じて容易に入手できる。その例としてはラウリルサルフ
ェート、アルキルアリールサルフエ )、p−ノニルフ
ェニルサルフェート、2−フェニルエチルサルフェート
、イソオクチルフェノキシジェトキシエチルサルフェー
ト等のアンモニウム又はアルカリ金属塩があげられる。
ロキシベンゾフェノン、4.4−ビス(4′−ヒドロキ
シフェニル)ペンタン酸、レゾルシノール、又はジレゾ
ルシノールのようなジフェノール酸であって、これらは
更に置換基を有していてもよい。ヒドロキシベンゾフェ
ノンには2゜4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒ
ドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2.2’ −
ジヒドロキシ−4,4′−ジメトキシベンゾフェノン又
は2.2’、4.4’ −テトラヒドロキシベンゾフェ
ノンが含まれる。好ましいスルホン酸としては、例えば
ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタリン、フェノー
ル、ナフトール及びベンゾフェノン等のスルホン酸のよ
うな芳香族スルホン酸、又はそれ等の可溶性塩類、例え
ば、アンモニウム及びアルカリ金属塩が例示できる。ス
ルホン酸基含有化合物は、一般に低級アルキル基、ニト
ロ基、ハロゲン、及び/又はもう一つのスルホン酸基で
置換されていてもよい。このような化合物の好ましいも
のとしては、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸
、ドデシルベンゼンスルホン酸、ナフタリンスルホン酸
、2.5−ジメチルベンゼンスルホン酸、メシチレンス
ルホン酸ナトリウム、ナフタリン−2−スルホン酸、l
−ナフトール−2(又は4)−スルホン酸、2,4−ジ
ニトロ−1−ナフトール−7−スルホン酸、2−ヒドロ
キシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸
m (p/−アニリノフェニルアゾ)ベンゼンスルホ
ン酸ナトリウム、了りf’Jンスルホン酸、o−トルイ
ジン−m−スルホン酸及びエタンスルホン酸及びこれら
のアンモニウム塩、アルカリ金属塩等があげられる。ア
ルコ−・ルのスルホン酸エステルとその塩類も又有用で
ある。このような化合物は通常アニオン性界面活悸剤と
じて容易に入手できる。その例としてはラウリルサルフ
ェート、アルキルアリールサルフエ )、p−ノニルフ
ェニルサルフェート、2−フェニルエチルサルフェート
、イソオクチルフェノキシジェトキシエチルサルフェー
ト等のアンモニウム又はアルカリ金属塩があげられる。
これ等の実質的に水不溶性の感光性ジアゾ樹脂は水溶性
の感光性ジアゾ樹脂と前記の芳香族又は脂肪族化合物の
水溶性を好ましくはほぼ等量きなる量で混合することに
よって沈殿として単離される。
の感光性ジアゾ樹脂と前記の芳香族又は脂肪族化合物の
水溶性を好ましくはほぼ等量きなる量で混合することに
よって沈殿として単離される。
また、英国特許第1.312.925号明細書に記載さ
れているジアゾ樹脂も好ましい。
れているジアゾ樹脂も好ましい。
この他、特開平1−102456号、同1102457
号、同1−254949号、同1−255246号、同
2−66号、同229650号公報に示されているよう
なジアゾ樹脂なども使用する事ができる。
号、同1−254949号、同1−255246号、同
2−66号、同229650号公報に示されているよう
なジアゾ樹脂なども使用する事ができる。
もっとも好適なジアゾ樹脂はp−ジアゾジフェニルアミ
ンとホルムアルデヒドとの縮合物の2メトキシ−4−ヒ
ドロキシ−5−ベンゾイルベンゼンスルホン酸塩、ヘキ
サフルオロ燐酸塩、ドデシルベンゼンスルホン酸塩であ
る。
ンとホルムアルデヒドとの縮合物の2メトキシ−4−ヒ
ドロキシ−5−ベンゾイルベンゼンスルホン酸塩、ヘキ
サフルオロ燐酸塩、ドデシルベンゼンスルホン酸塩であ
る。
ジアゾ樹脂の含有量は、感光性樹脂層中に3〜50重量
%、好ましくは5〜20重量%含まれているのが適当で
ある。ジアゾ樹脂の量が少なくなると、感光性は当然大
になるが、経時安定性が低下する。最適のジアゾ樹脂の
量は約8〜20重量%である。
%、好ましくは5〜20重量%含まれているのが適当で
ある。ジアゾ樹脂の量が少なくなると、感光性は当然大
になるが、経時安定性が低下する。最適のジアゾ樹脂の
量は約8〜20重量%である。
一方、バインダーとしては、種々の高分子化合物が使用
され得るが、本発明においては、ヒドロキシ、アミノ、
カルボン酸、アミド、スルホンアミド、活性メチレン、
チオアルコール、エポキシ等の基を含むものが望ましい
。このような好ましいバインダーには、英国特許第1.
350.521号明細書に記されているシェラツク、英
国特許第1、460.978号及び米国特許第4.12
3.276号の各明細書に記されているようなヒドロキ
シエチルアクリレート単位又はヒドロキシエチルメタク
リレート単位を主なる繰り返し単位として含むポリマー
米国特許第3.751.257号明細書に記されている
ポリ了ミド樹脂、英国特許第1.074.392号明細
書に記されているフェノール樹脂及び例えばポリビニル
フォルマール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂のような
ポリビニルアセタール樹脂、米国特許第3、660.0
97号明細書に記されている線状ポリウレタン樹脂、ポ
リビニルアルコールのフタレート化樹脂、ビスフェノー
ルAとエピクロルヒドリンから縮合されたエポキシ樹脂
、ポリアミノスチレンやポリアルキルアミノ (メタ)
アクリレートのようなアミノ基を含むポリマー、酢酸セ
ルロース、セルロースアルキルエーテル、セルロースア
セテートフタレート等のセルロース誘導体等が包含され
る。
され得るが、本発明においては、ヒドロキシ、アミノ、
カルボン酸、アミド、スルホンアミド、活性メチレン、
チオアルコール、エポキシ等の基を含むものが望ましい
。このような好ましいバインダーには、英国特許第1.
350.521号明細書に記されているシェラツク、英
国特許第1、460.978号及び米国特許第4.12
3.276号の各明細書に記されているようなヒドロキ
シエチルアクリレート単位又はヒドロキシエチルメタク
リレート単位を主なる繰り返し単位として含むポリマー
米国特許第3.751.257号明細書に記されている
ポリ了ミド樹脂、英国特許第1.074.392号明細
書に記されているフェノール樹脂及び例えばポリビニル
フォルマール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂のような
ポリビニルアセタール樹脂、米国特許第3、660.0
97号明細書に記されている線状ポリウレタン樹脂、ポ
リビニルアルコールのフタレート化樹脂、ビスフェノー
ルAとエピクロルヒドリンから縮合されたエポキシ樹脂
、ポリアミノスチレンやポリアルキルアミノ (メタ)
アクリレートのようなアミノ基を含むポリマー、酢酸セ
ルロース、セルロースアルキルエーテル、セルロースア
セテートフタレート等のセルロース誘導体等が包含され
る。
また、特開昭54−98614号、同61−26704
2号、同62−58242号、同61−128123号
、同62−123452号、同62−123453号及
び同63−113450号公報に示されている高分子化
合物も好適に使用される。
2号、同62−58242号、同61−128123号
、同62−123452号、同62−123453号及
び同63−113450号公報に示されている高分子化
合物も好適に使用される。
ジアゾ樹脂とバインダーとからなる組成物には、更に、
英国特許第1.041.463号明細書に記されている
ようなpH指示薬、米国特許第3.236.646号明
細書に記載されている燐酸、染料などの添加剤を加える
ことができる。
英国特許第1.041.463号明細書に記されている
ようなpH指示薬、米国特許第3.236.646号明
細書に記載されている燐酸、染料などの添加剤を加える
ことができる。
(2)○−キノンジアジド化合物からなる感光性樹脂層
: 特に好ましい0−キノンジアジド化合物は〇−ナフトキ
ノンジアジド化合物であり、例えば米国特許第2.76
6、118号、同第2.767、092号、同第2.7
72.972号、同第2.859.112号、同第2.
907.665号、同第3.046.110号、同第3
.046.111号、同第3.046.115号、同第
3.046.118号、同第3.046.119号、同
第3.046.120号、同第3.046.121号、
同第3.046.122号、同第3.046.123号
、同第3.061.430号、同第3.102.809
号、同第 3.106.465号、同第 3.635.
709号、同第3.647.443号の各明細書をはじ
め、多数の刊行物に記されており、これらは好適に使用
することができる。これらの内でも、特に芳香族ヒドロ
キシ化合物の0−ナフトキノンジアジドスルホン酸エス
テル又はO−ナフトキノンジアジドカルボン酸エステル
、及び芳香族アミノ化合物の○−ナフトキノンジアジド
スルホン酸アミド又は0.−ナフトキノンジアジドカル
ボン酸アミドが好ましく、特に米国特許第3.635.
709号明細書に記されているピロガロールとアセトン
との縮合物に○−ナフトキノンジアジドスルホン酸をエ
ステル反応させたもの、米国特許第4.028.111
号明細書に記されている末端にヒドロキシ基を有するポ
リエステルに0−ナフトキノンジアジドスルホン酸、又
はO−ナフトキノンジアジドカルボン酸をエステル反応
させたもの、英国特許第1.494.043号明細書に
記されているようなp−ヒドロキシスチレンのホモポリ
マー又はこれと他の共重合し得る千ツマ−との共重合体
に0−ナフトキノンジアジドスルホン酸又はO−ナフト
キノンジ了シトカルボン酸をエステル反応させたもの、
英国特許第3.759.711号明細書に記されている
ようなp−アミノスチレンと他の共重合しうるモノマー
との共重合体に〇−ナフトキノンジアジドスルホン酸又
はo−−1−7トキノンジアジドカルボン酸をア゛ミド
反応させたものは非常にすぐれている。
: 特に好ましい0−キノンジアジド化合物は〇−ナフトキ
ノンジアジド化合物であり、例えば米国特許第2.76
6、118号、同第2.767、092号、同第2.7
72.972号、同第2.859.112号、同第2.
907.665号、同第3.046.110号、同第3
.046.111号、同第3.046.115号、同第
3.046.118号、同第3.046.119号、同
第3.046.120号、同第3.046.121号、
同第3.046.122号、同第3.046.123号
、同第3.061.430号、同第3.102.809
号、同第 3.106.465号、同第 3.635.
709号、同第3.647.443号の各明細書をはじ
め、多数の刊行物に記されており、これらは好適に使用
することができる。これらの内でも、特に芳香族ヒドロ
キシ化合物の0−ナフトキノンジアジドスルホン酸エス
テル又はO−ナフトキノンジアジドカルボン酸エステル
、及び芳香族アミノ化合物の○−ナフトキノンジアジド
スルホン酸アミド又は0.−ナフトキノンジアジドカル
ボン酸アミドが好ましく、特に米国特許第3.635.
709号明細書に記されているピロガロールとアセトン
との縮合物に○−ナフトキノンジアジドスルホン酸をエ
ステル反応させたもの、米国特許第4.028.111
号明細書に記されている末端にヒドロキシ基を有するポ
リエステルに0−ナフトキノンジアジドスルホン酸、又
はO−ナフトキノンジアジドカルボン酸をエステル反応
させたもの、英国特許第1.494.043号明細書に
記されているようなp−ヒドロキシスチレンのホモポリ
マー又はこれと他の共重合し得る千ツマ−との共重合体
に0−ナフトキノンジアジドスルホン酸又はO−ナフト
キノンジ了シトカルボン酸をエステル反応させたもの、
英国特許第3.759.711号明細書に記されている
ようなp−アミノスチレンと他の共重合しうるモノマー
との共重合体に〇−ナフトキノンジアジドスルホン酸又
はo−−1−7トキノンジアジドカルボン酸をア゛ミド
反応させたものは非常にすぐれている。
更に特開平2−96758号、同2−
96761号公報に記載されているような0−ナフトキ
ノンジアジド−4−スルホン酸エステルも好ましい。
ノンジアジド−4−スルホン酸エステルも好ましい。
これらの0−キノンジアジド化合物は、単独で使用する
ことができるが、アルカリ可溶性樹脂と混合して用いた
方が好ましい。好適なアルカリ可溶性樹脂には、ノボラ
ック型フェノール樹脂が含まれ、具体的には、フェノー
ルホルムアルデヒド樹脂、0−クレゾールホルムアルデ
ヒドiMB’ti、m−クレゾールホルムアルデヒド樹
脂などが含まれる。更に米国特許第4.123.279
号明細書に記されているように上記のようなフェノール
樹脂と共に、t−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹
脂のような炭素数3〜8のアルキル基で置換されたフェ
ノール又はクレゾールとホルムアルデヒドとの縮合物と
を併用すると、−層好ましい。アルカリ可溶性樹脂は、
感光性樹脂層を構成する組成物の全重量を基準として中
に約50〜約85重量%、より好ましく60〜80重量
%、含有させられる。
ことができるが、アルカリ可溶性樹脂と混合して用いた
方が好ましい。好適なアルカリ可溶性樹脂には、ノボラ
ック型フェノール樹脂が含まれ、具体的には、フェノー
ルホルムアルデヒド樹脂、0−クレゾールホルムアルデ
ヒドiMB’ti、m−クレゾールホルムアルデヒド樹
脂などが含まれる。更に米国特許第4.123.279
号明細書に記されているように上記のようなフェノール
樹脂と共に、t−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹
脂のような炭素数3〜8のアルキル基で置換されたフェ
ノール又はクレゾールとホルムアルデヒドとの縮合物と
を併用すると、−層好ましい。アルカリ可溶性樹脂は、
感光性樹脂層を構成する組成物の全重量を基準として中
に約50〜約85重量%、より好ましく60〜80重量
%、含有させられる。
0−キノンジアジド化合物からなる感光性組成物には、
必要に応じて更に染料、可塑性、例えば英国特許第1.
401.463号、同第1.039.475号、同第2
.192.729号、米国特許第3.969.118号
、特開昭63−58440号に記されているようなプリ
ントアラ)!能を与える成分などの添加剤を加えること
ができる。
必要に応じて更に染料、可塑性、例えば英国特許第1.
401.463号、同第1.039.475号、同第2
.192.729号、米国特許第3.969.118号
、特開昭63−58440号に記されているようなプリ
ントアラ)!能を与える成分などの添加剤を加えること
ができる。
(3)アジド化合物とバインダー(高分子化合物)とか
らなる感光性樹脂層: 例えば、英国特許第1.235.281号、同第1.4
95.861号の各明細書及び特開昭51−32331
号、同51−36128号公報などに記されているアジ
ド化合物と水溶性又はアルカリ可溶性高分子化合物とか
らなる組成物の他、特開昭50−5102号、同50−
84302号、同50−84303号、同53−129
84号の各公報などに記されているアジド基を含むポリ
マーとバインダーとしての高分子化合物とからなる組成
物が含まれる。
らなる感光性樹脂層: 例えば、英国特許第1.235.281号、同第1.4
95.861号の各明細書及び特開昭51−32331
号、同51−36128号公報などに記されているアジ
ド化合物と水溶性又はアルカリ可溶性高分子化合物とか
らなる組成物の他、特開昭50−5102号、同50−
84302号、同50−84303号、同53−129
84号の各公報などに記されているアジド基を含むポリ
マーとバインダーとしての高分子化合物とからなる組成
物が含まれる。
また、特公昭49−44601号、特開昭52−899
14号、同59−208552号の各公報に記されてい
るアジド基を有するポリビニルアセクール樹脂を含有す
る組成物も使用することができる。
14号、同59−208552号の各公報に記されてい
るアジド基を有するポリビニルアセクール樹脂を含有す
る組成物も使用することができる。
(4)光重合型フォトポリマー樹脂層:エチレン性不飽
和付加重合忰化合物、有機溶媒可溶住でかつフィルム形
成可能な重合体、光重合開始剤を含む感光性組成物が代
表的なものとして挙げられる。これらの具体例は、特開
昭61−282836号公報に記載されている。
和付加重合忰化合物、有機溶媒可溶住でかつフィルム形
成可能な重合体、光重合開始剤を含む感光性組成物が代
表的なものとして挙げられる。これらの具体例は、特開
昭61−282836号公報に記載されている。
(5〕光架橋型フナトポリマ一樹脂層:例えば、特開昭
52−96696号に開示されているポリエステル化合
物、英国特許第1.112.277号、同、i! 1,
313,390号、同第1.341.004号、同第1
、377、747号に記載のポリビニルシンナメート系
樹脂、等が含まれる。
52−96696号に開示されているポリエステル化合
物、英国特許第1.112.277号、同、i! 1,
313,390号、同第1.341.004号、同第1
、377、747号に記載のポリビニルシンナメート系
樹脂、等が含まれる。
特に好ましい組成物はマレイミド基を側鎖に有する光架
橋性ポリマーを含有する感光性組成物である。その詳細
は特開昭62−78544号に記載されている。
橋性ポリマーを含有する感光性組成物である。その詳細
は特開昭62−78544号に記載されている。
(6)電子写真感光性樹脂層:
電子写真感光性樹脂は、主として、光導電性化合物とバ
インダーとからなるが、感度向上、所望の感光波長域を
得る等の目的のために、必要に応じて、公知の顔料、染
料、化学増感剤、その他の添加剤等を使用することが出
来る。感光性樹脂層は単層あるいは、電荷発生と電荷輸
送の機能を分離した複数の層から構成するこきが出来る
。平版印刷版は、公知の電子写真プロセスにより、感光
性樹脂層上にトナー画像を形成し、これをレジスト層と
して、非画像部をデコーディングすることにより得るこ
とが出来る。例えば、特公昭37−17162号、同3
8−6961号、特開昭56−107246号、同60
−254142号、特公昭59−36259号、同59
−25217号、特開昭56−146145号、同62 194257号、同57−147656号、同58−1
00862号、同57−161863号をはじめ多数の
刊行物に記載されており、これらはいずれも好適に使用
することが出来る。
インダーとからなるが、感度向上、所望の感光波長域を
得る等の目的のために、必要に応じて、公知の顔料、染
料、化学増感剤、その他の添加剤等を使用することが出
来る。感光性樹脂層は単層あるいは、電荷発生と電荷輸
送の機能を分離した複数の層から構成するこきが出来る
。平版印刷版は、公知の電子写真プロセスにより、感光
性樹脂層上にトナー画像を形成し、これをレジスト層と
して、非画像部をデコーディングすることにより得るこ
とが出来る。例えば、特公昭37−17162号、同3
8−6961号、特開昭56−107246号、同60
−254142号、特公昭59−36259号、同59
−25217号、特開昭56−146145号、同62 194257号、同57−147656号、同58−1
00862号、同57−161863号をはじめ多数の
刊行物に記載されており、これらはいずれも好適に使用
することが出来る。
感光性樹脂層の膜厚は、0.1〜30μm1好ましくは
0.5〜10μmで使用することができる。
0.5〜10μmで使用することができる。
金属表面に設けられる感光性樹脂層の量は、約0.1〜
約7 g / m’s好ましくは0.5〜4g/m”で
ある。
約7 g / m’s好ましくは0.5〜4g/m”で
ある。
また、上記のようにして設けられた感光層の表面は、真
空焼枠を用いた密着露光の際の真空引きの時間を短縮し
、かつ焼きボケを防ぐ為、マット化することが好ましい
。具体的には、特開昭50−125805号、特公昭5
7−6582号、同61−28986号の各公報に記載
されているようなマット層を設ける方法、特公昭62−
62337号公報に記載されているような固体粉末を熱
融着させる方法などがあげられる。
空焼枠を用いた密着露光の際の真空引きの時間を短縮し
、かつ焼きボケを防ぐ為、マット化することが好ましい
。具体的には、特開昭50−125805号、特公昭5
7−6582号、同61−28986号の各公報に記載
されているようなマット層を設ける方法、特公昭62−
62337号公報に記載されているような固体粉末を熱
融着させる方法などがあげられる。
本発明の現像剤に用いられるケイ酸塩としては、ケイ酸
ソーダ〔オルソケイ酸ソーダ、セスキケイ酸ソーダ、メ
タケイ酸ソーダのような結晶性ケイ酸ソーダ類、ケイ酸
ソーダ1号、ケイ酸ソーダ2号、ケイ酸ソーダ3号、ケ
イ酸ソーダ4号のようなケイ酸ソーダ溶液類、粉末ケイ
酸ソーダ類など〕、ケイ酸カリ 〔Aケイ酸カリ、IK
ケイ酸カリ、2にケイ酸カリなど〕、ケイ酸リチウム、
ケイ酸アンモニウム等が挙げられる。ケイ酸ソーダ、ケ
イ酸カリが特に好ましい。
ソーダ〔オルソケイ酸ソーダ、セスキケイ酸ソーダ、メ
タケイ酸ソーダのような結晶性ケイ酸ソーダ類、ケイ酸
ソーダ1号、ケイ酸ソーダ2号、ケイ酸ソーダ3号、ケ
イ酸ソーダ4号のようなケイ酸ソーダ溶液類、粉末ケイ
酸ソーダ類など〕、ケイ酸カリ 〔Aケイ酸カリ、IK
ケイ酸カリ、2にケイ酸カリなど〕、ケイ酸リチウム、
ケイ酸アンモニウム等が挙げられる。ケイ酸ソーダ、ケ
イ酸カリが特に好ましい。
これらのケイ酸塩は1種でも、2種以上混合して使用し
てもよく、現像液組成物中の含有量は0.05〜10重
量%、好ましくは0.1〜7重量%が適当である。
てもよく、現像液組成物中の含有量は0.05〜10重
量%、好ましくは0.1〜7重量%が適当である。
また、本発明の現像剤には、上記ケイ酸塩の他にも、各
種のアルカリ剤を併用する事ができる。
種のアルカリ剤を併用する事ができる。
このようなアルカリ剤としては、水酸化カリウム、水酸
化ナトリウム、水酸化リチウム、第3燐酸ナトリウム、
第2燐酸ナトリウム、第3燐酸アンモニウム、第2燐酸
アンモニウム、重炭酸ナトリウム、硼酸ナトリウム、硼
酸アンモニウム、アンモニアなどのような無機アルカリ
剤、およびモノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメ
チルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリ
エチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピ
ルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、
ジェタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソ
プロパツールアミン、ジイソプロパツールアミン、エチ
レンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどのような
有機アミン化合物があり、これらは単独もしくは組合せ
て使用できる。
化ナトリウム、水酸化リチウム、第3燐酸ナトリウム、
第2燐酸ナトリウム、第3燐酸アンモニウム、第2燐酸
アンモニウム、重炭酸ナトリウム、硼酸ナトリウム、硼
酸アンモニウム、アンモニアなどのような無機アルカリ
剤、およびモノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメ
チルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリ
エチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピ
ルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、
ジェタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソ
プロパツールアミン、ジイソプロパツールアミン、エチ
レンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどのような
有機アミン化合物があり、これらは単独もしくは組合せ
て使用できる。
また必要に応じて、該現像液組成物中には、アニオン界
面活性剤を加えても良い。更に、有機溶媒を加えること
ができる。アニオン界面活性剤としては例えば、ラウリ
ルアルコールサルフェートのナトリウム塩、オクチルア
ルコールサルフェートのナトリウム塩、ラウリルアルコ
ールサルフェートのアンモニウム塩、第2ナトリウムア
ルキルサルフエートなどの炭素数8〜22の高級アルコ
ール硫酸エステル塩類、例えば七チルアルコール燐酸エ
ステルのナトリウム塩などのような脂肪族アルコール燐
酸エステル塩類、例えばドデシルベンゼンスルホン酸の
ナトリウム塩、イソプロピルナフタレンスルホン酸のナ
トリウム塩、メタニトロベンゼンスルホン酸のナトリウ
ム塩などのようなアルキルアリールスルホン酸塩類、例
えばナフチルオキシポリエチレンオキシ硫酸ナトリウム
のようなアリールオキシポリエチレンオキシ硫酸エステ
ル塩類、例えば、4−n−ブチル安息香酸ナトリウム、
4−t−ブチル安息香酸カリウムなどのアルキルアリー
ルカルボン酸塩、例えばC+J3:+C[]N(CHs
)CHzCHzSO3Naなどのようなアルキルアミド
のスルホン酸塩類、例えばナトリウムスルホこはく酸ジ
オクチルエステル、ナトリウムスルホコはく酸ジヘキシ
ルエステルなどの二塩基性脂肪酸エステルのスルホン酸
塩類、例えば8−(2−ナフチルオキシ)−3,6−シ
オキサオクチルニカリウムニスルフエートのようなアリ
ールオキシアルキレンの硫酸エステル塩類などが含まれ
る。
面活性剤を加えても良い。更に、有機溶媒を加えること
ができる。アニオン界面活性剤としては例えば、ラウリ
ルアルコールサルフェートのナトリウム塩、オクチルア
ルコールサルフェートのナトリウム塩、ラウリルアルコ
ールサルフェートのアンモニウム塩、第2ナトリウムア
ルキルサルフエートなどの炭素数8〜22の高級アルコ
ール硫酸エステル塩類、例えば七チルアルコール燐酸エ
ステルのナトリウム塩などのような脂肪族アルコール燐
酸エステル塩類、例えばドデシルベンゼンスルホン酸の
ナトリウム塩、イソプロピルナフタレンスルホン酸のナ
トリウム塩、メタニトロベンゼンスルホン酸のナトリウ
ム塩などのようなアルキルアリールスルホン酸塩類、例
えばナフチルオキシポリエチレンオキシ硫酸ナトリウム
のようなアリールオキシポリエチレンオキシ硫酸エステ
ル塩類、例えば、4−n−ブチル安息香酸ナトリウム、
4−t−ブチル安息香酸カリウムなどのアルキルアリー
ルカルボン酸塩、例えばC+J3:+C[]N(CHs
)CHzCHzSO3Naなどのようなアルキルアミド
のスルホン酸塩類、例えばナトリウムスルホこはく酸ジ
オクチルエステル、ナトリウムスルホコはく酸ジヘキシ
ルエステルなどの二塩基性脂肪酸エステルのスルホン酸
塩類、例えば8−(2−ナフチルオキシ)−3,6−シ
オキサオクチルニカリウムニスルフエートのようなアリ
ールオキシアルキレンの硫酸エステル塩類などが含まれ
る。
アニオン界面活性剤は、使用時の現像液の総重量に対し
て0.1〜5重量%の範囲で含有させておくことが適当
である。0.1重量%よりも少なくなるとその使用効果
が低くなり、5重量%よりも多くなると、例えば光硬化
性感光液に含有させた光硬化部分の色素の溶出(色抜け
)が過多になったり、光硬化した画像の耐摩耗性などの
機械的、化学的強度が劣化するなどの弊害が出てくる。
て0.1〜5重量%の範囲で含有させておくことが適当
である。0.1重量%よりも少なくなるとその使用効果
が低くなり、5重量%よりも多くなると、例えば光硬化
性感光液に含有させた光硬化部分の色素の溶出(色抜け
)が過多になったり、光硬化した画像の耐摩耗性などの
機械的、化学的強度が劣化するなどの弊害が出てくる。
有機溶媒としては、水に対する溶解度が約10重量%以
下のものが適しており、好ましくは5重量%以下のもの
から選ばれる。たとえば1−フェニルエタノール、2−
フェニルエタノール、3−フェニルプロパノ−ルー1,
4−フェニルブタノール−1,4−フェニルブタノール
−2,2−フェニルフタノール−1,2−フェノキシエ
タノール、2−ベンジルオキシエタノール、0−メトキ
シベンジルアルコール、m−メトキシベンジルアルコー
ル、p−メトキシベンジルアルコール、ベンジルアルコ
ール、シクロヘキサノール、2−メチルシクロヘキサノ
ール、4−メチルシクロヘキサノール及び3−メチルシ
クロヘキサノール等をあげることができる。
下のものが適しており、好ましくは5重量%以下のもの
から選ばれる。たとえば1−フェニルエタノール、2−
フェニルエタノール、3−フェニルプロパノ−ルー1,
4−フェニルブタノール−1,4−フェニルブタノール
−2,2−フェニルフタノール−1,2−フェノキシエ
タノール、2−ベンジルオキシエタノール、0−メトキ
シベンジルアルコール、m−メトキシベンジルアルコー
ル、p−メトキシベンジルアルコール、ベンジルアルコ
ール、シクロヘキサノール、2−メチルシクロヘキサノ
ール、4−メチルシクロヘキサノール及び3−メチルシ
クロヘキサノール等をあげることができる。
有機溶媒の含有量は使用時の現像液の総重量に対して1
〜5重量%が好適である。その使用量は界面活性剤の使
用量と密接な関係があり、有機溶媒の量が増す1こつれ
、アニオン界面活性剤の量は増加させることが好ましい
。これはアニオン界面活性剤の量が少なく、有機溶媒の
量を多く用いると有機溶媒が溶解せず、従って良好な現
像性の確保が期待できなくなるからである。
〜5重量%が好適である。その使用量は界面活性剤の使
用量と密接な関係があり、有機溶媒の量が増す1こつれ
、アニオン界面活性剤の量は増加させることが好ましい
。これはアニオン界面活性剤の量が少なく、有機溶媒の
量を多く用いると有機溶媒が溶解せず、従って良好な現
像性の確保が期待できなくなるからである。
また、さらに必要に応じ、消泡剤及び硬水軟化剤のよう
な添加剤を含有させることもできる。硬水軟化剤として
は例えばNa−P2O7、Na、P、0.、Na、P
3011、Na2O<P(NaO+P)POJa2、カ
ルボン(ポリメタ燐酸ナトリウム)などのポリ燐酸塩、
例えばエチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、
そのナトリウム塩;ジエチレントリアミンペンタ酢酸、
そのカリウム塩、ナトリウム塩;トリエチレンテトラミ
ンヘキサ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ヒ
ドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、そのカリウ
ム塩、そのナトリウム塩;ニトリロトリ酢酸、そのカリ
ウム塩、そのナトリウム塩;1.2−ジアミノシクロヘ
キサンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩
;1,3−ジアミノ−2−プロパツールテトラ酢酸、そ
のカリウム塩、そのナトリウム塩などのようなアミノポ
リカルボン酸類、エチレンジ了ミンチトラ(メチレンホ
スホン酸)、l−ヒドロキシエタン−1゜l−ジホスホ
ン酸、およびこれらのアルカリ金属塩などのような有機
ホスホン酸類を挙げることができる。このような硬水軟
化剤は使用される硬水の硬度およびその使用量に応じて
最適量が変化するが、−船釣な使用量を示せば、使用時
の現像液中に0.01〜5重量%、より好ましくは0.
01〜0.5重量%の範囲で含有させられる。なお、必
要止あらば、現像処理後、水洗の後不感脂化処理、また
はそのまま不感脂化処理、または酸を含む水溶液での処
理、または酸を含む水溶液で処理後不感脂化処理を施し
ても良い。このような現像後の処理については、特開昭
54−8002号、同55−115045号、同57−
158643号、同59−57242号、同59−58
431号、特開平2−32357号の各公報に詳しく記
載されており、これらを転用すればよい。さらに、この
種の感光性平版印刷版の現像工程では、処理量に応じて
アルカリ水溶液が消費されアルカリ濃度が減少したり、
あるいは、自動現像機の長時間運転により空気によって
アルカリ濃度が減少するため処理能力が低下するが、そ
の際、特開昭5462004号に記載のように補充液を
用いて処理能力を回復させてもよい。
な添加剤を含有させることもできる。硬水軟化剤として
は例えばNa−P2O7、Na、P、0.、Na、P
3011、Na2O<P(NaO+P)POJa2、カ
ルボン(ポリメタ燐酸ナトリウム)などのポリ燐酸塩、
例えばエチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、
そのナトリウム塩;ジエチレントリアミンペンタ酢酸、
そのカリウム塩、ナトリウム塩;トリエチレンテトラミ
ンヘキサ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ヒ
ドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、そのカリウ
ム塩、そのナトリウム塩;ニトリロトリ酢酸、そのカリ
ウム塩、そのナトリウム塩;1.2−ジアミノシクロヘ
キサンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩
;1,3−ジアミノ−2−プロパツールテトラ酢酸、そ
のカリウム塩、そのナトリウム塩などのようなアミノポ
リカルボン酸類、エチレンジ了ミンチトラ(メチレンホ
スホン酸)、l−ヒドロキシエタン−1゜l−ジホスホ
ン酸、およびこれらのアルカリ金属塩などのような有機
ホスホン酸類を挙げることができる。このような硬水軟
化剤は使用される硬水の硬度およびその使用量に応じて
最適量が変化するが、−船釣な使用量を示せば、使用時
の現像液中に0.01〜5重量%、より好ましくは0.
01〜0.5重量%の範囲で含有させられる。なお、必
要止あらば、現像処理後、水洗の後不感脂化処理、また
はそのまま不感脂化処理、または酸を含む水溶液での処
理、または酸を含む水溶液で処理後不感脂化処理を施し
ても良い。このような現像後の処理については、特開昭
54−8002号、同55−115045号、同57−
158643号、同59−57242号、同59−58
431号、特開平2−32357号の各公報に詳しく記
載されており、これらを転用すればよい。さらに、この
種の感光性平版印刷版の現像工程では、処理量に応じて
アルカリ水溶液が消費されアルカリ濃度が減少したり、
あるいは、自動現像機の長時間運転により空気によって
アルカリ濃度が減少するため処理能力が低下するが、そ
の際、特開昭5462004号に記載のように補充液を
用いて処理能力を回復させてもよい。
実施例
以下、本発胡について実施例により更に詳細に説明する
。
。
実施例1〜5
ビーカーに、表1に示す組成の溶液をとり、室温で撹拌
して均一な溶液とした。次にこれらの溶液を、撹拌機と
還流冷却器を取付けた三ロフラスコに移し、オイルパス
に浸して、撹拌しなから浴温を70℃に保って8時間反
応させ、液状組成物(ゾル液)■〜■を得た。
して均一な溶液とした。次にこれらの溶液を、撹拌機と
還流冷却器を取付けた三ロフラスコに移し、オイルパス
に浸して、撹拌しなから浴温を70℃に保って8時間反
応させ、液状組成物(ゾル液)■〜■を得た。
一方、厚さO13闘のアルミニウム板をナイロンブラシ
と400メツシユのバミストンの水性懸濁液を用いてそ
の表面を砂目立てした後よく水で洗浄した。これを10
%水酸化ナトリウム水溶液に70℃で60秒間浸漬して
エツチングした後、流水で水洗し、20%硝酸で中和洗
浄後、VA=12.7V、V、=9.IVの正弦波交番
波形電流を用い、1%硝酸水溶液中で160ク一ロン/
dm2の陽極特電気量で電解粗面化処理を行った。引き
続き30%の硫酸水溶液中に浸漬し55℃で2分間デス
マットした後7%硫酸水溶液中で厚さが2.0g/ m
lになるように陽極酸化処理を行った。
と400メツシユのバミストンの水性懸濁液を用いてそ
の表面を砂目立てした後よく水で洗浄した。これを10
%水酸化ナトリウム水溶液に70℃で60秒間浸漬して
エツチングした後、流水で水洗し、20%硝酸で中和洗
浄後、VA=12.7V、V、=9.IVの正弦波交番
波形電流を用い、1%硝酸水溶液中で160ク一ロン/
dm2の陽極特電気量で電解粗面化処理を行った。引き
続き30%の硫酸水溶液中に浸漬し55℃で2分間デス
マットした後7%硫酸水溶液中で厚さが2.0g/ m
lになるように陽極酸化処理を行った。
この基板にゾル液■〜[F]をメタノールで希釈した後
ホイラーを用いて乾燥塗布量が10mg/m″となるよ
うに塗布し、80℃で30秒間乾燥して得られたアルミ
ニウム板に、次に示す感光液1をホイラーで塗布し、8
0℃で2分乾燥して感光性平板印刷版A−Eを得た。
ホイラーを用いて乾燥塗布量が10mg/m″となるよ
うに塗布し、80℃で30秒間乾燥して得られたアルミ
ニウム板に、次に示す感光液1をホイラーで塗布し、8
0℃で2分乾燥して感光性平板印刷版A−Eを得た。
感光液1
/35(!重比)共■合体 bg・下記構造式
で表わされる増感剤 ・メチルエチルケトン 0g ・銅フタロシアニンi料(CL 1. OgP
igment Blue 15)の可塑剤10%分散液
これらの感光性平版印刷版A−Eを、富士写真フィルム
■社製、PSライトにて1mの距離からネガフィルムを
用いて画像露光し、下記iこ示す組成の現像剤1に5分
間浸漬した後、゛ンメで画(象邪の感光性樹脂層表面を
こすったところ、すべて1立とんどキズがつかなかった
。
で表わされる増感剤 ・メチルエチルケトン 0g ・銅フタロシアニンi料(CL 1. OgP
igment Blue 15)の可塑剤10%分散液
これらの感光性平版印刷版A−Eを、富士写真フィルム
■社製、PSライトにて1mの距離からネガフィルムを
用いて画像露光し、下記iこ示す組成の現像剤1に5分
間浸漬した後、゛ンメで画(象邪の感光性樹脂層表面を
こすったところ、すべて1立とんどキズがつかなかった
。
また、これらの感光性平版印刷版A−Eを、40℃80
%の高温高湿条件で5日間保存L ’l′こ後、上記と
同様に画像露光し、上記現像剤を用いて富士写真フィル
ム■社製自動現像機800Uにて現像し、印刷テストを
行ったところ、いずれも10万枚まで地汚れがまったく
発生せず、鮮明な印刷物が得られた。
%の高温高湿条件で5日間保存L ’l′こ後、上記と
同様に画像露光し、上記現像剤を用いて富士写真フィル
ム■社製自動現像機800Uにて現像し、印刷テストを
行ったところ、いずれも10万枚まで地汚れがまったく
発生せず、鮮明な印刷物が得られた。
現像剤l
S+L/に一0%tvkti″′1°2(7)’7[t
filJ 、。
filJ 、。
3重量%水溶液
Ll”) ■ =
→トロトロ
O
エチレンジアミンテトラ酢酸ナト
リウム・48.0
0.1g
実施例6〜12
実施例1と同様にしてゾル液■〜Oを得た。これらのゾ
ル液を、実施例1と同様に作成し、更に70℃のケイ酸
す) IJウムの3%水溶液に1分間浸漬し水洗乾燥し
た基板に、実施例1と同様にしてゾル液■〜■を塗布、
乾燥した。これらのアルミニウム板に次に示す感光液2
をホイラーで塗布し、80℃で2分乾燥して感光性平版
印刷版F〜Lを得た。
ル液を、実施例1と同様に作成し、更に70℃のケイ酸
す) IJウムの3%水溶液に1分間浸漬し水洗乾燥し
た基板に、実施例1と同様にしてゾル液■〜■を塗布、
乾燥した。これらのアルミニウム板に次に示す感光液2
をホイラーで塗布し、80℃で2分乾燥して感光性平版
印刷版F〜Lを得た。
感光液2
2−メトキシエタノール 100gこれら
の感光性平版印刷版F−Lを現像剤として下記に示す組
成の現像剤2を用いた以外は、実施例1と同様に現像、
印刷テストを行ったところ、いずれも10万枚まで地汚
れがまったく発生せず、鮮明な印刷物が得られた。
の感光性平版印刷版F−Lを現像剤として下記に示す組
成の現像剤2を用いた以外は、実施例1と同様に現像、
印刷テストを行ったところ、いずれも10万枚まで地汚
れがまったく発生せず、鮮明な印刷物が得られた。
現像剤2
亜硫酸ナトリウム 5gベンジル
アルコール 30gイソプロピルナフ
タレンスルホン酸 12gナトリウム リンゴ酸 ビクトリアピュアブルーBOH 0、05g 0.1g メガファックF−1770,03g (大日本インキ■製、フッ素系界面活性剤)実施例13
〜16 実施例6と同様にして感光性平版印刷版Mを得た。ただ
し、感光液は次に示す組成の感光液3を用い、感光層の
乾燥塗布量は1.5g/m’とした。
アルコール 30gイソプロピルナフ
タレンスルホン酸 12gナトリウム リンゴ酸 ビクトリアピュアブルーBOH 0、05g 0.1g メガファックF−1770,03g (大日本インキ■製、フッ素系界面活性剤)実施例13
〜16 実施例6と同様にして感光性平版印刷版Mを得た。ただ
し、感光液は次に示す組成の感光液3を用い、感光層の
乾燥塗布量は1.5g/m’とした。
感光液3
下記組成のポリウレタン樹脂
(モル比 25/25/30/20 重量平均分子量
70.000)フェニルホスホン酸
0.1 gビクトリアピュアブルーBOH0,1gメガ
ファックF−1770,05g (大日本インキ■製フッ素系界面活性剤)2−メトキシ
エタノール 20gプロピレングリコール
モノメチル 30gエーテル メチルエチルケトン 30gメタノー
ル 20gこの感光性平版印
刷版Mを下記に示す組成の現像剤3〜6を用いて、実施
例1と同様に現像、印刷テストを行ったところいずれも
地汚れの発生しない鮮明な印刷物が10万枚得られた。
70.000)フェニルホスホン酸
0.1 gビクトリアピュアブルーBOH0,1gメガ
ファックF−1770,05g (大日本インキ■製フッ素系界面活性剤)2−メトキシ
エタノール 20gプロピレングリコール
モノメチル 30gエーテル メチルエチルケトン 30gメタノー
ル 20gこの感光性平版印
刷版Mを下記に示す組成の現像剤3〜6を用いて、実施
例1と同様に現像、印刷テストを行ったところいずれも
地汚れの発生しない鮮明な印刷物が10万枚得られた。
現像剤3
亜硫酸ナトリウム
現像剤4
g
フェニルセロソルブ
0g
亜硫酸ナトリウム
現像剤5
g
トリエタノールアミン
5g
ベンジルアルコール
2−メチルレゾルシン
0g
g
現像剤6
SI[+2/に2[1モル比約2のケイ酸カリ 1
0g5i02/NazOモル比約2のケイ酸ソーダ 1
0gベンジルアルコール 40gトリ
エタノールアミン 10g2−メチル
レゾルシン 5g水
11比較例として
、実施例13〜16の感光性平版印刷版を次の現像剤7
で現像した印刷版は、刷り出しより、著しい地汚れが発
生した。
0g5i02/NazOモル比約2のケイ酸ソーダ 1
0gベンジルアルコール 40gトリ
エタノールアミン 10g2−メチル
レゾルシン 5g水
11比較例として
、実施例13〜16の感光性平版印刷版を次の現像剤7
で現像した印刷版は、刷り出しより、著しい地汚れが発
生した。
現像剤7
トリエタノールアミン 15gベンジ
ルアルコール 30g2−メチルレゾ
ルシン 8g水 〔発明の効果〕 本発明によれば、画像部と支持体との接着性が強く、現
像時の画像部強度や耐刷性に優れ、地汚れが発生しない
平版印刷版を製造することができる。
ルアルコール 30g2−メチルレゾ
ルシン 8g水 〔発明の効果〕 本発明によれば、画像部と支持体との接着性が強く、現
像時の画像部強度や耐刷性に優れ、地汚れが発生しない
平版印刷版を製造することができる。
Claims (1)
- 有機官能基と、加水分解につづいて重縮合する基とを有
する有機金属化合物を液中で加水分解及び重縮合させて
得られる無機高分子を含む液状組成物を、金属表面に塗
布した後、その上に感光性樹脂層を設けた感光性平版印
刷版を、露光、現像する平版印刷版の製造方法において
、該現像に用いる現像剤が、ケイ酸塩を含有する事を特
徴とする平版印刷版の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2151858A JP2668593B2 (ja) | 1990-06-11 | 1990-06-11 | 平版印刷版の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2151858A JP2668593B2 (ja) | 1990-06-11 | 1990-06-11 | 平版印刷版の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0443359A true JPH0443359A (ja) | 1992-02-13 |
JP2668593B2 JP2668593B2 (ja) | 1997-10-27 |
Family
ID=15527792
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2151858A Expired - Fee Related JP2668593B2 (ja) | 1990-06-11 | 1990-06-11 | 平版印刷版の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2668593B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7063935B2 (en) | 2002-03-26 | 2006-06-20 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Support for lithographic printing plate and presensitized plate and method of producing lithographic printing plate |
JP2006317864A (ja) * | 2005-05-16 | 2006-11-24 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 反射防止膜形成用組成物、および配線形成方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH024259A (ja) * | 1988-06-21 | 1990-01-09 | Konica Corp | 感光性平版印刷版 |
JPH024250A (ja) * | 1988-06-21 | 1990-01-09 | Konica Corp | ネガ型感光性印刷版 |
JPH0223348A (ja) * | 1988-07-12 | 1990-01-25 | Konica Corp | 感光性平版印刷版 |
-
1990
- 1990-06-11 JP JP2151858A patent/JP2668593B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH024259A (ja) * | 1988-06-21 | 1990-01-09 | Konica Corp | 感光性平版印刷版 |
JPH024250A (ja) * | 1988-06-21 | 1990-01-09 | Konica Corp | ネガ型感光性印刷版 |
JPH0223348A (ja) * | 1988-07-12 | 1990-01-25 | Konica Corp | 感光性平版印刷版 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7063935B2 (en) | 2002-03-26 | 2006-06-20 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Support for lithographic printing plate and presensitized plate and method of producing lithographic printing plate |
JP2006317864A (ja) * | 2005-05-16 | 2006-11-24 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 反射防止膜形成用組成物、および配線形成方法 |
JP4583237B2 (ja) * | 2005-05-16 | 2010-11-17 | 東京応化工業株式会社 | 反射防止膜形成用組成物、および配線形成方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2668593B2 (ja) | 1997-10-27 |
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JP2668592B2 (ja) | 感光性平板印刷版 | |
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