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JPH04367829A - Production of sintered-body varistor element - Google Patents

Production of sintered-body varistor element

Info

Publication number
JPH04367829A
JPH04367829A JP3144680A JP14468091A JPH04367829A JP H04367829 A JPH04367829 A JP H04367829A JP 3144680 A JP3144680 A JP 3144680A JP 14468091 A JP14468091 A JP 14468091A JP H04367829 A JPH04367829 A JP H04367829A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
varistor
sintered
paste
liquid crystal
varistor element
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP3144680A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Katsumasa Kawashima
川嶋 克正
Toshiro Nagase
俊郎 長瀬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toppan Printing Co Ltd filed Critical Toppan Printing Co Ltd
Priority to JP3144680A priority Critical patent/JPH04367829A/en
Publication of JPH04367829A publication Critical patent/JPH04367829A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Liquid Crystal (AREA)
  • Thermistors And Varistors (AREA)
  • Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)

Abstract

PURPOSE:To produce a high-performance varistor element with the performance constant between the elements. CONSTITUTION:A varistor element 13a for connecting a line electrode 11 and a picture-element electrode 12 is formed on a glass board 10 by printing to produce a sintered-body varistor element 13. In this case, the powder of the varistor grains obtained by coating the surface of a zinc oxide single crystal grain with an inorg. insulating film is made into a paste with an org. binder, the paste is printed between the line electrode 11 and the picture-element electrode 12, and a paste consisting essentially of a glass frit 13b is printed on the element and sintered. Consequently, a high-performance sintered-body varistor element with the packing density of the varistor grains increased and with the performance constant between the elements is obtained, and a liq. crystal display capable of displaying a high-definition picture is obtained.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、非線形素子として焼結
体バリスタ素子を用いた液晶表示装置に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device using a sintered varistor element as a nonlinear element.

【0002】0002

【従来の技術】現在、例えば液晶テレビの画像表示装置
には大別して単純マトリクス方式とアクティブマトリク
ス方式とがある。
2. Description of the Related Art Currently, image display devices for, for example, liquid crystal televisions are broadly classified into simple matrix type and active matrix type.

【0003】単純マトリクス方式は直角をなして設けら
れた一組の帯状電極群(行電極群と列電極群)の間に複
数の液晶画素を行列状に配して接続したものであり、こ
れら帯状電極間に駆動回路によって所定の電圧を印加し
て液晶画素を作動させる。
[0003] In the simple matrix method, a plurality of liquid crystal pixels are arranged in a matrix and connected between a set of band-shaped electrode groups (row electrode group and column electrode group) arranged at right angles. A predetermined voltage is applied between the strip electrodes by a drive circuit to operate the liquid crystal pixels.

【0004】この方式は、構造が簡単なため低価格でシ
ステムを実現できるという利点があるが、各液晶画素で
のクロストークが生じるため画素のコントラストが低く
、液晶テレビの画像表示を行う際、画質の低下は避けら
れないものであった。
[0004] This method has the advantage of being able to realize a system at a low cost due to its simple structure, but since crosstalk occurs in each liquid crystal pixel, the pixel contrast is low, and when displaying images on a liquid crystal television, Deterioration in image quality was inevitable.

【0005】これに対し、アクティブマトリクス方式は
、各液晶画素毎にスイッチを設けて電圧を保持するもの
であり、液晶表示装置を時分割駆動しても液晶画素が選
択時の電圧を保持することができるため、表示容量の増
大が可能で、コントラスト等の画質に関する特性が良く
、液晶テレビの高画質画像表示を実現できるものである
On the other hand, in the active matrix method, a switch is provided for each liquid crystal pixel to maintain the voltage, and even if the liquid crystal display device is time-divisionally driven, the liquid crystal pixel does not maintain the voltage at the time of selection. As a result, display capacity can be increased, and characteristics related to image quality such as contrast are good, and high-quality image display on liquid crystal televisions can be realized.

【0006】しかしながら、アクティブマトリクス方式
にあっては、構造が複雑となって製造コストが高くなっ
てしまうという欠点があった。例えば、スイッチング素
子として薄膜トランジスタを用いるTFT型では、その
製造工程において5枚以上のフォトマスクを用いて5層
以上の薄膜を重ねるため、製品歩留まりを上げることが
困難である。
However, the active matrix method has the disadvantage that the structure is complicated and the manufacturing cost is high. For example, in a TFT type device that uses a thin film transistor as a switching element, it is difficult to increase the product yield because five or more photomasks are used in the manufacturing process to stack five or more thin film layers.

【0007】上記のようなことから、コントラスト等の
画質に関する特性が良くかつ構造簡単にして低コストな
方式の液晶表示装置の実現が望まれており、このような
要求を実現する方式として焼結体バリスタ素子を用いた
二端子素子型液晶表示装置が注目されている。
[0007] For the above reasons, it is desired to realize a liquid crystal display device that has good image quality characteristics such as contrast, has a simple structure, and is low in cost. Two-terminal element type liquid crystal display devices using body varistor elements are attracting attention.

【0008】二端子素子型の液晶表示装置は単純マトリ
クス方式に改良を加えて、図7に示すように行電極1と
列電極2との間に液晶画素4および所定のしきい値電圧
で導通する焼結体バリスタ素子3を電気的に直列に配し
て接続したものであり、図8に示すような焼結体バリス
タ素子3の非線形な電流−電圧特性を利用したものであ
る。
The two-terminal element type liquid crystal display device is an improvement on the simple matrix method, and as shown in FIG. The sintered varistor elements 3 are electrically connected in series, and the nonlinear current-voltage characteristics of the sintered varistor elements 3 as shown in FIG. 8 are utilized.

【0009】すなわち、単純マトリクス方式における時
分割駆動では、図9に示すように液晶画素がオン(光透
過率が90%)する電圧V90とオフ(光透過率が10
%)する電圧V10との比γ(=V90/V10=( 
V10+ΔV) /V10)から、各液晶画素間のクロ
ストークを生ずることなく許容される最大の走査線数N
max は、Nmax =((γ2 +1)/(γ2 
−1))2 であり、γの値が小さい方が走査線数が多
くなって液晶テレビ表示に有利である。
That is, in time-division driving using a simple matrix method, as shown in FIG.
%) to the voltage V10 (=V90/V10=(
V10+ΔV) /V10), the maximum number of scanning lines N allowed without causing crosstalk between each liquid crystal pixel
max is Nmax = ((γ2 +1)/(γ2
-1))2, and the smaller the value of γ, the greater the number of scanning lines, which is advantageous for liquid crystal television display.

【0010】これに対し二端子素子型では焼結体バリス
タ素子3を設けることにより、そのしきい値電圧Vv 
を超えた分の電圧が液晶画素4に印加されるようにし、
その動作電圧が焼結体バリスタ素子を設けない場合の液
晶画素の動作電圧(図10参照)に対してしきい値電圧
Vv だけ高くなるようにしてある(図11参照)。
On the other hand, in the two-terminal element type, by providing the sintered varistor element 3, the threshold voltage Vv
so that the voltage exceeding the voltage is applied to the liquid crystal pixel 4,
The operating voltage is set to be higher than the operating voltage of the liquid crystal pixel when no sintered body varistor element is provided (see FIG. 10) by a threshold voltage Vv (see FIG. 11).

【0011】この結果、前記γの値はV90/V10か
ら(Vv +V90)/(Vv +V10)に改善され
、γ値の低下によって最大走査線数Nmax の増加が
図られ、良質な液晶表示を実現することができる。
As a result, the value of γ is improved from V90/V10 to (Vv + V90)/(Vv + V10), and by decreasing the γ value, the maximum number of scanning lines Nmax is increased, realizing a high-quality liquid crystal display. can do.

【0012】従来のバリスタを用いた二端子素子型液晶
表示装置を図2から図6に示す。
A two-terminal element type liquid crystal display device using a conventional varistor is shown in FIGS. 2 to 6.

【0013】図2に示すように、下側ガラス基板上にそ
れぞれの行電極11に対して多数の画素電極12が一定
の間隔dをもって設けられ、行電極11と画素電極12
とは一定のしきい値電圧Vv を有する各焼結体バリス
タ素子13にて接続されている。
As shown in FIG. 2, a large number of pixel electrodes 12 are provided on the lower glass substrate at a constant interval d for each row electrode 11, and the row electrodes 11 and pixel electrodes 12
and are connected by each sintered varistor element 13 having a constant threshold voltage Vv.

【0014】液晶画素一つについてみると、図3及びそ
のA〜A断面図である図4に示すように、下側ガラス基
板10上に行電極11と画素電極12とは所定の間隔d
を隔てて設けてあり、これら行電極11と画素電極12
との間を酸化亜鉛(ZnO)からなる焼結体バリスタ素
子13にて接続してある。そして、これらを覆うように
注入充填された液晶14の層があり、その上部には列電
極15及びカラーフィルタ16が設けられた上側ガラス
基板17を配置してある。
Regarding one liquid crystal pixel, as shown in FIG. 3 and FIG. 4, which is a cross-sectional view of FIG.
These row electrodes 11 and pixel electrodes 12
A sintered varistor element 13 made of zinc oxide (ZnO) is connected between the two. There is a layer of liquid crystal 14 injected to cover these, and an upper glass substrate 17 on which column electrodes 15 and color filters 16 are provided is disposed above the layer.

【0015】ここで使用される液晶14は、通常TN(
ツイストネマチック)型の液晶が一般的であり、液晶は
光シャッターとして用いられる。この場合、液晶を配向
させるための配向膜層18が液晶14の層に対して上下
から挟み込むように接しており、下側では下側ガラス基
板10、行電極11、画素電極12、及び焼結体バリス
タ素子13と、他方上側では列電極15およびカラーフ
ィルタ16の設けられた上側ガラス基板17と各々隔て
られている。
The liquid crystal 14 used here is usually TN (
Twisted nematic) type liquid crystals are common, and liquid crystals are used as optical shutters. In this case, the alignment film layer 18 for aligning the liquid crystal is in contact with the layer of the liquid crystal 14 from above and below, and the lower glass substrate 10, the row electrodes 11, the pixel electrodes 12, and the sintered The body varistor element 13 is separated from an upper glass substrate 17 on which column electrodes 15 and color filters 16 are provided on the other upper side.

【0016】なお、下側ガラス基板10と上側ガラス基
板17の外側に偏光板19が設置される。
Note that a polarizing plate 19 is installed outside the lower glass substrate 10 and the upper glass substrate 17.

【0017】行電極11に印加された電圧に基づいて液
晶14をスイッチ駆動する焼結体バリスタ素子13は、
図6に示すように、ZnO単結晶粒子131 の表面を
Co、Mn酸化物等の無機質絶縁膜132 で被覆した
バリスタ粒子13a からなり、図5に示すように、こ
れらバリスタ粒子13a をガラスフリット13b で
焼結したものである。
The sintered varistor element 13 switches the liquid crystal 14 based on the voltage applied to the row electrode 11.
As shown in FIG. 6, the varistor particles 13a are composed of ZnO single crystal particles 131 whose surfaces are coated with an inorganic insulating film 132 such as Co or Mn oxide, and as shown in FIG. It is sintered with

【0018】このような焼結体バリスタ素子13におい
ては、粒径約5μmのバリスタ粒子1個あたり約3Vの
しきい値電圧が得られる。
In such a sintered varistor element 13, a threshold voltage of about 3 V can be obtained per varistor particle having a particle size of about 5 μm.

【0019】したがって、行電極11と画素電極12と
の間隔dを25μmに設定すれば、この間隔d内に存在
する実質的に直列5個のバリスタ粒13a を介して行
電極11と画素電極12とが接続され、これら電極11
、12間には5個×3V=15Vのしきい値電圧が得ら
れる。
Therefore, if the distance d between the row electrode 11 and the pixel electrode 12 is set to 25 μm, the row electrode 11 and the pixel electrode 12 are are connected, and these electrodes 11
, 12, a threshold voltage of 5×3V=15V is obtained.

【0020】すなわち、このしきい値電圧を越えた電圧
が印加された時に液晶14が駆動される状態になり、他
の液晶素子への印加電圧の影響を排除して、クロストー
クの発生を防止する事ができる。
That is, when a voltage exceeding this threshold voltage is applied, the liquid crystal 14 is driven, eliminating the influence of the applied voltage on other liquid crystal elements and preventing the occurrence of crosstalk. I can do that.

【0021】従来より焼結体バリスタ素子13aは、酸
化亜鉛の微粉末を加熱して焼結させて多結晶化した後、
当該焼結体を粉砕、分級して酸化亜鉛単結晶粒子粉末を
得、当該酸化亜鉛単結晶粒子を熱処理して角取りした後
、当該酸化亜鉛単結晶粒子に、Co、Mn酸化物の粉末
を加え、混合の後焼成して無機質絶縁膜を形成したバリ
スタ粒子粉末を得ていた。
Conventionally, the sintered varistor element 13a is made by heating and sintering fine powder of zinc oxide to polycrystallize it, and then
The sintered body is crushed and classified to obtain a zinc oxide single crystal particle powder, and after the zinc oxide single crystal particle is heat-treated and cornered, Co and Mn oxide powders are added to the zinc oxide single crystal particle. In addition, varistor particles were obtained by firing after mixing to form an inorganic insulating film.

【0022】そして当該バリスタ粒子粉末にガラスフリ
ットと有機バインダを加えてペースト化し、当該ペース
トを絶縁基板上に印刷塗布した後に焼成して焼結体バリ
スタ素子を得ていた。
Glass frit and an organic binder are added to the varistor particle powder to form a paste, and the paste is printed and coated on an insulating substrate and then fired to obtain a sintered varistor element.

【0023】しかしながら、以上述べた様な焼結体バリ
スタ素子の製造方法では、バリスタ粒子とガラスフリッ
トを一緒にペースト化し印刷によりバリスタ素子を形成
するため、バリスタ粒子の充填密度が低く、粒子間に隙
間が多数存在した状態が発生し、その結果、安定性が低
く且つその性能が素子間で均一でないため液晶表示装置
にした場合、画質にばらつきが生じるという問題があっ
た。
However, in the method for manufacturing a sintered varistor element as described above, the varistor particles and glass frit are pasted together and the varistor element is formed by printing, so the packing density of the varistor particles is low, and there are gaps between the particles. This results in a state in which many gaps exist, resulting in low stability and non-uniform performance among elements, resulting in a problem of variations in image quality when used in a liquid crystal display device.

【0024】[0024]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来の事
情に鑑みなされたもので、下側ガラス基板上に焼結体バ
リスタ素子を形成する際に、焼結体バリスタ粒子粉末を
有機バインダーでペースト化し、該ペーストを行電極と
画素電極間に印刷し、その素子上にガラスフリットを主
成分とするペーストを印刷焼成する事により、高性能か
つその性能が素子間で均一な焼結体バリスタ素子を得る
ことを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional circumstances, and it is an object of the present invention to bind sintered varistor particles to an organic binder when forming a sintered varistor element on a lower glass substrate. By making a paste, printing the paste between the row electrode and pixel electrode, and printing and firing a paste mainly composed of glass frit on the element, a sintered varistor with high performance and uniform performance between elements can be created. The purpose is to obtain an element.

【0025】[0025]

【課題を解決するための手段】本発明に係わる焼結体バ
リスタ素子の製造方法は、酸化亜鉛単結晶粒子の表面を
無機質絶縁膜で被膜したバリスタ粒子の粉末を有機バイ
ンダーでペースト化し、該ペーストを行電極と画素電極
間に印刷し、その上にガラスフリットを主成分とするペ
ーストを印刷した後、焼成することを特徴とする。
[Means for Solving the Problems] A method for manufacturing a sintered varistor element according to the present invention is to form a powder of varistor particles whose surfaces are coated with an inorganic insulating film on the surface of zinc oxide single crystal particles into a paste with an organic binder, and to form a paste with an organic binder. is printed between the row electrode and the pixel electrode, and a paste containing glass frit as the main component is printed on the paste, followed by firing.

【0026】[0026]

【作用】本発明では、バリスタ粒子粉末を有機バインダ
ーでペースト化し、該ペーストを印刷後、その上にガラ
スフリットを主成分とするペーストを印刷焼成するため
、バリスタ粒子の充填密度が高く、高性能かつその性能
が素子間で一定した焼結体バリスタ素子を得ることがで
きる。
[Operation] In the present invention, the varistor particle powder is made into a paste with an organic binder, and after printing the paste, a paste containing glass frit as the main component is printed and fired, so the packing density of the varistor particles is high and the performance is high. Moreover, it is possible to obtain a sintered body varistor element whose performance is constant between elements.

【0027】[0027]

【実施例】本発明に係わる焼結体バリスタ素子の製造方
法を実施例に基づいて具体的に説明する。
EXAMPLES The method for manufacturing a sintered varistor element according to the present invention will be specifically explained based on examples.

【0028】図1は、本発明の一実施例に係わる製造方
法の工程図である。
FIG. 1 is a process diagram of a manufacturing method according to an embodiment of the present invention.

【0029】まず、造粒工程101 において原料であ
る市販の酸化亜鉛(ZnO)の微粉末(粒径0.5 μ
m程度)を造粒する。
First, in the granulation step 101, commercially available zinc oxide (ZnO) fine powder (particle size 0.5 μm) is used as a raw material.
m) is granulated.

【0030】次いで焼結工程102 において、このZ
nO微粉末を1150℃〜1250℃で2時間以上加熱
して焼結させ平均粒径が7μm〜8μmの単結晶を含ん
だ多結晶体に結晶化させる。
Next, in the sintering step 102, this Z
The nO fine powder is heated and sintered at 1150° C. to 1250° C. for 2 hours or more to crystallize it into a polycrystalline body containing single crystals with an average particle size of 7 μm to 8 μm.

【0031】次いで、粉砕工程103 において、乳鉢
等を用いて多結晶体を粉砕してZnO単結晶粉末とする
Next, in a grinding step 103, the polycrystal is ground into ZnO single crystal powder using a mortar or the like.

【0032】次いで、分級工程104 において、空気
分級機を用いて5μm〜10μmの粒径のZnO単結晶
粒子を収率20%で得た。
Next, in a classification step 104, ZnO single crystal particles having a particle size of 5 μm to 10 μm were obtained at a yield of 20% using an air classifier.

【0033】そして、角取り焼成工程105 において
950 ℃〜1050℃で1時間〜3時間加熱して、Z
nO単結晶粒の表面部分だけを溶融させ、ZnO単結晶
粒子の角を取って球状化させる。
[0033] Then, in the corner firing step 105, the Z
Only the surface portion of the nO single crystal grain is melted, and the corners of the ZnO single crystal grain are rounded to form a sphere.

【0034】次いで添加物添加・焼成工程106 にお
いて添加物としてコバルト、マンガンの各硝酸塩をCo
(NO3 )2 ・6H2 O、Mn(NO3 )2 
・5H2 Oに換算して各0.5mol%を水に溶解し
、その水溶液にZnO単結晶粒子を加え混合し、120
℃に加熱後、180℃〜260℃で1時間仮焼成する事
により酸化亜鉛単結晶粒子表面上に酸化コバルト、酸化
マンガンの粒子を析出させる。
Next, in the additive addition/calcination step 106, cobalt and manganese nitrates are added as additives.
(NO3)2 ・6H2 O, Mn(NO3)2
・Dissolve 0.5 mol% of each in water in terms of 5H2O, add and mix ZnO single crystal particles to the aqueous solution,
After heating to .degree. C., cobalt oxide and manganese oxide particles are precipitated on the surface of the zinc oxide single crystal particles by pre-calcining at 180.degree. C. to 260.degree. C. for 1 hour.

【0035】そしてこのコバルト、マンガンの酸化物粒
子で覆われた酸化亜鉛単結晶を1100℃〜1200℃
で1時間焼成する。
[0035] Then, this zinc oxide single crystal covered with cobalt and manganese oxide particles was heated to 1100°C to 1200°C.
Bake for 1 hour.

【0036】これによって図6に示した様にZnO単結
晶粒子131 の表面にCo2 O3 及びMnO2 
絶縁膜132 を一定の厚みで均一に被覆したバリスタ
粒子13a が形成される。
As a result, as shown in FIG. 6, Co2 O3 and MnO2 are formed on the surface of the ZnO single crystal particles 131.
Varistor particles 13a uniformly coated with an insulating film 132 at a constant thickness are formed.

【0037】なお、焼成によってバリスタ粒子同士が多
少融着してしまうので、粉取り工程107 において乳
鉢等で軽く解きバリスタ粒子粉末とする。
[0037] Since the varistor particles are somewhat fused to each other during firing, they are lightly loosened in a mortar or the like in the powder removing step 107 to form varistor particle powder.

【0038】そして、インキ化工程108 においてバ
リスタ粒子75重量%、有機バインダーとしてエチルセ
ルロース2重量%、溶剤としてカルビトール23重量%
を混合してバリスタ粒子が主成分であるインキを作製す
る。
In the ink forming step 108, 75% by weight of varistor particles, 2% by weight of ethyl cellulose as an organic binder, and 23% by weight of carbitol as a solvent.
An ink containing varistor particles as the main component is prepared by mixing the varistor particles.

【0039】又、ガラスフリットが75重量%、有機バ
インダーとしてエチルセルロース2重量%、溶剤として
カルビトール23%を混合したガラスフリットが主成分
であるインキも作製する。
[0039] Also, an ink whose main component is glass frit mixed with 75% by weight of glass frit, 2% by weight of ethyl cellulose as an organic binder, and 23% of carbitol as a solvent is also prepared.

【0040】そして、印刷工程109 、焼成工程11
0 において、図4に示した様に酸化インジュウム・酸
化スズ(ITO)から成る行電極及び画素電極12が予
め設けられているガラス基板上に上記バリスタ粒子が主
成分であるペーストを325メッシュのスクリーン版で
所定形状に印刷塗布する。
[0040] Then, a printing process 109 and a baking process 11
0, as shown in FIG. 4, a paste containing the varistor particles as a main component is spread over a 325-mesh screen on a glass substrate on which row electrodes and pixel electrodes 12 made of indium oxide/tin oxide (ITO) have been provided in advance. Print and coat in a predetermined shape using a printing plate.

【0041】これを120℃で10分間乾燥した後、上
記ガラスフリットが主成分のペーストをその上に印刷塗
布する。そして空気中で420℃で1時間加熱して乾燥
固化させる。
After drying this at 120° C. for 10 minutes, a paste containing the glass frit as a main component is printed and applied thereon. Then, it is heated in air at 420° C. for 1 hour to dry and solidify.

【0042】その結果、図5で示した様に、互いに接触
したバリスタ粒子13aをガラスフリット13bで固め
た焼結体バリスタ素子を得る。
As a result, as shown in FIG. 5, a sintered varistor element is obtained in which the varistor particles 13a that are in contact with each other are hardened by the glass frit 13b.

【0043】上記の様にして得られた本発明のバリスタ
素子の電気特性について述べる。周知の様にバリスタの
電流−電圧特性は次式で示される。
The electrical characteristics of the varistor element of the present invention obtained as described above will be described. As is well known, the current-voltage characteristics of a varistor are expressed by the following equation.

【0044】[0044]

【数1】[Math 1]

【0045】ここで、Iは、バリスタ素子に流れる電流
、Vはバリスタ素子の電極間の電圧、Kは固有抵抗の抵
抗値に相当する定数、αは電圧非直線特性の指数を示し
ており、この電圧非直線指数α(通常α値と呼ばれる)
は大きいほど、バリスタ特性が優れていることになる。 本実施例では、I=10−9(A) 及びI=10−6
(A) における傾きからα値を求めた。
Here, I is the current flowing through the varistor element, V is the voltage between the electrodes of the varistor element, K is a constant corresponding to the resistance value of the specific resistance, and α is the exponent of the voltage nonlinear characteristic. This voltage nonlinearity index α (usually called α value)
The larger the value, the better the varistor characteristics. In this example, I=10-9(A) and I=10-6
The α value was determined from the slope in (A).

【0046】[0046]

【表1】[Table 1]

【0047】表1は、本発明の結果と従来法とのバリス
タ電圧(10−6(A) 時の電圧)、α値、及びバリ
スタ電圧のばらつきを比較したものである。
Table 1 compares the results of the present invention and the conventional method in terms of varistor voltage (voltage at 10 -6 (A)), α value, and variation in varistor voltage.

【0048】この表より本発明では、バリスタ粒子が主
成分であるペーストを印刷後、その素子上にガラスフリ
ットが主成分であるペーストを印刷したので、各バリス
タ素子におけるバリスタ粒子の充填率が向上する。その
ため、従来法と比べバリスタ電圧、α値共に良好であり
、バラツキも減少した素子を得る事ができた。
From this table, in the present invention, after printing a paste containing varistor particles as a main component, a paste containing glass frit as a main component was printed on the element, so the filling rate of varistor particles in each varistor element was improved. do. Therefore, it was possible to obtain an element with better varistor voltage and α value than with the conventional method, and with reduced variation.

【0049】この事から本発明を用いると高性能かつそ
の性能が素子間で一定した焼結体バリスタ素子を得るこ
とができる。又、本発明は液晶表示装置用の焼結体バリ
スタ素子のみならず、一般的に用いられる焼結体バリス
タ素子としても勿論適用することができる。
From this fact, by using the present invention, it is possible to obtain a sintered varistor element with high performance and whose performance is constant from element to element. Furthermore, the present invention can of course be applied not only to sintered varistor elements for liquid crystal display devices, but also to commonly used sintered varistor elements.

【0050】[0050]

【発明の効果】以上詳細に説明したように本発明によれ
ば、バリスタ粒子粉末を有機バインダーでペースト化し
、該ペーストを印刷後、その素子上にガラスフリットを
主成分とするペーストを印刷焼成するため、バリスタ粒
子の充填密度が高く、高性能かつその性能が素子間で一
定した焼結体バリスタ素子を得ることができる。従って
むらのない、鮮明な画像表示を達成する液晶表示装置を
得ることが可能となる。
[Effects of the Invention] As explained in detail above, according to the present invention, varistor particle powder is made into a paste with an organic binder, and after printing the paste, a paste containing glass frit as a main component is printed and fired on the element. Therefore, it is possible to obtain a sintered varistor element with a high packing density of varistor particles, high performance, and whose performance is constant from element to element. Therefore, it is possible to obtain a liquid crystal display device that achieves clear image display without unevenness.

【0051】[0051]

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

【図1】本発明の一実施例に係わるバリスタ素子の製造
方法の工程図である。
FIG. 1 is a process diagram of a method for manufacturing a varistor element according to an embodiment of the present invention.

【図2】一般的な液晶表示装置の電極形状の一例を示す
平面図である。
FIG. 2 is a plan view showing an example of an electrode shape of a general liquid crystal display device.

【図3】図2の液晶表示装置の一画素の拡大平面図であ
る。
FIG. 3 is an enlarged plan view of one pixel of the liquid crystal display device of FIG. 2;

【図4】バリスタ素子を用いた液晶表示装置の一例を示
す断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing an example of a liquid crystal display device using a varistor element.

【図5】図1中のバリスタ要部の拡大図である。FIG. 5 is an enlarged view of the main part of the varistor in FIG. 1.

【図6】バリスタ粒子の断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view of a varistor particle.

【図7】二端子素子型液晶表示装置の等価回路である。FIG. 7 is an equivalent circuit of a two-terminal element type liquid crystal display device.

【図8】焼結体バリスタ素子の電圧−電流特性を示すグ
ラフ図である。
FIG. 8 is a graph diagram showing voltage-current characteristics of a sintered varistor element.

【図9】単純マトリックス方式の液晶画素の動作特性を
示すグラフ図である。
FIG. 9 is a graph diagram showing operating characteristics of a simple matrix type liquid crystal pixel.

【図10】焼結体バリスタ素子を用いない場合の液晶画
素の動作特性を示すグラフ図である。
FIG. 10 is a graph diagram showing operating characteristics of a liquid crystal pixel when a sintered body varistor element is not used.

【図11】焼結体バリスタ素子を用いた場合の液晶画素
の動作特性を示すグラフ図である。
FIG. 11 is a graph diagram showing operating characteristics of a liquid crystal pixel when a sintered body varistor element is used.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…下側ガラス基板 11…行電極 12…画素電極 13…焼結体バリスタ素子 13a …バリスタ素子 13b …ガラスフリット 14…液晶 15…列電極 16…カラーフィルタ 17…下側ガラス基板 18…配向膜 19…偏光板 20…スペーサーガラスビーズ 131…ZnO単結晶粒子 132…無機質絶縁膜 10...Lower glass substrate 11...row electrode 12...Pixel electrode 13...Sintered varistor element 13a...varistor element 13b...Glass frit 14...Liquid crystal 15...Column electrode 16...Color filter 17...Lower glass substrate 18...Alignment film 19...Polarizing plate 20...Spacer glass beads 131...ZnO single crystal particles 132...Inorganic insulating film

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ガラス基板上の行電極と画素電極とを接続
するバリスタ素子を印刷法により形成する焼結体バリス
タ素子基板の製造方法において、酸化亜鉛単結晶粒子の
表面を無機質絶縁膜で被膜したバリスタ粒子の粉末を有
機バインダーでペースト化し、該ペーストを行電極と画
素電極間に印刷し、その上にガラスフリットを主成分と
するペーストを印刷し、しかるのち焼成することを特徴
とする焼結体バリスタ素子の製造方法。
1. A method for manufacturing a sintered varistor element substrate in which a varistor element connecting a row electrode and a pixel electrode on a glass substrate is formed by a printing method, in which the surface of zinc oxide single crystal particles is coated with an inorganic insulating film. This method is characterized in that the powder of varistor particles obtained by the process is made into a paste with an organic binder, the paste is printed between the row electrode and the pixel electrode, a paste containing glass frit as the main component is printed on top of the paste, and then it is fired. A method for manufacturing a solid varistor element.
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Cited By (2)

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