JPH04355706A - 半導体レーザモジュール - Google Patents
半導体レーザモジュールInfo
- Publication number
- JPH04355706A JPH04355706A JP3131033A JP13103391A JPH04355706A JP H04355706 A JPH04355706 A JP H04355706A JP 3131033 A JP3131033 A JP 3131033A JP 13103391 A JP13103391 A JP 13103391A JP H04355706 A JPH04355706 A JP H04355706A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor laser
- lens
- insulating plate
- laser module
- fixed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 49
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 13
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims abstract description 11
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 15
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 6
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 4
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 3
- UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N erbium Chemical compound [Er] UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910000833 kovar Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 229910003465 moissanite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/02—Structural details or components not essential to laser action
- H01S5/022—Mountings; Housings
- H01S5/0225—Out-coupling of light
- H01S5/02251—Out-coupling of light using optical fibres
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/02—Structural details or components not essential to laser action
- H01S5/024—Arrangements for thermal management
- H01S5/02407—Active cooling, e.g. the laser temperature is controlled by a thermo-electric cooler or water cooling
- H01S5/02415—Active cooling, e.g. the laser temperature is controlled by a thermo-electric cooler or water cooling by using a thermo-electric cooler [TEC], e.g. Peltier element
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/02—Structural details or components not essential to laser action
- H01S5/024—Arrangements for thermal management
- H01S5/02438—Characterized by cooling of elements other than the laser chip, e.g. an optical element being part of an external cavity or a collimating lens
Landscapes
- Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、光通信装置などに使
用する高出力半導体レーザ素子と光ファイバとの結合器
である高出力の半導体レーザモジュールに関するもので
ある。
用する高出力半導体レーザ素子と光ファイバとの結合器
である高出力の半導体レーザモジュールに関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】近年、光信号を直接増幅する光増幅器が
開発され特にエルビウム光ファイバを用いた光増幅器が
注目されている。この光増幅器はエルビウム元素のドー
プされた光ファイバに光波長1.48μm のレーザ光
を注入すると波長1.5μm 帯の減衰された信号光が
増幅されると言う原理である。その増幅度は注入する1
.48μm のレーザ光の出力の大きさによる。その光
出力はエルビウム光ファイバの性能にもよるが数十mW
から100mWで数十dBmの光ゲインが得られる。こ
のような光増幅器において、励起用の1.48μm レ
ーザ光源は非常に高出力が要求され、数百mAの駆動電
流を必要とするため発熱による光出力の低下や寿命の低
下を招くため、光ファイバと結合する半導体レーザモジ
ュールの構成の中で通常、電子冷却素子を使用し半導体
レーザ素子を冷却して使用している。
開発され特にエルビウム光ファイバを用いた光増幅器が
注目されている。この光増幅器はエルビウム元素のドー
プされた光ファイバに光波長1.48μm のレーザ光
を注入すると波長1.5μm 帯の減衰された信号光が
増幅されると言う原理である。その増幅度は注入する1
.48μm のレーザ光の出力の大きさによる。その光
出力はエルビウム光ファイバの性能にもよるが数十mW
から100mWで数十dBmの光ゲインが得られる。こ
のような光増幅器において、励起用の1.48μm レ
ーザ光源は非常に高出力が要求され、数百mAの駆動電
流を必要とするため発熱による光出力の低下や寿命の低
下を招くため、光ファイバと結合する半導体レーザモジ
ュールの構成の中で通常、電子冷却素子を使用し半導体
レーザ素子を冷却して使用している。
【0003】図2に従来例を示し、その構成及び動作原
理を説明する。1は半導体レーザ素子、2はヒートシン
クで半導体レーザ素子1を搭載しその放熱を行なうと共
に半導体レーザ素子1とほぼ同じ膨張係数を有する材料
(例えばダイヤモンド、SiC、シリコンなど)使用し
熱応力による故障を防止している。3はヘッダで半導体
レーザ素子1とヒートシンク2を搭載し半導体レーザ素
子1の電極取り出す端子を有している。4はモニタ用の
受光素子で半導体レーザ素子1の温度変化等による光出
力の変化を監視し、常に一定の光出力になるよう駆動回
路にフィードバックをかけている。5はレンズ(ここで
は、球レンズで示しているが屈折分布形等のレンズを用
いる場合もある)、6はコバールやステンレスで加工さ
れたレンズホルダでレンズ5を圧入や半田または低融点
ガラス固定している。
理を説明する。1は半導体レーザ素子、2はヒートシン
クで半導体レーザ素子1を搭載しその放熱を行なうと共
に半導体レーザ素子1とほぼ同じ膨張係数を有する材料
(例えばダイヤモンド、SiC、シリコンなど)使用し
熱応力による故障を防止している。3はヘッダで半導体
レーザ素子1とヒートシンク2を搭載し半導体レーザ素
子1の電極取り出す端子を有している。4はモニタ用の
受光素子で半導体レーザ素子1の温度変化等による光出
力の変化を監視し、常に一定の光出力になるよう駆動回
路にフィードバックをかけている。5はレンズ(ここで
は、球レンズで示しているが屈折分布形等のレンズを用
いる場合もある)、6はコバールやステンレスで加工さ
れたレンズホルダでレンズ5を圧入や半田または低融点
ガラス固定している。
【0004】7はベースで半導体レーザ素子1を搭載し
たヘッダ3とモニタ用の受光素子4とレンズ5を搭載し
たレンズホルダ6を搭載するためのものである。この時
、半導体レーザ素子1とモニタ用の受光素子4は半田付
けで固定され、一方レンズ5は半導体レーザ素子1から
出射され広がった光が平行光になるよう光軸調整しYA
Gレーザにてレンズホルダ6をベース7に固定している
。これは、光学調整後の半導体レーザ素子1とレンズ5
の軸ずれ感度が1μm 以下と厳しいため固定安定度の
高いYAGレーザ溶接を用いている。
たヘッダ3とモニタ用の受光素子4とレンズ5を搭載し
たレンズホルダ6を搭載するためのものである。この時
、半導体レーザ素子1とモニタ用の受光素子4は半田付
けで固定され、一方レンズ5は半導体レーザ素子1から
出射され広がった光が平行光になるよう光軸調整しYA
Gレーザにてレンズホルダ6をベース7に固定している
。これは、光学調整後の半導体レーザ素子1とレンズ5
の軸ずれ感度が1μm 以下と厳しいため固定安定度の
高いYAGレーザ溶接を用いている。
【0005】8は電子冷却素子(以下ペルチェ素子と称
する)、9、10は絶縁板で一般的にはアルミナセラミ
ックにペルチェ素子8の電極と固定を兼ねた金属導体パ
ターンを薄膜や厚膜で形成し、複数個のペルチェ素子8
を挟み込んで直列に配線固定している。18はサーミス
タでLD素子部の温度を検出し、その温度が一定になる
ようペルチェ素子8にフィードバックするためのもので
ある。11はパッケージ本体で側壁に電気端子をハーメ
チックで設けたバタフライ型やDIP型のパッケージな
どの構成をしている。12は気密用のカバーである。パ
ッケージ本体11に光取り出し窓13を有している。上
記絶縁板9の上側に半導体レーザ素子1等を搭載したベ
ース7を半田固定し、一方の絶縁板10の下側を同じく
半田でパッケージ本体11の内底に固定する。この時、
半導体レーザ素子1から出射しレンズ5で平行光に変換
された光がパッケージ本体11に設けた光取り出し窓1
3を通過するよう位置調整されている。
する)、9、10は絶縁板で一般的にはアルミナセラミ
ックにペルチェ素子8の電極と固定を兼ねた金属導体パ
ターンを薄膜や厚膜で形成し、複数個のペルチェ素子8
を挟み込んで直列に配線固定している。18はサーミス
タでLD素子部の温度を検出し、その温度が一定になる
ようペルチェ素子8にフィードバックするためのもので
ある。11はパッケージ本体で側壁に電気端子をハーメ
チックで設けたバタフライ型やDIP型のパッケージな
どの構成をしている。12は気密用のカバーである。パ
ッケージ本体11に光取り出し窓13を有している。上
記絶縁板9の上側に半導体レーザ素子1等を搭載したベ
ース7を半田固定し、一方の絶縁板10の下側を同じく
半田でパッケージ本体11の内底に固定する。この時、
半導体レーザ素子1から出射しレンズ5で平行光に変換
された光がパッケージ本体11に設けた光取り出し窓1
3を通過するよう位置調整されている。
【0006】14はレンズ(ここでは、球レンズで示し
ているが屈折分布形等のレンズを用いる場合もある)、
15はスリーブでレンズ14を固定している。16は光
ファイバ、17は光ファイバ16を固定したフェルール
である。ここで半導体レーザ素子1から出射した広がっ
た光をレンズ5で変換した平行光をレンズ14で光ファ
イバ16に効率よく入射するため光軸調整し、スリーブ
15のA,B部でYAGレーザ溶接固定している。
ているが屈折分布形等のレンズを用いる場合もある)、
15はスリーブでレンズ14を固定している。16は光
ファイバ、17は光ファイバ16を固定したフェルール
である。ここで半導体レーザ素子1から出射した広がっ
た光をレンズ5で変換した平行光をレンズ14で光ファ
イバ16に効率よく入射するため光軸調整し、スリーブ
15のA,B部でYAGレーザ溶接固定している。
【0007】このようにして半導体レーザ素子1からの
広がった発光光はレンズ5と14によって光ファイバ1
6に効率良く結合される半導体レーザモジュールが構成
および製造される。この半導体レーザモジュールが高出
力可能なのはペルチェ素子8で常時冷却し、半導体レー
ザ素子1の発熱を低減しているためである。尚、半導体
レーザ素子1とペルチェ素子8で消費された発熱はパッ
ケージ本体11を介してパッケージ本体11に取り付け
たヒートシンク(図示せず)で外部に放熱される。
広がった発光光はレンズ5と14によって光ファイバ1
6に効率良く結合される半導体レーザモジュールが構成
および製造される。この半導体レーザモジュールが高出
力可能なのはペルチェ素子8で常時冷却し、半導体レー
ザ素子1の発熱を低減しているためである。尚、半導体
レーザ素子1とペルチェ素子8で消費された発熱はパッ
ケージ本体11を介してパッケージ本体11に取り付け
たヒートシンク(図示せず)で外部に放熱される。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うにして構成された半導体レーザモジュールは、小型化
が困難であった。それは、電子冷却素子(ペルチェ素子
)を搭載しているため特に高さ方向が制限されるためで
ある。
うにして構成された半導体レーザモジュールは、小型化
が困難であった。それは、電子冷却素子(ペルチェ素子
)を搭載しているため特に高さ方向が制限されるためで
ある。
【0009】本発明は以上述べた問題を解決するために
なされたものであって、小型で冷却能力に優れた構造を
持つ半導体レーザモジュールを提供することを目的とす
る。
なされたものであって、小型で冷却能力に優れた構造を
持つ半導体レーザモジュールを提供することを目的とす
る。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するため、半導体レーザ素子と光ファイバをレンズを介
して結合する半導体レーザモジュールにおいて、第1の
絶縁板の下面と第2の絶縁板の上面との間に電子冷却素
子を挟み込み、前記第2の絶縁板の下面をパッケージ本
体の内底に固着し、前記第1の絶縁板の上面に形成した
パターンに前記半導体レーザ素子を保持するヘッダと前
記レンズを保持するレンズホルダを固定するものである
。
するため、半導体レーザ素子と光ファイバをレンズを介
して結合する半導体レーザモジュールにおいて、第1の
絶縁板の下面と第2の絶縁板の上面との間に電子冷却素
子を挟み込み、前記第2の絶縁板の下面をパッケージ本
体の内底に固着し、前記第1の絶縁板の上面に形成した
パターンに前記半導体レーザ素子を保持するヘッダと前
記レンズを保持するレンズホルダを固定するものである
。
【0011】
【作用】第1の絶縁板の上面に直接半導体レーザ素子を
保持するヘッダやレンズを保持するレンズホルダ等を固
定するので、金属ベース上面に上記のヘッダやレンズホ
ルダ等を固定してから前記第1の絶縁板上面に固着する
従来例の場合より該金属ベース分だけ半導体レーザモジ
ュールを小型にすることができる。
保持するヘッダやレンズを保持するレンズホルダ等を固
定するので、金属ベース上面に上記のヘッダやレンズホ
ルダ等を固定してから前記第1の絶縁板上面に固着する
従来例の場合より該金属ベース分だけ半導体レーザモジ
ュールを小型にすることができる。
【0012】また、前記金属ベースの削減により熱抵抗
を低減することができ、熱効率の向上による電子冷却の
小型で半導体レーザモジュールの一層の小型化が実現で
きる。
を低減することができ、熱効率の向上による電子冷却の
小型で半導体レーザモジュールの一層の小型化が実現で
きる。
【0013】
【実施例】図1は本発明の実施例を示す要部断面図であ
る。1から6および8から18は図2に示す従来例と同
じであるので説明は省略する。21は電子冷却素子8の
上部絶縁板9の上面に蒸着やめっきで形成した金属パタ
ーンで、図3に示す上部絶縁板9の拡大上面図で21a
は半導体レーザ素子1を搭載したヘッダ3を搭載するパ
ターン、21bは受光素子4を搭載するパターン、21
cはサーミスタ18を搭載するパターン、21dはレン
ズ5を固定したレンズホルダ6を固定するパターンであ
る。パターン21a、21b、21cは部品を半田固定
するためパターンの形成材料は金や半田メッキ等が使用
される。パターン21dはレンズホルダ6をYAG溶接
で固定するため不純物の少ないニッケルめっきを数十μ
m と厚付けしている。この電子冷却素子8をパッケー
ジ本体11の底面に半田固定した後、上部絶縁板9のパ
ターン21a,21b,21c上にそれぞれヘッダ3、
受光素子4、サーミスタ18を半田固定した後、レンズ
5を固定したレンズホルダ6を光軸調整してパターン2
1d上にYAG溶接固定する。その他の構成部材は12
の気密用カバーから17のフェルールまで図2に示す従
来例と同様の構成で製造され、動作原理も同じである。
る。1から6および8から18は図2に示す従来例と同
じであるので説明は省略する。21は電子冷却素子8の
上部絶縁板9の上面に蒸着やめっきで形成した金属パタ
ーンで、図3に示す上部絶縁板9の拡大上面図で21a
は半導体レーザ素子1を搭載したヘッダ3を搭載するパ
ターン、21bは受光素子4を搭載するパターン、21
cはサーミスタ18を搭載するパターン、21dはレン
ズ5を固定したレンズホルダ6を固定するパターンであ
る。パターン21a、21b、21cは部品を半田固定
するためパターンの形成材料は金や半田メッキ等が使用
される。パターン21dはレンズホルダ6をYAG溶接
で固定するため不純物の少ないニッケルめっきを数十μ
m と厚付けしている。この電子冷却素子8をパッケー
ジ本体11の底面に半田固定した後、上部絶縁板9のパ
ターン21a,21b,21c上にそれぞれヘッダ3、
受光素子4、サーミスタ18を半田固定した後、レンズ
5を固定したレンズホルダ6を光軸調整してパターン2
1d上にYAG溶接固定する。その他の構成部材は12
の気密用カバーから17のフェルールまで図2に示す従
来例と同様の構成で製造され、動作原理も同じである。
【0014】
【発明の効果】このようにして直接電子冷却素子8の上
部絶縁板9に直接半導体レーザ素子1、受光素子4、サ
ーミスタ18およびレンズ5が搭載されるため、従来設
けていた金属製のベース7が削減できるため半導体レー
ザモジュールの小型化が実現できる。また、金属ベース
一枚分の熱抵抗が低減できるので半導体レーザモジュー
ルの熱抵抗が低減でき、より一層の高出力化がはかれる
。さらに、熱効率がよくなるため電子冷却の小型化がは
かれ半導体レーザモジュールの一層の小型化が実現でき
る。
部絶縁板9に直接半導体レーザ素子1、受光素子4、サ
ーミスタ18およびレンズ5が搭載されるため、従来設
けていた金属製のベース7が削減できるため半導体レー
ザモジュールの小型化が実現できる。また、金属ベース
一枚分の熱抵抗が低減できるので半導体レーザモジュー
ルの熱抵抗が低減でき、より一層の高出力化がはかれる
。さらに、熱効率がよくなるため電子冷却の小型化がは
かれ半導体レーザモジュールの一層の小型化が実現でき
る。
【図1】本発明の実施例を示す構成図である。
【図2】従来の半導体レーザモジュールの構成図である
。
。
【図3】絶縁板の拡大上面図である。
1 半導体レーザ素子
4 受光素子
5 レンズ
6 レンズホルダ
9 絶縁板
11 パッケージ本体
12 気密用カバー
17 フェルール
18 サーミスタ
21 パターン
Claims (2)
- 【請求項1】 半導体レーザ素子と光ファイバをレン
ズを介して結合する半導体レーザモジュールにおいて、
第1の絶縁板の下面と第2の絶縁板の上面との間に電子
冷却素子を挟み込み、前記第2の絶縁板の下面をパッケ
ージ本体の内底に固着し、前記第1の絶縁板の上面に形
成したパターンに前記半導体レーザ素子を保持するヘッ
ダと前記レンズを保持するレンズホルダとを固定してな
ることを特徴とする半導体レーザモジュール。 - 【請求項2】 前記レンズホルダを固定するパターン
をニッケルメッキの厚付けで構成する請求項1記載の半
導体レーザモジュール。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3131033A JPH04355706A (ja) | 1991-06-03 | 1991-06-03 | 半導体レーザモジュール |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3131033A JPH04355706A (ja) | 1991-06-03 | 1991-06-03 | 半導体レーザモジュール |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04355706A true JPH04355706A (ja) | 1992-12-09 |
Family
ID=15048453
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3131033A Pending JPH04355706A (ja) | 1991-06-03 | 1991-06-03 | 半導体レーザモジュール |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04355706A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1020154A (ja) * | 1996-06-28 | 1998-01-23 | Nec Corp | 温度制御型光結合構造 |
EP0824281A1 (en) * | 1996-08-13 | 1998-02-18 | Nec Corporation | Peltier cooler and semiconductor laser module using peltier cooler |
US5995525A (en) * | 1996-03-29 | 1999-11-30 | Nec Corporation | Semiconductor laser module |
-
1991
- 1991-06-03 JP JP3131033A patent/JPH04355706A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5995525A (en) * | 1996-03-29 | 1999-11-30 | Nec Corporation | Semiconductor laser module |
JPH1020154A (ja) * | 1996-06-28 | 1998-01-23 | Nec Corp | 温度制御型光結合構造 |
US5848210A (en) * | 1996-06-28 | 1998-12-08 | Nec Corporation | Temperature controlled optical coupling structure |
EP0824281A1 (en) * | 1996-08-13 | 1998-02-18 | Nec Corporation | Peltier cooler and semiconductor laser module using peltier cooler |
US5960142A (en) * | 1996-08-13 | 1999-09-28 | Nec Corporation | Peltier cooler and semiconductor laser module using Peltier cooler |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5706302A (en) | Temperature control type semiconductor laser device | |
US20100177793A1 (en) | Passive Phase Control in an External Cavity Laser | |
US20050207459A1 (en) | Photoelectric conversion module with cooling function | |
JP2006210935A (ja) | 一体化された熱電クーラー及び光学構成要素を備えた同軸冷却レーザモジュール | |
US7869475B2 (en) | Misalignment prevention in an external cavity laser having temperature stabilisation of the resonator and the gain medium | |
KR101788540B1 (ko) | 온도 제어 장치를 가진 광송신 모듈 및 그 제조 방법 | |
US6101202A (en) | Semiconductor laser module | |
JP2000031575A (ja) | Ldモジュール | |
JP3139423B2 (ja) | 光素子の実装構造 | |
US6178188B1 (en) | Laser assembly platform with silicon base | |
JP2015135932A (ja) | ペルチェ冷却型icパッケージ | |
JPS62109385A (ja) | 半導体レ−ザ装置 | |
JPH0567844A (ja) | 半導体レーザモジユール | |
JPH04355706A (ja) | 半導体レーザモジュール | |
CA2855913C (en) | Semiconductor laser excitation solid-state laser | |
JPH11295560A (ja) | 光通信用モジュール及びその検査方法 | |
JP2001332773A (ja) | 熱電モジュール用多層基板およびその製造方法ならびにこの多層基板を用いた熱電モジュール | |
JP2002329920A (ja) | 光モジュール | |
JP2004303750A (ja) | 熱電装置用パッケージおよびその製造方法 | |
JP3056513B2 (ja) | オプトエレクトロニク変換装置 | |
JPH09148681A (ja) | 半導体モジュール | |
JPH04355705A (ja) | 半導体レーザモジュール | |
JP2011249447A (ja) | 光モジュール | |
JPH04350603A (ja) | 半導体レーザモジュール | |
EP1958302B1 (en) | Passive phase control in an external cavity laser |