JPH0436231U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0436231U JPH0436231U JP7719390U JP7719390U JPH0436231U JP H0436231 U JPH0436231 U JP H0436231U JP 7719390 U JP7719390 U JP 7719390U JP 7719390 U JP7719390 U JP 7719390U JP H0436231 U JPH0436231 U JP H0436231U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plate
- shaped
- processed
- heat treatment
- heating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 29
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Description
第１図〜第３図は、第一の考案の実施例、第二
の考案の実施例に共通する図面であつて、第１図
、第２図は熱処理炉を示し、第１図は第２図の
−線断面図、第２図は第１図の−線断面図
、第３図は発熱素子の平面図である。第４図及び
第５図は第一の考案の実施例を示すものであつて
、第４図はヒータの拡大断面図、第５図は他の例
によるヒータの拡大断面図である。第６図〜第１
２図は第二の考案の実施例を示すものであつて、
第６図は冷却機能を備えたヒータの拡大断面図、
第７図は同ヒータの一部破砕斜視図、第８図は熱
処理の時間−温度曲線を示すグラフ、第９図は第
１図、第２図とは異なる例による熱処理炉の断面
図（第１０図の−線断面図）、第１０図は第
９図の−線断面図、第１１図、第１２図は、
夫々更に他の例による熱処理炉の第９図と同様の
断面図である。第１３図〜第２０図は従来例を示
すものであつて、第１３図はカセツト（板状被処
理物収容器）の断面図、第１４図は他のカセツト
の斜視図、第１５図はカセツトと熱処理炉との位
置関係の一例を示す断面図、第１６図は連続熱処
理装置の概略図、第１７図は他の例による連続熱
処理装置の内部概略図、第１８図、第１９図及び
第２０図は夫々熱処理の時間−温度曲線を示すグ
ラフである。 なお、図面示された符号において、１，２０，
３０，４０……熱処理炉、３……扉、５，８……
ヒータ、７……被処理物支持部材、９……冷却機
能を備えたヒータ、１１……ガラス板、１２……
耐熱絶縁材、１３……発熱素子、１４，１６……
薄板、１５……遠赤外線放射材、１７……冷却管
、２２……天蓋、２４……被処理物支持板、２４
ａ……溝、３１……側壁、３３……高沸点オイル
、３４……発熱体、３５……オイル収容壁、３６
……バルブ、３７……配管、Ｗ……被収容物（ガ
ラス基板）、である。
の考案の実施例に共通する図面であつて、第１図
、第２図は熱処理炉を示し、第１図は第２図の
−線断面図、第２図は第１図の−線断面図
、第３図は発熱素子の平面図である。第４図及び
第５図は第一の考案の実施例を示すものであつて
、第４図はヒータの拡大断面図、第５図は他の例
によるヒータの拡大断面図である。第６図〜第１
２図は第二の考案の実施例を示すものであつて、
第６図は冷却機能を備えたヒータの拡大断面図、
第７図は同ヒータの一部破砕斜視図、第８図は熱
処理の時間−温度曲線を示すグラフ、第９図は第
１図、第２図とは異なる例による熱処理炉の断面
図（第１０図の−線断面図）、第１０図は第
９図の−線断面図、第１１図、第１２図は、
夫々更に他の例による熱処理炉の第９図と同様の
断面図である。第１３図〜第２０図は従来例を示
すものであつて、第１３図はカセツト（板状被処
理物収容器）の断面図、第１４図は他のカセツト
の斜視図、第１５図はカセツトと熱処理炉との位
置関係の一例を示す断面図、第１６図は連続熱処
理装置の概略図、第１７図は他の例による連続熱
処理装置の内部概略図、第１８図、第１９図及び
第２０図は夫々熱処理の時間−温度曲線を示すグ
ラフである。 なお、図面示された符号において、１，２０，
３０，４０……熱処理炉、３……扉、５，８……
ヒータ、７……被処理物支持部材、９……冷却機
能を備えたヒータ、１１……ガラス板、１２……
耐熱絶縁材、１３……発熱素子、１４，１６……
薄板、１５……遠赤外線放射材、１７……冷却管
、２２……天蓋、２４……被処理物支持板、２４
ａ……溝、３１……側壁、３３……高沸点オイル
、３４……発熱体、３５……オイル収容壁、３６
……バルブ、３７……配管、Ｗ……被収容物（ガ
ラス基板）、である。
補正 平３．１０．１８
実用新案登録請求の範囲を次のように補正する
。
。
【実用新案登録請求の範囲】
１ 板状加熱手段が所定間隔で多層状に装置本体
内に配され、板状の被処理物を前記の各板状加熱
手段の間に位置するように支持する被処理物支持
手段を有し、前記の各被処理物が、この被処理物
に対向する前記加熱手段によつて加熱されるよう
にして複数の前記被処理物を処理するように構成
された板状体熱処理装置。 ２ 加熱又は冷却のための板状の加熱・冷却用部
材が所定間隔で多層状に装置本体内に配され、板
状の被処理物を前記の各加熱・冷却用部材の間に
位置するように支持する被処理物支持手段を有し
、前記の各被処理物が、この被処理物に対向する
前記加熱・冷却用部材によつて加熱、冷却される
ようにして複数の前記被処理物を処理するように
構成された板状体熱処理装置。
内に配され、板状の被処理物を前記の各板状加熱
手段の間に位置するように支持する被処理物支持
手段を有し、前記の各被処理物が、この被処理物
に対向する前記加熱手段によつて加熱されるよう
にして複数の前記被処理物を処理するように構成
された板状体熱処理装置。 ２ 加熱又は冷却のための板状の加熱・冷却用部
材が所定間隔で多層状に装置本体内に配され、板
状の被処理物を前記の各加熱・冷却用部材の間に
位置するように支持する被処理物支持手段を有し
、前記の各被処理物が、この被処理物に対向する
前記加熱・冷却用部材によつて加熱、冷却される
ようにして複数の前記被処理物を処理するように
構成された板状体熱処理装置。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 １ 板状加熱手段が所定間隔で多層状に装置本体
内に配され、板状の被処理物を前記の各板状加熱
手段の間に位置するように支持する被処理物支持
手段を有し、前記の各被処理物が、この被処理物
に対向する前記加熱手段によつて加熱されるよう
にして複数の前記被処理物を処理するように構成
された板状体熱処理装置。 ２ 板状加熱手段と板状冷却手段とからなる板状
の加熱・冷却部材が所定間隔で多層状に装置本体
内に配され、板状の被処理物を前記の各加熱・冷
却部材の間に位置するように支持する被処理物支
持手段を有し、前記の各被処理物が、この被処理
物に対向する前記加熱・冷却部材によつて加熱、
冷却されるようにして複数の前記被処理物を処理
するように構成された板状体熱処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7719390U JPH0436231U (ja) | 1990-07-20 | 1990-07-20 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7719390U JPH0436231U (ja) | 1990-07-20 | 1990-07-20 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0436231U true JPH0436231U (ja) | 1992-03-26 |
Family
ID=31619351
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7719390U Pending JPH0436231U (ja) | 1990-07-20 | 1990-07-20 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0436231U (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005352306A (ja) * | 2004-06-11 | 2005-12-22 | Kyushu Nissho:Kk | 加熱装置 |
| JP2013200077A (ja) * | 2012-03-26 | 2013-10-03 | Kyushu Nissho:Kk | 加熱装置 |
| JP2016173230A (ja) * | 2016-04-21 | 2016-09-29 | 株式会社九州日昌 | 加熱装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5737848A (en) * | 1980-08-19 | 1982-03-02 | Toshiba Corp | Heating apparatus for wafer |
| JPS631325B2 (ja) * | 1980-03-11 | 1988-01-12 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | |
| JPH01274418A (ja) * | 1988-04-27 | 1989-11-02 | Nec Corp | 半導体熱処理装置 |
-
1990
- 1990-07-20 JP JP7719390U patent/JPH0436231U/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS631325B2 (ja) * | 1980-03-11 | 1988-01-12 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | |
| JPS5737848A (en) * | 1980-08-19 | 1982-03-02 | Toshiba Corp | Heating apparatus for wafer |
| JPH01274418A (ja) * | 1988-04-27 | 1989-11-02 | Nec Corp | 半導体熱処理装置 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005352306A (ja) * | 2004-06-11 | 2005-12-22 | Kyushu Nissho:Kk | 加熱装置 |
| JP4553637B2 (ja) * | 2004-06-11 | 2010-09-29 | 株式会社九州日昌 | 加熱装置 |
| JP2013200077A (ja) * | 2012-03-26 | 2013-10-03 | Kyushu Nissho:Kk | 加熱装置 |
| JP2016173230A (ja) * | 2016-04-21 | 2016-09-29 | 株式会社九州日昌 | 加熱装置 |
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