JPH04355229A - 樹脂スタンパの製造方法およびその樹脂スタンパを用いたパターン転写方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は光ディスクの製造に用い
られる微細パタ−ンを転写する樹脂スタンパの製造方法
およびパターン転写方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来の光ディスクにおけるパタ−ン転写
方法について説明する。微細なパタ−ンを有するガラス
原盤にＮｉスパッタおよび電鋳処理を施すことにより、
Ｎｉスタンパ（マスタスタンパ）をおこす。このマスタ
スタンパを用いて、２Ｐ成形により光ディスクを作製し
ていた。あるいは先のマスタスタンパを型にして再度電
鋳処理を行い、Ｎｉスタンパ（マザ−スタンパ）を作製
する。このようにして作製したＮｉスタンパ（マザ−ス
タンパ）を用いて２Ｐ成形により樹脂性のゾルゲル用ワ
−クスタンパを得る。次にガラス基板上にスピンコ−ト
法により金属アルコレ−ト、ポリエチレングリコ−ル、
塩酸を含むアルコ−ル溶液（ゾル溶液）を塗布し、ゾル
ゲル層を形成する。先程のワ−クスタンパをこのゾルゲ
ル面に押し当て、微細なパタ−ンを転写する。重ね合わ
せたまま一次焼成を行った後、ワ−クスタンパから離型
した微細パタ−ン付きガラス基板を更に二次焼成する。 このようなプロセスを経て、光ディスクを作製していた
。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】先述したＮｉスタンパ
（マスタ、マザ−スタンパとも）はそれ自身で平坦性、
強度を充分に保てるほど厚くはなく、真空吸着、マグネ
ット吸着、裏打ち材をはりつける等の固定法を採用し、
用いられている。このなかでも裏打ち法は平坦性の確保
が実現できること、簡便にできる等からよく用いられて
いる方法である。しかし、この裏打ち法においても平坦
性の追求の限度があり、少し平坦性が悪く裏打ちされた
Ｎｉスタンパを用いてパタ−ン転写を行った紫外線硬化
樹脂層は膜厚の変動量が大きくなる。厚膜変動量が大き
くなると、光ディスク用基板としての機械的特性や電気
信号特性を満足することが困難となることが多々みられ
た。また膜厚変動量の大きい２Ｐ転写基板をスタンパと
して用いる場合は微細パターンの転写が困難となる。さ
らに、Ｎｉスタンパを使用する場合、先述したように、
工程数が多く、特に微細なパタ−ンを比較的大面積にわ
たって何度も転写を繰り返すので、歩留まり、コストの
面で問題となる。そこで平坦なガラス原盤それ自身をス
タンパとして使用することが考えられるが、光ディスク
用の基板としてガラス等の硬い材質のものを使用する場
合、スタンパ、基板両方とも硬いので反りにくく、離型
が困難である。また離型する際、ガラス原盤のスタンパ
、ガラス基板が破損する場合が多く見られる。本発明は
紫外線硬化樹脂層の膜厚分布が良好で、かつ製造法が簡
略であり、良好な離型性を有する、２Ｐ法を用いた光デ
ィスクやゾルゲル法を用いた光ディスクの作製に用いら
れる樹脂スタンパの製造方法および樹脂スタンパを用い
たパタ−ン転写方法を提供することを目的とする。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明の第１は、樹脂製
基板上にレジストを塗布する工程と、該レジスト層にレ
ーザービームを用いて所望のパタ−ンを露光し、現像す
る工程と、パターン化されたレジスト層をマスクとして
前記樹脂製基板をエッチングする工程と、残存するレジ
スト層を除去する工程とからなることを特徴とする樹脂
製スタンパの製造方法である。本発明の第２は、ガラス
基板に、該ガラス基板より外径寸法が大きく、かつ上記
の方法で得られた微細パタ−ンを有する樹脂製スタンパ
の微細パターン面を押し当て、該樹脂製スタンパと前記
ガラス基板との間に紫外線硬化樹脂を充填・押圧する工
程と、前記ガラス基板を通して紫外線を照射する工程と
、微細パタ−ンが転写された紫外線硬化樹脂を設けたガ
ラス基板を前記樹脂製スタンパから離型する工程とを備
えたことを特徴とするパタ−ン転写方法である。本発明
の第３は、ガラス基板上にスピンコート法により金属ア
ルコレート、ポリエチレングリコール、塩酸を含むゾル
ゲル溶液を塗布する工程と、前記ガラス基板より外径寸
法が大きく、かつ本発明の第１の方法で得られた微細パ
ターンを有する樹脂製スタンパの微細パターン面に前記
ゾルゲル層を有するガラス基板を配置し、前記微細パタ
ーンを有する樹脂製スタンパを前記ゾルゲル層を有する
ガラス基板に押圧する工程と、前記ゾルゲル層を固化さ
せる工程と、微細パタ−ンが転写されたゾルゲル層を有
するガラス基板を前記樹脂製スタンパから離型する工程
とを備えたことを特徴とするパタ−ン転写方法である。

【０００５】

【作用】本発明によれば、樹脂製のスタンパであって、
光ディスク作製の離型工程において樹脂製スタンパを反
らし、基板を容易に離型できるので、従来のように離型
が困難ではなく、基板が破損することはない。一般に付
着力が小さいといわれている樹脂をスタンパとして使用
しているので、プライマ処理等の基板前処理を必要とし
ない。さらに樹脂製スタンパの厚みも充分に平坦性よく
できるほど厚いので、パターン転写を行った紫外線硬化
樹脂層の膜厚分布は均一となり良好なディスクが得られ
る。また、同様に本発明の樹脂製スタンパを使用したゾ
ルゲル転写工程においてもゾルゲル層に良好なパターン
転写が行える。さらにマスタライタ法を用いて樹脂基板
に直接微細パタ−ンを形成するので正確な形状を設ける
ことができ、転写を繰り返さないので形状の制御が容易
である。また、従来のような煩雑なプロセスを経ること
がなく、工程数がより少ないため、コスト、歩留まり等
の面で本発明はより有利である。

【０００６】

【実施例】次に本発明の実施例について説明する。 実施例１ ポリオレフィン等の樹脂製基板上にフォトレジストをス
ピンコート法により１０００〜３０００オングストロー
ム塗布する。次にマスタライタでレーザビーム露光を行
い、現像する。次にフォトレジストをマスクとして、Ｏ
２，Ｏ２＋ＣＦ４等のガスを用いた反応性イオンエッチ
ング（ＲＩＥ）法によりポリオレフィンをエッチングす
る。その後リムーバー等のレジスト除去剤を用いてレジ
スト層を除去する。このようにして微細なパターンを有
するポリオレフィン基板が得られる。　　本発明の実施
例ではポリオレフィン基板について示したが、ＲＩＥ法
が採用できるものであれば他の樹脂製基板でもよい。こ
のように従来のＮｉスタンパのようにスパッタ、電鋳処
理等の煩雑なプロセスを必要としないので短い工程で作
製できる。

【０００７】実施例２ 実施例２は樹脂製スタンパを光ディスク作製のパターン
転写法に採用した場合である。図１に示すように、ガラ
ス基板２より外径寸法の大きい樹脂製スタンパ１および
ガラス基板２に紫外線硬化樹脂３を塗布し、紫外線硬化
樹脂３がガラス基板２と樹脂製スタンパ１との間に充分
展開するようにガラス基板２を樹脂製スタンパ１に押し
当てる。その後、ガラス基板２側から紫外線照射を行い
、紫外線硬化樹脂３を硬化させる。硬化した紫外線硬化
樹脂３付きガラス基板２を樹脂製スタンパ１を反らせ離
型することにより、ガラス基板２上に微細な凹凸パター
ンを有する紫外線硬化樹脂３が形成された光ディスクを
作製した。従来は基板、スタンパ両者をともに反らせる
ことが困難であるため、離型に大きな力が必要であった
り、あるいは大きな力が局部、例えば内周に加わるため
、ガラスが破損したりする場合があった。本実施例では
そのようなことはなく、離型も良好に行うことができる
。

【０００８】実施例３ 実施例３は本発明の樹脂製スタンパをゾルゲル法を用い
た光ディスク作製のパターン転写法に採用した場合であ
る。ガラス基板上にテトラエトキシシラン、ポリエチレ
ングリコール、塩酸を含むエチルアルコール溶液をスピ
ンコート法により塗布し、ゾルゲル層を２０００〜３０
００オングストローム形成した。次に図２に示すように
、ガラス基板１２より外径寸法の大きい樹脂製スタンパ
１１とゾルゲル層１３付きガラス基板１２を減圧下で重
ね合せて押圧する。そのままの状態で１００℃、１０分
の一次焼成を行う。その後、ガラス基板１２から樹脂製
スタンパ１１を反らせることにより離型し、３５０℃、
１０分の二次焼成を行い、所望の微細パターンを有する
ガラス基板を得た。裏打ちを行ったマザ−タイプのＮｉ
スタンパを用いて作製した２Ｐ／エポキシスタンパを使
用した従来のゾルゲル法では、２Ｐ／エポキシスタンパ
を構成している紫外線硬化樹脂層の膜厚分布が大きい箇
所があり（Ｎｉスタンパの平坦性の悪いことに起因する
。）、ガラス基板全面に微細なパタ−ンを有するゾルゲ
ル層を得ることができなかった。本発明による樹脂製ス
タンパにおいてはこのようなことはなく、ガラス基板全
面に微細なパタ−ンを有するゾルゲル層を得ることがで
きた。また従来のように煩雑な長い工程を必要とせず、
６工程短縮することができた。

【０００９】

【発明の効果】以上述べてきたように、本発明によるス
タンパの製造方法によれば、直接マスタライタを用いて
樹脂基板に微細パタ−ンを形成するので、微細かつ正確
な形状を樹脂スタンパに付与することができると共に、
形状の制御が容易で、形状の見直しを簡単に行うことが
できる。また、本発明のパターン転写方法によればパタ
ーン転写工程が従来よりも大幅に短縮され、歩留まり、
あるいはコストの面で有利であり、その工業上の意義は
大きい。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例を説明する概略断面図である
。

【図２】本発明の別の実施例を説明する概略断面図であ
る。

【符号の説明】

１，１１　　樹脂製スタンパ　　　　　　　　　　２，
１２　　ガラス基板 ３　　紫外線硬化樹脂　　　　　　　　　　　　　　　
　１３　　ゾルゲル層１４　　ピストン　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　１５　　ヒータープレート

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　樹脂製基板上にレジストを塗布する工
   程と、該レジスト層にレーザービームを用いて所望のパ
   タ−ンを露光し、現像する工程と、パターン化されたレ
   ジスト層をマスクとして前記樹脂製基板をエッチングす
   る工程と、残存するレジスト層を除去する工程とからな
   ることを特徴とする樹脂製スタンパの製造方法。
2. 【請求項２】　　ガラス基板に、該ガラス基板より外径
   寸法が大きく、かつ請求項１に記載の方法で得られた微
   細パタ−ンを有する樹脂製スタンパの微細パターン面を
   押し当て、該樹脂製スタンパと前記ガラス基板との間に
   紫外線硬化樹脂を充填・押圧する工程と、前記ガラス基
   板を通して紫外線を照射する工程と、微細パタ−ンが転
   写された紫外線硬化樹脂を設けたガラス基板を前記樹脂
   製スタンパから離型する工程とを備えたことを特徴とす
   るパタ−ン転写方法。
3. 【請求項３】　　ガラス基板上にスピンコート法により
   金属アルコレート、ポリエチレングリコール、塩酸を含
   むゾルゲル溶液を塗布する工程と、前記ガラス基板より
   外径寸法が大きく、かつ請求項１に記載の方法で得られ
   た微細パターンを有する樹脂製スタンパの微細パターン
   面に前記ゾルゲル層を有するガラス基板を配置し、前記
   微細パターンを有する樹脂製スタンパを前記ゾルゲル層
   を有するガラス基板に押圧する工程と、前記ゾルゲル層
   を固化させる工程と、微細パタ−ンが転写されたゾルゲ
   ル層を有するガラス基板を前記樹脂製スタンパから離型
   する工程とを備えたことを特徴とするパタ−ン転写方法
   。