JPH0435811A

JPH0435811A - 放電加工装置

Info

Publication number: JPH0435811A
Application number: JP2138323A
Authority: JP
Inventors: Takuji Magara; 卓司真柄
Original assignee: Mitsubishi Electric Corp
Current assignee: Mitsubishi Electric Corp
Priority date: 1990-05-30
Filing date: 1990-05-30
Publication date: 1992-02-06
Anticipated expiration: 2012-07-16
Also published as: DE4117620A1; JP2630666B2; US5118915A; DE4117620C2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］本発明は、極間に供給するパルス状電圧の立ち上がり時
間により加工間隙又は加工面積を計算し、この計算結果
に基づいて加工の安定化・最適化を行なうようにした放
電加工装置に関するものである。

［従来の技術］第１１図は金属または半金属の粉末物質を加工液に混入
する方式の従来の放電加工装置の構成を示す図である。

図において、（１）は電極、（２）は加工槽、（３）は
被加工物、（４）は加工液、（５）は極間の電圧を平滑
する平滑回路、（６）は数値制御装置、（７）は数値制
御装置（６）の指令に基づいてアクチュエータを駆動す
るサーボアンプ、（６）はサーボアンプ（７）により駆
動されるモーター　（９）は電極（１）を固定し、モー
ター（６）によりＺ軸方向に駆動されるスライダー　（
１０）は加工電源である。

この種の放電加工装置において、加工液中にある種の物
質を粒径が約１０〜４０−程度の粉末で、混入濃度がほ
ぼ２０ｇ／ＩＩ混入させることにより、放電の安定度を
向上させたり、混入物質によっては電極および被加工物
表面の機械的特性、例えば耐食性や耐摩耗性等を向上さ
せることが知られている。すなわち、いわゆる金属の除
去加工以外に、放電加工によって金属の表面処理を行う
ことも可能である。この種の粉末物質には例えばシリコ
ン、ジルコニウム、タンタル、タングステンカーバイド
、硼化ジルコニウム等の単独もしくは複合物のような半
金属が使用される。加工液中に上記のような物質を粉末
状態にして混入することにより、被加工物の表面層を形
成させる技術は周知であり、この技術は放電加工の応用
範囲を飛躍的に拡大させるものである。

次に、第１１図の従来装置の動作について説明する。

電極（１）は加工槽（２）に置かれた被加工物（３）と
粉末物質を混入した加工液（４）を極間Ｇを介して対向
している。加工型ｉ１ｇ　（１０）は直流電源Ｅと加工
電流の断続を行なうためのスイッチング素子ＳＷと、電
流制限抵抗Ｒと、上記スイッチング素子ＳＷの断続を制
御するための発振器Ｏ８Ｃとで構成され、断続電流Ｉを
電極（１）と被加工物（３）の間に供給する。断続電流
Ｉは、１−　（Ｅ−Ｖｇ　）　／Ｒの式で表わされ、アーク放電中は、極間電圧Ｖｇは２０
〜３０Ｖ、短絡時は０■、無放電中はＥとなり、スイッ
チング素子ＳＷがＯＦＦ状態のとき極間電圧ＶｇはＯＶ
となる。よって、このＶｇを検出して平滑回路（５）に
よって平滑化すれば、この平滑化された電圧（以下平滑
電圧という）に基づいて加工間隙制御を行なうことがで
きる。すなわち、加工間隙が広いときには放電が起こり
にくくなり、平滑電圧Ｖｓは高くなり、加工間隙が狭い
と短絡したり、容易に放電するため、平滑電圧Ｖｓは低
下する。従って、この電圧Ｖｓを基準電圧Ｖ「と比較し
、この差に基づいて数値制御装置（６）はサーボアンプ
（７）に軸移動指令を出力する。サーボアンプ（７）は
モーター（６）を駆動することによりスライダー（９）
および電極（１）の上下動を制御し、モーター（６）お
よびスライダー（９）で構成される電動サーボ機構は加
工間隙Ｇかほぼ一定になるように制御される。

ところで、金属等の粉末物質を混入しない方式の従来の
放電加工装置は、粉末物質が混入されていないという点
は相違するか、第１０図に示した構成と基本的には同一
であり、従ってその動作も基本的には同一である。

［発明が解決しようとする課題］このように従来の放電加工装置で、加工の状態の良否を
判別する最も一般的なのは、極間電圧Ｖｇを観ｉ１Ｊす
ることであって、これが低いときには極間インピーダン
スが低い場合であり、この状態は短絡、連続的アーク放
電、極間における加工粉、スラッジの滞留などが考えら
れる。

粉末物質を加工液に混入した場合には、混入しない場合
と比較して加工間隙が数倍に拡大するが、極間における
粉末の濃度・粒径によって加工間隙は大きく変化するこ
とが実験により確認されている。極間には電極・被加工
物間に形成されるコンデンサー容量が存在し、この極間
コンデンサー容量によって加工面あらさは大きく左右さ
れるが、粉末混入加工は加工間隙を拡大することによっ
て極間コンデンサー容量を低減し、加工面あらさの向上
を図るものである。

従って、例えば粉末物質が消耗したり、粉末物質が局部
的に沈澱してしまうなどによって粉末の濃度が低下した
場合、加工間隙の大幅な低下を招き、その結果極間コン
デンサー容量が増大して加工面あらさが劣化してしまう
という問題があった。

また、粉末物質を混入した場合においては加工間隙の低
下に伴って有害アーク放電発生の頻度が著しく増大する
傾向が強く、被加工物に多大な損傷を与えてしまうなど
の問題点があった。

また、粉末物質を加工液に混入しない場合においても、
放電加工において最も危険な異常アーク放電は、いった
ん発生すると加工液の熱分解によるカーボン発生のため
に、カーボンと被加工物との間の放電となり、極間イン
ピーダンスが高くなったような状態になるため、平滑電
圧による極間状態悪化の検出は不可能になってしまうと
いう問題点があった。

また、放電間隙長の制御も、上記平滑電圧を用いている
ため、極間スラッジ（加工粉）が多量に介在して２次放
電が多発し平滑電圧が低下し、実際の加工間隙は広いに
もかかわらず、あたかも加工間隙が狭いかのような状態
と同じ検出になってしまい、さらに加工間隙を広げるよ
うになってしまうという問題点があった。さらには、基
準電圧Ｖ「設定が一定で休止時間などを変化させた場合
、加工間隙も変化してしまうため、特に自動体止制御を
行なった際の間隙長が保証されず、加工精度に悪影響を
与えることもあった。

こうした従来のものの問題点を解決する方法として、特
公昭６１−５８２５２号公報や特公昭６１−５８２５４
号公報などのように、最進位置と現在位置の差より加工
間隙長を推定する方法が提案されているが、最進位置自
体が数十−程度の誤差を含むこと、および、アークによ
り局所的な突起が発生した場合測定精度が大幅に低下す
るなどの問題点があった。

また、特開昭５６−８２１２７号公報には加工間隙に高
周波電圧を印加してその電流変化に基づいて加工間隙長
を計測する方法が開示されているが、高周波電源を別途
用意しなければならず、また共振状態の変化を検出しな
がら加工間隙長を計測しているので十分な計測精度が得
られないという問題点があった。

また、従来の放電加工装置においては、加工面積に対し
て適正な加工電気条件、レシプロ運動条件などを設定し
ないと、放電集中による異常電極消耗、アークの発生な
どを招くため、加工開始前に電極面積（加工面積）を概
略計算し、電極面積に応して適正な条件を選択する必要
があった。さらに、実際の加工においては加工の進行に
伴って加工面積は変化するのが一般的であるため、加工
の進行に伴って加工条件を階段的に切り換えるようにあ
らかじめプログラミングを行なう必要があるが、このよ
うな条件切り換えを行なうようにしても、リブ形状・竹
槍形状電極での食いつき時（放電開始時）などのように
初期の加工面積が非常に小さく、加工進行に伴って急激
に面積が増加する場合や、電極形状が複雑で加工進行に
伴い加工面積変化の予測が困難な場合、加工条件切り換
えのプログラムもきわめて煩雑となり、また加工条件を
常に最適に保つという点において限界があった。このた
め、上記のような特殊形状電極での加工においては加工
速度・加工精度的にかな′り特性が悪化するなどの問題
点があった。

本発明は、上記のような従来のものの問題点を解決する
ためになされものであり、極間に供給するパルス状電圧
又は放電体止時間中に供給される検出用パルスの立ち上
がり時間により加工間隙又は加工面積を計算し、この計
算結果に基づいて加工の安定化・最適化を図るようにし
た放電加工装置を得ることを目的としている。

［課題を解決するための手段］本発明に係る放電加工装置（請求項１〜３記載）は、電
極と被加工物で形成され加工間隙にパルス状電圧を印加
して加工を行なう際、そのパルス状電極の立ち上がり時
間を計測する計測手段と、この計測手段による計測結果
に基づいて加工間隙又は加工面積を算出する演算手段を
設け、この計算結果に基づいて加工の安定化を図るよう
にしたものである。そして、加工間隙を算出する方式の
ものは、加工槽内の電極と被加工物で形成される加工間
隙に加工液タンクから金属または半金属の粉末物質を混
入した加工液を供給する方式及び供給しない方式の双方
に適用される。

また、本発明に係る放電加工装置（請求項４〜６記載）
は、電極と被加工物で形成される加工間隙にパルス状電
圧を印加して加工を行なう際、放電体止時間中に検出用
パルス電圧を供給する検出用電圧供給手段と、この検出
パルス電圧の立ち上がり時間を計測する計測手段と、計
測手段による計測結果に基づいて加工間隙又は加工面積
を求める演算手段を設け、この計算結果に基づいて加工
の安定化を図るようにしたものである。そして、加工間
隙を算出する方式のものは、加工槽内の電極と被加工物
で形成される加工間隙に加工液タンクから金属または半
金属の粉末物質を混入した加工液を供給する方式及び供
給しない方式の双方に適用される。

［作用コ本発明に係る放電加工装置は、パルス状電圧又は検出用
パルスの立ち上がり時間を計測することにより加工間隙
又は加工面積を計算し、この加工間隙又は加工面積に基
づいて、加工電気条件、加工液条件、レシプロ運動条件
などを変更制御し、加工の安定化・最的化を図る。

また、上記の粉末物質を加工液に混入する方式の放電加
工装置においては、加工間隙に基づいて粉末物質の追加
・更新、あるいは粉末物質の撹拌動作などを制御し、加
工の安定化を図る。

［実施例］以下、本発明の実施例を図に基づいて説明する。

第１図は本発明の一実施例に係る放電加工装置の構成図
である。図において、＜１）は電極、（２）は加工槽、
（３）は被加工物、（４）は粉末混入加工液、（５）は
平滑回路、（６）は数値制御装置、（７）はサーボアン
プ、（６）はモーター　（９）はスライダー（１０）は
加工電源、（１１）は加工パルス電圧の立ち上がり時間
を計測する計測回路、（Ｉ２）は計測回路（１１）によ
る計測結果から加工間隙を求める演算手段、（３０）は
加工液タンク、（３１）、　（３２）は撹拌装置、（３
３）は粉末補充装置、（３４）は粉末除去用フィルター
である。

第２図は計測回路（１１）の詳細を示す回路図である。

図において、Ｏａ）、（１４）は基準電圧設定器、（１
５）、（１６）は電圧立ち上がり時の電圧を基準電圧と
比較するコンパレータ、（１７）は基準カウントパルス
発生器、（１６）はＡＮＤ回路、（１９）はＮＡＮＤＡ
ＮＤ回路０）は電圧立ち上がり時間をカウントするカウ
ンター　（２１）はカウンター（２０）の出力を保持す
るラッチ回路である。

次に、本実施例の動作を説明する。

従来の放電加工装置と同様に、電極（１）と被加工物間
には加工電源（１０）より加工電流が供給されて加工が
行なわれる。加工中、極間電圧Ｖｇは平滑回路（５）に
よって平滑化され、この平滑電圧Ｖｓと基準電圧Ｖ「と
を比較することにより、数値制御装置（６）はサーボア
ンプ（７）に軸移動指令を出力してスライダー（９）お
よび電極（１）の上下動の制御がなされる。このような
極間サーボと同時に、計測回路（１１）は極間電圧パル
スの立ち上かり時間の測定を行なう。

第２図の計測回路（１１）において、基準電圧設定器（
１３）は、電圧パルス立ち上がり時における低電圧レベ
ルＶｒｌをコンパレータ（１５）に出力し、同様に基準
電圧設定器（１４）は高電圧レベルＶｒ２をコンパレー
タ（１６）に出力している。コンパレータ（１５）。

（ＩＢ）はこれらの基準電圧Ｖ　ｒｌ、　Ｖ　ｒ２と極
間電圧とを比較し、極間電圧がＶ　ｒｌ、　Ｖ　ｒ２よ
り高いときに出力がｒＨＪとなる。そして、コンパレー
タ（１５）（１６）の出力はＡＮＤ回路（１６）に送ら
れる。

第３図は計測回路（１１）の動作を示すタイミングチャ
ートであり、ＡＮＤ回路（１６）の出力（ａ）は同図に
示すように極間電圧がＶｒｌからＶｒ２まで立ち上がる
時間ｔ　ｒｌ、　　ｔ　ｒｌ、　　ｔ　ｒ３に相当した
幅をもったパルスを出力する。

ＡＮＤ回路（１６）の出力（ａ）は基準カウントパルス
発生器（１７）の出力とともにＮＡＮＤＡＮＤ回路）に
送られ、パルス列出力（ｂ）を出力する。カウンター　
（２０）はこのパルス列（ｂ）をカウントし、立ち上が
り時間に相当する出力をラッチ回路（２１）に出力する
。ラッチ回路（２１）は出力（ａ）の立ち下がりのタイ
ミングで立ち上がり時間ｔ　ｒｌ、　　ｔ　ｒ２．　　
ｔ　ｒ３に対応した出力値Ｅ、Ｅ、Ｅ３の信号（ｃ）を
出力し、次の電圧印加時間まで保持する。なお、この信
号（Ｃ）はディジタル量であるが説明の便宜上図におい
てはアナログ量として図示しである。

従来例でも述べたように、加工状態が悪化し、短絡・連
続的アーク放電が発生している際には、平滑電圧Ｖｓは
必ずしも加工間隙（極間距離）に対応しておらず、この
平滑電圧による極間状態悪化の検出は不可能となる。

一方、加工間隙は極間（電極−被加工物間距離）に形成
される静電容量を測定することにより求めることかでき
る。すなわち、電極・被加工物の面積をＳ、加工間隙を
Ｇ、加工液の誘電率をεとすると、極間に形成される静
電容量Ｃは、Ｃ−ε・　（Ｓ／Ｇ）　　　　　　　　　
　・・・（１）となるから、今、電極面積Ｓは既知であ
るとすると、加工中なんらかの方法で静電容量Ｃまたは
それに相当するものを計測することにより加工間隙Ｇを
求めることができる。

一方、極間すなわち加工間隙に形成される静電容量Ｃと
ラッチ回路（２１）に出力された電圧の立ち上がり時間
ｔ　ｒ　　（ｔ　ｒＬ　　ｔ　ｒ２・・・）との間には
、Ｖ　ｒｌ　−Ｅ　・（１−ｅ　−”ＲＣ）　　　　　
−（２）Ｖ　ｒ２−　Ｅ　・（１−ｅ　−ｔ２／ＲＣ）
　　　　　−（３）ｔｒ−’ｔ２−ｔｌ　　　　　　　
　　　　・・・（４）の関係がある。ここで、Ｒは加工
電源の抵抗値、Ｅは電源電圧、ｔｌは電圧印加からＶｒ
ｌまての立ち上がり時間、ｔ２は電圧印加からＶｒ２ま
での立ち上がり時間である。従って、（２）〜（３）式
を解くことにより、電圧立ち上がり時間ｔｒから静電容
量Ｃを求めることかできる。

第４図は電圧立ち上がり時間ｔ「の計測値をもとに、（
１）式から静電容量Ｃを計算した結果を示したものであ
る。図より、加工間隙の変化に伴って極間の静電容量Ｃ
は変化するか（加工間隙距離に逆比例する）、立ち上が
り時間ｔ「による計算値は、静電容量Ｃの測定値とほぼ
一致しており、立ち上がり時間ｔ「が極間の静電容量に
対応して変化していることがわかる。

また、第５図は、加工間隙距離に対する電圧立ち上がり
時間ｔ「の計測値を示したものである。

さきに述べたように、加工間隙の変化に伴い、静電容量
Ｃが変化するため、電圧立ち上がり時間ｔｒも大幅に変
化することがわかる。このようにして電圧立ち上がり時
間ｔｒを計測することにより、加工間隙距離を求めるこ
とができる。すなわち、計測回路（１１）の計測結果は
、演算手段（１２）により、一定時間間隔で読み取られ
、前記の（２）、（３）式により、電圧立ち上がり時間
ｔｒから静電容量Ｃが計算される。ついで、あらかじめ
与えられていた電極面積情報をもとに（１）式より（Ｇ
−ε（Ｓ／Ｃ）　）加工間隙距離を求める。このように
して演算手段（１２）により求められた加工間隙距離は
、数値制御装置（６）に送られ、数値制御装置（６）は
その加工間隙距離に基づいて加工電気条件、加工液条件
、レシプロ運動条件などを変更制御し、加工の安定化・
最適化を図るとともに、表示装置（デイスプレィ）に加
工間隙、加工状態等の表示を行なう。

例えば、加工間隙が大きくなった際には、加工がアーク
状態となっていることを意味するため、制御装置（６）
は加工電源（１０）を制御して休止時間をのばすととも
にレシプロ運動の頻度を増やすなどの操作を行なう。さ
らに、加工間隙が異常に小さくなった場合、撹拌装置ｆ
　（３１）、（３２）を作動させて加工槽（１）、加工
液タンク（３０）内の加工液の粉末濃度の均一化を図る
。こうした撹拌動作を行なっても加工間隙が拡大しない
場合は、粉末除去用フィルター（３４）を作動させて粉
末物質を除去するとともに粉末補充装置（３３）によっ
て新たな粉末物質を補充する。

なお、上記の実施例によれば、計測回路（１１）によっ
て電圧ＶｒｌからＶｒ２までの立ち上がり時間を計測す
る例を示したが、極間電圧印加開始時から電圧がＶｒ２
に達するまでの時間により、立ち上かり時間ｔｒを計測
するよう、コンパレータ（１５）。

（１６）を１つにした構成としてもよい。

第６図は上記のようにコンパレータを１つにした場合の
計測回路（１１）の回路図であり、加工電源（１０）の
発振器Ｏ８Ｃの発振パルスがアンド回路（１６）に入力
している。第２図の実施例との関連ではＶｒｌ＝０と設
定した場合に相当する。

次に本発明の他の実施例を図に基づいて説明する。第７
図は本発明の他の実施例に係る放電加工装置の構成図で
ある。図において、第１図と同一符号のものは同−又は
相当部を示すものとする。

この実施例においては、放電体止時間中に検出用パルス
電圧を供給する検出用電圧供給回路（２２）が第１図の
装置に付加されている。

次に、本実施例の動作を説明する。

第１図の実施例と同様に、電極（１）と被加工物間には
加工電源（１０）より加工電流が供給されて加工が行な
われる。加工中、極間電圧Ｖｇは平滑回路（５）によっ
て平滑化され、この平滑電圧Ｖｓと基準電圧Ｖ「とを比
較することにより、数値制御装置（６）はサーボアンプ
（７）に軸移動指令を出力してスライダー（９）および
電極（１）の上下動の制御がなされる。検出用電圧供給
回路（２２）は第８図に示すように放電体止時間中に電
圧２０〜４０ｖ、パルス幅１〜数μｓ程度の低電圧パル
ス電圧を極間に供給し、同時に計測回路（１１）はその
検出パルス電圧の立ち上がり時間の測定を行なう。すな
わち、第２図において、基準電圧設定器（１３）は、検
出パルス立ち上がり時における低電圧レベルＶｒｌをコ
ンパレータ（１５）に出力し、同様に基準電圧設定器（
１４）は高電圧レベルＶｒ２をコンパレータ（１６）に
出力している。

コンパレータ（１５）　、　（１Ｂ）はこれらの基準電
圧ＶｒＬ、Ｖｒ２と極間における横比電圧とを比較し、
極間電圧がＶ　ｒｌ、　Ｖ　ｒ２より高いときに出力が
ｒＨＪとなる。そして、コンパレータ（１５）、　　（
１，６）の出力はＡＮＤ回路（１６）に送られ、その出
力は第１図の実施例の場合と同様に処理され、ラッチ回
路（２Ｉ）は検出パルス電圧かＶｒｌからＶｒ２まで立
ち上がる時間に相当した値の出力を次の電圧印加時間ま
で保持した信号（ｅ）を出力する。

第１図の実施例における（１）〜（４）式の関係はこの
実施例においてもそのまま適用され、検出パルス電圧立
ち上かり時間ｔｒから静電容量Ｃを求めることかできる
。従って、第４図の電圧立ち上かり時間ｔｒ静電容量Ｃ
との関係もそのまま適用される。更にまた、第５図の加
工間隙距離に対する電圧立ち上かり時間ｔｒの計測値の
関係もそのまま適用され、加工間隙距離の変化に伴って
静電容量Ｃか変化するため、電圧立ち上がり時間ｔｒも
大幅に変化する。

このようにして電圧立ち上かり時間ｔｒを計測すること
により、以下第１図の実施例と同様に、加工間隙距離を
計算しこの加工間隙距離の変化に基づいた制御かなされ
る。

ところで、上述の実施例はいずも粉末物質を加工液中に
混入した場合の例であるか、粉末物質を混入しない放電
加工装置にも同様に適用できる。

その場合には、粉末物質の処理を除いて、第１図の実施
例の場合と同様に制御される。

また、上述の実施例はいずれも加工間隙距離に基づいて
加工条件等を変更した場合の例であるか、粉末物質を混
入しない方式の放電加工装置においては加工状態が正常
であり、かつ電気条件か一定であれば加工間隙も一定に
なるので、このような場合には前記（１）式により加工
面積を演算することにより加工条件等を変更するように
してもよい。

その場合には、第１図又は第６図の演算手段（１２）に
より計測回路（１１）の計測結果か一定の時間間隔で読
取られ、そして、前記の（２）　、　（３）式により、
電圧立ち上かり時間ｔ「から静電容量Ｃか計算される（
第４図参照）。ついで、電気条件および極間の平滑電圧
Ｖｓにより加工間隙は既知であり、（１）式により（Ｓ
−Ｇ　−Ｃ／ε）加工面積Ｓの計算がなされる。

第９図は加工面積に対する電圧立ち上がり時間ｔｒの計
測値を示したものであり、加工面積の変化に伴って電圧
立ち上がり時間ｔｒも大幅に変化していることが分かる
。

このようにして演算手段（１２）により求められた加工
面積は、数値制御装置（６）に送られ、数値制御袋ａｔ
　（６）はその加工面積情報に基づいて加工電気条件、
加工液条件、レシプロ運動条件などを変更制御し、加工
の安定化・最適化を図るとともに、表示装置（デイスプ
レィ）に加工面積、加工状態の表示を行なう。

第１０図はリブ電極における加工面積の変化を示したも
のであり、この加工面積の変化に応じて休止時間の制御
が行なわれている。制御パラメータとしてはこの他に電
流ピーク値やレシプロ運動条件、加工液条件、加工サー
ボゲインなどを制御することもできる。

なお、上述の実施例においては加工間隙又は加工面積を
求める際に演算式（（１）式）により求める例を示した
が、電圧の立ち上かり時間ｔｒと加工間隙又は加工面積
との関係を予めテーブル化しておいて、電圧の立ち上か
り時間ｔｒに基づいて加工間隙又は加工面積を読み出す
ような演算処理をしでもよい。

［発明の効果］以上のように本発明によれば、パルス状電圧又は放電体
止時間中の検出パルスの立ち上がり時間を計測し、その
計測結果から加工間隙を求めることにより、加工電気条
件、加工液条件、レシプロ運動条件などを変更制御し、
さらには粉末物質を加工液中に混入する方式のものにお
いては粉末物質の追加・更新あるいは加工液の撹拌動作
などを制御することによって、加工の安定化・最適化を
図る構成としたため、アークなどの異常加工状態を的確
に検出・回避することができるとともに、大面積加工に
おいて従来不可能であった低面あらさ仕上げが可能にな
るなどの効果かある。さらに、加工中における加工間隙
を正確に把握できるため、特に深さ方向を正確に管理す
ることか可能となる。

また、本発明によれば、パルス状電圧又は放電体止時間
中の検出パルス電圧の立ち上がり時間を計測し、その計
測結果から加工面積を求めることにより、加工電気条件
、加工液条件、レシプロ運動条件などを変更制御し、加
工の安定化・最適化を図る構成としたため、アークなど
の異常加工や放電集中による異常電極消耗などを的確に
検出・回避することができ、その結果加工精度が大幅に
向上する効果がある。さらには、加工面積の変化に応じ
て最適な電流を供給できるため、特に被加工物が複雑な
形状な場合の加工においては加工速度が大幅に改善され
る効果かある。

【図面の簡単な説明】第１図は本発明の一実施例に係る放電加工装置の構成図
、第２図は本発明における計測回路の実施例を示す回路
図、第３図は計測回路の動作説明図、第４図は加工間隙
距離に対する極間静電容量を示した図、第５図は加工間
隙距離と電圧立ち上がり時間との関係を示す図、第６図
は本発明における計測回路の他の実施例を示す回路図、
第７図は本発明の他の実施例に係る放電加工装置の構成
図、第８図は検出パルス電圧の説明図、第９図は加工面
積と電圧立ち上がり時間との関係を示した図、第１０図
は本発明による最適化制御を行った例を示す図、第１１
図は従来の放電加工装置の構成図である。図において、（１）は電極、（２）は加工槽、（３）は
被加工物、（４〉は加工液、（５）は平滑回路、（６）
は数値制御装置、（７）はサーボアンプ、（６）はモー
ター　（９）・はスライダー　（１０）は加工電源、（
１１）は計測回路、り１２）は演算手段、（１３）　、
　（１４）は基準電圧設定器、（１５）、（１Ｂ）はコ
ンパレータ、（１７）は基準カウントパルス発生器、（
１６）はＡＮＤ回路、（１９）はＮＡＮＤＡＮＤ回路０
）はカウンター（２１）はラッチ回路、（３０）は加工
液タンク、（３１）。（３２）は撹拌装置、（３３）は粉末供給装置、（３４
）は粉末除去用フィルターである。なお、図中同一符号は同一または相当部分を示す。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）加工槽内の電極と被加工物で形成される加工間隙
にパルス状電圧を印加して被加工物の加工を行なう放電
加工装置において、該パルス状電圧の立ち上がり時間を
計測する計測手段と、該計測手段による計測結果及び予
め設定されている放電加工面積に基づいて加工間隙を求
める演算手段とを備えたことを特徴とする放電加工装置
。
（２）前記演算手段に代えて、計測手段による計測結果
及び予め設定されている加工間隙に基づいて加工面積を
求める演算手段を備えたことを特徴とする請求項１記載
の放電加工装置。
（３）加工槽内の電極と被加工物で形成される加工間隙
に加工液タンクから金属または半金属の粉末物質を混入
した加工液を供給しつつ、加工間隙にパルス状電圧を印
加して被加工物の加工を行なう放電加工装置に適用され
る請求項１記載の放電加工装置。
（４）電極と被加工物で形成される加工間隔にパルス状
電圧を印加しつつ加工を行なう放電加工装置において、
該パルス状電圧を印加しない休止時間中に検出用パルス
電圧を印加する検出用電圧供給手段と、該検出用パルス
電圧の立ち上がり時間を計測する計測手段と、該計測手
段による計測結果及び予め設定されている加工面積に基
づいて加工間隙を求める演算手段とを備えたことを特徴
とする放電加工装置。
（５）前記演算手段に代えて、計測手段による計測結果
及び予め設定されている加工間隙に基づいて放電加工面
積を求める演算手段を備えたことを特徴とする請求項４
記載の放電加工装置。
（６）加工槽内の電極と被加工物で形成される加工間隙
に加工液タンクから金属または半金属の粉末物質を混入
した加工液を供給しつつ、加工間隙にパルス状電圧を印
加して被加工物の加工を行なう放電加工装置に適用され
る請求項４記載の放電加工装置。