JPH04361201A - フレネルゾーンプレートを用いた光学系 - Google Patents
フレネルゾーンプレートを用いた光学系Info
- Publication number
- JPH04361201A JPH04361201A JP3137897A JP13789791A JPH04361201A JP H04361201 A JPH04361201 A JP H04361201A JP 3137897 A JP3137897 A JP 3137897A JP 13789791 A JP13789791 A JP 13789791A JP H04361201 A JPH04361201 A JP H04361201A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- zone plate
- fresnel
- fresnel zone
- order
- diffraction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 37
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 7
- 230000004907 flux Effects 0.000 abstract description 11
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 9
- 239000011295 pitch Substances 0.000 abstract 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 description 14
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 12
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 7
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/42—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
- G02B27/4205—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect having a diffractive optical element [DOE] contributing to image formation, e.g. whereby modulation transfer function MTF or optical aberrations are relevant
- G02B27/4211—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect having a diffractive optical element [DOE] contributing to image formation, e.g. whereby modulation transfer function MTF or optical aberrations are relevant correcting chromatic aberrations
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/0025—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration
- G02B27/0037—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration with diffracting elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/42—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
- G02B27/4205—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect having a diffractive optical element [DOE] contributing to image formation, e.g. whereby modulation transfer function MTF or optical aberrations are relevant
- G02B27/4222—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect having a diffractive optical element [DOE] contributing to image formation, e.g. whereby modulation transfer function MTF or optical aberrations are relevant in projection exposure systems, e.g. photolithographic systems
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1876—Diffractive Fresnel lenses; Zone plates; Kinoforms
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、フレネルゾーンプレー
トを用いた光学系に関し、特に、フレネルゾーンプレー
トの構造に工夫をして性能を向上させると共に製作の容
易なフレネルゾーンプレートを用いた光学系に関する。
トを用いた光学系に関し、特に、フレネルゾーンプレー
トの構造に工夫をして性能を向上させると共に製作の容
易なフレネルゾーンプレートを用いた光学系に関する。
【0002】
【従来の技術】KrFエキシマレーザを光源として用い
るステッパに搭載される縮小投影レンズは、光源波長が
短波長であることから、使用できる硝材が実質的に石英
ガラスに限られる。このため、分散の異なる硝材の組み
合せにより色収差を補正することができない。そこで、
フレネルゾーンプレートを用いて色収差を補正する方法
が提案されている。
るステッパに搭載される縮小投影レンズは、光源波長が
短波長であることから、使用できる硝材が実質的に石英
ガラスに限られる。このため、分散の異なる硝材の組み
合せにより色収差を補正することができない。そこで、
フレネルゾーンプレートを用いて色収差を補正する方法
が提案されている。
【0003】フレネルゾーンプレートによる光線の屈折
(回折又は屈曲と言うべきであるが、本発明においては
、フレネルゾーンプレートを屈折レンズと同様な収束光
学素子又は発散光学素子として取り扱う都合上、特別な
場合を除いて屈折と言う。)の原理は、回折格子による
光線回折の原理と同じであり、フレネルゾーンプレート
の法線に対する入射光線角θと射出光線角θ’とは、回
折格子の格子ピッチに相当するフレネルピッチ(隣接す
る不透明又は透明輪帯間の距離)pと光線波長λにより
表すことができる。
(回折又は屈曲と言うべきであるが、本発明においては
、フレネルゾーンプレートを屈折レンズと同様な収束光
学素子又は発散光学素子として取り扱う都合上、特別な
場合を除いて屈折と言う。)の原理は、回折格子による
光線回折の原理と同じであり、フレネルゾーンプレート
の法線に対する入射光線角θと射出光線角θ’とは、回
折格子の格子ピッチに相当するフレネルピッチ(隣接す
る不透明又は透明輪帯間の距離)pと光線波長λにより
表すことができる。
【0004】
sinθ’−sinθ =mλ/p
・・・・・・・(1)なお、mは
回折の次数で、0、±1、±2、±3、±4、・・・で
ある。
・・・・・・・(1)なお、mは
回折の次数で、0、±1、±2、±3、±4、・・・で
ある。
【0005】この式(1)から、光線の屈折量は波長が
長くなると大きくなることがわかる。これは、フレネル
ゾーンプレートの屈折力(焦点距離の逆数)は、波長が
長くなると強くなることを示している。一方、一般の光
学ガラスは石英ガラスを含めて正の分散を持ち、このた
め、一般の光学ガラスを用いたレンズは、波長が長くな
るほどその屈折力は弱くなる。すなわち、フレネルゾー
ンプレートはレンズ作用を有するが、それはあたかも負
の分散を有する光学材料により構成されたレンズの作用
を持つ。分散の異なる材料を用いれば、色収差は補正可
能であり、特開平2─1109号においては、KrFエ
キシマレーザを光源とするステッパに搭載される縮小投
影レンズの瞳位置にフレネルゾーンプレートを用いて、
色収差を補正する技術が開示されている。この中に示さ
れたフレネルゾーンプレートは、色収差を補正するため
に単一の次数の回折を利用した正の屈折力を有するもの
である。単一次数の回折を利用する場合、高次回折は高
い回折効率を得るのが困難であり、回折効率が悪いと、
所望の屈折作用を受けた光以外に有害光線が生成され、
それが像面コントラストを低下させる原因となるために
、1次、2次と言った低次の回折光を利用せざるを得な
い。
長くなると大きくなることがわかる。これは、フレネル
ゾーンプレートの屈折力(焦点距離の逆数)は、波長が
長くなると強くなることを示している。一方、一般の光
学ガラスは石英ガラスを含めて正の分散を持ち、このた
め、一般の光学ガラスを用いたレンズは、波長が長くな
るほどその屈折力は弱くなる。すなわち、フレネルゾー
ンプレートはレンズ作用を有するが、それはあたかも負
の分散を有する光学材料により構成されたレンズの作用
を持つ。分散の異なる材料を用いれば、色収差は補正可
能であり、特開平2─1109号においては、KrFエ
キシマレーザを光源とするステッパに搭載される縮小投
影レンズの瞳位置にフレネルゾーンプレートを用いて、
色収差を補正する技術が開示されている。この中に示さ
れたフレネルゾーンプレートは、色収差を補正するため
に単一の次数の回折を利用した正の屈折力を有するもの
である。単一次数の回折を利用する場合、高次回折は高
い回折効率を得るのが困難であり、回折効率が悪いと、
所望の屈折作用を受けた光以外に有害光線が生成され、
それが像面コントラストを低下させる原因となるために
、1次、2次と言った低次の回折光を利用せざるを得な
い。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところで、フレネルゾ
ーンプレートの持つ色収差補正能力はその屈折力で決ま
るので、十分な色収差補正を行うためには、所定の屈折
力を持つフレネルゾーンプレートが必要になる。その一
方、フレネルゾーンプレートは、光軸から半径方向に向
かって徐々にフレネルピッチが小さくなって行くが、そ
の最小フレネルピッチは、式(1)からも明らかなよう
に、フレネルゾーンプレートの屈折力が大きければ大き
いほど小さくなり、その製作は困難となる。十分な色収
差補正を行うためには、最小フレネルピッチは5μm以
下の微細ピッチが必要であり、製作は極めて困難である
。
ーンプレートの持つ色収差補正能力はその屈折力で決ま
るので、十分な色収差補正を行うためには、所定の屈折
力を持つフレネルゾーンプレートが必要になる。その一
方、フレネルゾーンプレートは、光軸から半径方向に向
かって徐々にフレネルピッチが小さくなって行くが、そ
の最小フレネルピッチは、式(1)からも明らかなよう
に、フレネルゾーンプレートの屈折力が大きければ大き
いほど小さくなり、その製作は困難となる。十分な色収
差補正を行うためには、最小フレネルピッチは5μm以
下の微細ピッチが必要であり、製作は極めて困難である
。
【0007】このような問題点に鑑み、本発明は、最小
フレネルピッチが比較的大きいにもかかわらず、十分な
色収差補正効果もしくは屈折力と、良好な像面コントラ
ストを確保することができるフレネルゾーンプレートを
用いた光学系を提供することを目的とする。
フレネルピッチが比較的大きいにもかかわらず、十分な
色収差補正効果もしくは屈折力と、良好な像面コントラ
ストを確保することができるフレネルゾーンプレートを
用いた光学系を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明のフレネルゾーンプレートを用いた光学系は、フレネ
ルゾーンプレートを有し、該フレネルゾーンプレートは
、光軸を中心として、光軸周辺領域に比べてその外側の
領域がより高次の回折を用いて所望の屈折力を得るよう
に、光軸周辺領域及びその外側の領域のフレネルピッチ
もしくはフレネルピッチとブレージィング角が設定され
ていることを特徴とするものである。
明のフレネルゾーンプレートを用いた光学系は、フレネ
ルゾーンプレートを有し、該フレネルゾーンプレートは
、光軸を中心として、光軸周辺領域に比べてその外側の
領域がより高次の回折を用いて所望の屈折力を得るよう
に、光軸周辺領域及びその外側の領域のフレネルピッチ
もしくはフレネルピッチとブレージィング角が設定され
ていることを特徴とするものである。
【0009】
【作用】本発明のフレネルゾーンプレートを用いた光学
系について、図1を参照にして説明する。図1において
、1は物体を示し、2、3は物体1からから発せられる
光束で、光束2は物体1の0次回折光束部分、光束3は
光束2の外側で0次回折以外の回折光束部分である。 4はその瞳位置にフレネルゾーンプレート5を有する投
影レンズで、物体1の像を像面9に投影している。8は
フレネルゾーンプレート5に隣接して置かれている絞り
で、光束を制限する働きを有する。
系について、図1を参照にして説明する。図1において
、1は物体を示し、2、3は物体1からから発せられる
光束で、光束2は物体1の0次回折光束部分、光束3は
光束2の外側で0次回折以外の回折光束部分である。 4はその瞳位置にフレネルゾーンプレート5を有する投
影レンズで、物体1の像を像面9に投影している。8は
フレネルゾーンプレート5に隣接して置かれている絞り
で、光束を制限する働きを有する。
【0010】フレネルゾーンプレート5はその前後の光
学系と相まって、投影レンズ4全体の収差バランスを良
好に保つ働きを有している。フレネルゾーンプレート5
のフレネルパターン面7を中心ゾーンCと周辺ゾーンP
に分けて考えることにする。ここで、少なくとも物体1
の0次回折光束部分2が透過する光軸周辺の領域をゾー
ンC、そして、ゾーンCの外側で0次回折以外の光束が
透過する領域をゾーンPとする。
学系と相まって、投影レンズ4全体の収差バランスを良
好に保つ働きを有している。フレネルゾーンプレート5
のフレネルパターン面7を中心ゾーンCと周辺ゾーンP
に分けて考えることにする。ここで、少なくとも物体1
の0次回折光束部分2が透過する光軸周辺の領域をゾー
ンC、そして、ゾーンCの外側で0次回折以外の光束が
透過する領域をゾーンPとする。
【0011】そして、本発明に基づき、フレネルゾーン
プレート5の中心ゾーンCにおいては、比較的低次の回
折を利用してレンズ作用を行わせ、これに対し、周辺ゾ
ーンPにおいては、比較的高次の回折を利用してレンズ
作用を行わせるようにする。ゾーンC、Pそれぞれの利
用回折次数をm1、m2とおくと、従来フレネルピッチ
が微細化して問題となるゾーンPのピッチは、m2/m
1倍に大きくなることが式(1)から明らかである。仮
に、m1=1、m2=2であれば、ゾーンPのピッチは
、全面同じ回折次数を用いる従来のフレネルゾーンプレ
ートの場合に比べ、2倍大きくなる。さらに、m2=3
とすれば、ゾーンPのピッチは3倍になり、フレネルゾ
ーンプレート5は大変製作しやすくなる。
プレート5の中心ゾーンCにおいては、比較的低次の回
折を利用してレンズ作用を行わせ、これに対し、周辺ゾ
ーンPにおいては、比較的高次の回折を利用してレンズ
作用を行わせるようにする。ゾーンC、Pそれぞれの利
用回折次数をm1、m2とおくと、従来フレネルピッチ
が微細化して問題となるゾーンPのピッチは、m2/m
1倍に大きくなることが式(1)から明らかである。仮
に、m1=1、m2=2であれば、ゾーンPのピッチは
、全面同じ回折次数を用いる従来のフレネルゾーンプレ
ートの場合に比べ、2倍大きくなる。さらに、m2=3
とすれば、ゾーンPのピッチは3倍になり、フレネルゾ
ーンプレート5は大変製作しやすくなる。
【0012】さて、ゾーンPは高次回折を利用してレン
ズ作用を持たせているため、回折効率をゾーンCのよう
に良くすることは通常困難であり、回折効率はゾーンC
に比べて劣ることになる。その回折効率をKとすると、
(ゾーンPを通り抜ける光束エネルギ)×(1−K)・
・・・・・(2)の光がフレアを作り、像面9の像コン
トラストを低下させる有害光となり得る。しかし、ゾー
ンPを通り抜ける光束3のエネルギは、光束2のエネル
ギに比べて圧倒的に小さい。すなわち、物体1による回
折光強度は、0次回折光が他の回折光強度に比べ圧倒的
に大きいため、全ての0次回折光を含む光束2のエネル
ギに比べて、0次回折光を全く含まないゾーンPを通り
抜ける光束3エネルギは、圧倒的に小さくなる。したが
って、式(2)で示される有害光のエネルギは実質無視
できる程度の僅かなもので、像コントラストを低下させ
ることはない。
ズ作用を持たせているため、回折効率をゾーンCのよう
に良くすることは通常困難であり、回折効率はゾーンC
に比べて劣ることになる。その回折効率をKとすると、
(ゾーンPを通り抜ける光束エネルギ)×(1−K)・
・・・・・(2)の光がフレアを作り、像面9の像コン
トラストを低下させる有害光となり得る。しかし、ゾー
ンPを通り抜ける光束3のエネルギは、光束2のエネル
ギに比べて圧倒的に小さい。すなわち、物体1による回
折光強度は、0次回折光が他の回折光強度に比べ圧倒的
に大きいため、全ての0次回折光を含む光束2のエネル
ギに比べて、0次回折光を全く含まないゾーンPを通り
抜ける光束3エネルギは、圧倒的に小さくなる。したが
って、式(2)で示される有害光のエネルギは実質無視
できる程度の僅かなもので、像コントラストを低下させ
ることはない。
【0013】なお、回折効率を高めるために、ゾーンC
、P共、フレネルパターンは、ブレージングすることが
好ましいことは当然である。そのブレージング角は、そ
れぞれの回折次数に合った角度を選択すればよい。また
、フレネルゾーンプレートは、レンズ系の瞳位置と異な
る位置に配置することも可能である。この場合、光束3
の通る領域に比べ、光束2の透過する領域の面積比が大
きくなるため、ゾーンPの領域がゾーンCに対して相対
的に圧縮される。すなわち、製作容易なゾーンPの面積
比率が減ることになるので、フレネルゾーンプレートは
、レンズ系の瞳近傍に置く方が望ましい。しかし、瞳位
置に必ず置かなければならないものではない。なお、フ
レネルゾーンプレート5は、光軸を中心にして半径方向
に3領域以上にゾーン分割してもよい。この場合は、中
心部に比べてその次にくる領域ではより高次の回折を利
用し、周辺部はその内側に位置する領域に比較してより
高次の回折を利用してレンズ作用を行わせるようにする
。
、P共、フレネルパターンは、ブレージングすることが
好ましいことは当然である。そのブレージング角は、そ
れぞれの回折次数に合った角度を選択すればよい。また
、フレネルゾーンプレートは、レンズ系の瞳位置と異な
る位置に配置することも可能である。この場合、光束3
の通る領域に比べ、光束2の透過する領域の面積比が大
きくなるため、ゾーンPの領域がゾーンCに対して相対
的に圧縮される。すなわち、製作容易なゾーンPの面積
比率が減ることになるので、フレネルゾーンプレートは
、レンズ系の瞳近傍に置く方が望ましい。しかし、瞳位
置に必ず置かなければならないものではない。なお、フ
レネルゾーンプレート5は、光軸を中心にして半径方向
に3領域以上にゾーン分割してもよい。この場合は、中
心部に比べてその次にくる領域ではより高次の回折を利
用し、周辺部はその内側に位置する領域に比較してより
高次の回折を利用してレンズ作用を行わせるようにする
。
【0014】
【実施例】本発明によるフレネルゾーンプレートを用い
た光学系の1実施例の断面図を図2に、その部分拡大図
を図3に示す。図中、11はKrFエキシマレーザを光
源とするステッパの縮小投影レンズ、10はステッパ本
体に内蔵されている照明装置である。また、12は物体
面に置かれたレチクル、13は像面に置かれたウエハ、
14は縮小投影レンズの瞳位置に置かれた明るさ絞り、
15は縮小投影レンズに内蔵されたフレネルゾーンプレ
ートである。なお、図3中には、フレネルゾーンプレー
ト15の一部を模式的に拡大して示してある。この部分
は、ゾーンCとゾーンPの境界部となる。
た光学系の1実施例の断面図を図2に、その部分拡大図
を図3に示す。図中、11はKrFエキシマレーザを光
源とするステッパの縮小投影レンズ、10はステッパ本
体に内蔵されている照明装置である。また、12は物体
面に置かれたレチクル、13は像面に置かれたウエハ、
14は縮小投影レンズの瞳位置に置かれた明るさ絞り、
15は縮小投影レンズに内蔵されたフレネルゾーンプレ
ートである。なお、図3中には、フレネルゾーンプレー
ト15の一部を模式的に拡大して示してある。この部分
は、ゾーンCとゾーンPの境界部となる。
【0015】照明光学系10は、中心波長248.38
nm、波長幅0.35nm(248.19〜248.5
4nm)の光でレチクル12を一様な照度で背後から照
明し、縮小投影レンズ11がそのレチクルに描かれたパ
ターンをウエハ13上に1/5倍に縮小して投影する。 縮小投影レンズ11の開口数NAは0.35、露光領域
はウエハ13上でφ2mm、レチクル12とレンズ第1
面との距離は186.0383mmである。縮小投影レ
ンズ11のレンズデータは次の表−1に示す通りであり
、その収差図を図4に示す。なお、表−1中、ri は
、物体側より順に、第i番目のレンズ面の曲率半径、d
i は、物体側より順に、第i番目のレンズ厚及び空気
間隔である。光学材料は合成石英を用いており、その屈
折率は表−2に示す。
nm、波長幅0.35nm(248.19〜248.5
4nm)の光でレチクル12を一様な照度で背後から照
明し、縮小投影レンズ11がそのレチクルに描かれたパ
ターンをウエハ13上に1/5倍に縮小して投影する。 縮小投影レンズ11の開口数NAは0.35、露光領域
はウエハ13上でφ2mm、レチクル12とレンズ第1
面との距離は186.0383mmである。縮小投影レ
ンズ11のレンズデータは次の表−1に示す通りであり
、その収差図を図4に示す。なお、表−1中、ri は
、物体側より順に、第i番目のレンズ面の曲率半径、d
i は、物体側より順に、第i番目のレンズ厚及び空気
間隔である。光学材料は合成石英を用いており、その屈
折率は表−2に示す。
【0016】
表−1
曲率半径
厚み・間隔 硝材r1 = 30.
4054 d1 = 8.00
00 合成石英r2 = 355.81
06 d2 = 1.6000
r3 = 28.7353
d3 = 8.0000
合成石英r4 = 40.6480
d4 = 7.7000
r5 = −97.0751 d5
= 2.6000 合成石英r6
= 15.3467 d6 =
4.3000 r7 = ∞
d7 = 3.70
00 合成石英r8 = ∞
d8 = 0.0000
**r9 = *
d9 = 3.2000
r10= −17.7780
d10= 15.2000 合成
石英r11= −23.6230
d11= 15.4000 r12=
31.7739 d12=
12.0000 合成石英r13= −
90.9941 d13= 5
.1000 r14= 26.048
5 d14= 10.6000
合成石英r15= −58.4030
d15= 1.6000
r16= −35.7916
d16= 8.5000 合
成石英r17= 38.9539
。
厚み・間隔 硝材r1 = 30.
4054 d1 = 8.00
00 合成石英r2 = 355.81
06 d2 = 1.6000
r3 = 28.7353
d3 = 8.0000
合成石英r4 = 40.6480
d4 = 7.7000
r5 = −97.0751 d5
= 2.6000 合成石英r6
= 15.3467 d6 =
4.3000 r7 = ∞
d7 = 3.70
00 合成石英r8 = ∞
d8 = 0.0000
**r9 = *
d9 = 3.2000
r10= −17.7780
d10= 15.2000 合成
石英r11= −23.6230
d11= 15.4000 r12=
31.7739 d12=
12.0000 合成石英r13= −
90.9941 d13= 5
.1000 r14= 26.048
5 d14= 10.6000
合成石英r15= −58.4030
d15= 1.6000
r16= −35.7916
d16= 8.5000 合
成石英r17= 38.9539
。
【0017】
【0018】表−1において、第9面目の*は非球面で
あることを示し、この非球面は次のように表される。
あることを示し、この非球面は次のように表される。
【0019】
Z= (1/2)×1.567779×10−
6×s2 (mm) ・・・・・(
3)ただし、光軸をZ軸とし、sは光軸からの距離であ
る。
6×s2 (mm) ・・・・・(
3)ただし、光軸をZ軸とし、sは光軸からの距離であ
る。
【0020】また、第8面目の硝材の**は、表−2に
示す屈折率を有する仮想硝材であり、これにより第9面
はフレネルゾーンプレートと等価な働きを有する。すな
わち、フレネルゾーンプレートは屈折率が極めて大きな
光学材料からなる屈折光学系に置き換えることができる
。
示す屈折率を有する仮想硝材であり、これにより第9面
はフレネルゾーンプレートと等価な働きを有する。すな
わち、フレネルゾーンプレートは屈折率が極めて大きな
光学材料からなる屈折光学系に置き換えることができる
。
【0021】このことは、W.C.Sweattの論文
(J.Opt.Soc.Am.Vol69,No3,M
arch1979) に示されており、以下にその要約
を示す。光線の入射角をθ、光線の出射角をθ’とする
と、フレネルゾーンプレートにおける光線の屈折は、回
折格子における回折の式がそのまま成り立つので、下式
(4)が成り立つ。
(J.Opt.Soc.Am.Vol69,No3,M
arch1979) に示されており、以下にその要約
を示す。光線の入射角をθ、光線の出射角をθ’とする
と、フレネルゾーンプレートにおける光線の屈折は、回
折格子における回折の式がそのまま成り立つので、下式
(4)が成り立つ。
【0022】
sinθ−sinθ’=mλ/p
・・・・・・・(4)ただし、m
は回折の次数、λは光線の波長、pはフレネルピッチで
ある。
・・・・・・・(4)ただし、m
は回折の次数、λは光線の波長、pはフレネルピッチで
ある。
【0023】一方、屈折光学系の屈折率をn、光線が通
過する部分の厚さをt、また、光軸からの距離をsとす
る時、n→∞、t→0であれば、スネルの式から下式(
5)を導ける。
過する部分の厚さをt、また、光軸からの距離をsとす
る時、n→∞、t→0であれば、スネルの式から下式(
5)を導ける。
【0024】
sinθ−sinθ’→(n−1)dt/ds
・・・・・・・(5)以上の2つの式(4)、
(5)を見比べると、屈折率nが充分大きい場合には、 mλ/p≒(n−1)dt/ds
・・・・・・・(6)が成り立つ
ことがわかり、この式(6)を使ってフレネルゾーンプ
レートは屈折光学系への置き換えができるのである。
・・・・・・・(5)以上の2つの式(4)、
(5)を見比べると、屈折率nが充分大きい場合には、 mλ/p≒(n−1)dt/ds
・・・・・・・(6)が成り立つ
ことがわかり、この式(6)を使ってフレネルゾーンプ
レートは屈折光学系への置き換えができるのである。
【0025】次に、フレネルゾーンプレートをこのよう
な屈折光学系へ置き換えた場合の、屈折率の波長分散を
求める。式(6)をλで微分して、 m/p=(dt/ds)(∂n/∂λ)
=mλ/{(n−1)p}・(∂n/∂
λ) ∴ Δn={(n−1)/λ}Δλ (た
だし、m=1とした)・・(7)本実施例では、フレネ
ルゾーンプレートに置き換えを行うため、仮想硝材の中
心波長248.38nmにおける屈折率を10001と
置き、その他の波長については、式(7)を用い計算し
て表−2に示した数値を求めた。 したがって、本実施例は、第7面、第8面がフレネルゾ
ーンプレート15の基板に相当し、第9面がフレネルゾ
ーンプレートに相当する。しかも、その働きは波長分散
特性まで含めて等価である。
な屈折光学系へ置き換えた場合の、屈折率の波長分散を
求める。式(6)をλで微分して、 m/p=(dt/ds)(∂n/∂λ)
=mλ/{(n−1)p}・(∂n/∂
λ) ∴ Δn={(n−1)/λ}Δλ (た
だし、m=1とした)・・(7)本実施例では、フレネ
ルゾーンプレートに置き換えを行うため、仮想硝材の中
心波長248.38nmにおける屈折率を10001と
置き、その他の波長については、式(7)を用い計算し
て表−2に示した数値を求めた。 したがって、本実施例は、第7面、第8面がフレネルゾ
ーンプレート15の基板に相当し、第9面がフレネルゾ
ーンプレートに相当する。しかも、その働きは波長分散
特性まで含めて等価である。
【0026】ところで、合成石英に限らず光学材料は、
多かれ少なかれ波長が短くなるに従ってその屈折率が増
加するが、この仮想硝材の屈折率は逆に減少する。すな
わち、光学材料とは符号が逆の波長分散を有している。 したがって、一般の屈折光学系との組み合せにおいて、
フレネルゾーンプレートは絶大な色補正効果を発揮し得
る。
多かれ少なかれ波長が短くなるに従ってその屈折率が増
加するが、この仮想硝材の屈折率は逆に減少する。すな
わち、光学材料とは符号が逆の波長分散を有している。 したがって、一般の屈折光学系との組み合せにおいて、
フレネルゾーンプレートは絶大な色補正効果を発揮し得
る。
【0027】通常、透過率の問題から、光学材料として
全て合成石英を用いているこの種のステッパ用レンズは
、色収差の補正がされていないので、そのため、光源に
特殊な工夫を施し、波長幅を±0.01nm以下に狭帯
域化する必要がある。しかし、本実施例に示した縮小投
影レンズ11にはフレネルゾーンプレート15が内蔵さ
れており、この働きで図4に示す通り色収差が十分に補
正され、上述のように波長幅が0.35nmの光であっ
ても、ウエハ13上に良好なレチクル12のパターン像
を投影することができる。
全て合成石英を用いているこの種のステッパ用レンズは
、色収差の補正がされていないので、そのため、光源に
特殊な工夫を施し、波長幅を±0.01nm以下に狭帯
域化する必要がある。しかし、本実施例に示した縮小投
影レンズ11にはフレネルゾーンプレート15が内蔵さ
れており、この働きで図4に示す通り色収差が十分に補
正され、上述のように波長幅が0.35nmの光であっ
ても、ウエハ13上に良好なレチクル12のパターン像
を投影することができる。
【0028】次に、そのフレネルゾーンプレート15の
ピッチを表−3に示す。これは、以下のようにして求め
ている。すなわち、式(3)から、 dZ/ds=1.567779×10−6×sまた、明
らかにdZ=dtなので、 dt/ds=dZ/ds=1.567779×10−6
×sこれを式(6)に代入して、 p=m×λ/{(n−1)dt/ds} =
m×(0.24838μm) /{(10001−1)
×1.567779×10−6s} p=m×
15.84279(mm・μm)/s(mm)
・・・・(8)この式(8)を用いてピッ
チを計算することができる。
ピッチを表−3に示す。これは、以下のようにして求め
ている。すなわち、式(3)から、 dZ/ds=1.567779×10−6×sまた、明
らかにdZ=dtなので、 dt/ds=dZ/ds=1.567779×10−6
×sこれを式(6)に代入して、 p=m×λ/{(n−1)dt/ds} =
m×(0.24838μm) /{(10001−1)
×1.567779×10−6s} p=m×
15.84279(mm・μm)/s(mm)
・・・・(8)この式(8)を用いてピッ
チを計算することができる。
【0029】従来は、フレネルゾーンプレート全面にわ
たり同一次数の回折光を利用するように設計を行ってお
り、その次数は回折効率が良好な1次ないし2次の低次
回折光を利用していた。本実施例の場合にも、仮に本発
明によらず、フレネルゾーンプレト15全面を2次の回
折光を利用するよう設計したとすると、フレネルゾーン
プレート15最周辺すなわちs=8.75mmでは、式
(8)より、フレネルピッチが3.62μmと製作が困
難な微細なピッチとなる。
たり同一次数の回折光を利用するように設計を行ってお
り、その次数は回折効率が良好な1次ないし2次の低次
回折光を利用していた。本実施例の場合にも、仮に本発
明によらず、フレネルゾーンプレト15全面を2次の回
折光を利用するよう設計したとすると、フレネルゾーン
プレート15最周辺すなわちs=8.75mmでは、式
(8)より、フレネルピッチが3.62μmと製作が困
難な微細なピッチとなる。
【0030】しかし、本発明によりこの問題を克服する
ことができる。照明装置10は、レチクル12をNA0
.035で照明している。レチクル12で回折せずに透
過した光(0次回折光)は、全てフレネルゾーンプレー
ト15の中央部φ8.8mm(s=4.4mm)の円形
領域内を透過する。この実施例では、フレネルゾーンプ
レートの中央部φ9mm(s=4.5mm)をゾーンC
、その外周部をゾーンPとした。そして、表−3に示す
ように、ゾーンCはm=2、ゾーンPはm=4の次数の
回折光を利用するよう設計してあるので、何れも最小ピ
ッチは約7μmと、製作があまり困難でない細かさにす
ることができた。ゾーンPの次数は、(ゾーンCの次数
)×(ゾーンPの外径)/(ゾーンCの外径)で求めた
数値に近い整数値とするのがよい。これにより、むやみ
にゾーンPの次数を高くし回折効率を落とすことなく、
また、次数が低すぎて製作できないようなピッチになる
こもなく、すなわち、回折効率と製作性とのバランスが
よくとれる。
ことができる。照明装置10は、レチクル12をNA0
.035で照明している。レチクル12で回折せずに透
過した光(0次回折光)は、全てフレネルゾーンプレー
ト15の中央部φ8.8mm(s=4.4mm)の円形
領域内を透過する。この実施例では、フレネルゾーンプ
レートの中央部φ9mm(s=4.5mm)をゾーンC
、その外周部をゾーンPとした。そして、表−3に示す
ように、ゾーンCはm=2、ゾーンPはm=4の次数の
回折光を利用するよう設計してあるので、何れも最小ピ
ッチは約7μmと、製作があまり困難でない細かさにす
ることができた。ゾーンPの次数は、(ゾーンCの次数
)×(ゾーンPの外径)/(ゾーンCの外径)で求めた
数値に近い整数値とするのがよい。これにより、むやみ
にゾーンPの次数を高くし回折効率を落とすことなく、
また、次数が低すぎて製作できないようなピッチになる
こもなく、すなわち、回折効率と製作性とのバランスが
よくとれる。
【0031】なお、フレネルゾーンプレート15に刻ま
れる回折格子パターンは、それぞれの次数の光が効率よ
く透過するようにブレージングしてある。すなわち、図
3のフレネルゾーンプレート15の拡大部に示すように
、断面形状は鋸歯状で、山に対する谷の深さは次式を満
足している。 mλ/(n−1) ここで、nはフレネルゾーンプレート15の基板の屈折
率であり、本実施例では合成石英であるから、n=1.
508338である。
れる回折格子パターンは、それぞれの次数の光が効率よ
く透過するようにブレージングしてある。すなわち、図
3のフレネルゾーンプレート15の拡大部に示すように
、断面形状は鋸歯状で、山に対する谷の深さは次式を満
足している。 mλ/(n−1) ここで、nはフレネルゾーンプレート15の基板の屈折
率であり、本実施例では合成石英であるから、n=1.
508338である。
【0032】
【0033】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
従来、製作上並びに設計上の大きな問題となっていたフ
レネルゾーンプレート周辺部のピッチ微細化を、像コン
トラストを事実上劣化させることなく改善できる。これ
により、フレネルゾーンプレートの設計の自由度が増し
、フレネルゾーンプレートを用いたより高性能なレンズ
の設計と製作が可能になる。
従来、製作上並びに設計上の大きな問題となっていたフ
レネルゾーンプレート周辺部のピッチ微細化を、像コン
トラストを事実上劣化させることなく改善できる。これ
により、フレネルゾーンプレートの設計の自由度が増し
、フレネルゾーンプレートを用いたより高性能なレンズ
の設計と製作が可能になる。
【図1】本発明によるフレネルゾーンプレートの構成と
作用を説明するための図である。
作用を説明するための図である。
【図2】本発明によるフレネルゾーンプレートを用いた
光学系の1実施例の断面図である。
光学系の1実施例の断面図である。
【図3】図2の部分拡大図である。
【図4】図2の光学系中の縮小投影レンズの収差図であ
る。
る。
1…物体
2…発散角の比較的小さい光束部分
3…光束2の外側の比較的発散角の大きい光束部分4…
投影レンズ 5、15…フレネルゾーンプレート 7…フレネルパターン面 8…絞り 9…像面 10…照明装置 11…縮小投影レンズ 12…レチクル 13…ウエハ 14…明るさ絞り
投影レンズ 5、15…フレネルゾーンプレート 7…フレネルパターン面 8…絞り 9…像面 10…照明装置 11…縮小投影レンズ 12…レチクル 13…ウエハ 14…明るさ絞り
Claims (1)
- 【請求項1】 フレネルゾーンプレートを有し、該フ
レネルゾーンプレートは、光軸を中心として、光軸周辺
領域に比べてその外側の領域がより高次の回折を用いて
所望の屈折力を得るように、光軸周辺領域及びその外側
の領域のフレネルピッチもしくはフレネルピッチとブレ
ージィング角が設定されていることを特徴とするフレネ
ルゾーンプレートを用いた光学系。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3137897A JPH04361201A (ja) | 1991-06-10 | 1991-06-10 | フレネルゾーンプレートを用いた光学系 |
US07/896,450 US5627679A (en) | 1991-06-10 | 1992-06-10 | Optical systems making use of phase type fresnel zone plates |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3137897A JPH04361201A (ja) | 1991-06-10 | 1991-06-10 | フレネルゾーンプレートを用いた光学系 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04361201A true JPH04361201A (ja) | 1992-12-14 |
Family
ID=15209233
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3137897A Withdrawn JPH04361201A (ja) | 1991-06-10 | 1991-06-10 | フレネルゾーンプレートを用いた光学系 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5627679A (ja) |
JP (1) | JPH04361201A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5623473A (en) * | 1994-06-30 | 1997-04-22 | Nikon Corporation | Method and apparatus for manufacturing a diffraction grating zone plate |
US5631779A (en) * | 1993-05-24 | 1997-05-20 | Olympus Optical Co., Ltd. | Objective lens system |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6839174B1 (en) * | 1997-03-03 | 2005-01-04 | Olympus Corporation | Relief type diffraction optical element, optical system comprising the same and mold for manufacturing the same |
US5980454A (en) * | 1997-12-01 | 1999-11-09 | Endonetics, Inc. | Endoscopic imaging system employing diffractive optical elements |
DE10130212A1 (de) * | 2001-06-22 | 2003-01-02 | Zeiss Carl Jena Gmbh | Objektiv |
US8583100B2 (en) | 2007-01-25 | 2013-11-12 | Adc Telecommunications, Inc. | Distributed remote base station system |
US8737454B2 (en) | 2007-01-25 | 2014-05-27 | Adc Telecommunications, Inc. | Modular wireless communications platform |
DE102007014640B4 (de) * | 2007-03-23 | 2015-04-02 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Mikroskopobjektiv |
WO2011137907A1 (en) | 2010-05-04 | 2011-11-10 | Danmarks Tekniske Universitet | Up -conversion of electromagnetic radiation within a wavelength range |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2129157B (en) * | 1982-10-27 | 1986-02-05 | Pilkington Perkin Elmer Ltd | Bifocal contact lenses having defractive power |
JP2508018B2 (ja) * | 1986-09-29 | 1996-06-19 | 株式会社島津製作所 | フレネルゾ−ンプレ−ト |
US4936665A (en) * | 1987-10-25 | 1990-06-26 | Whitney Theodore R | High resolution imagery systems and methods |
AU622420B2 (en) * | 1988-07-20 | 1992-04-09 | Allen L. Cohen | Multifocal optical device |
US5161057A (en) * | 1988-09-12 | 1992-11-03 | Johnson Kenneth C | Dispersion-compensated fresnel lens |
GB8829819D0 (en) * | 1988-12-21 | 1989-02-15 | Freeman Michael H | Lenses and mirrors |
JPH0315003A (ja) * | 1989-03-16 | 1991-01-23 | Omron Corp | グレーティング・レンズおよび集光グレーティング・カプラ |
JPH06105323B2 (ja) * | 1989-03-31 | 1994-12-21 | 工業技術院長 | 光走査用回折格子 |
US5121980A (en) * | 1989-04-19 | 1992-06-16 | Cohen Allen L | Small aperture multifocal |
US5120120A (en) * | 1990-07-27 | 1992-06-09 | Cohen Allen L | Multifocal optical device with spurious order suppression and method for manufacture of same |
US5229797A (en) * | 1990-08-08 | 1993-07-20 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Multifocal diffractive ophthalmic lenses |
US5151823A (en) * | 1991-09-23 | 1992-09-29 | Hughes Aircraft Company | Biocular eyepiece optical system employing refractive and diffractive optical elements |
JPH0757993A (ja) * | 1993-08-13 | 1995-03-03 | Nikon Corp | 投影露光装置 |
-
1991
- 1991-06-10 JP JP3137897A patent/JPH04361201A/ja not_active Withdrawn
-
1992
- 1992-06-10 US US07/896,450 patent/US5627679A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5631779A (en) * | 1993-05-24 | 1997-05-20 | Olympus Optical Co., Ltd. | Objective lens system |
US5623473A (en) * | 1994-06-30 | 1997-04-22 | Nikon Corporation | Method and apparatus for manufacturing a diffraction grating zone plate |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5627679A (en) | 1997-05-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5689377A (en) | Catadioptric optical system and exposure apparatus having the same | |
US6285443B1 (en) | Illuminating arrangement for a projection microlithographic apparatus | |
US5555479A (en) | Reduction projection lens system including refractive and diffractive optical elements | |
US5623365A (en) | Diffractive optical element for use within a projection lens system | |
JPH103039A (ja) | 反射屈折光学系 | |
JP3608580B2 (ja) | 照明光学装置、露光装置、露光方法、及びフライアイレンズ | |
KR20020014984A (ko) | 노광 장치, 노광 장치의 제조 방법, 노광 방법 및마이크로 장치의 제조 방법 | |
JPH08304705A (ja) | 反射屈折光学系 | |
TW487961B (en) | Projection exposure apparatus and method for manufacturing devices using the same | |
WO2004008507A1 (ja) | オプティカルインテグレータ、照明光学装置、露光装置および露光方法 | |
JPH04361201A (ja) | フレネルゾーンプレートを用いた光学系 | |
JPH1090596A (ja) | グレーティング素子付光学系およびこれを用いた撮像装置 | |
US4878745A (en) | Optical system for effecting increased irradiance in peripheral area of object | |
US5754340A (en) | Projection optical system and projection exposure apparatus using the same | |
JP2586703B2 (ja) | 光学レンズ | |
JPH0684759A (ja) | 照明装置 | |
JP3860261B2 (ja) | 両面が回折面からなる回折型光学素子 | |
JP2001330964A (ja) | 露光装置および該露光装置を用いたマイクロデバイス製造方法 | |
JPH08220482A (ja) | 回折光学素子を含む光学系 | |
US20030227684A1 (en) | Diffractive optical element, refractive optical element, illuminating optical apparatus, exposure apparatus and exposure method | |
JP2000150374A (ja) | 投影露光装置及び方法、並びに素子製造方法 | |
JPS5890610A (ja) | カタデイオプトリツク光学系 | |
JPH0878319A (ja) | 投影露光装置 | |
JPH0774085A (ja) | 投影露光装置の照明系 | |
JPH07201697A (ja) | 露光装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19980903 |